JP2931211B2 - Organic EL device - Google Patents

Organic EL device

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JP2931211B2
JP2931211B2 JP6218910A JP21891094A JP2931211B2 JP 2931211 B2 JP2931211 B2 JP 2931211B2 JP 6218910 A JP6218910 A JP 6218910A JP 21891094 A JP21891094 A JP 21891094A JP 2931211 B2 JP2931211 B2 JP 2931211B2
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organic
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scattering portion
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/875Arrangements for extracting light from the devices
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    • HELECTRICITY
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    • H10K59/879Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Electric Clocks (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、有機エレクトロルミネ
ッセンス素子(以下、有機EL素子と略記する)を発光
源として備えた有機EL装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic EL device provided with an organic electroluminescence device (hereinafter abbreviated as "organic EL device") as a light emitting source.

【0002】[0002]

【従来の技術】EL素子は自己発光のため視認性が高
く、また、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れてい
る。このような特徴を有していることから、現在では、
発光材料として無機化合物を用いた種々の無機EL素子
や、発光材料として有機化合物(以下、この化合物を有
機発光材料という)を用いた種々の有機EL素子が提案
されており、かつ実用化が試みられている。
2. Description of the Related Art EL devices have high visibility due to self-emission, and have excellent impact resistance because they are completely solid devices. Because of these features, at present,
Various inorganic EL devices using an inorganic compound as a light-emitting material and various organic EL devices using an organic compound (hereinafter, this compound is referred to as an organic light-emitting material) as a light-emitting material have been proposed and commercialized. Have been.

【0003】なかでも有機EL素子は、無機EL素子に
比べて印加電圧を大幅に低下させることができるため、
材料の開発・改良を通して、より高性能の有機EL素子
を得るための開発が活発に進められている。この有機E
L素子は、面光源としての利用が進められていると同時
に、いろいろな発光色の素子が開発されていることか
ら、表示装置の画素としての利用も進められている。有
機EL素子を画素として用いた表示装置では、複数の有
機EL素子を同一平面上に二次元配列することによって
パネル(表示パネル)を構成し、これらの素子を独立に
駆動させることにより所望の表示を行う。
[0003] Among them, the organic EL element can greatly reduce the applied voltage as compared with the inorganic EL element.
Through the development and improvement of materials, development for obtaining higher-performance organic EL devices has been actively promoted. This organic E
The use of the L element as a surface light source has been promoted, and at the same time, the use of the L element as a pixel of a display device has been promoted because elements of various luminescent colors have been developed. In a display device using an organic EL element as a pixel, a panel (display panel) is formed by two-dimensionally arranging a plurality of organic EL elements on the same plane, and a desired display is performed by driving these elements independently. I do.

【0004】有機EL素子の基本構成は陽極、有機発光
層、陰極が順次積層されたものであり、基板上にこれら
を順次積層したものが本明細書でいう有機EL装置であ
る。なお、陽極と陰極の位置は逆転する場合もある。ま
た、性能を向上させるために、陽極と発光層の間に正孔
輸送層を設けたり、陰極と発光層との間に電子注入層を
設けたり、陰極と発光層の間または電子注入層と発光層
との間に接着層を設けたりする場合がある。発光層は、
通常、1種または複数種の有機発光材料により形成する
が、有機発光材料と正孔輸送材料および/または電子注
入材料との混合物等により形成する場合もある。
The basic structure of an organic EL element is such that an anode, an organic light emitting layer, and a cathode are sequentially laminated, and an organic EL device referred to in this specification is one in which these are sequentially laminated on a substrate. Note that the positions of the anode and the cathode may be reversed. In order to improve performance, a hole transport layer is provided between the anode and the light emitting layer, an electron injection layer is provided between the cathode and the light emitting layer, or between the cathode and the light emitting layer or between the cathode and the light emitting layer. An adhesive layer may be provided between the light emitting layer and the light emitting layer. The light emitting layer is
Usually, it is formed of one or more kinds of organic light-emitting materials, but it may be formed of a mixture of the organic light-emitting material with a hole transport material and / or an electron injection material.

【0005】また、有機EL素子は通常、発光層の主表
面と実質的に平行な位置関係にある面を光取出し面とし
ており、有機EL素子を構成する1対の電極(陽極およ
び陰極)のうち光取出し面側に位置する電極(=陽極)
は、光の取出し効率を向上させるため、また、面発光素
子としての構成上、透明ないし半透明の薄膜からなる
(以下、透明性電極ということがある)。一方、光取出
し面とは反対の側に位置する電極(=陰極)は、特定の
金属薄膜(金属、合金、混合金属等の薄膜)からなる。
[0005] In addition, the organic EL element usually has a light extraction surface that is in a position substantially parallel to the main surface of the light emitting layer, and has a pair of electrodes (anode and cathode) constituting the organic EL element. The electrode located on the light extraction surface side (= anode)
Is made of a transparent or translucent thin film in order to improve light extraction efficiency and because of its structure as a surface emitting element (hereinafter sometimes referred to as a transparent electrode). On the other hand, the electrode (= cathode) located on the side opposite to the light extraction surface is made of a specific metal thin film (thin film of metal, alloy, mixed metal, etc.).

【0006】ところで、有機EL素子の陰極として用い
られている金属薄膜は概ね70%以上の反射率を有し、
非常に高い割合で可視光を反射するので、鏡面性電極と
も呼ばれている(以下、本明細書でも陰極を鏡面性電極
ということがある)。有機EL素子では、鏡面性電極を
有していることから、素子の非発光時に外部から当該有
機EL素子に入射した光の大部分が鏡面性電極によって
反射されて光取出し面から出射される。その結果、非発
光時には鏡面性電極が鏡面として視認されることとな
り、有機EL素子を利用した機器の美観の低下やデザイ
ン性の低下を招く。また、有機EL素子の非発光時にお
いて機器の表示を見えにくくするという難点を生じさせ
る。
Incidentally, a metal thin film used as a cathode of an organic EL element has a reflectance of about 70% or more.
Since it reflects visible light at a very high rate, it is also called a specular electrode (hereinafter, the cathode is sometimes referred to as a specular electrode in this specification). Since the organic EL element has the specular electrode, most of the light incident on the organic EL element from the outside when the element does not emit light is reflected by the specular electrode and emitted from the light extraction surface. As a result, when no light is emitted, the specular electrode is visually recognized as a specular surface, which leads to a decrease in aesthetic appearance and design of a device using the organic EL element. In addition, there is a problem that the display of the device is difficult to see when the organic EL element does not emit light.

【0007】EL素子自体あるいはEL素子を利用した
機器においてEL素子の非発光時に当該EL素子の色が
視認されることによる美観の低下やデザイン性の低下を
防止したものとしては、特開平4−292895号公報
に開示されているEL素子や、特開平4−291192
号公報に開示されているEL発光時計がある。特開平4
−292895号公報に開示されているEL素子は、金
もしくはアルミニウムのコーティングを施した透明体ま
たは金もしくはアルミニウムのコーティングをEL素子
内の所定位置に配置することにより、非発光時に金色ま
たは銀色を呈するようにしたものである。また、特開平
4−291192号公報に開示されているEL発光時計
は、透明文字盤に金もしくはアルミニウムのコーティン
グを施すことにより、または、金もしくはアルミニウム
のコーティングを施した透明体を透明文字盤とEL素子
との間に配置することにより、EL素子の非発光時に文
字盤が金色または銀色を呈するようにしたものである。
Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. Hei. An EL device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No.
There is an EL light-emitting timepiece disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. HEI 9-86, 1988. JP 4
The EL element disclosed in Japanese Patent No. 292895 discloses a gold or silver color when no light is emitted by disposing a transparent body coated with gold or aluminum or a gold or aluminum coating at a predetermined position in the EL element. It is like that. The EL luminescent watch disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-291192 has a transparent dial coated with gold or aluminum, or a transparent body coated with gold or aluminum as a transparent dial. By arranging the dial between the dial and the EL element, the dial has a gold or silver color when the EL element is not emitting light.

【0008】ただし、上記のEL素子およびEL発光時
計は、EL素子の非発光時に発光層の色が視認されるの
を金もしくはアルミニウムのコーティングを施した透明
体または金もしくはアルミニウムのコーティングにより
防止したものであり、EL素子の非発光時に当該EL素
子の陰極が視認されるのを防止しようとしたものではな
い。また、特開平4−292895号公報および特開平
4−291192号公報のいずれにおいても、使用して
いるEL素子が無機EL素子であるか有機EL素子であ
るの記載がないが、非発光時のEL素子の発光層の色が
クリーム色であるとのことから、これらのEL素子は無
機EL素子であって有機EL素子ではないと認識され
る。
However, in the EL element and the EL luminescent timepiece described above, the color of the light emitting layer is visually recognized when the EL element is not emitting light by a transparent body coated with gold or aluminum or a coating of gold or aluminum. It is not intended to prevent the cathode of the EL element from being visually recognized when the EL element does not emit light. In both Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 4-292895 and 4-291192, there is no description that the EL element used is an inorganic EL element or an organic EL element. Since the color of the light emitting layer of the EL element is cream, it is recognized that these EL elements are inorganic EL elements and not organic EL elements.

【0009】有機EL素子では、無機EL素子と異な
り、基板とこの基板の直上に形成された透明性電極との
密着性および前記の透明性電極の表面の平坦性が共に高
いことが重要である。金やアルミニウムのコーティング
膜は基板との密着性が比較的低いことから、このコーテ
ィング膜を基板上に設けたとしても強度のある平坦な透
明性電極は得られない。したがって、前記のコーティン
グ膜を透明性電極として用いて有機EL素子を形成する
と発光面内で明るさにムラを生じ、長時間発光させた場
合には発熱により透明性電極と基板との間に剥離を生じ
てダークスポット(無発光点)の原因や素子破壊の原因
となる。
In the organic EL device, unlike the inorganic EL device, it is important that both the adhesion between the substrate and the transparent electrode formed immediately above the substrate and the flatness of the surface of the transparent electrode are high. . Since a coating film of gold or aluminum has relatively low adhesion to a substrate, even if this coating film is provided on a substrate, a strong flat transparent electrode cannot be obtained. Therefore, when an organic EL element is formed using the above-mentioned coating film as a transparent electrode, unevenness in brightness occurs in the light emitting surface, and when the light is emitted for a long time, peeling occurs between the transparent electrode and the substrate due to heat generation. To cause dark spots (no light emitting points) and destruction of elements.

【0010】また、非発光時にEL素子の色が視認され
ることによる美観の低下やデザイン性の低下を防止する
ことを直接の目的とするものではないが、特開平1−3
15992号公報には素子を構成するガラス基板の片面
(素子を形成する側の面)に機械的研磨および化学エッ
チングにより凹凸を形成した無機EL素子(薄膜EL素
子)が開示されている(同公報の実施例1参照)。この
無機EL素子は、前記の凹凸により発光輝度の視野角に
よる変化量を低減したものであるが、前記の凹凸が外部
光を散乱するので非発光時には外観上白濁した状態を呈
し、結果的に非発光時にEL素子の色が視認されない。
[0010] Further, it is not a direct object to prevent a decrease in aesthetic appearance and a decrease in design due to visual recognition of the color of the EL element when no light is emitted.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 15992 discloses an inorganic EL element (thin-film EL element) in which irregularities are formed on one surface (a surface on which the element is formed) of a glass substrate constituting the element by mechanical polishing and chemical etching. Example 1). This inorganic EL element is one in which the amount of change in the emission luminance due to the viewing angle is reduced by the above-mentioned unevenness. The color of the EL element is not visually recognized when no light is emitted.

【0011】しかしながら、この方法を有機EL素子に
適用することはできない。有機EL素子では基板表明の
平坦性が高いことが重要であり、表明に凹凸を形成した
基板の上に透明性電極を形成し、この透明性電極を利用
して有機EL素子を作製すると、発光面に多数のダーク
スポットが生じ、また素子の寿命も極端に短くなる。こ
れは、無機EL素子で使用する透明性電極の膜厚が10
0μmのオーダーであるのに対して有機EL素子で使用
する透明性電極の膜厚が0.1μmのオーダーであるこ
とに起因する。すなわち、無機EL素子では基板に数μ
m程度の凹凸があってもこの凹凸は100μmオーダー
の膜厚の透明性電極の表面にそれ程反映されないが、有
機EL素子では基板に形成された凹凸が数μm程度であ
ってもこの凹凸が0.1μmオーダーの膜厚の透明性電
極の表面に強く反映されて、この透明性電極上に形成さ
れる各層は膜厚が不均一な層となる。その結果、発光面
に多数のダークスポットが生じ、またショートパス(短
絡)が発生して断線してしまうことから、素子寿命が短
くなる。
However, this method cannot be applied to an organic EL device. In an organic EL device, it is important that the surface of the substrate has high flatness. When a transparent electrode is formed on a substrate having irregularities formed on the surface of the substrate, and the organic EL device is manufactured using the transparent electrode, light emission is obtained. Many dark spots are generated on the surface, and the life of the device is extremely shortened. This is because the thickness of the transparent electrode used in the inorganic EL element is 10
This is because the thickness of the transparent electrode used in the organic EL element is on the order of 0.1 μm, while the thickness is on the order of 0 μm. That is, in the case of an inorganic EL element, several μm
Even if there are irregularities of about m, the irregularities are not so much reflected on the surface of the transparent electrode having a film thickness of the order of 100 μm. Each layer formed on the transparent electrode is strongly reflected on the surface of the transparent electrode having a thickness on the order of 0.1 μm, and has a non-uniform thickness. As a result, a number of dark spots are generated on the light emitting surface, and a short path (short circuit) is generated to cause disconnection, thereby shortening the life of the element.

【0012】[0012]

【発明の目的】本発明の目的は、有機EL素子を発光源
として備えた有機EL装置であって、有機EL素子を構
成する鏡面性電極が当該素子の非発光時に鏡面としては
視認されない有機EL装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an organic EL device having an organic EL element as a light-emitting source, wherein a mirror-like electrode constituting the organic EL element is not visually recognized as a mirror when the element does not emit light. It is to provide a device.

【0013】[0013]

【目的を達成するための手段】上記の目的を達成する本
発明の有機EL装置は、基板と、この基板上に設けられ
た1つまたは複数の有機EL素子とを有し、前記有機E
L素子が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少
なくとも有機発光層を介して鏡面性電極を積層したもの
であり、この有機EL素子を発光源とするとともに前記
基板側を光取り出し面とする有機EL装置であって、
記の光取り出し面側に特定の光散乱部を有するものであ
る。そして、前記特定の光散乱部の種類に基づいて、本
願発明の有機EL装置は下記(1)〜(9)の9種類に
大別される。
According to the present invention, there is provided an organic EL device comprising: a substrate; and one or more organic EL elements provided on the substrate;
The L element is obtained by laminating a mirror-like electrode via at least an organic light emitting layer on a transparent electrode formed on the substrate, and the organic EL element is used as a light source and light is extracted from the substrate an organic EL device for the surface, prior to
It has a specific light scattering part on the light extraction surface side
You. Then, based on the type of the specific light scattering portion,
The organic EL devices of the present invention are classified into the following nine types (1) to (9).
It is roughly divided.

【0014】(1)レンズシートからなる光散乱部を有
し、前記のレンズシートが、(i) 前記の基板の内側面に
設けられているか、(ii)凹凸面が前記の有機EL素子と
対向するようにして前記の基板の外側面に設けられてい
るか、(iii) 前記の基板が貼り合わせ構造を有するもの
であって、該基板の貼り合わせ部に設けられているか、
または、(iv)前記の基板を兼ねており、該レンズシート
の凹凸面側に前記の有機EL素子が形成されている、こ
とを特徴とする有機EL装置。
(1) A light scattering portion made of a lens sheet is provided.
And the lens sheet is provided on (i) an inner surface of the substrate.
Is provided, or (ii) the uneven surface is the same as the organic EL element.
Provided on the outer surface of the substrate so as to face each other.
Or (iii) the substrate has a bonded structure
It is provided in the bonding portion of the substrate,
Or (iv) the lens sheet also serving as the substrate,
The above-mentioned organic EL element is formed on the uneven surface side of
An organic EL device characterized by the following.

【0015】(2)片面または両面を艶消し処理したガ
ラス板もしくはポリマー板からなる光散乱部を有し、前
記のガラス板もしくはポリマー板が、(i) 前記の基板の
片面に設けられているか、(ii)前記の基板が貼り合わせ
構造を有するものであって、該基板の貼り合わせ部に設
けられているか、または、(iii)前記の基板を兼ねてい
る、ことを特徴とする有機EL装置。
(2) Gas with matte treatment on one or both sides
It has a light scattering part consisting of a lath plate or a polymer plate.
The glass plate or polymer plate described above is (i) the substrate
Is provided on one side or (ii) the substrate is bonded
It has a structure, and is installed at the bonding part of the substrate.
Or (iii) also serves as the substrate described above.
An organic EL device.

【0016】(3)前記の基板が、透明基板の内部に該
透明基板と屈折率が異なる透明物質または不透明粒子を
分散させたものからなり、該基板が光散乱部としても機
能することを特徴とする有機EL装置。
(3) The substrate is provided inside a transparent substrate.
Use a transparent substance or opaque particles with a different refractive index from the transparent substrate.
The substrate is also used as a light scattering part.
An organic EL device characterized by functioning.

【0017】(4)一平面上に分散または凝集した状態
で配置された透明物質もしくは不透明粒子からなる光散
乱部を有し、該光散乱部が、(i) 前記の基板の片面に設
けられているか、または、(ii)前記の基板が貼り合わせ
構造を有するものであって、該基板の貼り合わせ部に設
けられている、ことを特徴とする有機EL装置。
(4) State of dispersion or aggregation on one plane
Light scattering consisting of transparent or opaque particles arranged in
A light scattering part, which is provided on one side of the substrate.
Or (ii) the substrates are bonded together.
It has a structure, and is installed at the bonding part of the substrate.
An organic EL device, comprising:

【0018】(5)一平面上に班点状に付着した金属か
らなる光散乱部を有し、該光散乱部が 、(i) 前記の基板
の片面に設けられているか、または、(ii)前記の基板が
貼り合わせ構造を有するものであって、該基板の貼り合
わせ部に設けられている、ことを特徴とする有機EL装
置。
(5) Is the metal adhered in spots on one plane?
A light scattering portion comprising: (i) the substrate
Or (ii) the substrate is
Having a bonding structure, wherein the substrate is bonded
The organic EL device provided in the
Place.

【0019】(6)非金属性繊維製の織物、編み物もし
くは不織布または前記の非金属性繊維の配列物からなる
光散乱部を有し、該光散乱部が、(i) 前記の基板の片面
に設けられているか、または、(ii)前記の基板が貼り合
わせ構造を有するものであって、該基板の貼り合わせ部
に設けられている、ことを特徴とする有機EL装置。
(6) Non-metallic fiber woven or knitted fabric
Or a non-woven fabric or an array of said non-metallic fibers
A light-scattering portion, wherein the light-scattering portion is (i) one surface of the substrate;
Or (ii) the substrate is bonded
And a bonding portion of the substrate.
An organic EL device, comprising: an organic EL device;

【0020】(7)一平面上に非金属性製の細線によっ
て描画された模様または一平面上に細い溝によって描画
された模様からなる光散乱部を有し、該光散乱部が、
(i) 前記の基板の片面に設けられているか、(ii)前記の
基板が貼り合わせ構造を有するものであって、該基板の
貼り合わせ部に設けられているか、または、(iii) ポリ
マーフィルムの片面に設けられており、かつ、このポリ
マーフィルムが前記の基板の片面または前記の貼り合わ
せ部に設けられている、ことを特徴とする有機EL装
置。
(7) A non-metallic thin wire is formed on one plane.
Draw with a pattern drawn on a flat surface or a narrow groove on one plane
Having a light scattering portion consisting of a patterned pattern,
(i) provided on one side of the substrate, or (ii)
The substrate has a bonding structure, and the substrate
Provided in the bonding area or (iii)
On one side of the film
Mer film is attached to one side of the substrate or the lamination
The organic EL device provided in the
Place.

【0021】(8)半透明物質層または半透明フィルム
からなる光散乱部を有し、該光散乱部が、(i) 前記の基
板の片面に設けられているか、または、(ii)前記の基板
が貼り合わせ構造を有するものであって、該基板の貼り
合わせ部に設けられている、ことを特徴とする有機EL
装置。
(8) Translucent material layer or translucent film
A light scattering portion comprising: (i) the base
Provided on one side of the plate, or (ii) the substrate
Has a bonding structure, and the bonding of the substrate
An organic EL provided in a joining portion
apparatus.

【0022】(9) 前記の基板が半透明のポリマー基
板からなり、該基板が光散乱部としても機能することを
特徴とする有機EL装置。
(9) The substrate is a translucent polymer group
Plate, and that the substrate also functions as a light scattering portion.
Characteristic organic EL device.

【0023】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
有機EL装置は、上述のように、基板側を光取り出し面
とする有機EL装置であって、前記の光取り出し面側に
特定の光散乱部を有するものであるので、まず、この光
散乱部について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. As described above, the organic EL device of the present invention has a light extraction surface on the substrate side.
An organic EL device, wherein the light extraction surface side
Since the light scattering portion has a specific light scattering portion , the light scattering portion will be described first.

【0024】上記の光散乱部は、本発明の有機EL装置
を構成する有機EL素子からの発光(EL光)に対して
当該発光を外部から視認するに十分な光透過性を有する
一方で、外部から前記有機EL素子に入射しようとする
光についてはこれを散乱させて、前記有機EL素子の非
発光時に当該有機EL素子の鏡面性電極が鏡面として視
認されるのを防止するものである。このような機能を有
する光散乱部は光取出し面側の外側に形成されていれば
よく、前記の有機EL素子が設けられる基板から離れた
状態で配置されていてもよいが、本発明の有機EL装置
においては有機EL素子が設けられる基板の片面上もし
くは前記基板の内部に形成されているか、または基板自
体が光散乱部として機能するものであることが好まし
い。このような光散乱部の具体例としては、下記(1)
〜(9)のものが挙げられる。
The above-mentioned light scattering portion has a sufficient light transmittance with respect to light emission (EL light) from the organic EL element constituting the organic EL device of the present invention so that the light emission can be visually recognized from the outside. Light to be incident on the organic EL element from the outside is scattered to prevent the specular electrode of the organic EL element from being seen as a mirror surface when the organic EL element does not emit light. The light scattering portion having such a function only needs to be formed on the outside of the light extraction surface side, and may be disposed apart from the substrate on which the organic EL element is provided. In an EL device, it is preferable that the organic EL element is formed on one surface of a substrate or on the inside of the substrate, or that the substrate itself functions as a light scattering portion. Specific examples of such a light scattering portion include the following (1)
To (9).

【0025】(1)レンズシートからなるもの レンズシートとは同心円状、互いに平行な複数本の線
状、格子状等に配列ないし形成された複数のレンズ、プ
リズム、V字溝等によって直進する光の方向を変化させ
る薄型板状透明物質を意味する。このレンズシートの具
体例としてはレンティキュラーレンズシート、フレネル
レンズシート、ハエの目レンズシート、猫の目レンズシ
ート、二重ハエの目レンズシート、二重レンティキュラ
ーレンズシート、放射状レンティキュラーレンズシー
ト、プリズムレンズフィルム、マイクロプリズムレンズ
フィルム等や、これらのレンズシートの凸面を凹面に変
えてなるレンズシート、透明球または半透明球を面状に
並べたもの等が挙げられる。また、V字溝等の溝を彫る
ことによって光の方向を変化させたものでもよい。レン
ズシートの材質はガラスであってもよいし、樹脂であっ
てもよい。前記の樹脂の具体例としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスル
ホン、ポリアリレート、ポリメタクリレート、ポリアク
リレート、ポリスチレン等が挙げられる。
(1) Consisting of a lens sheet A lens sheet is a light that travels straight through a plurality of lenses, prisms, V-shaped grooves, or the like arranged or formed concentrically, a plurality of parallel lines, a lattice, or the like. Means a thin plate-shaped transparent substance that changes the direction of Specific examples of this lens sheet include a lenticular lens sheet, a Fresnel lens sheet, a fly's eye lens sheet, a cat's eye lens sheet, a double fly's eye lens sheet, a double lenticular lens sheet, a radial lenticular lens sheet, Examples include a prism lens film, a micro-prism lens film, a lens sheet in which the convex surface of these lens sheets is changed to a concave surface, a transparent sphere or a translucent sphere arranged in a plane, and the like. Further, the direction of light may be changed by carving a groove such as a V-shaped groove. The material of the lens sheet may be glass or resin. Specific examples of the resin include polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, polymethacrylate, polyacrylate, and polystyrene.

【0026】上記のレンズシートからなる光散乱部は、
基板の内側面(有機EL素子が設けられる側の面。以下
同じ。)または外側面(有機EL素子が設けられる側と
は反対側の面。以下同じ。)に設けられていてもよい
し、貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられて
いてもよい。さらには、このレンズシートが基板を兼ね
ていてもよい。レンズシートの向きは、当該レンズシー
における凹凸面(プリズムまたはレンズが形成されて
いる側の面を意味する。)が有機EL素子と対向する向
きであってもよいし、その逆であってもよいが、基板の
外側面に設ける場合には、前記の凹凸面が有機EL素子
と対向する向きとする。
The light scattering portion made of the above lens sheet is
It may be provided on the inner surface (the surface on which the organic EL element is provided; the same applies hereinafter) or the outer surface (the surface opposite to the side on which the organic EL element is provided; the same applies hereinafter) of the substrate, It may be provided at a bonding portion of a substrate having a bonding structure. Further, this lens sheet may also serve as a substrate. The orientation of the lens sheet depends on the uneven surface of the lens sheet (the prism or lens is formed).
Means the side on which you are. ) May be in the direction facing the organic EL element or vice versa .
When provided on the outer side surface, the uneven surface is an organic EL element.
And the opposite direction.

【0027】プリズムまたはレンズが形成されている側
の面が有機EL素子と対向する向きにレンズシートを配
設した場合には、その逆向きに配設した場合よりも光散
乱効果が低下するが、プリズムまたはレンズが形成され
ている側の面を覆うようにして後述するオーバーコート
層を設けることにより、あるはプリズムまたはレンズが
形成されている側の面を覆うようにして透明性の接着剤
を塗布して基板上に固着させることにより、光散乱効果
の低下を少なくすることができる。
When the lens sheet is arranged so that the surface on which the prism or lens is formed faces the organic EL element, the light scattering effect is lower than when the lens sheet is arranged in the opposite direction. By providing an overcoat layer described later so as to cover the surface on which the prism or lens is formed, or to cover the surface on which the prism or lens is formed, a transparent adhesive Is applied and fixed on the substrate, a decrease in the light scattering effect can be reduced.

【0028】レンズシートからなる光散乱部を基板の片
面(内側面または外側面)に設けるにあたっては、当該
レンズシートを例えばエポキシ系接着剤、アクリル系接
着剤、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性接着剤
(ビニル樹脂系接着剤等)、イソシアン酸エステル系樹
脂等のバインダーにより基板の所望面上に固着させる。
また、レンズシートからなる光散乱部を貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けるにあたっては、まず、1
枚の基板の片面にレンズシートを例えば前述のバインダ
ーによって固着させた後、前記のレンズシートが内部に
位置するようにしてもう1枚の基板を例えば前述のバイ
ンダーによって貼り合わせる。なお、有機EL素子を設
けるための基板として前記貼り合わせ構造の基板を用い
る場合、有機EL素子は当該貼り合わせ構造の基板を構
成する2枚の基板のいずれの面上に設けてもよい。
In order to provide a light scattering portion made of a lens sheet on one side (inner side or outer side) of the substrate, the lens sheet is made of, for example, an epoxy-based adhesive, an acrylic-based adhesive, a photocurable resin, a thermosetting resin. And a binder such as a thermoplastic adhesive (a vinyl resin-based adhesive) or an isocyanate-based resin to be fixed on a desired surface of the substrate.
When providing a light scattering portion made of a lens sheet on a bonding portion of a substrate having a bonding structure, first,
After a lens sheet is fixed to one surface of one substrate with, for example, the binder described above, another substrate is bonded with, for example, the binder described above so that the lens sheet is positioned inside. In the case where the substrate having the bonding structure is used as a substrate for providing an organic EL element, the organic EL element may be provided on any of the two substrates forming the substrate having the bonding structure.

【0029】(2)片面または両面が艶消し処理された
ガラス板もしくはポリマー板からなるもの この光散乱部は、基板の片面(内側面または外側面)ま
たは貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられる
か、または、この光散乱部自体が基板を兼ねる。ここ
に、ガラス板としては石英ガラス、青板ガラス、硅酸塩
ガラス、硼酸塩ガラス、燐酸塩ガラス、燐硅酸ガラス、
硼硅酸ガラス等からなるものを用いることができ、偏光
板ガラスからなるものを用いることもできる。また、ポ
リマー板としてはポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、
ポリメタクリレート、ポリアクリレート等からなるもの
を用いることができる。この光散乱部を基板の片面また
は貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設ける場合、
その厚さは0.05〜3mm程度であることが好まし
い。また、この光散乱自体を基板として兼用する場合に
は、その厚さは0.05〜5mm程度であることが好ま
しい。この光散乱部を基板の片面または貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設ける場合と基板として兼用す
る場合のいずれにおいても、当該光散乱部の厚さの下限
は0.05mm以下であってもよいが、その場合の光散
乱部材料には強度がないため取り扱いにくい。同様に、
当該光散乱部の厚さの上限を前記の値より高くすること
もできるが、その場合には得られる装置が重たくなる。
(2) A glass plate or a polymer plate on one or both sides of which a matte treatment has been performed. This light scattering portion is provided on one side (inner side or outer side) of the substrate or on a bonding portion of a substrate having a bonding structure. Either provided or the light scattering portion itself also serves as the substrate. Here, as the glass plate, quartz glass, blue plate glass, silicate glass, borate glass, phosphate glass, phosphosilicate glass,
A material made of borosilicate glass or the like can be used, and a material made of polarizing plate glass can also be used. As the polymer plate, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate,
Those made of polymethacrylate, polyacrylate, or the like can be used. When this light scattering portion is provided on one side of the substrate or the bonding portion of the substrate having the bonding structure,
Its thickness is preferably about 0.05 to 3 mm. When the light scattering itself is used also as a substrate, its thickness is preferably about 0.05 to 5 mm. In both the case where the light scattering portion is provided on one surface of the substrate or the bonding portion of the substrate having the bonding structure and the case where the light scattering portion is also used as the substrate, even if the lower limit of the thickness of the light scattering portion is 0.05 mm or less. Good, but in that case, the light scattering portion material has no strength and is difficult to handle. Similarly,
The upper limit of the thickness of the light scattering portion can be higher than the above value, but in that case, the obtained device becomes heavy.

【0030】上記の光散乱部を基板の片面に設けるにあ
たっては、例えば前記(1)で例示したバインダーを用
いて前記のガラス板もしくはポリマー板を基板の所望面
上に固着させる。また、上記の光散乱部を貼り合わせ構
造の基板の貼り合わせ部に設ける場合、光散乱部の材料
として前記のガラス板もしくはポリマー板を用いる以外
は前記(1)での配設方法に準じることができる。な
お、有機EL素子を設けるための基板として前記の貼り
合わせ構造の基板を用いる場合、有機EL素子は当該貼
り合わせ構造の基板を構成する2枚の基板のいずれの面
上に設けてもよい。
When the light scattering portion is provided on one surface of the substrate, the glass plate or the polymer plate is fixed on a desired surface of the substrate using, for example, the binder exemplified in the above (1). In the case where the light scattering portion is provided in the bonding portion of the substrate having the bonding structure, the method described in (1) is followed except that the glass plate or the polymer plate is used as the material of the light scattering portion. Can be. In the case where a substrate having the above-described bonded structure is used as a substrate for providing an organic EL element, the organic EL element may be provided on either surface of the two substrates included in the substrate having the bonded structure.

【0031】(3)透明基板の内部に当該透明基板と屈
折率が異なる透明物質または不透明粒子を分散させてな
る基板自体からなるもの ここに、透明基板の材質はガラスであってもよいし、ポ
リマーであってもよい。また、前記透明物質の具体例と
しては気泡、ガラスファイバー、SiO2 粒子、ガラス
ビーズ、透明プラスチック粒子等が挙げられ、前記不透
明粒子の具体例としてはカーボン,酸化スズ,硫酸バリ
ウム,炭化チタン,窒化チタン,酸化チタン,不透明プ
ラスチック等からなる粒子や、帯電防止材料として使用
される粉末(酸化亜鉛や硫化亜鉛を酸化スズで被覆した
粉末等)が挙げられる。これらの透明物質および不透明
粒子は、ガラスファイバーを除いて、粒径が0.1μm
〜数10μmのものであることが好ましい。ガラスファ
イバーは、繊維径が0.1〜1000μm程度、繊維長
が0.1〜10mm程度のものであることが好ましい。
これらの透明物質および不透明粒子はそれぞれ単独で使
用されていてもよいし、併用されていてもよい。さら
に、ジオキサジン系,アントラキノン系,フタロシアニ
ン系等の色素粉末や、スチルベン系,ベンゾイミダゾー
ル系,ベンジジン系等の蛍光色素粉末を単独で、または
前記の透明物質および/または不透明粒子と併用して用
いてもよい。
(3) A transparent substrate or a substrate itself in which a transparent substance or an opaque particle having a different refractive index from the transparent substrate is dispersed inside the transparent substrate. Here, the material of the transparent substrate may be glass, It may be a polymer. Specific examples of the transparent substance include air bubbles, glass fibers, SiO 2 particles, glass beads, and transparent plastic particles. Specific examples of the opaque particles include carbon, tin oxide, barium sulfate, titanium carbide, and nitride. Examples include particles made of titanium, titanium oxide, opaque plastic, and the like, and powders used as an antistatic material (powder coated with zinc oxide or zinc sulfide with tin oxide). These transparent and opaque particles have a particle size of 0.1 μm, except for glass fiber.
It is preferable that the thickness is from 10 μm to 10 μm. The glass fiber preferably has a fiber diameter of about 0.1 to 1000 μm and a fiber length of about 0.1 to 10 mm.
These transparent substances and opaque particles may be used alone or in combination. Further, a dioxazine-based, anthraquinone-based, phthalocyanine-based dye powder or a stilbene-based, benzimidazole-based, or benzidine-based fluorescent dye powder is used alone or in combination with the transparent substance and / or opaque particle. Is also good.

【0032】(4)一平面上に分散または凝集した状態
で配置された透明物質または不透明粒子からなるもの ここに、上記の透明物質および不透明粒子の具体例とし
ては、気泡を除いて上記の(3)で例示したものと同じ
ものが挙げられる。なお、透明物質を用いる場合、当該
透明物質としては基板の屈折率と異なる屈折率を有する
ものを選択することが好ましい。上記の光散乱部は基板
の片面(内側面または外側面)に設けられていてもよい
し、貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられて
いてもよい。この光散乱部を基板の片面に設けるにあた
っては、例えば前記(1)で例示したバインダーを用い
て前記の透明物質の所望量または前記の不透明粒子の所
望量を基板の所望面上に固着させる。また、上記の光散
乱部を貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設ける場
合は、光散乱部の材料として前記の透明物質の所望量ま
たは前記の不透明粒子の所望量を用いる以外は前記
(1)での配設方法に準じることができる。なお、有機
EL素子を設けるための基板として前記の貼り合わせ構
造の基板を用いる場合、有機EL素子は当該貼り合わせ
構造の基板を構成する2枚の基板のいずれの面上に設け
てもよい。
(4) Transparent substance or opaque particles arranged in a state of being dispersed or aggregated on one plane. Specific examples of the above-mentioned transparent substance and opaque particles include the above-mentioned ( The same ones as exemplified in 3) are mentioned. When a transparent substance is used, it is preferable to select a transparent substance having a refractive index different from that of the substrate. The light scattering portion may be provided on one surface (the inner surface or the outer surface) of the substrate, or may be provided on a bonding portion of the substrate having the bonding structure. When the light scattering portion is provided on one surface of the substrate, a desired amount of the transparent substance or a desired amount of the opaque particles is fixed on a desired surface of the substrate using, for example, the binder exemplified in the above (1). When the light scattering portion is provided at the bonding portion of the substrate having the bonding structure, the (1) except that the desired amount of the transparent substance or the desired amount of the opaque particle is used as the material of the light scattering portion. ) Can be followed. In the case where a substrate having the above-described bonded structure is used as a substrate for providing an organic EL element, the organic EL element may be provided on either surface of the two substrates included in the substrate having the bonded structure.

【0033】(5)一平面上に班点状に付着した金属か
らなるもの この光散乱部も基板の片面(内側面または外側面)に設
けられていてもよいし、貼り合わせ構造の基板の貼り合
わせ部に設けられていてもよい。光散乱部を前記の貼り
合わせ部に設ける場合、その配設方法は前述の(1)で
の配設方法に準じることができる。班点状に付着した金
属の形成は、所定の金属を蒸発源として使用した真空蒸
着法や、所定の金属をターゲットとして用いたスパッタ
リング法、あるいは印刷法、塗布法、散布法等により行
うことができる。このとき、班点状の金属の膜厚は概ね
0.01〜500μmであることが好ましい。また、斑
点状に付着した金属の1つの大きさ(平面視上の面積)
は1〜10000μm2 であることが好ましが、1mm
2 以上のものが含まれていてもよい。そして、班点状に
付着した金属による被覆率は5〜90%であることが好
ましい。上記の金属の具体例としては金、白金、ニッケ
ル、クロムおよびアルミニウムが挙げられる。なお、貼
り合わせ構造の基板(貼り合わせ部に上記の光散乱部が
設けられているもの)を得る際の基板同士の固着は、例
えば上記の(1)と同様にして行うことができる。ま
た、有機EL素子を設けるための基板として前記の貼り
合わせ構造の基板を用いる場合、有機EL素子は当該貼
り合わせ構造の基板を構成する2枚の基板のいずれの面
上に設けてもよい。
(5) What consists of a metal adhered in a spot shape on one plane This light scattering portion may also be provided on one side (inner side or outer side) of the substrate, or may be provided on a substrate having a laminated structure. It may be provided in the bonding part. When the light scattering portion is provided in the bonding portion, the disposing method can be in accordance with the disposing method in the above (1). The formation of the speckled metal can be performed by a vacuum deposition method using a predetermined metal as an evaporation source, a sputtering method using a predetermined metal as a target, or a printing method, a coating method, a spraying method, or the like. it can. At this time, it is preferable that the thickness of the spot-like metal is approximately 0.01 to 500 μm. In addition, one size (area in plan view) of the metal adhered in a spot shape
Is preferably 1 to 10000 μm 2 , but 1 mm
Two or more may be included. It is preferable that the coverage by the metal adhering in spots is 5 to 90%. Specific examples of the above metals include gold, platinum, nickel, chromium, and aluminum. Note that the substrates can be fixed to each other when obtaining a substrate having a bonded structure (where the light scattering portion is provided in the bonded portion), for example, in the same manner as in the above (1). In the case where a substrate having the above-described bonded structure is used as a substrate for providing an organic EL element, the organic EL element may be provided on either surface of the two substrates forming the substrate having the bonded structure.

【0034】(6)非金属性繊維製の織物、編み物もし
くは不織布または前記非金属性繊維の配列物からなるも
の ここに、上記の非金属性繊維の具体例としては、絹,
麻,木綿等の天然繊維や、人絹,ナイロン繊維,ポリエ
ステル繊維,ポリプロピレン繊維,ガラスファイバー等
の化学繊維が挙げられ、その太さは0.1μm〜1mm
であることが好ましい。また、このような非金属性繊維
からなる前記の配列物とは、前記の非金属性繊維を放射
状、縞状、ジグザグ状、葛折状、格子状、網の目状、螺
旋状、同心円状、幾何学模様状、あるいは不定形に配置
したものを意味し、使用されている繊維の本数は1本で
も複数本でもよい。前記の非金属性繊維は透明であって
もよいし、人為的に着色されていてもよいが、透明な非
金属性繊維を用いる場合には基板の屈折率と異なる屈折
率を有するものを選択することが好ましい。
(6) A woven, knitted or non-woven fabric made of non-metallic fibers or an array of the non-metallic fibers. Specific examples of the non-metallic fibers include silk,
Natural fibers such as hemp and cotton, and synthetic fibers such as human silk, nylon fibers, polyester fibers, polypropylene fibers, and glass fibers, and the thickness is 0.1 μm to 1 mm.
It is preferred that In addition, the array of such non-metallic fibers, the non-metallic fibers, radial, striped, zigzag, kaori, lattice, mesh-like, spiral, concentric Mean that the fibers are arranged in a geometric pattern or irregular shape, and the number of fibers used may be one or plural. The non-metallic fiber may be transparent or artificially colored, but when using a transparent non-metallic fiber, select one having a refractive index different from that of the substrate. Is preferred.

【0035】上記の光散乱部は基板の片面(内側面また
は外側面)に設けられていてもよいし、貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けられていてもよい。光散乱
部を基板の片面に設けるにあたっては、例えば前記
(1)で例示したバインダーを用いて前記の織物、編み
物、不織布もしくは配列物を固着するか前記の非金属性
繊維を所望形状に配列する。また、光散乱部を貼り合わ
せ構造の基板の貼り合わせ部に設けるあたっては、ま
ず、1枚の基板の片面に例えば前記(1)で例示したバ
インダーを用いて前記の織物、編み物、不織布もしくは
配列物を固着するか前記の非金属性繊維を所望形状に配
列した後、この上にもう1枚の基板を例えば前記(1)
で例示したバインダーによって貼り合わせる。なお、有
機EL素子を設けるための基板として前記の貼り合わせ
構造の基板を用いる場合、有機EL素子は当該貼り合わ
せ構造の基板を構成する2枚の基板のいずれの面上に設
けてもよい。
The light scattering portion may be provided on one side (inner side or outer side) of the substrate, or may be provided on a bonding portion of the substrate having a bonding structure. When the light scattering portion is provided on one side of the substrate, the woven fabric, knitted fabric, nonwoven fabric or array is fixed, for example, using the binder exemplified in the above (1), or the non-metallic fibers are arranged in a desired shape. . When the light scattering portion is provided on the bonding portion of the substrate having the bonding structure, first, the woven fabric, the knitted fabric, the nonwoven fabric or After fixing the array or arranging the non-metallic fibers in a desired shape, another substrate is placed thereon, for example, as described in (1) above.
Are bonded by the binder exemplified in the above. In the case where a substrate having the above-described bonded structure is used as a substrate for providing an organic EL element, the organic EL element may be provided on either surface of the two substrates included in the substrate having the bonded structure.

【0036】(7)一平面上に非金属製の細線によって
描画されるか、または細い溝によって描画された模様か
らなもの ここに、上記非金属製の細線の具体例としては、印刷イ
ンキ、複写インキ、カーボンインキ、絵具、油脂、透明
合成樹脂等や、これらのものに白,黒,赤,青,緑等の
色素(蛍光色素を含む)ないし顔料を添加したもの等か
らなる線幅10〜2000μmのものが挙げられる。細
線の色は特に限定されるものではなく、透明、無彩色
(半透明を含む)、有彩色(半透明を含む)等、所望の
色を適宜選択する。また、この細線によって描画された
模様の具体例としては放射状、縞状、ジグザグ状、葛折
状、格子状、網の目状、螺旋状、同心円状、幾何学模様
状、あるいは不定形が挙げられる。光散乱部として非金
属製の透明な細線によって描画された模様を用いる場
合、前記透明な細線の屈折率は基板の屈折率と異なって
いることが好ましい。また、上記の細い溝の具体例とし
ては、垂直断面がV字状、U字状等を呈する深さ0.1
〜100μm程度の溝で、幅(深さ方向で最も幅広の部
分での値)が0.1〜500μm程度のものが挙げられ
る。この溝によって描画された模様の具体例としては、
上記細線によって描画された模様の具体例と同じものが
挙げられる。
(7) A pattern drawn on a plane by a non-metallic thin line or a pattern drawn by a thin groove. Specific examples of the non-metallic thin line include printing ink, A line width of 10 including copying ink, carbon ink, paint, oil and fat, transparent synthetic resin, and the like, and pigments (including fluorescent pigments) such as white, black, red, blue, and green, or pigments added thereto. 20002000 μm. The color of the thin line is not particularly limited, and a desired color such as transparent, achromatic (including translucent), and chromatic (including translucent) is appropriately selected. In addition, specific examples of the pattern drawn by this fine line include radial, striped, zigzag, kaori, lattice, mesh, spiral, concentric, geometric pattern, or irregular shape. Can be When a pattern drawn by a non-metallic transparent fine line is used as the light scattering portion, it is preferable that the refractive index of the transparent fine line is different from the refractive index of the substrate. Further, as a specific example of the above-mentioned narrow groove, a vertical cross section has a V-shape, a U-shape or the like having a depth of 0.1.
A groove having a width of about 0.1 μm to about 100 μm (a value at the widest part in the depth direction) is about 0.1 μm to 500 μm. As a specific example of the pattern drawn by this groove,
The same examples as the specific examples of the pattern drawn by the fine line are used.

【0037】上記の光散乱部は基板の片面(内側面また
は外側面)に設けられていてもよいし、貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けられていてもよい。さらに
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリメタクリ
レート、ポリアクリレート等からなるポリマーフィルム
の片面に設けられていてもよいが、この場合には、上記
の光散乱部が設けられたポリマーフィルムを基板の片面
または貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設ける。
上記の光散乱部(模様)を基板あるいはポリマーフィル
ムの片面に設けるにあたっては、この面上にインクジェ
ットプリンターによる印刷、電子複写機による印刷、ス
トロボフラッシュ方式による印刷、スクリーン印刷、写
真式複写機による印刷等の方法により前記非金属製の細
線によって所望の模様を描画するか、または切削やエッ
チング法等の方法により前記の細い溝によって所望の模
様を描画する。そして、片面に光散乱部(模様)を描画
したポリマーフィルムを基板の片面に設けるにあたって
は、例えば前記(1)で例示したバインダーによって前
記のポリマーフィルムを基板の所望面上に固着させる。
The light scattering portion may be provided on one side (inner side or outer side) of the substrate, or may be provided on a bonding portion of the substrate having a bonding structure. Furthermore, polyethylene terephthalate, polycarbonate,
Polyether sulfone, polyarylate, polymethacrylate, may be provided on one side of a polymer film composed of polyacrylate, etc., in this case, the polymer film provided with the light scattering portion is provided on one side of the substrate or bonded It is provided at the bonding portion of the substrate having the bonding structure.
When the light scattering portion (pattern) is provided on one side of the substrate or the polymer film, printing by an ink jet printer, printing by an electronic copying machine, printing by a strobe flash method, screen printing, printing by a photographic copying machine are performed on this surface. A desired pattern is drawn by the non-metallic thin line by the method described above, or a desired pattern is drawn by the thin groove by a method such as cutting or etching. When a polymer film having a light scattering portion (pattern) drawn on one surface is provided on one surface of the substrate, the polymer film is fixed on a desired surface of the substrate using, for example, the binder exemplified in the above (1).

【0038】また、光散乱部(模様)を貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けるにあたっては、まず、1
枚の基板の片面に前述の方法で所望の模様を描画した
後、この上にもう1枚の基板を例えば前記(1)で例示
したバインダーによって貼り合わせる。そして、片面に
光散乱部(模様)を描画したポリマーフィルムを貼り合
わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けるにあたっては、
まず、1枚の基板の片面に前述の方法でポリマーフィル
ム(片面に模様を描画したもの)を固着させた後、この
上にもう1枚の基板を例えば前記(1)で例示したバイ
ンダーによって貼り合わせる。上記の光散乱部は有機E
L素子と対向する向きに設けられていてもよいし、その
逆の向きに設けられていてもよい。なお、有機EL素子
を設けるための基板として前記の貼り合わせ構造の基板
を用いる場合、有機EL素子は当該貼り合わせ構造の基
板を構成する2枚の基板のいずれの面上に設けてもよ
い。
When a light scattering portion (pattern) is provided in a bonding portion of a substrate having a bonding structure, firstly,
After a desired pattern is drawn on one surface of one substrate by the above-described method, another substrate is bonded on this using, for example, the binder exemplified in the above (1). When a polymer film having a light scattering portion (pattern) drawn on one side is provided on a bonding portion of a substrate having a bonding structure,
First, a polymer film (having a pattern drawn on one side) is fixed to one side of one substrate by the above-described method, and then another substrate is bonded thereon by using, for example, the binder exemplified in the above (1). Match. The light scattering portion is organic E
It may be provided in the direction facing the L element, or may be provided in the opposite direction. In the case where a substrate having the above-described bonded structure is used as a substrate for providing an organic EL element, the organic EL element may be provided on either surface of the two substrates included in the substrate having the bonded structure.

【0039】(8)半透明物質層または半透明フィルム
からなるもの ここに、上記の半透明物質層とは可視光の透過率が10
〜99%である固体、液体、または固溶体からなる層を
意味し、その材質の具体例としては、パラフィン
(蝋)、デンプン糊、グリース、シリコーングリース、
染料溶液、顔料分散液、金コロイド溶液、セッケン水等
が挙げられる。半透明物質層の厚さはその材料によって
異なるが、概ね5〜1000μmである。また、上記の
半透明フィルムとは可視光の透過率が10〜90%であ
る層を意味し、その具体例としては、パラフィン紙、パ
ラフィルム(パラフィンフィルム)、エンボス加工を施
した透明ポリマーフィルムを複数枚重ねたもの(透明ポ
リマーフィルムの材質はポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレ
ート、ポリメタクリレート、ポリアクリレート等)、結
晶性ポリマー(結晶性ポリプロピレン、ナイロン、ポリ
スチレン、セルロース、ポリビニルアルコール等)のフ
ィルム、和紙、洋紙、セロファン、ゴム膜等が挙げられ
る。
(8) Translucent material layer or translucent film Here, the above-mentioned translucent material layer has a visible light transmittance of 10%.
~ 99% means a layer composed of solid, liquid or solid solution, and specific examples of the material include paraffin (wax), starch paste, grease, silicone grease,
Dye solutions, pigment dispersions, colloidal gold solutions, soapy water and the like are mentioned. The thickness of the translucent material layer varies depending on the material, but is generally 5 to 1000 μm. Further, the above-mentioned translucent film means a layer having a visible light transmittance of 10 to 90%, and specific examples thereof include paraffin paper, parafilm (paraffin film), and an embossed transparent polymer film. (Transparent polymer film is made of polyethylene terephthalate,
Polycarbonate, polyether sulfone, polyarylate, polymethacrylate, polyacrylate, etc.), crystalline polymer (crystalline polypropylene, nylon, polystyrene, cellulose, polyvinyl alcohol, etc.) film, Japanese paper, Western paper, cellophane, rubber film, etc. .

【0040】上記の光散乱部は基板の片面に設けられて
いてもよいし、貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に
設けられていてもよい。上記の半透明物質層からなる光
散乱部を基板の片面に設けるにあたっては、パラフィン
(蝋)、デンプン糊、グリース、シリコーングリース等
については塗布法等の方法によって、また、染料溶液、
顔料分散液、金コロイド溶液、セッケン水等については
これを透明袋に入れ、この透明袋を基板の片面に例えば
前記(1)で例示したバインダーにより固着させる等の
方法により、目的とする半透明物質層を形成する。ま
た、上記の半透明フィルムからなる光散乱部を基板の片
面に設けるにあたっては、例えば前記(1)で例示した
バインダーにより上記の半透明フィルムを固着させる。
The above-mentioned light scattering portion may be provided on one side of the substrate, or may be provided on a bonding portion of a substrate having a bonding structure. In providing the light scattering portion composed of the translucent material layer on one surface of the substrate, paraffin (wax), starch paste, grease, silicone grease, and the like are applied by a method such as a coating method, and a dye solution,
The pigment dispersion, the colloidal gold solution, the soap water, etc. are placed in a transparent bag, and the transparent bag is fixed to one surface of the substrate with, for example, the binder exemplified in the above (1). Form a material layer. In providing the light scattering portion made of the translucent film on one surface of the substrate, the translucent film is fixed by using, for example, the binder exemplified in the above (1).

【0041】一方、上記の半透明物質層からなる光散乱
部を貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けるにあ
たっては、まず、1枚の基板の片面に前述の方法で所望
の半透明物質層を形成した後、この上にもう1枚の基板
を例えば前記(1)で例示したバインダーによって貼り
合わせる。または、1枚の基板の片面に前述の方法で所
望の半透明物質層を形成した後、この上にもう1枚の基
板を重ね、必要に応じてジグ等を使用して、前記2枚の
基板に半透明物質層を挟持させる。ジグ等を使用して2
枚の基板に挟持させる半透明物質層の材料として透明袋
に入った染料溶液、顔料分散液、金コロイド溶液、セッ
ケン水等を使用する場合、この透明袋はバインダーによ
って基板に固着されていなくてもよい。また、上記の半
透明フィルムからなる光散乱部を貼り合わせ構造の基板
の貼り合わせ部に設けるにあたっては、まず、1枚の基
板の片面に前述の方法で所望の半透明フィルムを固着さ
せた後、この上にもう1枚の基板を例えば前記(1)で
例示したバインダーによって貼り合わせる。または、1
枚の基板の片面に前述の方法で所望の半透明物質層を形
成した後、この上にもう1枚の基板を重ね、必要に応じ
てジグ等を使用して、前記2枚の基板に半透明フィルム
を挟持させる。ジグ等を使用して2枚の基板に半透明フ
ィルムを挟持させる場合、この半透明フィルムはバイン
ダーによって基板に固着されていなくてもよい。なお、
有機EL素子を設けるための基板として前記の貼り合わ
せ構造の基板を用いる場合、有機EL素子は当該貼り合
わせ構造の基板を構成する2枚の基板のいずれの面上に
設けてもよい。
On the other hand, when providing the light scattering portion composed of the above-mentioned translucent material layer on the bonding portion of the substrate having the bonding structure, first, the desired translucent material layer is formed on one surface of one substrate by the above-described method. Is formed, another substrate is bonded thereon by using, for example, the binder exemplified in the above (1). Alternatively, after forming a desired translucent material layer on one surface of one substrate by the above-described method, another substrate is stacked thereon, and if necessary, a jig or the like is used to form the two substrates. A translucent material layer is sandwiched between substrates. 2 using a jig
When using a dye solution, a pigment dispersion, a gold colloid solution, soap water, etc. in a transparent bag as a material of the translucent substance layer to be sandwiched between two substrates, the transparent bag is not fixed to the substrate by a binder. Is also good. Further, in providing the light scattering portion made of the above-mentioned translucent film at the bonding portion of the substrate having the bonding structure, first, a desired translucent film is fixed to one surface of one substrate by the above-described method. Then, another substrate is pasted on this with, for example, the binder exemplified in the above (1). Or 1
After a desired translucent material layer is formed on one surface of one substrate by the above-described method, another substrate is stacked thereon, and if necessary, a semi-transparent material layer is formed on the two substrates by using a jig or the like. Hold the transparent film. When a translucent film is sandwiched between two substrates using a jig or the like, the translucent film may not be fixed to the substrate with a binder. In addition,
In the case where the substrate having the above-described bonded structure is used as a substrate for providing an organic EL element, the organic EL element may be provided on either surface of the two substrates forming the substrate having the bonded structure.

【0042】(9)半透明のポリマー基板自体からなる
もの ここに、上記半透明のポリマー基板とは可視光の透過性
が10〜99%程度のもを意味する。その具体例として
は、結晶性ポリプロピレン、6,6−ナイロン、変性ポ
リスチレン、シンジオタクチックポリスチレン等からな
る厚さ0.1〜10mmのものが挙げられる。
(9) Translucent polymer substrate itself Here, the translucent polymer substrate means a substrate having a visible light transmittance of about 10 to 99%. Specific examples thereof include crystalline polypropylene, 6,6-nylon, modified polystyrene, and syndiotactic polystyrene having a thickness of 0.1 to 10 mm.

【0043】本発明の有機EL装置では上で例示した
(1)〜(9)いずれかの光散乱部を設けた基板上に有
機EL素子が形成されているわけであるが、凹凸面を有
する光散乱部を前記の凹凸面が有機EL素子と対向する
向きに基板の内側面上に設けた場合には、この光散乱部
の上にオーバーコート層を設けて実質的に平坦な面を形
成した後、このオーバーコート層上に有機EL素子を形
成する。オーバーコート層を設けることなく前記の光散
乱部上に直接有機EL素子を形成すると、前記の光散乱
部と直接接することになる透明性電極(有機EL素子を
構成する透明性電極=陽極)が前記光散乱部の凹凸の影
響を受けて平坦にならないため、有機EL素子を構成す
る各層の厚さが一定でなくなる結果、発光面に多数のダ
ークスポットが生じ足り、ショートパスによる断線が生
じ易くなる。前記のオーバーコート層の材質の具体例と
しては、広栄化学工業(株)製のコーエイハードM−1
01(商品名)、ノボラック型ビニルエステル樹脂、ト
リメチロールプロパントリアクリレートと2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1との反応
物等の光硬化性樹脂が挙げられる。
In the organic EL device of the present invention, the organic EL element is formed on the substrate provided with any one of the light scattering portions (1) to (9) described above. When the light scattering portion is provided on the inner surface of the substrate so that the uneven surface faces the organic EL element, an overcoat layer is provided on the light scattering portion to form a substantially flat surface. After that, an organic EL element is formed on the overcoat layer. When an organic EL device is formed directly on the light scattering portion without providing an overcoat layer, a transparent electrode (a transparent electrode constituting the organic EL device = anode) which comes into direct contact with the light scattering portion is formed. Since the light scattering portion is not flat due to the unevenness, the thickness of each layer constituting the organic EL element is not constant. As a result, a large number of dark spots are generated on the light emitting surface, and disconnection due to a short path is likely to occur. Become. Specific examples of the material of the overcoat layer include Koei Hard M-1 manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd.
01 (trade name), a novolak type vinyl ester resin, and a photocurable resin such as a reaction product of trimethylolpropane triacrylate and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1.

【0044】また、光散乱部および必要に応じてのオー
バーコート層を形成した状態下での基板の光透過率は、
基板の外側面側から内側面へ透過しようとする可視光に
対しては概ね80%未満であることが好ましい。この光
透過率が80%以上では有機EL素子を構成する鏡面性
電極が当該素子の非発光時に鏡面として視認され易くな
る。一方、基板の内側面側から外側面へ透過しようとす
る光(特に、有機EL素子の発光波長の光)に対しては
概ね10%以上であることが好ましい。この光透過率が
10%未満では実用上十分な発光輝度を有する有機EL
装置を得ることが困難になる。上述の光透過特性を満足
することができさえすれば、本発明の有機EL装置を構
成する基板(光散乱部が形成されたもの)は光散乱部を
形成する前の段階において必ずしも無色透明である必要
はなく、白色半透明あるいは有色半透明であってもよ
い。また、光散乱部が基板を兼ねてない場合、基板の材
質はガラス、プラスチック、セラミックスのいずれでも
よく、目的とする有機EL装置の用途や使用する光散乱
部の種類等に応じて適宜選択可能である。
The light transmittance of the substrate under the condition that the light scattering portion and the optional overcoat layer are formed is as follows.
Preferably, the visible light is less than about 80% with respect to visible light transmitted from the outer side to the inner side of the substrate. When the light transmittance is 80% or more, the specular electrode constituting the organic EL element is easily recognized as a mirror surface when the element does not emit light. On the other hand, it is preferably about 10% or more with respect to light (especially, light of the emission wavelength of the organic EL element) that is to be transmitted from the inner side to the outer side of the substrate. When the light transmittance is less than 10%, an organic EL having sufficient light emission luminance for practical use
It becomes difficult to obtain the device. As long as the above-mentioned light transmission characteristics can be satisfied, the substrate (having the light scattering portion) constituting the organic EL device of the present invention is not necessarily colorless and transparent at the stage before forming the light scattering portion. There is no need to be present, and it may be white translucent or colored translucent. When the light scattering portion does not double as the substrate, the material of the substrate may be any of glass, plastic, and ceramics, and can be appropriately selected according to the intended use of the organic EL device and the type of the light scattering portion to be used. It is.

【0045】なお、光散乱部として前述の(3),
(4)または(5)のものを用いて有機EL装置を作製
した場合には、当該光散乱部を用いない場合よりも、有
機EL素子からの光(EL光)の取り出し効率を著しく
向上させることが可能である。有機EL素子が設けられ
る基板(光散乱部を設けていないもの)の屈折率は、通
常、M=1.4〜3の範囲にある。この値は空気の屈折
率M=1より大きい。このため、通常の光取り出し面
(光散乱部を設けていない基板面)では全反射角以上の
角度で進入した光は全反射され、外部に取り出されな
い。一方、前記(3),(4)または(5)の光散乱部
を設けた基板では全反射が緩和され、その結果として光
取り出し面より出射される光の量が多くなる。全反射角
未満の角度で進入した光に対しても、基板(光散乱部を
設けていない基板)の屈折率と空気の屈折率との差は一
定の光の戻りを与えるが、前記(3),(4)または
(5)の光散乱部が設けられていると当該光散乱部がこ
れを緩和する結果、光の取り出し効率がさらに大きくな
る。なお、全反射を緩和する光散乱部であっても光吸収
性の性質をもつもの(吸光定数が103 cm-1を超える
もの)は光を吸収するので、光の取り出し効率を大きく
することはできない。
The light scattering portion described above in (3),
When an organic EL device is manufactured using the device (4) or (5), the efficiency of extracting light (EL light) from the organic EL element is significantly improved as compared with the case where the light scattering portion is not used. It is possible. The refractive index of the substrate on which the organic EL element is provided (having no light scattering portion) is usually in the range of M = 1.4 to 3. This value is greater than the refractive index of air M = 1. For this reason, light that has entered at an angle equal to or greater than the total reflection angle is totally reflected on the normal light extraction surface (the substrate surface not provided with the light scattering portion) and is not extracted to the outside. On the other hand, in the substrate provided with the light scattering portion of (3), (4) or (5), total reflection is reduced, and as a result, the amount of light emitted from the light extraction surface increases. Even for light entering at an angle less than the total reflection angle, the difference between the refractive index of the substrate (substrate without the light scattering portion) and the refractive index of air gives a constant light return. ), (4) or (5), when the light scattering portion is provided, the light scattering portion relaxes the light scattering portion, so that the light extraction efficiency is further increased. It should be noted that even a light scattering portion that attenuates total reflection has a light absorbing property (a light absorption constant of more than 10 3 cm −1 ) absorbs light, so the light extraction efficiency should be increased. Can not.

【0046】本発明の有機EL装置は前述した光散乱部
を有することを特徴とするものであり、この有機EL装
置を構成する有機EL素子は有機EL素子として機能す
るものであればよく、その層構成および材質は特に限定
されるものではない。有機EL素子の代表的な層構成と
しては基板上への積層順が下記(1)〜(8)であるものが挙
げられる。
The organic EL device of the present invention is characterized by having the above-mentioned light scattering portion. The organic EL device constituting the organic EL device may be any device that functions as an organic EL device. The layer configuration and material are not particularly limited. As a typical layer constitution of the organic EL element, there are listed those in which the order of lamination on the substrate is as follows (1) to (8).

【0047】 (1) 陽極(透明性電極)/正孔輸送層/有機発光層/電
子注入層/陰極(鏡面性電極) (2) 陽極(透明性電極)/正孔輸送層/有機発光層/陰
極(鏡面性電極) (3) 陽極(透明性電極)/有機発光層/電子注入層/陰
極(鏡面性電極) (4) 陽極(透明性電極)/正孔輸送層/有機発光層/接
着層/陰極(鏡面性電極) (5) 陽極(透明性電極)/有機発光層/陰極(鏡面性電
極) (6) 陽極(透明性電極)/正孔輸送材料・有機発光材料
・電子注入材料の混合層/陰極(鏡面性電極) (7) 陽極(透明性電極)/正孔輸送材料・有機発光材料
の混合層/陰極(鏡面性電極) (8) 陽極(透明性電極)/有機発光材料・電子注入材料
の混合層/陰極(鏡面性電極)
(1) anode (transparent electrode) / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode (specular electrode) (2) anode (transparent electrode) / hole transport layer / organic light emitting layer / Cathode (specular electrode) (3) Anode (transparent electrode) / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode (specular electrode) (4) Anode (transparent electrode) / hole transport layer / organic light emitting layer / Adhesive layer / cathode (specular electrode) (5) Anode (transparent electrode) / organic light emitting layer / cathode (specular electrode) (6) Anode (transparent electrode) / hole transport material / organic light emitting material / electron injection Mixed layer of material / cathode (specular electrode) (7) Anode (transparent electrode) / mixed layer of hole transport material / organic light emitting material / cathode (specular electrode) (8) Anode (transparent electrode) / organic Mixed layer of light emitting material and electron injection material / cathode (specular electrode)

【0048】また、本発明の有機EL装置を構成する有
機EL素子の数は1個であってもよいし複数個であって
もよい。そして、有機EL素子を複数個設ける場合、各
有機EL素子の発光色は同じであってもよいし異なって
いてもよく、有機EL装置全体としての発光色が所望色
になるように1種または複数種の有機EL素子を所望形
状に形成する。例えば、有機EL装置全体としての発光
色を白色にする場合には、赤色光を発する有機EL素子
と緑色光を発する有機EL素子と青色光を発する有機E
L素子とをストライプ型、モザイク型、トライアングル
型、4画素配置型等に配置する。個々の有機EL素子の
発光色は有機発光材料の種類に応じて変化するので、有
機EL装置全体としての発光色が所望の色になるよう
に、使用する有機発光材料の種類を適宜選択する。ある
いは、光散乱部の材料として用いる粒子やガラス、樹脂
基板等に蛍光変換材料(蛍光材料)、色素、顔料等を混
入させることにより装置としての発光色を変化させても
よい。なお、上述した有機EL素子は基板上に形成され
るわけであるが、有機EL素子は一般に水分に弱いの
で、基板上に形成された有機EL素子を覆うようにして
当該有機EL素子への水分の侵入を防止するための保護
層を1重または2重以上に設けてもよい。
The number of organic EL elements constituting the organic EL device of the present invention may be one or more. When a plurality of organic EL elements are provided, the emission color of each organic EL element may be the same or different. A plurality of types of organic EL elements are formed in a desired shape. For example, when the emission color of the entire organic EL device is to be white, an organic EL element emitting red light, an organic EL element emitting green light, and an organic EL emitting blue light are used.
The L elements are arranged in a stripe type, a mosaic type, a triangle type, a four-pixel arrangement type, or the like. Since the luminescent color of each organic EL element changes according to the type of the organic luminescent material, the type of the organic luminescent material to be used is appropriately selected so that the luminescent color of the entire organic EL device becomes a desired color. Alternatively, the emission color of the device may be changed by mixing a fluorescent conversion material (fluorescent material), a dye, a pigment, or the like into particles, glass, a resin substrate, or the like used as a material of the light scattering portion. Note that the above-described organic EL element is formed on a substrate. However, since the organic EL element is generally weak to moisture, the organic EL element formed on the substrate is covered with water so as to cover the organic EL element. May be provided singly or twice or more in order to prevent intrusion.

【0049】陽極(透明性電極)、陰極(鏡面性電
極)、有機発光層、正孔輸送層、電子注入層、接着層、
保護層の材料としては、それぞれ従来公知の材料を用い
ることができる。例えば、陽極(透明性電極)材料とし
ては仕事関数が大きく(4eV以上)かつ所望の透明性
電極(透明導電膜)が得られる金属、合金、電気伝導性
化合物、またはこれらの混合物等を利用することがで
き、具体例としてはAu等の金属や、CuI,ITO,
SnO2 ,ZnO等の誘電性透明材料等が挙げられる。
また、陰極(鏡面性電極)材料としては仕事関数の小さ
い(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物、また
はこれらの混合物等を利用することができ、具体例とし
てはナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシ
ウム、リチウム、マグネシウムと銀との合金または混合
金属、Al/AlO2 、インジウム、希土類金属等が挙
げられる。なかでも、400〜600nmの波長域での
反射率が50%以上である金属(合金および混合金属を
含む)膜が得られるものが好ましい(特願平5−288
209号公報参照)。なお、陽極材料および陰極材料を
選択する際に基準とする仕事関数の大きさは4eVに限
定されるものではない。
An anode (transparent electrode), a cathode (mirror electrode), an organic light emitting layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an adhesive layer,
As the material of the protective layer, conventionally known materials can be used. For example, as an anode (transparent electrode) material, a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like that has a large work function (4 eV or more) and can obtain a desired transparent electrode (transparent conductive film) is used. Specific examples include metals such as Au, CuI, ITO,
A dielectric transparent material such as SnO 2 , ZnO or the like may be used.
As the cathode (specular electrode) material, a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like having a small work function (4 eV or less) can be used, and specific examples thereof include sodium and sodium-potassium alloys. , Magnesium, lithium, alloys or mixed metals of magnesium and silver, Al / AlO 2 , indium, rare earth metals and the like. Above all, it is preferable to obtain a metal (including alloy and mixed metal) film having a reflectance of 50% or more in a wavelength region of 400 to 600 nm (Japanese Patent Application No. 5-288).
No. 209). Note that the magnitude of the work function used as a reference when selecting the anode material and the cathode material is not limited to 4 eV.

【0050】有機発光層の材料(有機発光材料)の具体
例としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール
系、ベンゾオキサゾール系等の系の蛍光増白剤や、金属
キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化
合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリジン
化合物等が挙げられる。有機発光層は、有機発光材料の
みよって形成する他、有機発光材料と正孔輸送材料およ
び/または電子注入材料との混合物等により形成しても
よい。この場合の有機発光層の材料の具体例としては、
ポリメチルメタクリレート、ビスフェノールA、ポリカ
ーボネート(PC)等のポリマー中にクマリン等の有機
発光材料を少量分散させた分子分散ポリマー系や、ポリ
カーボネート骨格中にジスチリルベンゼン誘導体を導入
したポリマー系、あるいはポリフェニレンビニル(PP
V)誘導体系,ポリアルキルチオフェン(PAT)誘導
体系,ポリアルキルフルオレン(PAF)誘導体系,ポ
リフェニレン(PP)誘導体系,およびポリアリレン
(PA)誘導体系等の共役ポリマー中や正孔輸送性のポ
リビニルカルバゾール中に電子注入性のオキサジアゾー
ル系誘導体を分散させた系等が挙げられる。
Specific examples of the material (organic light-emitting material) for the organic light-emitting layer include benzothiazole-based, benzimidazole-based, benzoxazole-based fluorescent whitening agents, metal chelated oxinoid compounds, styrylbenzene-based compounds, and the like. , A distyrylpyrazine derivative, an aromatic dimethylidine compound, and the like. The organic light emitting layer may be formed of a mixture of the organic light emitting material, the hole transport material, and / or the electron injection material, or the like, in addition to the organic light emitting material. As a specific example of the material of the organic light emitting layer in this case,
A molecular dispersion polymer system in which a small amount of an organic luminescent material such as coumarin is dispersed in a polymer such as polymethyl methacrylate, bisphenol A, or polycarbonate (PC); a polymer system in which a distyrylbenzene derivative is introduced into a polycarbonate skeleton; or polyphenylene vinyl (PP
V) Polyvinylcarbazole having a hole transporting property in a conjugated polymer such as a derivative system, a polyalkylthiophene (PAT) derivative system, a polyalkylfluorene (PAF) derivative system, a polyphenylene (PP) derivative system, and a polyarylene (PA) derivative system. Examples thereof include a system in which an oxadiazole derivative having an electron injecting property is dispersed.

【0051】正孔輸送層の材料(正孔輸送材料)の具体
例としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導
体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレン
ジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カ
ルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラ
セン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、
スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系化合
物、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の特
定の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。
Specific examples of the material for the hole transport layer (hole transport material) include triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, and arylamine derivatives. , Amino-substituted chalcone derivative, oxazole derivative, styryl anthracene derivative, fluorenone derivative, hydrazone derivative,
Specific conductive polymer oligomers such as stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane compounds, aniline copolymers, and thiophene oligomers are exemplified.

【0052】電子注入層の材料(電子注入材料)の具体
例としては、ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラ
キノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピ
ランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環
テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニ
リデンメタン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ア
ントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、8−キノリ
ノール誘導体、その他特定の電子伝達性化合物等が挙げ
られる。
Specific examples of the material for the electron injecting layer (electron injecting material) include heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as nitro-substituted fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, and naphthalene perylene. Products, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, 8-quinolinol derivatives, other specific electron transfer compounds, and the like.

【0053】接着層の材料の具体例としては、8−キノ
リノールまたはその誘導体の金属錯体、例えばトリス
(8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリ
ノール)マグネシウム、ビス(ベンゾ−8−キノリノー
ル)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリラート)アル
ミニウムオキシド、トリス(8−キノリノール)インジ
ウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミ
ニウム、8−キノリノールリチウム、トリス(5−クロ
ロ−8−キノリノール)ガリウム、ビス(5−クロロ−
8−キノリノール)カルシウム、トリス(5,7−ジク
ロル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,
7−ジブロモ−8−ヒドロキシキノリノール)アルミニ
ウム、ビス(8−キノリノール)ベリリウム、ビス(2
−メチル−8−キノリノール)ベリリウム、ビス(8−
キノリノール)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノ
ール)亜鉛、ビス(8−キノリノール)スズ、トリス
(7−プロピル−8−キノリノール)アルミニウム等が
挙げられる。
Specific examples of the material of the adhesive layer include metal complexes of 8-quinolinol or a derivative thereof, for example, tris (8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) magnesium, bis (benzo-8-quinolinol) zinc, Bis (2-methyl-8-quinolinol) aluminum oxide, tris (8-quinolinol) indium, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, lithium 8-quinolinol, tris (5-chloro-8-quinolinol) gallium, Bis (5-chloro-
8-quinolinol) calcium, tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5
7-dibromo-8-hydroxyquinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) beryllium, bis (2
-Methyl-8-quinolinol) beryllium, bis (8-
(Quinolinol) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinol) zinc, bis (8-quinolinol) tin, tris (7-propyl-8-quinolinol) aluminum and the like.

【0054】そして、保護層の材料の具体例としては、
テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマー
とを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合
体(特願平2−409017号公報参照)、環状構造を
有する含フッ素共重合体(特願平3−129852号公
報参照)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチル
メタクリレート、ポリイミド、ポリユリア、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、
ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、
吸水率1%以上の吸水性物質および吸水率0.1%以下
の防湿性物質(特願平6−4065号公報参照)等が挙
げられる。
As specific examples of the material of the protective layer,
Copolymers obtained by copolymerizing a monomer mixture containing tetrafluoroethylene and at least one comonomer (see Japanese Patent Application No. 2-409017) and a fluorinated copolymer having a cyclic structure (Japanese Patent Application No. Hei. 129852), polyethylene, polypropylene, polymethyl methacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene,
Polydichlorodifluoroethylene, a copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene,
Water-absorbing substances having a water absorption of 1% or more and moisture-proof substances having a water absorption of 0.1% or less (see Japanese Patent Application No. 6-4065).

【0055】本発明の有機EL装置は、所望の光散乱部
を形成した基板の内側面上(基板の内側面に光散乱部が
形成されている場合にはこの光散乱部上、また、この光
散乱部上にオーバーコート層が形成されている場合には
このオーバーコート層上)に抵抗加熱真空蒸着法、電子
ビーム加熱真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、キャスト法、スピンコート法等を利用し
て有機EL素子を構成する各層を順次積層し、この後、
必要に応じて抵抗加熱真空蒸着法、電子ビーム加熱真空
蒸着法、高周波誘導加熱真空蒸着、蒸着重合法、プラズ
マ蒸着法、MBE(分子線エピタキシ)法、クラスター
イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重
合法(高周波励起イオンプレーティング法)、スパッタ
リング法、反応性スパッタリング法、キャスト法、スピ
ンコート法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱
CVD法、ガスソースCVD法等を利用して保護層を設
けることにより作製することができる。有機EL素子を
構成する各層の形成方法および保護層の形成方法は、使
用する材料に応じて適宜変更可能である。有機EL素子
を構成する各層の形成にあたって真空蒸着法を用いれ
ば、この真空蒸着法だけによって陽極(透明性電極)か
ら陰極(鏡面性電極)まで、または陽極(透明性電極)
から保護層までを形成することができるため、設備の簡
略化や生産時間の短縮を図るうえで有利である。
The organic EL device according to the present invention is provided on the inner surface of the substrate on which the desired light scattering portion is formed (on the light scattering portion when the light scattering portion is formed on the inner surface of the substrate, or on the inner surface of the substrate). When an overcoat layer is formed on the light scattering portion, the resistance heating vacuum evaporation method, the electron beam heating vacuum evaporation method, the sputtering method, the ion plating method, the casting method, and the spin coating method are applied to the overcoat layer. Each layer constituting the organic EL element is sequentially laminated by utilizing
If necessary, resistance heating vacuum deposition, electron beam heating vacuum deposition, high frequency induction heating vacuum deposition, vapor deposition polymerization, plasma deposition, MBE (molecular beam epitaxy), cluster ion beam, ion plating, plasma The protective layer is formed using a polymerization method (high-frequency excitation ion plating method), a sputtering method, a reactive sputtering method, a casting method, a spin coating method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a gas source CVD method, or the like. It can be manufactured by providing. The method for forming each layer constituting the organic EL element and the method for forming the protective layer can be appropriately changed depending on the material to be used. If a vacuum evaporation method is used for forming each layer constituting the organic EL element, the anode (transparent electrode) to the cathode (mirror electrode) or the anode (transparent electrode) is formed only by the vacuum evaporation method.
Since it is possible to form from the protective layer to the protective layer, it is advantageous in simplifying the equipment and shortening the production time.

【0056】なお、光散乱部を基板の内部(貼り合わせ
構造の基板の貼り合わせ部)または外側面に形成する場
合には、当該光散乱部の形成は有機EL素子の形成後や
保護層の形成後に行ってもよい。また、鏡面性電極とし
て400〜600nmの波長域での反射率が50%以上
である金属(合金および混合金属を含む)膜を用いる場
合、このような金属膜を得るためには少なくとも10-2
Pa以下の真空環境下での成膜が必要である。さらに、
有機EL素子は陽極と陰極との間に電圧を印加すること
によりエージングを行ったものであってもよい。ここ
で、エージングとは電圧を印加することによりリーク電
流が発生する領域を除去するとともに、素子内に溜まっ
た正孔や電子を除去する処理をいう(特開平4−147
94号公報参照)。このエージングにより、有機EL素
子の安定動作が図れる。エージングは必ずしも必要では
ないが、素子の動作安定性の観点からはエージングを行
うことが望ましい。
When the light scattering portion is formed inside the substrate (the bonded portion of the bonded substrate) or on the outer surface, the light scattering portion is formed after the organic EL element is formed or when the protective layer is formed. It may be performed after formation. When a metal film (including an alloy and a mixed metal) having a reflectance of 50% or more in a wavelength region of 400 to 600 nm is used as the specular electrode, at least 10 -2 is required to obtain such a metal film.
Film formation in a vacuum environment of Pa or less is required. further,
The organic EL element may have been aged by applying a voltage between the anode and the cathode. Here, aging refers to a process of removing a region where a leak current is generated by applying a voltage and removing holes and electrons accumulated in the device (Japanese Patent Laid-Open No. 4-147).
No. 94). Due to this aging, a stable operation of the organic EL element can be achieved. Aging is not always necessary, but it is desirable to perform aging from the viewpoint of operation stability of the device.

【0057】上述のようにして得ることができる本発明
の有機EL装置は、有機EL素子を構成する鏡面性電極
が当該素子の非発光時に鏡面としては視認されない有機
EL装置であるので、非発光時に前記の鏡面性電極が鏡
面として視認されることに起因する美観の低下やデザイ
ン性の低下が実質的にない。したがって、本発明の有機
EL装置を用いることにより美観やデザイン性の高い有
機EL装置を容易に提供することが可能になる。このよ
うな特性を有する本発明の有機EL装置は、面光源、液
晶表示装置や時計のバックライト、キャラクター表示装
置、電飾用装置、車載用インジケーター、複写機の除電
用光源、プリンタ用光源、光変調装置等として利用する
ことができる。
The organic EL device of the present invention which can be obtained as described above is an organic EL device in which the specular electrode constituting the organic EL element is not visually recognized as a mirror surface when the element does not emit light. Occasionally, there is substantially no deterioration in aesthetics or design due to the specular electrode being visually recognized as a mirror surface. Therefore, by using the organic EL device of the present invention, it is possible to easily provide an organic EL device having high aesthetics and design. The organic EL device of the present invention having such characteristics includes a surface light source, a backlight of a liquid crystal display device or a watch, a character display device, a device for illumination, a vehicle-mounted indicator, a light source for static elimination of a copying machine, a light source for a printer, It can be used as a light modulation device or the like.

【0058】[0058]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
有機EL装置の構成要素の1つである有機EL素子の作
製方法を予め説明しておく。まず、基板(光散乱部が形
成されていてもよい。この基板については後述する個々
の実施例参照。)の内側面(有機EL素子を形成しよう
とする側の面)上に必要に応じて陽極(透明性電極)用
に膜厚100nmのITO膜をスパッタリング法により
成膜した後、この基板をイソプロピルアルコールで30
分間超音波洗浄し、更に純水で30分間洗浄し、最後に
再びイソプロピルアルコールで30分間超音波洗浄す
る。洗浄後の基板を市販の真空蒸着装置(日本真空技術
(株)製)の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗
加熱ボートにN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス−
(3−メチルフェニル)−[1,1′−ビフェニル]−
4,4′−ジアミン(以下、TPDという)を200m
g入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにトリス(8
−キノリノール)アルミニウム(以下、Alqという)
を200mg入れて、真空チャンバー内を1×10-4
aまで減圧する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
A method for manufacturing an organic EL element which is one of the components of the organic EL device will be described in advance. First, if necessary, on an inner surface (a surface on which an organic EL element is to be formed) of a substrate (a light scattering portion may be formed; for this substrate, see each embodiment described later). After forming an ITO film having a thickness of 100 nm for the anode (transparent electrode) by a sputtering method, the substrate is treated with isopropyl alcohol for 30 minutes.
The substrate is ultrasonically cleaned for 30 minutes, further washed with pure water for 30 minutes, and finally ultrasonically cleaned again with isopropyl alcohol for 30 minutes. The substrate after cleaning was fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum evaporation apparatus (manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.), and N, N'-diphenyl-N, N'-bis- was added to a molybdenum resistance heating boat.
(3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl]-
200 m of 4,4'-diamine (hereinafter referred to as TPD)
g into another molybdenum resistance heating boat.
-Quinolinol) aluminum (hereinafter referred to as Alq)
Into the vacuum chamber and 1 × 10 -4 P
Reduce the pressure to a.

【0059】次に、TPDを入れた前記の抵抗加熱ボー
トを215〜220℃まで加熱し、TPDを蒸着速度
0.1〜0.3nm/秒でITO膜上に堆積させて、膜
厚60nmの正孔輸送層を成膜する。このときの基板温
度は室温である。次いで、正孔輸送層が成膜された基板
を真空チャンバーから取出すことなく、正孔輸送層の成
膜に引続いて有機発光層の成膜を行う。有機発光層の成
膜は、Alqを入れた前記の抵抗加熱ボートを275℃
まで加熱し、Alqを蒸着速度0.1〜0.2nm/秒
で正孔輸送層上に堆積させて、膜厚60nmのAlq層
を成膜することにより行う。このときの基板温度も室温
である。次に、モリブデン製抵抗加熱ボートにマグネシ
ウム1gを入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにイ
ンジウム500mgを入れて、真空チャンバー内を2×
10-4Paまで減圧する。そして、マグネシウムを入れ
た前記の抵抗加熱ボートを500℃程度に加熱してマグ
ネシウムを約1.7〜2.8nm/sの蒸着速度で蒸発
させると共に、インジウムを入れた前記の抵抗加熱ボー
トを800℃程度に加熱してインジウムを約0.03〜
0.08nm/sの蒸着速度で蒸発させて、マグネシウ
ムとインジウムとの混合金属からなる膜厚150nmの
陰極(鏡面性電極)を有機発光層上に設ける。
Next, the resistance heating boat containing the TPD was heated to 215 to 220 ° C., and TPD was deposited on the ITO film at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec. A hole transport layer is formed. The substrate temperature at this time is room temperature. Next, the organic light emitting layer is formed following the hole transport layer without removing the substrate on which the hole transport layer is formed from the vacuum chamber. The organic light emitting layer was formed by heating the resistance heating boat containing Alq at 275 ° C.
Heating is performed to deposit Alq on the hole transport layer at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / sec to form an Alq layer having a thickness of 60 nm. The substrate temperature at this time is also room temperature. Next, 1 g of magnesium was put into a molybdenum resistance heating boat, 500 mg of indium was put into another molybdenum resistance heating boat, and the inside of the vacuum chamber was 2 ×
The pressure is reduced to 10 −4 Pa. The resistance heating boat containing magnesium is heated to about 500 ° C. to evaporate magnesium at a deposition rate of about 1.7 to 2.8 nm / s, and the resistance heating boat containing indium is heated to 800 ℃ to about 0.03 ~
By evaporating at a deposition rate of 0.08 nm / s, a 150 nm-thick cathode (specular electrode) made of a mixed metal of magnesium and indium is provided on the organic light emitting layer.

【0060】このようにして、ガラス基板上の層構成が
陽極(透明性電極;ITO膜)/正孔輸送層/有機発光
層/陰極(鏡面性電極;Mg・In層)である有機EL
素子を作製する。この有機EL素子は緑色光(主波長は
513nm)を発し、その初期輝度は、基板が透明ガラ
ス基板(光散乱部を設けていないもの。波長513nm
の光の透過率亜は95%)である場合には電圧6.5
V、電流密度3mA/cm2 で100cd/m2 に達す
る。
In this manner, the organic EL having a layer structure on the glass substrate of anode (transparent electrode; ITO film) / hole transport layer / organic light emitting layer / cathode (specular electrode; Mg.In layer)
A device is manufactured. This organic EL device emits green light (having a main wavelength of 513 nm) and has an initial luminance of a transparent glass substrate (without a light scattering portion; wavelength of 513 nm).
Is 95%), the voltage is 6.5.
V reaches 100 cd / m 2 at a current density of 3 mA / cm 2 .

【0061】参考例1 まず、基板として25×75×1.1mmの透明ガラス
板(日本板ガラス社製のOA−2)上に陽極用に膜厚1
00nmのITO膜をスパッタリング法により成膜した
ものを用意した。また光散乱部の材料として、カマボコ
型レンズが同心円状に多数配列されているレンティキュ
ラーレンズシート(ピッチ0.4mm、平均厚さ0.4
mm、ポリアリレート製。以下、レンズシートIとい
う)を用意した。このレンズシートIの平面形状を図1
(a)に、また断面形状を図1(b)に示す。図1にお
いて符号1がレンズシートIを示す。次に、上記の基板
の外側面(ITO膜が成膜されていない側の面)に上記
のレンズシートIを当該レンズシートIのレンズ面(レ
ンズが形成されている側の面)が外側になるようにして
エポキシ系接着剤により固着させた。この後、上記の基
板の内側面(有機EL素子を形成する側の面、すなわち
ITO膜が成膜されている側の面)上に上記の方法によ
り有機EL素子を形成して、目的とする有機EL装置を
得た。この有機EL装置の断面の概略を図2に示す。図
2に示したように、この有機EL装置10aは基板11
aとこの基板11aの片面(内側面)に形成された有機
EL素子12とを備え、有機EL素子12は基板11a
側から順に陽極(透明性電極;ITO膜)/正孔輸送層
/有機発光層/陰極(鏡面性電極;Mg・In層)を積
層してなる。これらの部材のうち、陽極(透明性電極)
を符号13で、また陰極(鏡面性電極)を符号14で示
す。また、基板11aの外側面(有機EL素子12が形
成されている面とは反対側の面)には光散乱部としての
レンティキュラーレンズシート15a(レンズシート
I)がエポキシ系接着剤(図示せず)によって固着され
ている。このようにして得た有機EL装置の初期輝度を
電圧6.5V、電流密度3mA/cm2 の条件下で測定
した。また、有機EL素子の非発光時に当該有機EL素
子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの
結果を表1に示す。
Reference Example 1 First, a 25 × 75 × 1.1 mm transparent glass plate (OA-2 manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.) was used as a substrate to form a film having a thickness of 1 for an anode.
What prepared the ITO film of 00 nm by the sputtering method was prepared. As a material of the light scattering portion, a lenticular lens sheet (pitch: 0.4 mm, average thickness: 0.4) in which a large number of conical lenses are arranged concentrically
mm, made of polyarylate. Hereinafter, referred to as a lens sheet I). FIG. 1 shows a plan view of the lens sheet I.
FIG. 1A and FIG. 1B show the cross-sectional shape. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a lens sheet I. Next, the lens sheet I is placed on the outer surface of the substrate (the surface on which the ITO film is not formed) with the lens surface of the lens sheet I (the surface on which the lens is formed) facing outward. In this way, they were fixed with an epoxy adhesive. Thereafter, the organic EL element is formed on the inner surface of the substrate (the surface on which the organic EL element is formed, that is, the surface on which the ITO film is formed) by the above-described method. An organic EL device was obtained. FIG. 2 shows a schematic cross section of the organic EL device. As shown in FIG. 2, this organic EL device 10a
a and an organic EL element 12 formed on one surface (inner side) of the substrate 11a.
An anode (transparent electrode; ITO film) / hole transport layer / organic light emitting layer / cathode (specular electrode; Mg.In layer) is laminated in this order from the side. Among these members, the anode (transparent electrode)
Is denoted by reference numeral 13, and the cathode (specular electrode) is denoted by reference numeral 14. A lenticular lens sheet 15a (lens sheet I) as a light scattering portion is provided on an outer surface (a surface opposite to the surface on which the organic EL element 12 is formed) of the substrate 11a with an epoxy-based adhesive (not shown). Z). The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the conditions of a voltage of 6.5 V and a current density of 3 mA / cm 2 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0062】実施例1 まず、基板材料として、厚さが0.3mmである点を除
いて参考例1で使用したガラス板と同じもの(ただし、
ITO膜は設けられていない)を2枚用意した。また、
光散乱部の材料として参考例1で使用したものと同一の
レンズシートIを用意した。次に、一方のガラス板の片
面に参考例1と同様にしてレンズシートIを固着させた
後、このレンズシートIが内部にくるようにしてもう1
枚のガラス板をエポキシ系接着剤により貼り合わせた。
これにより、内部(貼り合わせ部)にレンズシートIを
有する貼り合わせ構造の基板が得られた。この後、最初
にレンズシートIを固着させた方のガラス板においてレ
ンズシートIを固着させた面と対向する面の上に前述の
方法(ITO膜の成膜を含む)により有機EL素子を形
成して、目的とする有機EL装置を得た。この有機EL
装置の断面の概略を図3に示す。図3に示したように、
この有機EL装置10bは、基板11bとこの基板11
bの片面(内側面)に形成された有機EL素子12とを
備えており、基板11bは光散乱部としてのレンティキ
ュラーレンズシート15a(レンズシートI)を介して
2枚のガラス板11b1,11b2をエポキシ系接着剤
(図示せず)によって貼り合わせた貼り合わせ構造をな
している。なお、図3において図2と共通する部材につ
いては図2と同じ符号を付してある。このようにして得
られた有機EL装置の初期輝度を参考例1と同一条件で
測定した。また、有機EL素子の非発光時に当該有機E
L素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これ
らの結果を表1に示す。
Example 1 First, as the substrate material, the same material as the glass plate used in Reference Example 1 except that the thickness was 0.3 mm (however,
(Not provided with an ITO film). Also,
The same lens sheet I as that used in Reference Example 1 was prepared as a material for the light scattering portion. Next, a lens sheet I is fixed to one surface of one of the glass plates in the same manner as in Reference Example 1 , and another lens sheet I is placed inside the glass sheet.
The two glass plates were bonded with an epoxy adhesive.
Thus, a substrate having a laminated structure having the lens sheet I inside (laminated portion) was obtained. Thereafter, an organic EL element is formed on the surface of the glass plate to which the lens sheet I is fixed first by opposing the surface to which the lens sheet I is fixed by the above-described method (including the formation of the ITO film). Thus, an intended organic EL device was obtained. This organic EL
FIG. 3 shows a schematic cross section of the apparatus. As shown in FIG.
The organic EL device 10b includes a substrate 11b and the substrate 11
b) and an organic EL element 12 formed on one side (inner side) of the substrate b. The substrate 11b is provided with two glass plates 11b1 and 11b2 via a lenticular lens sheet 15a (lens sheet I) as a light scattering portion. Are bonded by an epoxy-based adhesive (not shown). In FIG. 3, members common to FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . When the organic EL element does not emit light,
It was examined whether or not the specular electrode of the L element was visible. Table 1 shows the results.

【0063】実施例2 まず、基板として参考例1で使用したガラス板と同じも
の(ただし、ITO膜は設けられていない)を用い、こ
の基板の内側面に参考例1と同様にしてレンズシートI
を固着させた。このとき、レンズシートIの向きはレン
ズが形成されている側の面が有機EL素子と対向する向
きとした。次に、このレンズシートIの上に光硬化性樹
脂(広栄化学工業(株)製のコーエイハードM−10
1)を塗布して、実質的に平坦な表面を有するオーバー
コート層を設けた。このとき、オーバーコート層の膜厚
(最大膜厚)は10μmとした。この後、前記のオーバ
ーコート層上に前述の方法(ITO膜の成膜を含む)に
より有機EL素子を形成して、目的とする有機EL装置
を得た。この有機EL装置の断面の概略を図4に示す。
図4に示したように、この有機EL装置10cは基板1
1aと、この基板11aの片面(内側面)にエポキシ系
接着剤(図示せず)によって固着された光散乱部として
のレンティキュラーレンズシート15a(レンズシート
I)と、このレンズシート15a上に形成されたオーバ
ーコート層16と、このオーバーコート層16上に形成
された有機EL素子12とを備えている。なお、図4に
おいて図2と共通する部材については図2と同じ符号を
付してある。このようにして得られた有機EL装置の初
期輝度を参考例1と同一条件で測定した。また、有機E
L素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視
認できるか否かを調べた。これらの結果を表1に示す。
Example 2 First, the same glass plate as that used in Reference Example 1 (but not provided with an ITO film) was used as a substrate, and a lens sheet was formed on the inner surface of this substrate in the same manner as in Reference Example 1. I
Was fixed. At this time, the direction of the lens sheet I was such that the surface on which the lens was formed was opposed to the organic EL element. Next, on this lens sheet I, a photo-curable resin (Koei Hard M-10 manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd.)
1) was applied to provide an overcoat layer having a substantially flat surface. At this time, the thickness (maximum thickness) of the overcoat layer was 10 μm. Thereafter, an organic EL element was formed on the overcoat layer by the above-described method (including the formation of an ITO film) to obtain a target organic EL device. FIG. 4 schematically shows a cross section of the organic EL device.
As shown in FIG. 4, the organic EL device 10c
1a, a lenticular lens sheet 15a (lens sheet I) as a light scattering portion fixed to one surface (inner surface) of the substrate 11a by an epoxy adhesive (not shown), and formed on the lens sheet 15a. And an organic EL element 12 formed on the overcoat layer 16. In FIG. 4, members common to FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Organic E
It was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the L element was not emitting light. Table 1 shows the results.

【0064】参考例2,実施例3 レンズシートIに代えてレンズが互いに平行な複数本の
線状に形成されているプリズムレンズフィルム(3M社
製のTRAF。以下、レンズシートIIという)を用いた
以外は参考例1実施例1と同様にして、目的とする
考例2および実施例3の有機EL装置をそれぞれ得た。
なお、レンズシートIIの平面形状を図5(a)に、また
断面形状を図5(b)に示す。図5において符号2がレ
ンズシートIIを示す。このようにして得られた各有機E
L装置の初期輝度を参考例1と同一条件で測定した。ま
た、各有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡
面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を
表1に示す。
Reference Example 2 and Example 3 Instead of the lens sheet I, a prism lens film (TRAF manufactured by 3M, hereinafter referred to as lens sheet II) in which lenses are formed in a plurality of parallel lines is used. ginseng except that had the reference example 1, in the same manner as in example 1, the objective
The organic EL devices of Example 2 and Example 3 were obtained.
FIG. 5A shows the planar shape of the lens sheet II, and FIG. 5B shows the cross-sectional shape. In FIG. 5, reference numeral 2 denotes a lens sheet II. Each organic E thus obtained
The initial luminance of the L device was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . In addition, it was examined whether or not the specular electrode of each organic EL element was visible when each organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0065】参考例3 レンズシートIIに代えてプリズムレンズフィルム(3M
社製のBEF−100)を用いた以外は参考例2と同様
にして、目的とする有機EL装置を得た。この有機EL
装置の初期輝度を参考例1と同一条件で測定した。ま
た、この有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子の
鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果
を表1に示す。
Reference Example 3 Instead of the lens sheet II, a prism lens film (3M
A target organic EL device was obtained in the same manner as in Reference Example 2 except that BEF-100 (manufactured by KK) was used. This organic EL
The initial luminance of the device was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0066】参考例4,実施例4〜実施例5 レンズシートIに代えて複数のV字溝(ピッチ1.0m
m、深さ0.2mm、溝の角度120゜)がフィルムの
対角線に沿って格子状に配列されているプリズムレンズ
フィルム(ポリメタクリレート製。以下、レンズシート
III という)を用いた以外は参考例1実施例1実施
例2と同様にして、目的とする参考例4実施例4およ
実施例5の有機EL装置をそれぞれ得た。なお、レン
ズシートIII の平面形状を図6(a)に、また断面形状
を図6(b)に示す。図6において符号4がレンズシー
トIII を示す。このようにして得られた各有機EL装置
の初期輝度を参考例1と同一条件で測定した。また、各
有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性電
極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表1に
示す。
Reference Example 4, Examples 4 to 5 Instead of the lens sheet I, a plurality of V-shaped grooves (pitch: 1.0 m
m, depth 0.2 mm, groove angle 120 °) are arranged in a lattice pattern along the diagonal line of the film (made of polymethacrylate; hereinafter referred to as lens sheet).
Except for using) that III Reference Example 1, Example 1, performed
In the same manner as in Example 2 , the intended organic EL devices of Reference Example 4 , Example 4, and Example 5 were obtained. FIG. 6A shows the planar shape of the lens sheet III, and FIG. 6B shows the cross-sectional shape. In FIG. 6, reference numeral 4 denotes a lens sheet III. The initial luminance of each of the organic EL devices thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . In addition, it was examined whether or not the specular electrode of each organic EL element was visible when each organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0067】参考例5,実施例6〜実施例7 レンズシートIに代えて複数のV字溝(深さ0.5m
m、溝の角度120゜)がフィルムの辺に沿って格子状
(5mm×5mmの正方形の組合せ)に配列されている
レンズシート(ガラス製。以下、レンズシートIVとい
う)を用いた以外は参考例1実施例1実施例2と同
様にして、目的とする参考例5実施例6および実施例
の有機EL装置をそれぞれ得た。なお、レンズシート
IVの平面形状を図7(a)に、また断面形状を図7
(b)に示す。図7において符号5がレンズシートIVを
示す。このようにして得られた各有機EL装置の初期輝
度を参考例1と同一条件で測定した。また、各有機EL
素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視認
できるか否かを調べた。これらの結果を表1に示す。
Reference Example 5, Examples 6 to 7 Instead of the lens sheet I, a plurality of V-shaped grooves (0.5 m depth)
m, the groove angle 120 °) lattice form along the edges of the film (5 mm × 5 mm square combination) lens sheet which are arranged in (made of glass. Hereinafter, except for using) that lens sheet IV Reference In the same manner as in Example 1 , Example 1 , and Example 2 , the intended Reference Example 5 , Example 6, and Example
7 organic EL devices were obtained. The lens sheet
Fig. 7 (a) shows the plane shape of the IV, and Fig. 7 shows the cross-sectional shape.
(B). In FIG. 7, reference numeral 5 denotes a lens sheet IV. The initial luminance of each of the organic EL devices thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . In addition, each organic EL
It was examined whether or not the specular electrode of the organic EL device was visible when the device was not emitting light. Table 1 shows the results.

【0068】参考例6 片面にレンズ処理を施したポリエチレンテレフタレート
フィルム(レンティキュラーレンズの金型に流し込んで
成形したもの)を基板兼光散乱部として用い、この基板
においてレンズ処理してない側の主表面上に前記の方法
(ITO膜の成膜を含む)により有機EL素子を形成し
て、目的とする有機EL装置を得た。この有機EL装置
の断面の概略を図8に示す。図8に示したように、この
有機EL装置10dは基板11cとこの基板11cの片
面(内側面)に形成された有機EL素子12とを備え、
基板11cの外側面(有機EL素子12が形成されてい
る面とは反対側の面)にはレンティキュラーレンズ20
がレンズ処理によって形成されている。この基板11c
は光散乱部を兼ねている。なお、図8において図2と共
通する部材については図2と同じ符号を付してある。こ
のようにして得られた有機EL装置の初期輝度を参考例
と同一条件で測定した。また、有機EL素子の非発光
時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視認できるか否か
を調べた。これらの結果を表1に示す。
Reference Example 6 A polyethylene terephthalate film having one surface treated with a lens (formed by pouring into a mold for a lenticular lens) was used as a substrate and also as a light scattering portion. An organic EL device was formed thereon by the above-described method (including the formation of an ITO film) to obtain a target organic EL device. FIG. 8 shows a schematic cross section of this organic EL device. As shown in FIG. 8, the organic EL device 10d includes a substrate 11c and an organic EL element 12 formed on one surface (inner side) of the substrate 11c.
A lenticular lens 20 is provided on the outer surface of the substrate 11c (the surface opposite to the surface on which the organic EL element 12 is formed).
Are formed by lens processing. This substrate 11c
Also serves as a light scattering portion. In FIG. 8, members common to FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained is referred to as a reference example.
The measurement was performed under the same conditions as in Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0069】実施例8 片面に艶消し処理を施したガラス板(市販の建築用摺り
板ガラス(JIS R3203)を基板兼光散乱部とし
て用い、この基板において艶消し処理してない側の主表
面上に前記の方法(ITO膜の成膜を含む)により有機
EL素子を形成して、目的とする有機EL装置を得た。
このようにして得られた有機EL装置の初期輝度を参考
例1と同一条件で測定した。また、有機EL素子の非発
光時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視認できるか否
かを調べた。これらの結果を表1に示す。
Example 8 A glass plate (commercially available ground glazed glass (JIS R3203)) having a matte treatment on one side was used as a substrate and a light-scattering portion. An organic EL device was formed by the above-described method (including the formation of an ITO film) to obtain a target organic EL device.
Reference the initial luminance of the organic EL device obtained in this way
The measurement was performed under the same conditions as in Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0070】実施例9 内部に多数のシリカ粒子(粒径1〜10μm)を分散さ
せたポリエチレンテレフタレートフィルムシート(厚さ
0.8mm、シリカ粒子の配合量5重量%)を基板兼光
散乱部として用い、この基板の片面に前述の方法(IT
O膜の成膜を含む)により有機EL素子を形成すること
により目的とする有機EL装置を得た。この有機EL装
置の側面の概略を図9に示す。図9に示したように、こ
の有機EL装置10eは基板11dとこの基板11dの
片面(内側面)に形成された有機EL素子12とを備
え、基板11dの内部にはシリカ粒子21が多数含まれ
ている。この有機EL装置10eにおいては、基板11
d自体が光散乱部として機能する。なお、図9において
図2と共通する部材については図2と同じ符号を付して
ある。このようにして得られた有機EL装置の初期輝度
参考例1と同一条件で測定した。また、有機EL素子
の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視認でき
るか否かを調べた。これらの結果を表1に示す。
Example 9 A polyethylene terephthalate film sheet (0.8 mm in thickness, 5% by weight of silica particles) in which a large number of silica particles (particle diameter: 1 to 10 μm) were dispersed was used as a substrate and a light scattering portion. The above-mentioned method (IT
An OLED device was obtained by forming an organic EL element by using an O film (including formation of an O film). FIG. 9 shows a schematic side view of the organic EL device. As shown in FIG. 9, the organic EL device 10e includes a substrate 11d and an organic EL element 12 formed on one surface (inner side) of the substrate 11d, and a large number of silica particles 21 are contained inside the substrate 11d. Have been. In the organic EL device 10e, the substrate 11
d itself functions as a light scattering part. In FIG. 9, members common to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0071】実施例10 内部に多数のチタニア粒子(粒径1〜10μm)を分散
させたポリエチレンテレフタレートフィルムシート(厚
さ0.8mm、チタニア粒子の配合量5重量%)を基板
兼光散乱部として用いた以外は実施例9と同様にして、
目的とする有機EL装置を得た。この有機EL装置の初
期輝度を参考例1と同一条件で測定した。また、有機E
L素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視
認できるか否かを調べた。これらの結果を表1に示す。
Example 10 A polyethylene terephthalate film sheet (with a thickness of 0.8 mm and a content of 5% by weight of titania particles) in which a large number of titania particles (particle diameter: 1 to 10 μm) were dispersed was used as a substrate and a light scattering portion. Except that it was the same as in Example 9 ,
The intended organic EL device was obtained. The initial luminance of this organic EL device was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Organic E
It was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the L element was not emitting light. Table 1 shows the results.

【0072】実施例11 まず、基板として透明ガラス板(日本板ガラス社製のO
A−2、厚さ1.1mm)を用い、この基板の片面(外
側面)に平均粒径が0.5mmのガラス粒子(屈折率n
d=1.51)を400個/cm2 の密度で凝集配置す
ることにより光散乱部を形成した。このときの凝集配置
は上記のガラス粒子をアクリル系接着剤で基板面に固着
させることにより行った。次に、上記の基板において光
散乱部を形成した面とは反対側の面(内側面)に前述の
方法(ITO膜の成膜を含む)により有機EL素子を形
成することにより目的とする有機EL装置を得た。この
有機EL装置の側面の概略を図10に示す。図10に示
したように、この有機EL装置10fは基板11eとこ
の基板11eの片面(内側面)に形成された有機EL素
子12とを備え、基板11eの外側面にはアクリル系接
着剤(図示せず)によって凝集配置された多数のガラス
粒子22からなる光散乱部が形成されている。なお、図
10において図2と共通する部材については図2と同じ
符号を付してある。このようにして得られた有機EL装
置の初期輝度を参考例1と同一条件で測定した。また、
有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性電
極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表1に
示す。
Example 11 First, as a substrate, a transparent glass plate (made by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.) was used.
A-2, thickness 1.1 mm), and glass particles having an average particle diameter of 0.5 mm (refractive index n
d = 1.51) at a density of 400 / cm 2 to form a light scattering portion. Aggregation at this time was performed by fixing the glass particles to the substrate surface with an acrylic adhesive. Next, an organic EL element is formed on the surface (inner surface) opposite to the surface on which the light scattering portion is formed on the substrate by the above-described method (including formation of an ITO film). An EL device was obtained. FIG. 10 shows a schematic side view of the organic EL device. As shown in FIG. 10, the organic EL device 10f includes a substrate 11e and an organic EL element 12 formed on one surface (inner surface) of the substrate 11e, and an acrylic adhesive ( (Not shown), a light scattering portion composed of a large number of glass particles 22 aggregated and arranged is formed. In FIG. 10, members common to FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as in FIG. 2. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Also,
It was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0073】実施例12 まず、基板として透明ガラス板(日本板ガラス社製のO
A−2、厚さ1.1mm)を用い、この基板の内側面に
アルミニウムを班点状に付着させることにより光散乱部
を形成した。この光散乱部の形成は真空蒸着法により行
い、そのときの成膜条件は減圧度1×10-4Pa、アル
ミニウムを入れた坩堝の温度1200℃とした。また、
班点状に付着したアルミニウムの膜厚(平均値)は0.
01μmであり、被覆率は約50%であった。次に、こ
の光散乱部上に光硬化性樹脂(広栄化学工業(株)製の
コーエイハードM−101)からなるオーバーコート層
を設けることにより実質的に平坦な面を形成した。この
とき、オーバーコート層の膜厚(基板面を基準とした膜
厚)は10μmとした。この後、前記のオーバーコート
層上に前述の方法(ITO膜の成膜を含む)により有機
EL素子を形成して、目的とする有機EL装置を得た。
この有機EL装置の一部切欠き斜視図を図11として示
す。図11に示した有機EL装置10gは基板11f
と、この基板11fの片面(内側面)に班点状に付着し
たアルミニウム23からなる光散乱部と、この光散乱部
を被覆するオーバーコート層24と、このオーバーコー
ト層24上に形成された有機EL素子12とを備えてい
る。なお、図4において図2と共通する部材については
図2と同じ符号を付してある。このようにして得られた
有機EL装置の初期輝度を参考例1と同一条件で測定し
た。また、有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子
の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの結
果を表1に示す。
Example 12 First, as a substrate, a transparent glass plate (made by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.) was used.
A-2, thickness 1.1 mm), and a light scattering portion was formed by adhering aluminum to the inner surface of the substrate in a speckled manner. The light scattering portion was formed by a vacuum evaporation method, and the film forming conditions at that time were a pressure reduction degree of 1 × 10 −4 Pa and a temperature of a crucible containing aluminum of 1200 ° C. Also,
The film thickness (average value) of the aluminum adhered in the form of spots is 0.
01 μm, and the coverage was about 50%. Next, a substantially flat surface was formed by providing an overcoat layer made of a photocurable resin (Koei Hard M-101 manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd.) on the light scattering portion. At this time, the thickness of the overcoat layer (the thickness based on the substrate surface) was 10 μm. Thereafter, an organic EL element was formed on the overcoat layer by the above-described method (including the formation of an ITO film) to obtain a target organic EL device.
FIG. 11 is a partially cutaway perspective view of the organic EL device. The organic EL device 10g shown in FIG.
A light scattering portion made of aluminum 23 adhered to one surface (inner surface) of the substrate 11f in a speckled manner, an overcoat layer 24 covering the light scattering portion, and formed on the overcoat layer 24. And an organic EL element 12. In FIG. 4, members common to FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0074】実施例13 まず、基板材料として、厚さが0.3mmである点を除
いて実施例12で使用したガラス板と同じのもの(ただ
し、ITO膜は成膜されていない)を2枚用意した。次
いで、一方のガラス板の片面に実施例12と同様にして
金を班点状に付着させた。このとき、金の膜厚(平均
値)は1μmであり、被覆率は約80%であった。次
に、班点状に付着した金の上に光硬化性樹脂(広栄化学
工業(株)製のコーエイハードM−101)を塗布し
た。この後、前記の光硬化性樹脂を硬化させる前に、前
記班点状に付着した金が内部にくるようにしてもう1枚
のガラス板を重ね合わせ、この状態で前記の光硬化性樹
脂を硬化させた。これにより、貼り合わせ部に光散乱部
を有する貼り合わせ構造の基板が得られた。この後、金
を班点状に付着させた方のガラス板において金を班点状
に付着させた面と対向する面の上に前述の方法(ITO
膜の成膜を含む)により有機EL素子を形成して、目的
とする有機EL装置を得た。この有機EL装置の断面の
概略を図12に示す。図12に示したように、この有機
EL装置10hは基板11gとこの基板11gの片面
(内側面)に形成された有機EL素子12とを備えてお
り、基板11gは2枚のガラス板11g1,11g2を
光散乱部としての金(班点状に付着したもの)25とオ
ーバーコート層26とを介して貼り合わせた貼り合わせ
構造をなしている。なお、図12において図2と共通す
る部材については図2と同じ符号を付してある。このよ
うにして得られた有機EL装置の初期輝度を参考例1
同一条件で測定した。また、有機EL素子の非発光時に
当該有機EL素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調
べた。これらの結果を表1に示す。
Example 13 First, as the substrate material, the same glass plate as used in Example 12 except that the thickness was 0.3 mm (however, no ITO film was formed) was used. I prepared it. Next, gold was adhered to one surface of one of the glass plates in the same manner as in Example 12 . At this time, the thickness (average value) of the gold film was 1 μm, and the coverage was about 80%. Next, a photocurable resin (Koei Hard M-101 manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd.) was applied on the gold adhered in the form of spots. Thereafter, before curing the photocurable resin, another glass plate is overlapped so that the gold adhering in spots comes inside, and in this state, the photocurable resin is removed. Cured. As a result, a substrate having a bonded structure having a light scattering portion in the bonded portion was obtained. Thereafter, the above-mentioned method (ITO) was applied on the surface of the glass plate on which the gold was adhered in a spotted manner, on the surface opposite to the surface on which the gold was attached in a spotted manner.
(Including film formation) to form an organic EL device, thereby obtaining an intended organic EL device. FIG. 12 schematically shows a cross section of the organic EL device. As shown in FIG. 12, the organic EL device 10h includes a substrate 11g and an organic EL element 12 formed on one surface (inner side) of the substrate 11g, and the substrate 11g includes two glass plates 11g1, 11g2 has a bonded structure in which gold (attached in the form of dots) 25 as a light scattering portion and an overcoat layer 26 are bonded. In FIG. 12, members common to FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0075】実施例14 基板の外側面に金を班点状に付着させ、かつオーバーコ
ート層を設けなかった以外は実施例12と同様にして目
的とする有機EL装置を得た。このとき、金の膜厚(平
均値)は10μmであり、被覆率は約60%であった。
この有機EL装置の断面の概略を図13に示す。図13
に示したように、この有機EL装置10iは基板11f
と、この基板11fの片面(内側面)上に形成された有
機EL素子12とを備えており、基板11fの外側面に
は金25が班点状に付着している。この有機EL装置1
0iでは、班点状に付着している前記の金25が光散乱
部として機能する。なお、図13において図11と共通
する部材については図11と同じ符号を付してある。こ
のようにして得られた有機EL装置の初期輝度を参考例
と同一条件で測定した。また、有機EL素子の非発光
時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視認できるか否か
を調べた。これらの結果を表1に示す。
Example 14 A target organic EL device was obtained in the same manner as in Example 12 , except that gold was adhered to the outer surface of the substrate in a speckled manner and no overcoat layer was provided. At this time, the gold film thickness (average value) was 10 μm, and the coverage was about 60%.
FIG. 13 shows a schematic cross section of this organic EL device. FIG.
As shown in the figure, the organic EL device 10i is
And an organic EL element 12 formed on one surface (inner surface) of the substrate 11f, and gold 25 is adhered to the outer surface of the substrate 11f in spots. This organic EL device 1
In 0i, the gold 25 adhering in spots functions as a light scattering portion. In FIG. 13, members common to FIG. 11 are denoted by the same reference numerals as in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained is referred to as a reference example.
The measurement was performed under the same conditions as in Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0076】実施例15 まず、基板として透明ガラス板(日本板ガラス社製のO
A−2、厚さ1.1mm)を用い、この基板の片面(内
側面)に前述の方法(ITO膜の成膜を含む)により有
機EL素子を形成した。この後、前記の基板の外側面
に、エンボス加工ポリエチレンフィルム(出光石油化学
(株)製のポリ手袋(Mサイズ)から切り出したもの)
を2枚重ねたものをアクリル系接着剤により部分的に固
着させて、目的とする有機EL装置を得た。この有機E
L装置の断面の概略を図14に示す。図14に示したよ
うに、この有機EL装置10jは基板11gと、この基
板11gの片面(内側面)上に形成された有機EL素子
12とを備えており、基板11gの外側面には2枚のエ
ンボス加工ポリエチレンフィルム27a,27bを重ね
たものからなる光散乱部が設けられている。なお、図1
4において図2と共通する部材については図2と同じ符
号を付してある。このようにして得られた有機EL装置
の初期輝度を参考例1と同一条件で測定した。また、こ
の有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性
電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表1
に示す。
Example 15 First, as a substrate, a transparent glass plate (made by Nippon Sheet Glass
A-2, thickness 1.1 mm), an organic EL element was formed on one surface (inner surface) of the substrate by the above-described method (including formation of an ITO film). Thereafter, an embossed polyethylene film (cut out of a poly glove (M size) manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) is provided on the outer surface of the substrate.
Were stacked and partially fixed with an acrylic adhesive to obtain a target organic EL device. This organic E
FIG. 14 schematically shows a cross section of the L device. As shown in FIG. 14, the organic EL device 10j includes a substrate 11g and an organic EL element 12 formed on one surface (inner surface) of the substrate 11g. A light scattering portion is provided which is formed by stacking a plurality of embossed polyethylene films 27a and 27b. FIG.
4, the same members as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows these results.
Shown in

【0077】実施例16 基板の外側面に厚さ500μmのパラフィン(蝋)層を
設けて光散乱部とした以外は実施例15と同様にして、
目的とする有機EL装置を得た。なお、前記のパラフィ
ン(蝋)層は、固形のパラフィンを45℃に加熱して融
解させ、得られた融液を基板の外側面に塗布することに
より形成した。このようにして得られた有機EL装置の
初期輝度を参考例1と同一条件で測定した。また、この
有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性電
極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表1に
示す。
Example 16 The procedure of Example 15 was repeated , except that a paraffin (wax) layer having a thickness of 500 μm was provided on the outer surface of the substrate to form a light scattering portion.
The intended organic EL device was obtained. The paraffin (wax) layer was formed by heating solid paraffin to 45 ° C. to melt it, and applying the obtained melt to the outer surface of the substrate. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0078】実施例17 市販のガーゼ(縦糸のピッチと横糸のピッチをそれぞれ
0.8〜0.9mmにして格子状に織ったもの)1枚を
基板の外側面にアクリル系接着剤で固着させて光散乱部
とした以外は実施例15と同様にして、目的とする有機
EL装置を得た。このようにして得られた有機EL装置
の初期輝度を参考例1と同一条件で測定した。また、こ
の有機EL素子の非発光時に当該有機EL素子の鏡面性
電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表1
に示す。
Example 17 One piece of commercially available gauze (woven in a lattice with the pitch of the warp and the pitch of the weft each being 0.8 to 0.9 mm) was fixed to the outer surface of the substrate with an acrylic adhesive. A target organic EL device was obtained in the same manner as in Example 15 , except that the light scattering portion was used. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows these results.
Shown in

【0079】実施例18 ポリエステル製メッシュシート(東洋ロ紙社製のクロマ
トグラフィー用メッシュシート)を基板の外側面にアク
リル系接着剤で固着させて光散乱部とした以外は実施例
15と同様にして、目的とする有機EL装置を得た。こ
のようにして得られた有機EL装置の初期輝度を参考例
と同一条件で測定した。また、この有機EL素子の非
発光時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視認できるか
否かを調べた。これらの結果を表1に示す。
[0079] except that by fixing the Example 18 Polyester mesh sheet (Toyo filter paper Co. chromatographic mesh sheet) with an acrylic-based adhesive on the outer surface of the substrate and the light scattering portion Example
In the same manner as in Example 15 , an intended organic EL device was obtained. The initial luminance of the organic EL device thus obtained is referred to as a reference example.
The measurement was performed under the same conditions as in Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0080】実施例19 まず、図形作製機能を備えたパーソナルコンピュータと
このパーソナルコンピュータに接続されたインクジェッ
トプリンターとを用いて、ポリエチレンテレフタレート
フィルムシート(セイコーエプソン社製のOHPシー
ト、厚さ0.1mm)の片面に図15に示す格子模様を
描画した。図15においては符号28が格子模様を示
す。この格子模様28は線幅 0.1mmの ピンク色の
インク細線によって描かれており、図中の縦線のピッチ
は0.5mm、横線のピッチは0.5mmである。この
後、光散乱部として上記のポリエチレンテレフタレート
フィルムシート(格子模様を描画したもの)をアクリル
系接着剤で基板の外側面に固着させた以外は実施例15
と同様にして、目的とする有機EL装置を得た。なお、
ポリエチレンテレフタレートフィルムシート(格子模様
を描画したもの)は格子模様が内側に位置するようにし
て基板の外側面に固着させた。このようにして得られた
有機EL装置の初期輝度を参考例1と同一条件で測定し
た。また、この有機EL素子の非発光時に当該有機EL
素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これら
の結果を表1に示す。
Example 19 First, a polyethylene terephthalate film sheet (OHP sheet manufactured by Seiko Epson Corporation, thickness: 0.1 mm) was used by using a personal computer having a figure producing function and an ink jet printer connected to the personal computer. A lattice pattern shown in FIG. In FIG. 15, reference numeral 28 indicates a lattice pattern. This lattice pattern 28 is drawn by a pink ink thin line having a line width of 0.1 mm, and the vertical line pitch in the figure is 0.5 mm and the horizontal line pitch is 0.5 mm. Thereafter, except that the polyethylene terephthalate film sheet is used as the light scattering portion (that draws a grid pattern) was fixed to the outer surface of the substrate with an acrylic adhesive Example 15
In the same manner as in the above, an intended organic EL device was obtained. In addition,
The polyethylene terephthalate film sheet (in which the lattice pattern was drawn) was fixed to the outer surface of the substrate such that the lattice pattern was located inside. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . When the organic EL element does not emit light,
It was examined whether or not the specular electrode of the element was visible. Table 1 shows the results.

【0081】実施例20 まず、ポリエチレンテレフタレートフィルムシート(セ
イコーエプソン社製のOHPシート、厚さ0.1mm)
の片面に実施例19と同一手法で図16に示す模様を描
画した。図16においては符号29が模様を示す。この
模様29は線幅0.1〜0.8mmの黒色のカーボンイ
ンク細線を放射状に配列することによって描かれてお
り、1本の細線の長さは15mmである。この後、光散
乱部として上記のポリエチレンテレフタレートフィルム
シート(上記の模様を描画したもの)を用いた以外は
施例19と同様にして、目的とする有機EL装置を得
た。なお、ポリエチレンテレフタレートフィルムシート
(上記の模様を描画したもの)は描画した模様が内側に
位置するようにして基板の外側面に固着させた。このよ
うにして得られた有機EL装置の初期輝度を参考例1
同一条件で測定した。また、この有機EL素子の非発光
時に当該有機EL素子の鏡面性電極が視認できるか否か
を調べた。これらの結果を表1に示す。
Example 20 First, a polyethylene terephthalate film sheet (OHP sheet manufactured by Seiko Epson Corporation, thickness: 0.1 mm)
The pattern shown in FIG. 16 was drawn on one side by the same method as in Example 19 . In FIG. 16, reference numeral 29 indicates a pattern. This pattern 29 is drawn by radially arranging black carbon ink thin lines having a line width of 0.1 to 0.8 mm, and the length of one thin line is 15 mm. Thereafter, except using the polyethylene terephthalate film sheet (as drawn above pattern) as the light scattering portion is real
In the same manner as in Example 19 , the intended organic EL device was obtained. The polyethylene terephthalate film sheet (on which the above pattern was drawn) was fixed to the outer surface of the substrate so that the drawn pattern was located inside. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . Further, it was examined whether or not the specular electrode of the organic EL element was visible when the organic EL element did not emit light. Table 1 shows the results.

【0082】実施例21 片面が艶消し処理されているポリマーフィルム((株)
きもと製のライトアップ100SH、光透過率95%)
を基板の外側面に光硬化性樹脂(東亜合成化学社製のア
ロンタイトVL)で固着させて光散乱部とした以外は
施例15と同様にして、目的とする有機EL装置を得
た。なお、上記のポリマーフィルムは艶消し面が外側に
位置するようにして固着させた。このようにして得られ
た有機EL装置の初期輝度を参考例1と同一条件で測定
した。また、この有機EL素子の非発光時に当該有機E
L素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これ
らの結果を表1に示す。
Example 21 A polymer film having a matte surface on one side (manufactured by Co., Ltd.)
Light source made by Kimoto 100SH, light transmittance 95%)
The by fixed photocurable resin on the outer surface of the substrate (Arontaito VL of Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) except that the light scattering section real
A target organic EL device was obtained in the same manner as in Example 15 . The above-mentioned polymer film was fixed so that the matte surface was located outside. The initial luminance of the organic EL device thus obtained was measured under the same conditions as in Reference Example 1 . When the organic EL element does not emit light,
It was examined whether or not the specular electrode of the L element was visible. Table 1 shows the results.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】表1に示したように、実施例1〜実施例2
で得たいずれの有機EL装置においても、有機EL素
子の非発光時には当該素子を構成する鏡面性電極が鏡面
としては視認されない。また、光散乱部を設けたことに
よる輝度の低下も小さい。特に、実施例8実施例11
および実施例21で得られた有機EL装置では光散乱部
を設けたことにより逆に輝度が1.4〜1.6倍に向上
しており、有用性が高いことが証明された。実施例8
実施例11および実施例21で輝度が向上したのは、こ
れらの実施例で設けた各光散乱部が光取り出し面で生じ
る反射または全反射を緩和し、かつ、当該光散乱部が本
質的に光を吸収しないからであると推察される。
As shown in Table 1, Examples 1 and 2
In any of the organic EL devices obtained in 1 above , when the organic EL element does not emit light, the specular electrode constituting the element is not visually recognized as a mirror surface. Further, the decrease in luminance due to the provision of the light scattering portion is small. In particular, Example 8 and Example 11
In addition, in the organic EL device obtained in Example 21 , the luminance was improved to 1.4 to 1.6 times conversely due to the provision of the light scattering portion, which proved to be highly useful. Example 8
The reason why the luminance was improved in Example 11 and Example 21 is that each light scattering portion provided in these examples reduces reflection or total reflection generated on the light extraction surface, and the light scattering portion is essentially It is presumed that it does not absorb light.

【0085】実施例22 まず、金属やすりおよび砥石で磨くことにより片面に艶
消し処理を施した直径26cmの円形ガラス基板(厚さ
0.3mm)の中心部に直径0.2cmの円形開口部を
設けたものを基板兼光散乱部として用い、この基板にお
いて艶消し処理してない側の主表面上に前記の方法(I
TO膜の成膜を含む)により有機EL素子を形成した。
このとき、基板の外側縁部および開口部側の縁部にはそ
れぞれ若干のスペースを残した。次に、前記の有機EL
素子を覆うようにして、テトラフルオロエチレンとパー
フルオロビニルエーテルとの共重合体(デュポン社製の
テフロンAF)からなる保護層を設けた。この保護層の
形成は、真空蒸着法により膜厚が50μmになるように
行った。保護層まで設けたことにより、目的とする時計
用バックライトが得られた。
Example 22 First, a circular opening having a diameter of 0.2 cm was formed in the center of a circular glass substrate having a diameter of 26 cm (thickness: 0.3 mm) having one surface subjected to a matting treatment by polishing with a metal file and a grindstone. The substrate provided was used as a substrate and a light scattering part, and the above method (I
(Including formation of a TO film) to form an organic EL element.
At this time, some space was left on each of the outer edge portion and the edge portion on the opening side of the substrate. Next, the aforementioned organic EL
A protective layer made of a copolymer of tetrafluoroethylene and perfluorovinyl ether (Teflon AF manufactured by DuPont) was provided so as to cover the element. This protective layer was formed by a vacuum evaporation method so that the film thickness became 50 μm. By providing the protective layer, the intended watch backlight was obtained.

【0086】図17に示すように、この時計用バックラ
イト30は基板31と、この基板31の片面(内側面)
上に形成された有機EL素子12とを備えており、有機
EL素子12は保護層32によって被覆されている。ま
た、基板31の外側面には艶消し処理が施されており、
この艶消し処理された基板31自体が光散乱部として機
能する。この時計用バックライト30は、透明文字盤を
有する時計において前記の透明文字盤(図17中の符号
33で示されているもの。符号34は透明文字盤に描か
れている文字を示す。)の背面に配置される。なお、図
17において図2と共通する部材については図2と同じ
符号を付してある。この時計用バックライトの初期輝度
参考例1と同一条件で測定したところ、80cd/m2
であった。また、有機EL素子の非発光時には当該素子
を構成する鏡面性電極は実質的に視認されなかった。
As shown in FIG. 17, the timepiece backlight 30 is composed of a substrate 31 and one surface (inner surface) of the substrate 31.
And an organic EL element 12 formed thereon. The organic EL element 12 is covered with a protective layer 32. In addition, the outer surface of the substrate 31 is subjected to a matting process,
The matte-treated substrate 31 itself functions as a light scattering part. The backlight 30 for a timepiece is a watch having a transparent dial, which is the aforementioned transparent dial (shown by reference numeral 33 in FIG. 17; reference numeral 34 denotes characters drawn on the transparent dial). It is arranged on the back of. In FIG. 17, members common to FIG. 2 are denoted by the same reference numerals as in FIG. When the initial luminance of this watch backlight was measured under the same conditions as in Reference Example 1 , it was 80 cd / m 2.
Met. Further, when the organic EL element did not emit light, the mirror-like electrode constituting the element was not substantially visually recognized.

【0087】実施例23 まず、膜厚100nmのITO膜が設けられているガラ
ス基板(大きさ25×75×1.1mm)を透明支持基
板として用い、これをイソプロピルアルコールで30分
間超音波洗浄した後、イソプロピルアルコールに浸漬し
て更に洗浄した。洗浄後の基板を乾燥窒素ガスで乾燥し
た後、市販の真空蒸着装置(日本真空技術(株)製)の
基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートに
N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス−(3−メチル
フェニル)−[1,1′−ビフェニル]−4,4′−ジ
アミン(以下、TPDという)を200mg入れ、別の
モリブデン製抵抗加熱ボートに4,4′−ビス(2,2
−ジフェニルビニル)ビフェニル(以下、DPVBiと
いう)を200mg入れ、更に別のモリブデン製抵抗加
熱ボートにトリス(キノリノラート)アルミニウム(以
下、Alqという)を200mg入れて、真空チャンバ
ー内を4×10-4Paまで減圧した。
Example 23 First, a glass substrate (size 25 × 75 × 1.1 mm) provided with an ITO film having a thickness of 100 nm was used as a transparent support substrate, which was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol for 30 minutes. Then, it was further immersed in isopropyl alcohol for further washing. After the substrate after cleaning is dried with a dry nitrogen gas, the substrate is fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum evaporation apparatus (manufactured by Nippon Vacuum Engineering Co., Ltd.), and N, N'-diphenyl-N, N is placed in a molybdenum resistance heating boat. 200 mg of '-bis- (3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine (hereinafter referred to as TPD) was placed in another molybdenum resistance heating boat, and 4,4'-bis was added. (2,2
200 g of diphenylvinyl) biphenyl (hereinafter referred to as DPVBi) and 200 mg of tris (quinolinolate) aluminum (hereinafter referred to as Alq) in another molybdenum resistance heating boat, and the inside of the vacuum chamber was 4 × 10 −4 Pa. The pressure was reduced to

【0088】次に、TPDを入れた前記の抵抗加熱ボー
トに通電して220℃にまで加熱し、TPDを蒸着速度
0.1〜0.3nm/秒でITO膜上に堆積させて、膜
厚60nmの正孔輸送層を設けた。このときの基板温度
は室温であった。次いで、DPVBiの入った前記の加
熱ボートに通電して220℃にまで加熱し、DPVBi
を蒸着速度0.1〜0.3nm/秒で前記の正孔輸送層
上に堆積させて、膜厚40nmの有機発光層を設けた。
このときの基板温度も室温であった。さらに、Alqの
入った前記の加熱ボートに通電して315℃にまで加熱
し、Alqを蒸着速度0.1nm/秒で前記の有機発光
層上に堆積させて、膜厚20nmの電子注入層を設け
た。このときの基板温度も室温であった。
Next, the above-mentioned resistance heating boat containing the TPD was energized and heated to 220 ° C., and TPD was deposited on the ITO film at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec. A 60 nm hole transport layer was provided. At this time, the substrate temperature was room temperature. Next, the heating boat containing DPVBi was energized and heated to 220 ° C.
Was deposited on the hole transport layer at a deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec to provide an organic light emitting layer having a thickness of 40 nm.
The substrate temperature at this time was also room temperature. Furthermore, the heating boat containing Alq was energized and heated to 315 ° C., and Alq was deposited on the organic light emitting layer at a deposition rate of 0.1 nm / sec. Provided. The substrate temperature at this time was also room temperature.

【0089】次に、真空チャンバーを開け、上記の電子
注入層の上にステンレス鋼製のマスクを設置した。ま
た、モリブデン製抵抗加熱ボートにマグネシウムを3g
入れ、タングステン製の蒸着用バスケットに銀ワイヤを
0.5g入れた。この後、真空チャンバー内を2×10
-4Paまで減圧し、マグネシウムを入れた前記の加熱ボ
ートに通電してマグネシウムを約1.5〜2.0nm/
sの蒸着速度で蒸発させると共に、銀を入れた前記のバ
スケットを加熱して銀を約0.1nm/sの蒸着速度で
蒸発させて、マグネシウムと銀との混合物からなる膜厚
200nmの陰極(鏡面性電極)を電子注入層上に設け
た。このようにして、ガラス基板上に層構成が陽極(透
明性電極;ITO膜)/正孔輸送層/有機発光層/電子
注入層/陰極(鏡面性電極;Mg・Ag層)である有機
EL素子を作製した。この有機EL素子は青白色光を発
し、その初期輝度は電圧6.5V、電流密度3mA/c
2 で98cd/m2 に達した。
Next, the vacuum chamber was opened, and a stainless steel mask was placed on the electron injection layer. Also, add 3g of magnesium to molybdenum resistance heating boat.
Then, 0.5 g of silver wire was put into a tungsten evaporation basket. Thereafter, the inside of the vacuum chamber is 2 × 10
-4 Pa, and electricity was supplied to the heating boat containing magnesium so that magnesium was reduced to about 1.5 to 2.0 nm /
In addition to evaporating silver at a deposition rate of about 0.1 nm / s and evaporating silver at a deposition rate of about 0.1 nm / s, a 200 nm-thick cathode made of a mixture of magnesium and silver ( (Specular electrode) was provided on the electron injection layer. In this manner, the organic EL having a layer structure of anode (transparent electrode; ITO film) / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode (specular electrode; Mg / Ag layer) on the glass substrate An element was manufactured. This organic EL element emits blue-white light, and has an initial luminance of 6.5 V and a current density of 3 mA / c.
It reached 98cd / m 2 in m 2.

【0090】次に、上記のガラス基板の外側面に参考例
と同様にしてレンズシートIIを固着させ、この後、
施例22と同じ方法により、上記の有機EL素子を被覆
する保護層を形成した。保護層まで設けたことにより、
目的とする液晶表示装置用バックライトが得られた。図
18に示すように、この液晶表示装置用バックライト4
0は基板41と、この基板41の片面(内側面)上に形
成された有機EL素子42とを備えており、有機EL素
子42は基板41側から順に陽極(透明性電極;ITO
膜)/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層/陰極(鏡
面性電極;Mg・Ag層)を積層してなる。これらの部
材のうち、陽極(透明性電極)を符号43で、また陰極
(鏡面性電極)を符号44で示す。この有機EL素子4
2は保護層45によって被覆されている。また、基板4
1の外側面には光散乱部としてのレンティキュラーレン
ズシート46(レンズシートII)が設けられている。こ
の液晶表示装置用バックライト40は、透過型液晶表示
装置において液晶パネル47(図18中に仮想線で図
示)の背面に配置される。この液晶表示装置用バックラ
イトの初期輝度を参考例1と同一条件で測定したとこ
ろ、88cd/m2 であった。また、有機EL素子の非発
光時には当該素子を構成する鏡面性電極は実質的に視認
されなかった。
Next, a reference example was formed on the outer surface of the above glass substrate.
2 and by fixing the lens sheet II in the same manner, after this, the actual
In the same manner as in Example 22 , a protective layer covering the above-mentioned organic EL element was formed. By providing up to the protective layer,
The intended backlight for the liquid crystal display device was obtained. As shown in FIG. 18, this liquid crystal display backlight 4
0 includes a substrate 41 and an organic EL element 42 formed on one surface (inner side) of the substrate 41. The organic EL element 42 is an anode (transparent electrode; ITO) in order from the substrate 41 side.
Film) / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode (specular electrode; Mg / Ag layer). Among these members, the anode (transparent electrode) is denoted by reference numeral 43, and the cathode (specular electrode) is denoted by reference numeral 44. This organic EL element 4
2 is covered with a protective layer 45. Also, the substrate 4
A lenticular lens sheet 46 (lens sheet II) as a light scattering portion is provided on the outer surface of 1. The backlight 40 for a liquid crystal display device is arranged on the rear surface of a liquid crystal panel 47 (shown by phantom lines in FIG. 18) in a transmission type liquid crystal display device. The initial luminance of the backlight for a liquid crystal display device measured under the same conditions as in Reference Example 1 was 88 cd / m 2 . Further, when the organic EL element did not emit light, the mirror-like electrode constituting the element was not substantially visually recognized.

【0091】[0091]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の有機EL
装置では有機EL素子を構成する鏡面性電極が当該素子
の非発光時に鏡面としては視認されない。したがって、
非発光時に前記の鏡面性電極が鏡面として視認されるこ
とにより美観やデザイン性が低下することが実質的にな
い。このため、本発明の有機EL装置を用いることによ
り美観やデザイン性の高い有機EL装置を容易に提供す
ることが可能になる。
As described above, the organic EL of the present invention
In the device, the specular electrode constituting the organic EL element is not visually recognized as a mirror surface when the element does not emit light. Therefore,
When the light is not emitted, the mirror-like electrode is visually recognized as a mirror surface, so that the appearance and design are not substantially reduced. Therefore, by using the organic EL device of the present invention, it is possible to easily provide an organic EL device having high aesthetics and design.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】参考例1で使用したレンズシートを示す平面図
(a)および断面図(b)である。
FIGS. 1A and 1B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a lens sheet used in Reference Example 1. FIGS.

【図2】参考例1で作製した有機EL装置の概略を示す
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Reference Example 1 .

【図3】実施例1で作製した有機EL装置の概略を示す
断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating the organic EL device manufactured in Example 1 .

【図4】実施例2で作製した有機EL装置の概略を示す
断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Example 2 .

【図5】参考例2,実施例3で使用したプリズムレンズ
フィルムを示す平面図(a)および断面図(b)であ
る。
5A and 5B are a plan view and a sectional view showing a prism lens film used in Reference Example 2 and Example 3 , respectively.

【図6】参考例4,実施例4〜実施例5で使用したプリ
ズムレンズフィルムを示す平面図(a)および断面図
(b)である。
FIG. 6 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) showing a prism lens film used in Reference Example 4, Examples 4 and 5 .

【図7】参考例5,実施例6〜実施例7で使用したレン
ズシートを示す平面図(a)および断面図(b)であ
る。
FIGS. 7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a lens sheet used in Reference Example 5, Examples 6 and 7 , respectively.

【図8】参考例6で作製した有機EL装置の概略を示す
断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Reference Example 6 .

【図9】実施例9で作製した有機EL装置の概略を示す
断面図である。
FIG. 9 is a sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Example 9 .

【図10】実施例11で作製した有機EL装置の概略を
示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Example 11 .

【図11】実施例12で作製した有機EL装置の概略を
示す一部切欠き斜視図である。
FIG. 11 is a partially cutaway perspective view schematically showing an organic EL device manufactured in Example 12 .

【図12】実施例13で作製した有機EL装置の概略を
示す断面図である。
FIG. 12 is a sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Example 13 .

【図13】実施例14で作製した有機EL装置の概略を
示す断面図である。
FIG. 13 is a sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Example 14 .

【図14】実施例15で作製した有機EL装置の概略を
示す断面図である。
FIG. 14 is a sectional view schematically showing an organic EL device manufactured in Example 15 .

【図15】実施例19で使用したポリエチレンテレフタ
レートフィルムシートの片面に描画した格子模様を示す
平面図である。
FIG. 15 is a plan view showing a lattice pattern drawn on one side of a polyethylene terephthalate film sheet used in Example 19 .

【図16】実施例20で使用したポリエチレンテレフタ
レートフィルムシートの片面に描画した模様を示す平面
図である。
FIG. 16 is a plan view showing a pattern drawn on one side of a polyethylene terephthalate film sheet used in Example 20 .

【図17】実施例22で作製した時計用バックライトの
概略を示す断面図である。
17 is a cross-sectional view schematically showing a timepiece backlight manufactured in Example 22. FIG.

【図18】実施例23で作製した液晶表示装置用バック
ライトの概略を示す断面図である。
18 is a cross-sectional view schematically illustrating a backlight for a liquid crystal display device manufactured in Example 23. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レンティキュラーレンズシート(レンズシートI) 2 プリズムレンズフィルム(レンズシートII) 4 プリズムレンズフィルム(レンズシートIII) 5 レンズシート(レンズシートIV) 10a〜10j 有機EL装置 11a〜11h 基板 12 有機EL素子 13 陽極(透明性電極) 14 陰極(鏡面性電極) 15a レンズシートI 20 レンティキュラーレンズ 21 シリカ粒子 22 ガラス粒子 23 班点状に付着しアルミニウム 24,26 オーバーコート層 25 班点状に付着し金 27a,27b エンボス加工ポリエチレンフィルム 28 格子模様 29 模様 30 時計用バックライト 31 基板 32 保護層 33 透明文字盤 34 文字 40 液晶表示装置用バックライト 41 基板 42 有機EL素子 43 陽極(透明性電極) 44 陰極(鏡面性電極) 45 保護層 46 プリズムレンズフィルム(レンズシートII) 47 液晶パネル Reference Signs List 1 lenticular lens sheet (lens sheet I) 2 prism lens film (lens sheet II) 4 prism lens film (lens sheet III) 5 lens sheet (lens sheet IV) 10a to 10j organic EL device 11a to 11h substrate 12 organic EL element 13 Anode (transparent electrode) 14 Cathode (mirror electrode) 15a Lens sheet I 20 Lenticular lens 21 Silica particles 22 Glass particles 23 Adhered in spots and aluminum 24, 26 Overcoat layer 25 Adhesed in spots and gold 27a, 27b Embossed polyethylene film 28 Lattice pattern 29 Pattern 30 Backlight for watch 31 Substrate 32 Protective layer 33 Transparent dial 34 Character 40 Backlight for liquid crystal display 41 Substrate 42 Organic EL element 43 Anode (transparent electrode) 44 Cathode (Specular electrode) 45 Protective layer 46 Prism lens film (Lens sheet II) 47 Liquid crystal panel

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、前記の光取り出し面側にレンズシートからなる光散乱部
を有し、前記のレンズシートが、 (i) 前記の基板の内側面に設けられているか、 (ii)凹凸面が前記の有機EL素子と対向するようにして
前記の基板の外側面に設けられているか、 (iii) 前記の基板が貼り合わせ構造を有するものであっ
て、該基板の貼り合わせ部に設けられているか、 または、 (iv)前記の基板を兼ねており、該レンズシートの凹凸面
側に前記の有機EL素子が形成されている、 ことを特徴とする有機EL装置。
1. A substrate comprising: a substrate; and one or more organic EL elements provided on the substrate, wherein the organic EL element is at least organically disposed on a transparent electrode formed on the substrate. In an organic EL device in which a specular electrode is laminated with a light-emitting layer interposed therebetween, and the organic EL element is used as a light-emitting source and the substrate side is a light-extracting surface, a lens sheet is formed on the light-extracting surface side. Light scattering part
Wherein the lens sheet is (i) provided on the inner surface of the substrate, or (ii) the uneven surface is opposed to the organic EL element.
Or is provided on an outer surface of the substrate, be one having a structure bonding is (iii) said substrate
Te, or it is provided in the bonding portion of the substrate, or, also serves as the substrate (iv), the uneven surface of the lens sheet
An organic EL device, wherein the organic EL element is formed on the side .
【請求項2】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の光取り出し面側に、片面または両面を艶消し処理
したガラス板もしくはポリマー板からなる光散乱部を有
し、前記のガラス板もしくはポリマー板が、 (i) 前記の基板の片面に設けられているか、 (ii)前記の基板が貼り合わせ構造を有するものであっ
て、該基板の貼り合わせ部に設けられているか、 または、 (iii)前記の基板を兼ねている、 ことを特徴とする有機EL装置。
2. A circuit board comprising : a substrate;
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
At least on the transparent electrode formed on the substrate.
Also has a structure in which mirror-like electrodes are laminated via an organic light-emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In an organic EL device having a light extraction surface on one side, one or both surfaces are matted on the light extraction surface.
Light scattering part made of a glass plate or polymer plate
The glass plate or the polymer plate is provided on (i) one side of the substrate, or (ii) the substrate has a bonding structure.
Te, or is provided in the bonding portion of the substrate, or an organic EL device which is characterized in that also serves as the substrate (iii).
【請求項3】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の基板が、透明基板の内部に該透明基板と屈折率が
異なる透明物質または不透明粒子を分散させたものから
なり、該基板が光散乱部としても機能することを特徴と
する有機EL装置。
3. A substrate and one of the substrates provided on the substrate.
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
At least on the transparent electrode formed on the substrate.
Also has a structure in which mirror-like electrodes are laminated via an organic light-emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In the organic EL device having the light extraction surface on the side, the substrate has a refractive index that is equal to that of the transparent substrate inside the transparent substrate.
From a dispersion of different transparent or opaque particles
Wherein the substrate also functions as a light scattering portion.
Organic EL device.
【請求項4】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の光取り出し面側に、一平面上に分散または凝集し
た状態で配置された透明物質もしくは不透明粒子からな
る光散乱部を有し、該光散乱部が、 (i) 前記の基板の片面に設けられているか、 または、 (ii)前記の基板が貼り合わせ構造を有するものであっ
て、該基板の貼り合わせ部に設けられている、 ことを特徴とする有機EL装置。
4. A substrate and one of the substrates provided on the substrate.
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
At least on the transparent electrode formed on the substrate.
Also has a structure in which mirror-like electrodes are laminated via an organic light-emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In the organic EL device having a light extraction surface on the side, the light extraction surface is dispersed or aggregated on one plane.
From transparent or opaque particles
And (ii) the light scattering portion is provided on one side of the substrate, or (ii) the substrate has a bonding structure.
An organic EL device provided at a bonding portion of the substrate .
【請求項5】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の光取り出し面側に、一平面上に班点状に付着した
金属からなる光散乱部 を有し、該光散乱部が、 (i) 前記の基板の片面に設けられているか、 または、 (ii)前記の基板が貼り合わせ構造を有するものであっ
て、該基板の貼り合わせ部に設けられている、 ことを特徴とする有機EL装置。
5. A substrate and one of the substrates provided on the substrate.
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
At least on the transparent electrode formed on the substrate.
Also has a structure in which mirror-like electrodes are laminated via an organic light-emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In an organic EL device having a light extraction surface on the side, the light extraction surface side adhered in a spot shape on one plane.
A light scattering portion made of a metal , wherein the light scattering portion is provided on (i) one surface of the substrate, or (ii) the substrate has a bonding structure.
An organic EL device provided at a bonding portion of the substrate .
【請求項6】 金属が金、白金、ニッケル、クロムおよ
びアルミニウムからなる群より選択された1種である、
請求項5に記載の装置。
6. The method according to claim 1, wherein the metal is gold, platinum, nickel, chromium or the like.
One selected from the group consisting of
An apparatus according to claim 5.
【請求項7】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の光取り出し面側に、非金属性繊維製の織物、編み
物もしくは不織布または前記の非金属性繊維の配列物か
らなる光散乱部を有し、該光散乱部が、 (i) 前記の基板の片面に設けられているか、 または、 (ii)前記の基板が貼り合わせ構造を有するものであっ
て、該基板の貼り合わせ部に設けられている、 ことを特徴とする有機EL装置。
7. A substrate and one of the substrates provided on the substrate.
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
At least on the transparent electrode formed on the substrate.
Also has a structure in which mirror-like electrodes are laminated via an organic light-emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In the organic EL device having a light extraction surface on the side, a woven or knitted non-metallic fiber is provided on the light extraction surface.
Material or non-woven fabric or an array of the above non-metallic fibers
A light scattering portion comprising: (i) provided on one side of the substrate, or (ii) the substrate having a bonded structure.
An organic EL device provided at a bonding portion of the substrate .
【請求項8】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の光取り出し面側に、一平面上に非金属性製の細線
によって描画された模様または一平面上に細い溝によっ
て描画された模様からなる光散乱部を有し、該光散乱部
が、 (i) 前記の基板の片面に設けられているか、 (ii)前記の基板が貼り合わせ構造を有するものであっ
て、該基板の貼り合わせ部に設けられているか、 または、 (iii) ポリマーフィルムの片面に設けられており、か
つ、このポリマーフィルムが前記の基板の片面または前
記の貼り合わせ部に設けられている、 ことを特徴とする有機EL装置。
8. A substrate and one of the substrates provided on the substrate.
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
At least on the transparent electrode formed on the substrate.
Also has a structure in which mirror-like electrodes are laminated via an organic light-emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In an organic EL device having a light extraction surface on one side, a non-metallic thin wire is formed on one plane on the light extraction surface side.
Pattern or a narrow groove on one plane
A light scattering portion comprising a pattern drawn by
But even those having either (i) is provided on one surface of said substrate, (ii) said substrate is bonded structure
Te, or it is provided in the bonding portion of the substrate, or is provided on one side of (iii) a polymer film, or
The polymer film is placed on one side or the front of the substrate.
An organic EL device provided at the bonding portion described above .
【請求項9】 基板と、この基板上に設けられた1つま
たは複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素子
が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくと
も有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の光取り出し面側に、半透明物質層または半透明フ
ィルムからなる光散乱部を有し、該光散乱部が、 (i) 前記の基板の片面に設けられているか、 または、 (ii)前記の基板が貼り合わせ構造を有するものであっ
て、該基板の貼り合わせ部に設けられている、 ことを特徴とする有機EL装置。
9. A substrate and one of the substrates provided on the substrate.
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
At least on the transparent electrode formed on the substrate.
Also has a structure in which mirror-like electrodes are laminated via an organic light-emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In an organic EL device having a light extraction surface on the side, a translucent material layer or a translucent
A light scattering portion made of a film, wherein the light scattering portion is (i) provided on one surface of the substrate, or (ii) the substrate has a bonding structure.
An organic EL device provided at a bonding portion of the substrate .
【請求項10】 基板と、この基板上に設けられた1つ
または複数の有機EL素子とを有し、前記の有機EL素
子が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なく
とも有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであ
り、この有機EL素子を発光源とするとともに前記基板
側を光取り出し面とする有機EL装置において、 前記の基板が半透明のポリマー基板からなり、該基板が
光散乱部としても機能することを特徴とする有機EL装
置。
10. A substrate and one of the substrates provided on the substrate
Or a plurality of organic EL elements, wherein the organic EL element
Is less than the transparent electrode formed on the substrate.
Both have mirrored electrodes laminated via an organic light emitting layer.
The organic EL device is used as a light emitting source and the substrate
In an organic EL device having a light extraction surface on the side, the substrate is made of a translucent polymer substrate, and the substrate is
Organic EL device characterized by functioning also as a light scattering part
Place.
【請求項11】 光散乱部が光取り出し面において生じ
る反射または全反射を緩和し、該光散乱部が本質的に光
を吸収しないものである、請求項1〜請求項10のいず
れか1項に記載の装置。
11. A light scattering portion is formed on a light extraction surface.
Light reflection or total reflection, and the light scattering portion
Any one of claims 1 to 10, which does not absorb
The apparatus according to claim 1.
【請求項12】 請求項1〜請求項11のいずれかに記
載の有機EL装置からなることを特徴とする液晶表示装
置用バックライト。
12. The method according to claim 1, wherein
Liquid crystal display device comprising an organic EL device mounted thereon
Back light for installation.
【請求項13】 請求項1〜請求項11のいずれかに記
載の有機EL装置からなることを特徴とする時計用バッ
クライト。
13. The method according to claim 1, wherein
A watch bag comprising the organic EL device described above.
Krite.
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