JP2932229B2 - 液晶表示素子 - Google Patents
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- Optics & Photonics (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばテレビジョン等
の表示装置に利用される液晶表示素子に関する。更に詳
しくは、強誘電性液晶を用い、しかも階調表示可能な液
晶表示素子に関する。
の表示装置に利用される液晶表示素子に関する。更に詳
しくは、強誘電性液晶を用い、しかも階調表示可能な液
晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】強誘電性液晶は、2つの双安定状態のい
ずれか、即ち白と黒のドメインのいずれかに安定しよう
とし、中間的な分子位置をとらないため、これを用いて
階調表示をするためには特別な工夫を要する。
ずれか、即ち白と黒のドメインのいずれかに安定しよう
とし、中間的な分子位置をとらないため、これを用いて
階調表示をするためには特別な工夫を要する。
【0003】従来、1画素を分割して駆動する、デジタ
ル的な手法による階調表示が知られている。
ル的な手法による階調表示が知られている。
【0004】しかし、このデジタル的な手法では、1画
素を分割駆動する必要上、1画素について多数の駆動電
極が必要となる。従って、解像度が低下し、また複雑な
演算回路も必要となって歩留まりも低下する。
素を分割駆動する必要上、1画素について多数の駆動電
極が必要となる。従って、解像度が低下し、また複雑な
演算回路も必要となって歩留まりも低下する。
【0005】そこで、アナログ的に中間調を表示する手
法が提案されている。例えば、自然発生的な電極基板の
むらや意図的に電極基板に付与した微小モザイクパター
ンを利用(特開昭59−193427号公報)したり、
絶縁層の厚みに階段状の変化を付ける(特開昭61−1
66590号公報)ことで、1つの画素内に、白と黒の
ドメインの混在状態を作り出し、これによって中間調を
表示することが提案されている。
法が提案されている。例えば、自然発生的な電極基板の
むらや意図的に電極基板に付与した微小モザイクパター
ンを利用(特開昭59−193427号公報)したり、
絶縁層の厚みに階段状の変化を付ける(特開昭61−1
66590号公報)ことで、1つの画素内に、白と黒の
ドメインの混在状態を作り出し、これによって中間調を
表示することが提案されている。
【0006】上記いずれのアナログ的手法も、1つの液
晶表示素子の液晶層において、電極間に電圧を印加した
時に加わる実効電圧が互いに異なる領域を形成し、この
領域を細かくかつ多数形成することでアナログ的な制御
を可能にしようとするものである。
晶表示素子の液晶層において、電極間に電圧を印加した
時に加わる実効電圧が互いに異なる領域を形成し、この
領域を細かくかつ多数形成することでアナログ的な制御
を可能にしようとするものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のアナログ的
手法によって中間調状態を作り出せることは確認されて
いるが、これらによる階調表示を実用化するためには、
印加電圧と得られる透過率間の特性(以下「VT特性」
という)を、任意の中間調が得やすい特性とする必要が
ある。即ち、1素子におけるVT特性曲線を、適宜の傾
きを有する直線的なものとすることが望ましい。
手法によって中間調状態を作り出せることは確認されて
いるが、これらによる階調表示を実用化するためには、
印加電圧と得られる透過率間の特性(以下「VT特性」
という)を、任意の中間調が得やすい特性とする必要が
ある。即ち、1素子におけるVT特性曲線を、適宜の傾
きを有する直線的なものとすることが望ましい。
【0008】また、温度変化やその他の要因による強誘
電性液晶の特性変動を補償する手法を適用する上でも、
VT特性曲線が上記のような直線的なものであることが
望ましい。
電性液晶の特性変動を補償する手法を適用する上でも、
VT特性曲線が上記のような直線的なものであることが
望ましい。
【0009】ところで、従来のアナログ的手法は、実効
電圧が相違する微細かつ多数の領域を液晶層に形成する
ものであるため、VT特性曲線を正確に調整するにはこ
の微細かつ多数の領域を各々調整する必要があり、VT
特性曲線を傾きを有する直線的なものにするのが技術的
に極めて困難である。
電圧が相違する微細かつ多数の領域を液晶層に形成する
ものであるため、VT特性曲線を正確に調整するにはこ
の微細かつ多数の領域を各々調整する必要があり、VT
特性曲線を傾きを有する直線的なものにするのが技術的
に極めて困難である。
【0010】本発明は、強誘電性液晶を用いた液晶表示
素子のVT特性曲線を、適宜の傾きを有する直線的なも
のに容易に調整できるようにすることを目的とする。
素子のVT特性曲線を、適宜の傾きを有する直線的なも
のに容易に調整できるようにすることを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するための手段を図1に基づいて説明すると、請求項1
の発明では、一対の電極1a,1bと、該一対の電極1
a,1b間に封入された強誘電性液晶の液晶層2とを有
する液晶表示素子において、液晶層2が、凹部幅の異な
るストライプ状の凹凸厚み変化を有し、Dを凹部幅が最
も大きい液晶領域3dにおける液晶層2の凹部対応領域
の厚み、dを凹凸の段差量、λを厚みDの液晶層2にお
ける(反転飽和値Vsat )/(反転閾値Vth)とした時
に、d/D≒1−(1/λ)を満たすようにd/Dを設
定することとしているものである。
するための手段を図1に基づいて説明すると、請求項1
の発明では、一対の電極1a,1bと、該一対の電極1
a,1b間に封入された強誘電性液晶の液晶層2とを有
する液晶表示素子において、液晶層2が、凹部幅の異な
るストライプ状の凹凸厚み変化を有し、Dを凹部幅が最
も大きい液晶領域3dにおける液晶層2の凹部対応領域
の厚み、dを凹凸の段差量、λを厚みDの液晶層2にお
ける(反転飽和値Vsat )/(反転閾値Vth)とした時
に、d/D≒1−(1/λ)を満たすようにd/Dを設
定することとしているものである。
【0012】また、請求項2の発明では、図4に示され
るように、一対の電極1a,1bと、該一対の電極1
a,1b間に封入された強誘電性液晶の液晶層2とを有
する液晶表示素子において、液晶層2が、凹部幅の異な
るストライプ状の凹凸による厚み変化を有し、しかも凹
部幅の小さな液晶領域3bにおける凸部幅を、凹部幅の
広い液晶領域3aにおける凸部幅より小さくすることと
しているものである。
るように、一対の電極1a,1bと、該一対の電極1
a,1b間に封入された強誘電性液晶の液晶層2とを有
する液晶表示素子において、液晶層2が、凹部幅の異な
るストライプ状の凹凸による厚み変化を有し、しかも凹
部幅の小さな液晶領域3bにおける凸部幅を、凹部幅の
広い液晶領域3aにおける凸部幅より小さくすることと
しているものである。
【0013】更に、請求項3の発明では、図8に示され
るように、一対の電極1a,1bと、該一対の電極1
a,1b間に封入された強誘電性液晶の液晶層2とを有
する液晶表示素子において、液晶層2が、凹部幅又は凸
部幅によって複数の液晶領域3a〜3dに分かれるスト
ライプ状の凹凸厚み変化を有し、しかも凹部幅又は凸部
幅の異なる液晶領域3a,3bであって、一方における
反転閾値が他方の反転飽和値と略一致する少なくとも1
組の液晶領域3aと3bが含まれるよう、透過光を遮断
するマスク4を設けることとしているものである。
るように、一対の電極1a,1bと、該一対の電極1
a,1b間に封入された強誘電性液晶の液晶層2とを有
する液晶表示素子において、液晶層2が、凹部幅又は凸
部幅によって複数の液晶領域3a〜3dに分かれるスト
ライプ状の凹凸厚み変化を有し、しかも凹部幅又は凸部
幅の異なる液晶領域3a,3bであって、一方における
反転閾値が他方の反転飽和値と略一致する少なくとも1
組の液晶領域3aと3bが含まれるよう、透過光を遮断
するマスク4を設けることとしているものである。
【0014】請求項1の発明に係る液晶表示素子は、図
1に示されるように、一方の電極1bの表面が複数のス
トライプ状の凹凸を有するものとなっている。そして、
液晶層2は、この電極1bの表面状態によって、少なく
とも凹部幅が異なる4つの液晶領域3a〜3dを有する
厚み変化を有するものとなっている。
1に示されるように、一方の電極1bの表面が複数のス
トライプ状の凹凸を有するものとなっている。そして、
液晶層2は、この電極1bの表面状態によって、少なく
とも凹部幅が異なる4つの液晶領域3a〜3dを有する
厚み変化を有するものとなっている。
【0015】ここで凹凸単位領域3a,3bとは、凹部
幅及び凸部幅が等しい凹凸が連なる領域をいい、凸部の
みが連なる領域及び凹部のみが連なる領域をも含む。
幅及び凸部幅が等しい凹凸が連なる領域をいい、凸部の
みが連なる領域及び凹部のみが連なる領域をも含む。
【0016】尚、図1では電極1bの表面にストライプ
状凹凸を付しているが、ストライプ状凹凸を付すのを電
極1aの表面とすることもできる。また、一方の電極1
a又は1bのみではなく、両電極1a,1bの表面にス
トライプ状凹凸を付してもよい。
状凹凸を付しているが、ストライプ状凹凸を付すのを電
極1aの表面とすることもできる。また、一方の電極1
a又は1bのみではなく、両電極1a,1bの表面にス
トライプ状凹凸を付してもよい。
【0017】図2は、図1に示される液晶表示素子の各
液晶領域3a〜3dの個別VT特性曲線A〜Dを示す図
で、縦軸が透過率、横軸が印加電圧(但しlnスケー
ル)である。
液晶領域3a〜3dの個別VT特性曲線A〜Dを示す図
で、縦軸が透過率、横軸が印加電圧(但しlnスケー
ル)である。
【0018】個別VT特性曲線A〜D液晶領域3a〜3
dに夫々対応するものである。
dに夫々対応するものである。
【0019】個別VT特性曲線A,Dは、傾きのある概
略直線状となり、個別VT特性曲線B,Cは、中間部に
反転閾値の変化点(以下「屈曲点」という)を有する概
略折れ線状となる。このような個別VT特性曲線A〜D
となる理由は必ずしも明らかではないが、液晶層2凹凸
段差部分の配向状態が不安定になっており、この配向状
態が不安定な領域を起点にして反転が広がる傾向を有す
ること、及び、液晶層2の厚が小さくなっている電極1
bの凸部対応領域(液晶層2の凹部対応領域)の方が、
液晶層2の厚みが大きくなっている電極1bの凹部対応
領域(液晶層2の凸部対応領域)に比して大きな実効電
圧が加わること等に基づくと推測される。
略直線状となり、個別VT特性曲線B,Cは、中間部に
反転閾値の変化点(以下「屈曲点」という)を有する概
略折れ線状となる。このような個別VT特性曲線A〜D
となる理由は必ずしも明らかではないが、液晶層2凹凸
段差部分の配向状態が不安定になっており、この配向状
態が不安定な領域を起点にして反転が広がる傾向を有す
ること、及び、液晶層2の厚が小さくなっている電極1
bの凸部対応領域(液晶層2の凹部対応領域)の方が、
液晶層2の厚みが大きくなっている電極1bの凹部対応
領域(液晶層2の凸部対応領域)に比して大きな実効電
圧が加わること等に基づくと推測される。
【0020】図2の個別VT特性曲線〜Dから明らかな
ように、各液晶領域3a〜3dはそれ自体アナログ的な
特性を有しているものである。本各発明は、この各液晶
領域3a〜3dが有するアナログ的特性を利用し、全体
として更にアナログ的階調制御に適した特性を得ようと
するものである。
ように、各液晶領域3a〜3dはそれ自体アナログ的な
特性を有しているものである。本各発明は、この各液晶
領域3a〜3dが有するアナログ的特性を利用し、全体
として更にアナログ的階調制御に適した特性を得ようと
するものである。
【0021】更に請求項1に係る発明を説明する。
【0022】図2に示されるように、個別VT特性曲線
B,Cの屈曲点の電圧がずれている場合、個別VT特性
曲線A〜Dを合成した液晶表示素子全体の合成VT特性
曲線は、この屈曲点の数だけ屈曲したものとなり、アナ
ログ的階調制御に不利となる。
B,Cの屈曲点の電圧がずれている場合、個別VT特性
曲線A〜Dを合成した液晶表示素子全体の合成VT特性
曲線は、この屈曲点の数だけ屈曲したものとなり、アナ
ログ的階調制御に不利となる。
【0023】請求項1の発明は、上記合成VT特性曲線
における屈曲点の数を最小限に押えようとするものであ
る。
における屈曲点の数を最小限に押えようとするものであ
る。
【0024】即ち、請求項1の発明は、いわば図2にお
ける個別VT特性曲線の屈曲点の電圧値をほぼ一致させ
るもので、そのために下記数1を満たすようにd/Dを
設定する点に特徴を有するものである。但し、Dは凹部
幅が最も大きい液晶領域3dにおける液晶層2の凹部対
応領域の厚み、dは凹凸の段差量、λは厚みDの液晶層
2における(反転飽和値Vsat )/(反転閾値Vth)で
ある。
ける個別VT特性曲線の屈曲点の電圧値をほぼ一致させ
るもので、そのために下記数1を満たすようにd/Dを
設定する点に特徴を有するものである。但し、Dは凹部
幅が最も大きい液晶領域3dにおける液晶層2の凹部対
応領域の厚み、dは凹凸の段差量、λは厚みDの液晶層
2における(反転飽和値Vsat )/(反転閾値Vth)で
ある。
【0025】
【数1】d/D≒1−(1/λ)
【0026】数1について更に説明すると、液晶層2の
厚みがD−dの領域、即ち液晶領域3aにおける反転飽
和値Vsat は、λ×(1−d/D)×Vthである。これ
が液晶層2の厚みDの領域、即ち液晶領域3dにおける
反転閾値Vthと等しいとすると、λ×(1−d/D)×
Vth=Vthから上記1式となる。
厚みがD−dの領域、即ち液晶領域3aにおける反転飽
和値Vsat は、λ×(1−d/D)×Vthである。これ
が液晶層2の厚みDの領域、即ち液晶領域3dにおける
反転閾値Vthと等しいとすると、λ×(1−d/D)×
Vth=Vthから上記1式となる。
【0027】ところで、液晶領域3b,3cにおけるλ
は、当該液晶領域3b,3cにおける凹部幅や凸部幅に
よって相違してくるため、d/Dが数1を満たしても完
全には屈曲点の電圧値を一致させることはできないが、
概略の一致を得ることは可能である。特に液晶領域3
b,3cにおけるλは、当該液晶領域3a,3cにおけ
る液晶層2の凹部対応領域と凸部対応領域の横断面面積
比で調整可能であるので、できるだけこの面積比によっ
て一定のλとなるようにすることが好ましい。
は、当該液晶領域3b,3cにおける凹部幅や凸部幅に
よって相違してくるため、d/Dが数1を満たしても完
全には屈曲点の電圧値を一致させることはできないが、
概略の一致を得ることは可能である。特に液晶領域3
b,3cにおけるλは、当該液晶領域3a,3cにおけ
る液晶層2の凹部対応領域と凸部対応領域の横断面面積
比で調整可能であるので、できるだけこの面積比によっ
て一定のλとなるようにすることが好ましい。
【0028】個別VT特性曲線B,Cの屈曲点の電圧値
が、図3に示されるようにほぼ一致すると、図3におけ
る各個別VT特性曲線を合成した液晶表示素子全体の合
成VT特性曲線は、ほぼ1箇所の屈曲点を有する折れ線
状となって、アナログ的階調制御を行うのに有利な特性
を有するものとなる。
が、図3に示されるようにほぼ一致すると、図3におけ
る各個別VT特性曲線を合成した液晶表示素子全体の合
成VT特性曲線は、ほぼ1箇所の屈曲点を有する折れ線
状となって、アナログ的階調制御を行うのに有利な特性
を有するものとなる。
【0029】次に、請求項2の発明について説明する。
【0030】請求項2の発明に係る液晶表示素子は、基
本的には図1で説明した請求項1の発明に係る液晶表示
素子と同様であるが、図4に示されるように、凹部幅の
小さな液晶領域3bにおける凸部幅が、凹部幅の広い液
晶領域3aにおける凸部幅より小さくなっている点に特
徴を有するものである。
本的には図1で説明した請求項1の発明に係る液晶表示
素子と同様であるが、図4に示されるように、凹部幅の
小さな液晶領域3bにおける凸部幅が、凹部幅の広い液
晶領域3aにおける凸部幅より小さくなっている点に特
徴を有するものである。
【0031】凹部幅と凸部幅を上記のように調整した場
合、液晶領域3a,3bに対応する各個別VT特性曲線
A,Bは図5に示されるようになる。
合、液晶領域3a,3bに対応する各個別VT特性曲線
A,Bは図5に示されるようになる。
【0032】ところで、図5に示されるh1 とh2 の比
h1 /h2 は、当該個別VT特性曲線Bの対応する液晶
領域3bにおける液晶層2の凹部と凸部の幅の比にほぼ
等しい。
h1 /h2 は、当該個別VT特性曲線Bの対応する液晶
領域3bにおける液晶層2の凹部と凸部の幅の比にほぼ
等しい。
【0033】これについて説明すると、各液晶領域3
a,3bにおいて、液晶層2の凹部対応領域は薄く実効
電圧がかかりやすいので、この領域から反転を生じ、こ
れに引き続いて厚く実効電圧がかかりにくい凸部対応領
域の反転が生じる傾向にある。つまり、h1 の範囲は液
晶層2の凹部対応領域の反転によってもたらされ、h2
の範囲は液晶層2の凸部対応領域の反転によってもたら
されることから、h1 /h2 が液晶層2の凹部と凸部の
幅の比にほぼ等しくなるものである。
a,3bにおいて、液晶層2の凹部対応領域は薄く実効
電圧がかかりやすいので、この領域から反転を生じ、こ
れに引き続いて厚く実効電圧がかかりにくい凸部対応領
域の反転が生じる傾向にある。つまり、h1 の範囲は液
晶層2の凹部対応領域の反転によってもたらされ、h2
の範囲は液晶層2の凸部対応領域の反転によってもたら
されることから、h1 /h2 が液晶層2の凹部と凸部の
幅の比にほぼ等しくなるものである。
【0034】請求項2の発明は、いわば凹部幅の小さな
液晶領域3bほど凸部幅を小さくし、凹部幅の広い液晶
領域3aほど凸部幅を大きくするものである。
液晶領域3bほど凸部幅を小さくし、凹部幅の広い液晶
領域3aほど凸部幅を大きくするものである。
【0035】例えば、液晶領域3bにおける凸部幅が広
い場合、図5に点線で示されるように、個別VT特性曲
線Bの屈曲点は中央寄りに位置し、屈曲も大きくなる
が、この凸部幅が小さいと、実線で示すように、個別V
T特性曲線Bの屈曲点は反転飽和点寄りに移動して屈曲
も小さくなる。
い場合、図5に点線で示されるように、個別VT特性曲
線Bの屈曲点は中央寄りに位置し、屈曲も大きくなる
が、この凸部幅が小さいと、実線で示すように、個別V
T特性曲線Bの屈曲点は反転飽和点寄りに移動して屈曲
も小さくなる。
【0036】各個別VT特選曲線A,Bがこのようにし
て直線に近い状態となれば、これらの個別VT特性曲線
を合成した液晶表示素子全体の合成VT特性曲線もより
直線的となり、アナログ的階調制御に有利となる。ま
た、このような屈曲点の移動を利用して、各個別VT特
性曲線A,Bにおける屈曲点の電圧値をほぼ一致させる
ようにすれば、請求項1の発明における利益と同様の利
益を得ることができる。
て直線に近い状態となれば、これらの個別VT特性曲線
を合成した液晶表示素子全体の合成VT特性曲線もより
直線的となり、アナログ的階調制御に有利となる。ま
た、このような屈曲点の移動を利用して、各個別VT特
性曲線A,Bにおける屈曲点の電圧値をほぼ一致させる
ようにすれば、請求項1の発明における利益と同様の利
益を得ることができる。
【0037】ところで、h1 が透過率10%以下もしく
は90%以上となるように屈曲点を移動し、透過率が1
0%の点と90%の点を結ぶ直線として、各個別VT特
性曲線A,Bを近似的に表わし、これら透過率0%のラ
インとの交点におけ印加電圧値Vth1 ,Vth2 を各々液
晶領域3a,3bにおける反転閾値、透過率100%の
ラインとの交点における印加電圧値Vsat1,Vsat2を各
々液晶領域3a,3bにおける反転飽和値とする。
は90%以上となるように屈曲点を移動し、透過率が1
0%の点と90%の点を結ぶ直線として、各個別VT特
性曲線A,Bを近似的に表わし、これら透過率0%のラ
インとの交点におけ印加電圧値Vth1 ,Vth2 を各々液
晶領域3a,3bにおける反転閾値、透過率100%の
ラインとの交点における印加電圧値Vsat1,Vsat2を各
々液晶領域3a,3bにおける反転飽和値とする。
【0038】ここで、Vth1 ≒Vsat2とすると、図5の
各個別VT特性曲線A,Bは図6のように描くことがで
きる。また、図6において各個別VT特性曲線A,Bを
合成したのが合成VT特性曲線Xである。
各個別VT特性曲線A,Bは図6のように描くことがで
きる。また、図6において各個別VT特性曲線A,Bを
合成したのが合成VT特性曲線Xである。
【0039】上記図6に示される合成VT特性曲線X
は、図7のように示すことができる。図7から明らかな
ように、Vth1 ≒Vsat2であることによって、各個別V
T特性曲線A,Bがほぼ一連の合成VT特性曲線Xとな
り、好ましい特性が得られる。また、各個別VT特性曲
線A,Bにおけるγがほぼ等しければ、合成VT特性曲
線Xはほぼ傾きの等しい1本の直線となり、更に好まし
い特性を得ることができる。
は、図7のように示すことができる。図7から明らかな
ように、Vth1 ≒Vsat2であることによって、各個別V
T特性曲線A,Bがほぼ一連の合成VT特性曲線Xとな
り、好ましい特性が得られる。また、各個別VT特性曲
線A,Bにおけるγがほぼ等しければ、合成VT特性曲
線Xはほぼ傾きの等しい1本の直線となり、更に好まし
い特性を得ることができる。
【0040】ここで、個別VT特性曲線A,Bのγと
は、対応する液晶領域3a,3bにおける(反転飽和
値)/(反転閾値)をいう。即ち、各個別VT特性曲線
A,Bの傾き値γは、各々Vsat1/Vth1 、Vsat2/V
th2 である。
は、対応する液晶領域3a,3bにおける(反転飽和
値)/(反転閾値)をいう。即ち、各個別VT特性曲線
A,Bの傾き値γは、各々Vsat1/Vth1 、Vsat2/V
th2 である。
【0041】一方、γは、強誘電性液晶材料、絶縁膜、
電極1a,1bの特性によって変化すると共に、前述の
ように、各液晶領域3a,3bにおける液晶層2の凹部
対応領域と凸部対応領域の横断面面積比で調整可能であ
る。従って、液晶領域3a,3bにおけるこの比を調整
することによってγを調整することができる。一般的に
各液晶領域3a,3bにおけるγをほぼ等しくするため
には、上記比をほぼ等しくすればよい。
電極1a,1bの特性によって変化すると共に、前述の
ように、各液晶領域3a,3bにおける液晶層2の凹部
対応領域と凸部対応領域の横断面面積比で調整可能であ
る。従って、液晶領域3a,3bにおけるこの比を調整
することによってγを調整することができる。一般的に
各液晶領域3a,3bにおけるγをほぼ等しくするため
には、上記比をほぼ等しくすればよい。
【0042】更に、請求項3の発明について説明する。
【0043】請求項3の発明に係る液晶表示素子も、基
本的には図1で説明した請求項1の発明に係る液晶表示
素子と同様であるが、図8に示されるように、液晶層2
が、凹部幅又は凸部幅によって複数の液晶領域3a,3
bに分かれるストライプ状の凹凸厚み変化を有し、しか
も凹部幅又は凸部幅の異なる液晶領域3a,3bであっ
て、一方における反転閾値が他方の反転飽和値と略一致
する少なくとも1組の液晶領域3a,3が含まれるよ
う、透過光を遮断するマスク4を備えているものであ
る。尚、7aは基板である。
本的には図1で説明した請求項1の発明に係る液晶表示
素子と同様であるが、図8に示されるように、液晶層2
が、凹部幅又は凸部幅によって複数の液晶領域3a,3
bに分かれるストライプ状の凹凸厚み変化を有し、しか
も凹部幅又は凸部幅の異なる液晶領域3a,3bであっ
て、一方における反転閾値が他方の反転飽和値と略一致
する少なくとも1組の液晶領域3a,3が含まれるよ
う、透過光を遮断するマスク4を備えているものであ
る。尚、7aは基板である。
【0044】上記マスク4を設けた場合、液晶領域3
a,3bに対応する各個別VT特性曲線A,Bは図9に
示されるようになる。図中斜線で示される範囲がマスク
4による透過光の遮断範囲である。
a,3bに対応する各個別VT特性曲線A,Bは図9に
示されるようになる。図中斜線で示される範囲がマスク
4による透過光の遮断範囲である。
【0045】図9においては、液晶領域bにおける液晶
層2の凹部付近と液晶領域3aにおける液晶層2の凸部
付近にマスクを設けることで、個別VT特性曲線Aの反
転閾値と個別VT特性曲線Bの反転飽和値をほぼ一致さ
せている。
層2の凹部付近と液晶領域3aにおける液晶層2の凸部
付近にマスクを設けることで、個別VT特性曲線Aの反
転閾値と個別VT特性曲線Bの反転飽和値をほぼ一致さ
せている。
【0046】尚、図9においては、液晶領域3a,3b
の両者にマスク4を設けているが、一方のみマスク4を
設けることで、当該反転閾値と反転飽和値をほぼ一致さ
せることができれば、この一方のみのマスク4でもよ
い。
の両者にマスク4を設けているが、一方のみマスク4を
設けることで、当該反転閾値と反転飽和値をほぼ一致さ
せることができれば、この一方のみのマスク4でもよ
い。
【0047】ところで、本発明の究極の目的は、アナロ
グ的階調表示を可能にすることであり、そのためには液
晶領域3a,3b(3c,3d)の数をNとした時に
(N+1)以上、好ましくは(2N+1)の階調状態を
得ることが必要となる。
グ的階調表示を可能にすることであり、そのためには液
晶領域3a,3b(3c,3d)の数をNとした時に
(N+1)以上、好ましくは(2N+1)の階調状態を
得ることが必要となる。
【0048】これを基準に本発明で要求される各条件の
許容誤差範囲の指標を考える。
許容誤差範囲の指標を考える。
【0049】まず、(N+1)以上の階調を得る場合の
許容偏差は1/(N+1)以下であり、各ステップ領域
3a,3b(3c,3d)における平均誤差をσとする
と、下記数2が成立することが必要となる。
許容偏差は1/(N+1)以下であり、各ステップ領域
3a,3b(3c,3d)における平均誤差をσとする
と、下記数2が成立することが必要となる。
【0050】また、(2N+1)以上の階調を得る場合
には、同様に下記3式が成立する必要がある。
には、同様に下記3式が成立する必要がある。
【0051】
【数2】σ<1/(N+1)N1/2
【0052】
【数3】σ<1/(2N+1)N1/2
【0053】数2及び数3は、本発明における各条件の
許容誤差範囲の指標とすることができる。即ち、前述し
た各請求項係る発明における略一致の条件は、上記2式
が成立する±σの範囲であることを意味し、また上記3
式が成立する±σの範囲であることが好ましい。
許容誤差範囲の指標とすることができる。即ち、前述し
た各請求項係る発明における略一致の条件は、上記2式
が成立する±σの範囲であることを意味し、また上記3
式が成立する±σの範囲であることが好ましい。
【0054】本発明におけるストライプ状凹凸のピッチ
は、使用する強誘電性液晶、セル厚等に応じて適当な値
を選ぶことが好ましく、カイラルピッチの1/2以上、
一般的には3〜50μmであることが好ましく、凹部と
凸部の幅の小さい方がセル厚以上、一般的には1μm以
上であることが好ましい。また、ストライプの長さは、
カイラルピッチ以上であることが好ましく、一般的には
凹部と凸部の幅の小さい方に対して3倍以上であること
が好ましく、更に好ましくは10倍以上である。凹凸の
段差量は配向状態を大きく乱さない範囲であればよく、
セル厚の1/2以下、一般的には100〜5000Åが
好ましい。
は、使用する強誘電性液晶、セル厚等に応じて適当な値
を選ぶことが好ましく、カイラルピッチの1/2以上、
一般的には3〜50μmであることが好ましく、凹部と
凸部の幅の小さい方がセル厚以上、一般的には1μm以
上であることが好ましい。また、ストライプの長さは、
カイラルピッチ以上であることが好ましく、一般的には
凹部と凸部の幅の小さい方に対して3倍以上であること
が好ましく、更に好ましくは10倍以上である。凹凸の
段差量は配向状態を大きく乱さない範囲であればよく、
セル厚の1/2以下、一般的には100〜5000Åが
好ましい。
【0055】
実施例1 図10に本実施例のストライプ状凹凸パターンを示す。
【0056】5は画素エリアを示しており、6はストラ
イプ状の凸部である。画素サイズは200μm角、凸部
6の幅は3μmである。最も凸部6の密な箇所は1μm
間隔、最も粗な箇所は15μm間隔とした。
イプ状の凸部である。画素サイズは200μm角、凸部
6の幅は3μmである。最も凸部6の密な箇所は1μm
間隔、最も粗な箇所は15μm間隔とした。
【0057】図11に図10中のa−a’断面図を示
す。
す。
【0058】一対のガラスの基板7a,7b上に、IT
Oの成膜によって電極1a,1bが形成されており、2
度のフォトリソグラフィー工程により、画素パターン及
びストライプパターンが形成されている。ストライプ状
凹凸の段差量は約1500Åとした上記両電極1a,1
bの上に絶縁膜8a,8bとしてポリイミドを200Å
の厚みで成膜し、ラビング処理を施した。ラビング方向
は、図12に示されるように、ストライプ状凹凸を付し
た側はθ1 の方向、その対向側である平坦な電極1a側
はθ2 の方向である。平坦な電極1a側から見て時計回
りを正方向として、θ1 、θ2 とストライプ方向のなす
角度は夫々0度、−10度である。
Oの成膜によって電極1a,1bが形成されており、2
度のフォトリソグラフィー工程により、画素パターン及
びストライプパターンが形成されている。ストライプ状
凹凸の段差量は約1500Åとした上記両電極1a,1
bの上に絶縁膜8a,8bとしてポリイミドを200Å
の厚みで成膜し、ラビング処理を施した。ラビング方向
は、図12に示されるように、ストライプ状凹凸を付し
た側はθ1 の方向、その対向側である平坦な電極1a側
はθ2 の方向である。平坦な電極1a側から見て時計回
りを正方向として、θ1 、θ2 とストライプ方向のなす
角度は夫々0度、−10度である。
【0059】その後、セルギャップ1.4μmで両基板
7a,7bを貼り合わせ、ギャップ中に強誘電性液晶を
封入した。また、貼り合わせ方向は、両基板7a,7b
におけるラビング方向がほぼ平行となる方向とした。得
られた液晶表示素子は良好な配向状態を示した。
7a,7bを貼り合わせ、ギャップ中に強誘電性液晶を
封入した。また、貼り合わせ方向は、両基板7a,7b
におけるラビング方向がほぼ平行となる方向とした。得
られた液晶表示素子は良好な配向状態を示した。
【0060】ここで、本実施例における凹凸の段差量は
次のようにして決定した。
次のようにして決定した。
【0061】まず、電極1bも凹凸を有しない比較用の
液晶表示素子の電極1a,1b間に図13に示すような
パルス電圧を印加し、光学応答特性を測定したところ、
△t=20μsでγ=1.12であった。そこで、前述
のd/D≒1−(1/λ)に基づいてdを定めた。
液晶表示素子の電極1a,1b間に図13に示すような
パルス電圧を印加し、光学応答特性を測定したところ、
△t=20μsでγ=1.12であった。そこで、前述
のd/D≒1−(1/λ)に基づいてdを定めた。
【0062】このようにして作製した液晶表示素子の両
電極1a,1b間に図13に示すようなパルス電圧を印
加して光学特性を測定したところ、△t=20μsでV
T特性曲線は図14に示すようなものとなった。
電極1a,1b間に図13に示すようなパルス電圧を印
加して光学特性を測定したところ、△t=20μsでV
T特性曲線は図14に示すようなものとなった。
【0063】図14から明らかなように、VT特性曲線
はほぼ直線となった上、1画素全体でのγ(Vsat /V
th)は約1.26であり、階調表示に有利な特性が得ら
れた。
はほぼ直線となった上、1画素全体でのγ(Vsat /V
th)は約1.26であり、階調表示に有利な特性が得ら
れた。
【0064】実施例2 図15に本実施例のストライプ状凹凸パターンを示す。
【0065】5は画素エリアを示しており、6はストラ
イプ状の凸部である。
イプ状の凸部である。
【0066】作製方法、液晶材料及びセルギャップ等は
実施例1と同様で、ラビング方向及び貼り合わせ方向も
実施例1と同様にして、液晶表示素子を得た。
実施例1と同様で、ラビング方向及び貼り合わせ方向も
実施例1と同様にして、液晶表示素子を得た。
【0067】得られた液晶表示素子は良好な配向状態を
示し、実施例1と同様の光学応答特性を測定した結果、
実施例1と同様の直線的なVT特性を持つ階調特性のよ
い表示装置が得られた。
示し、実施例1と同様の光学応答特性を測定した結果、
実施例1と同様の直線的なVT特性を持つ階調特性のよ
い表示装置が得られた。
【0068】実施例3 実施例2で得た液晶表示素子を用いて単純マトリックス
構成のセルを作製し、実際に画像表示を行った。
構成のセルを作製し、実際に画像表示を行った。
【0069】図16に装置の構成を示す。
【0070】装置は、500×500のマトリックスパ
ネル9、クロック10、同期回路11、、シフトレジス
タ12、アナログスイッチ13、走査波形発生器14及
びフレームメモリー13からの映像信号を駆動信号に変
換出力する情報信号発生回路15とから構成した。これ
らは実装上、マトリックスパネル9の上下の片側、上下
両側、左右の片側又は左右両側のいずれに配置して接続
することも可能である。
ネル9、クロック10、同期回路11、、シフトレジス
タ12、アナログスイッチ13、走査波形発生器14及
びフレームメモリー13からの映像信号を駆動信号に変
換出力する情報信号発生回路15とから構成した。これ
らは実装上、マトリックスパネル9の上下の片側、上下
両側、左右の片側又は左右両側のいずれに配置して接続
することも可能である。
【0071】この装置は、情報信号波形印加方法として
は、電圧変調の他、特にカイラルスメスチックC相の層
方向へ弾性伝播的に結合されるドメインを利用するた
め、その伝播時間を制御する意味で、パルス幅変調、位
相変調等の駆動方式も有効で、いずれも良好な階調表示
が得られた。
は、電圧変調の他、特にカイラルスメスチックC相の層
方向へ弾性伝播的に結合されるドメインを利用するた
め、その伝播時間を制御する意味で、パルス幅変調、位
相変調等の駆動方式も有効で、いずれも良好な階調表示
が得られた。
【0072】実施例4 凸部幅/凹部幅は、最もピッチの小さな箇所で1μm/
1μmとし、最もピッチの大きな箇所で5μm/15μ
mとした以外は実施例1と同様にして液晶セルを作製し
た。
1μmとし、最もピッチの大きな箇所で5μm/15μ
mとした以外は実施例1と同様にして液晶セルを作製し
た。
【0073】得られた液晶表示素子に実施例1と同様な
パルス電圧を印加して光学応答特性を測定したところ、
△t=20μsでVT特性は直線となった上、1画素全
体でのγ(Vsat /Vth)は約1.26であり、階調表
示に有利な特性が得られた。 実施例5 凸部幅/凹部幅を実施例4と同様にした他は実施例2と
同様にして、実施例2と同様のストライプ状凹凸パター
ンの液晶表示素子を得た。
パルス電圧を印加して光学応答特性を測定したところ、
△t=20μsでVT特性は直線となった上、1画素全
体でのγ(Vsat /Vth)は約1.26であり、階調表
示に有利な特性が得られた。 実施例5 凸部幅/凹部幅を実施例4と同様にした他は実施例2と
同様にして、実施例2と同様のストライプ状凹凸パター
ンの液晶表示素子を得た。
【0074】得られた液晶表示素子は良好な配向状態を
示し、実施例1と同様の光学応答特性を測定した結果、
実施例4と同様の直線的なVT特性を持つ階調特性のよ
い表示装置が得られた。
示し、実施例1と同様の光学応答特性を測定した結果、
実施例4と同様の直線的なVT特性を持つ階調特性のよ
い表示装置が得られた。
【0075】実施例6 実施例5で得た液晶表示素子を用いて実施例3と同様の
単純マトリックスのセルを作製して画像表示を行ったと
ころ、実施例3と同様に良好な階調表示を得ることがで
きた。
単純マトリックスのセルを作製して画像表示を行ったと
ころ、実施例3と同様に良好な階調表示を得ることがで
きた。
【0076】実施例7 予め一方の基板7aの外表面側に、遮光用のマスクとし
て、Cr膜を1500Å厚で蒸着し、凹凸ピッチの大き
な領域の凸部及び凹凸ピッチの小さな領域の凹部に対応
するようにパターニングした他は実施例1と同様にして
液晶セルを作製した。
て、Cr膜を1500Å厚で蒸着し、凹凸ピッチの大き
な領域の凸部及び凹凸ピッチの小さな領域の凹部に対応
するようにパターニングした他は実施例1と同様にして
液晶セルを作製した。
【0077】得られた液晶表示素子に実施例1と同様な
パルス電圧を印加して光学応答特性を測定したところ、
△t=20μsでVT特性は直線となった上、1画素全
体でのγ(Vsat /Vth)は約1.26であり、階調表
示に有利な特性が得られた。
パルス電圧を印加して光学応答特性を測定したところ、
△t=20μsでVT特性は直線となった上、1画素全
体でのγ(Vsat /Vth)は約1.26であり、階調表
示に有利な特性が得られた。
【0078】実施例8 マスクを実施例7と同様に設けた他は実施例2と同様に
して、実施例2と同様のストライプ状凹凸パターンの液
晶表示素子を得た。
して、実施例2と同様のストライプ状凹凸パターンの液
晶表示素子を得た。
【0079】得られた液晶表示素子は良好な配向状態を
示し、実施例1と同様の光学応答特性を測定した結果、
実施例6と同様の直線的なVT特性を持つ階調特性のよ
い表示装置が得られた。
示し、実施例1と同様の光学応答特性を測定した結果、
実施例6と同様の直線的なVT特性を持つ階調特性のよ
い表示装置が得られた。
【0080】実施例9 実施例8で得た液晶表示素子を用いて実施例3と同様の
単純マトリックスのセルを作製して画像表示を行ったと
ころ、実施例3と同様に良好な階調表示を得ることがで
きた。
単純マトリックスのセルを作製して画像表示を行ったと
ころ、実施例3と同様に良好な階調表示を得ることがで
きた。
【0081】
【発明の効果】本発明は、以上説明した通りのものであ
り、VT特性曲線を適宜の傾き値を有する直線的なもの
とすることができるため、強誘電性液晶を用いた液晶表
示素子による階調表示を極めて行いやすくすると共に、
温度補償や駆動回路の設計が極めて容易となるものであ
る。
り、VT特性曲線を適宜の傾き値を有する直線的なもの
とすることができるため、強誘電性液晶を用いた液晶表
示素子による階調表示を極めて行いやすくすると共に、
温度補償や駆動回路の設計が極めて容易となるものであ
る。
【図1】請求項1の本発明に係る液晶表示素子の説明図
である。
である。
【図2】図1に示される液晶表示素子の各液晶領域に対
応する個別VT特性曲線の説明図である。
応する個別VT特性曲線の説明図である。
【図3】図1に示される液晶表示素子の各液晶領域に対
応する個別VT特性曲線の他の説明図である。
応する個別VT特性曲線の他の説明図である。
【図4】請求項2の発明に係る液晶表示素子の説明図で
ある。
ある。
【図5】図4に示される液晶表示素子の各液晶領域に対
応する個別VT特性曲線の説明図である。
応する個別VT特性曲線の説明図である。
【図6】図4に示される液晶表示素子の各液晶領域に対
応する個別VT特性曲線の他の説明図である。
応する個別VT特性曲線の他の説明図である。
【図7】図6に示される合成VT特性曲線の説明図であ
る。
る。
【図8】請求項3の発明の係る液晶表示素子の説明図で
ある。
ある。
【図9】図に示される液晶表示素子の各液晶領域に対応
する個別VT特性曲線の説明図である。
する個別VT特性曲線の説明図である。
【図10】実施例1で作製した液晶表示素子におけるス
トライプ状凹凸パターンを示す図である。
トライプ状凹凸パターンを示す図である。
【図11】図10におけるa−a’断面図である。
【図12】実施例1で作製した液晶表示素子におけるラ
ビング方向の説明図である。
ビング方向の説明図である。
【図13】実施例1における駆動電圧パルスの説明図で
ある。
ある。
【図14】実施例1で作製した液晶表示素子のVT特性
曲線を示す図である。
曲線を示す図である。
【図15】実施例2で作製した液晶表示素子におけるス
トライプ状凹凸パターンを示す図である。
トライプ状凹凸パターンを示す図である。
【図16】実施例2で作製した画像表示装置の説明図で
ある。
ある。
1a,1b 電極 2 液晶層 3a,3b,3c,3d 液晶領域 4 マスク 5 画素エリア 6 ストライプ状の凸部 7a,7b 基板 8a,8b 絶縁膜 9 マトリックスパネル 10 クロック 11 同期回路 12 シフトレジスタ 13 アナログスイッチ 14 走査波形発生器 15 フレームメモリー 16 情報信号発生回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金子 修三 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−272426(JP,A) 特開 平5−323358(JP,A) 特開 平6−301051(JP,A) 特開 平6−59274(JP,A) 特開 平6−258657(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02F 1/141
Claims (3)
- 【請求項1】 一対の電極と、該一対の電極間に封入さ
れた強誘電性液晶の液晶層とを有する液晶表示素子にお
いて、液晶層が、凹部幅の異なるストライプ状の凹凸厚
み変化を有し、Dを凹部幅が最も大きい液晶領域におけ
る液晶層の凹部対応領域の厚み、dを凹凸の段差量、λ
を厚みDの液晶層における(反転飽和値)/(反転閾
値)とした時に、d/D≒1−(1/λ)を満たすよう
にd/Dが設定されていることを特徴とする液晶表示素
子。 - 【請求項2】 一対の電極と、該一対の電極間に封入さ
れた強誘電性液晶の液晶層とを有する液晶表示素子にお
いて、液晶層が、凹部幅の異なるストライプ状の凹凸に
よる厚み変化を有し、しかも凹部幅の小さな液晶領域に
おける凸部幅が、凹部幅の広い液晶領域における凸部幅
より小さいことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項3】 一対の電極と、該一対の電極間に封入さ
れた強誘電性液晶の液晶層とを有する液晶表示素子にお
いて、液晶層が、凹部幅又は凸部幅によって複数の液晶
領域に分かれるストライプ状の凹凸厚み変化を有し、し
かも凹部幅又は凸部幅の異なる液晶領域であって、一方
における反転閾値が他方の反転飽和値と略一致する少な
くとも1組の液晶領域が含まれるよう、透過光を遮断す
るマスクを備えていることを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5158036A JP2932229B2 (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | 液晶表示素子 |
| US08/254,065 US5581381A (en) | 1993-06-04 | 1994-06-03 | LCD electrode projections of variable widths and spacings |
| AT94304021T ATE184402T1 (de) | 1993-06-04 | 1994-06-03 | Flüssigkristallvorrichtung |
| EP94304021A EP0627648B1 (en) | 1993-06-04 | 1994-06-03 | Liquid crystal device |
| DE69420460T DE69420460D1 (de) | 1993-06-04 | 1994-06-03 | Flüssigkristallvorrichtung |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5158036A JP2932229B2 (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | 液晶表示素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06347832A JPH06347832A (ja) | 1994-12-22 |
| JP2932229B2 true JP2932229B2 (ja) | 1999-08-09 |
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ID=15662879
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| US (1) | US5581381A (ja) |
| EP (1) | EP0627648B1 (ja) |
| JP (1) | JP2932229B2 (ja) |
| AT (1) | ATE184402T1 (ja) |
| DE (1) | DE69420460D1 (ja) |
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