JP2000284705A - Optical display device and production of optical display device - Google Patents
Optical display device and production of optical display deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、発光輝度が高い光
学的表示装置、例えば有機エレクトロルミネッセンス素
子(以下、単に有機EL素子と称する場合がある。)に
関し、また、このような光学的表示装置が効率的に得ら
れる光学的表示装置の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical display device having a high light emission luminance, for example, an organic electroluminescence device (hereinafter sometimes simply referred to as an organic EL device), and such an optical display device. The present invention relates to a method for manufacturing an optical display device which can efficiently obtain the optical display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子ディスプレイデバイスは、一般にm
an−machine−interfaceといわれる
ように、各種装置(machine)からの各種情報を
視覚を通して人間(man)に伝達する電子デバイスで
あって、人間と装置とを結ぶ重要な橋渡し的役割(in
terface)を担っている。この電子ディバイスに
は、発光系と受光系とがあり、発光系としては、例えば
CRT(陰極線管),PDP(プラズマディスプレ
イ),ELD(エレクトロルミネセッンスディスプレ
イ),VFD(蛍光表示管),LED(発光ダイオー
ド)などが挙げられる。一方、受光系としては、例えば
LCD(液晶ディスプレイ),ECD(エレクトロケミ
カルディスプレイ),EPID(電気泳動ディスプレ
イ),SPD(分散粒子配向形ディスプレイ),TBD
(着色粒子回転型ディスプレイ),PLZT(透明強誘
電性PLZT〔(Pb,La)(Zr,Ti)03〕セ
ラミックディスプレイ)などが挙げられる。BACKGROUND OF THE INVENTION Electronic display devices are generally
An electronic device that transmits various kinds of information from various devices (machines) to humans (man) through visual perception, as referred to as an-machine-interface, and has an important bridging role (in) between humans and devices.
terface). The electronic device includes a light emitting system and a light receiving system. Examples of the light emitting system include a CRT (cathode ray tube), PDP (plasma display), ELD (electroluminescence display), VFD (fluorescent display tube), and LED. (Light emitting diode) and the like. On the other hand, as a light receiving system, for example, LCD (liquid crystal display), ECD (electrochemical display), EPID (electrophoretic display), SPD (dispersed particle orientation type display), TBD
(Colored particle rotating display), PLZT (transparent ferroelectric PLZT [(Pb, La) (Zr, Ti) O 3 ] ceramic display) and the like.
【0003】ここで、上記発光形のディスプレイにおけ
るフルカラー化の方法としては、(1)多色(例えば
赤、青、緑の三原色)の発光部分を平面的に分離配置し
て、それぞれ発光させる方法、(2)LCDを含むが、
バックライトの白色光をカラーフィルターで多色に分解
させる方法、及び(3)ある一色(例えば青)の発光を
平面的に分離配置した蛍光変換膜に吸収させ、それぞれ
の蛍光変換膜から異なる蛍光(例えば赤、緑)を発光さ
せる方法が知られている。Here, as a method of full color in the light emitting type display, there is a method of (1) arranging light emitting portions of multicolors (for example, three primary colors of red, blue and green) in a plane and emitting light respectively. , (2) including LCD,
A method of separating white light of a backlight into multiple colors by a color filter; and (3) a method of absorbing light of a certain color (for example, blue) into fluorescence conversion films arranged and separated in a plane, and different fluorescence from each fluorescence conversion film. (For example, red, green) is known.
【0004】しかしながら、上記(1)の方法において
は、赤、青、緑の発光体(素子)をそれぞれ作成する必
要があり、各発光体の材料の選択や発光体を平面的に微
細に分離配置するプロセスにおいて、困難を伴う場合が
あるし、また、(2)の方法においては、白光色を多色
に分解するために、各色の明るさが低減する(三原色の
場合は3分の1)のを免れないという問題がある。However, in the above method (1), it is necessary to produce red, blue, and green luminous elements (elements), and it is necessary to select a material for each luminous element and finely separate the luminous elements in a plane. In some cases, the arrangement process may be difficult. In the method (2), the brightness of each color is reduced in order to separate white light into multiple colors (one third in the case of three primary colors). ) Is inevitable.
【0005】これに対し、上記(3)の蛍光変換膜を用
いる方法においては、ある一色の発光体があれば、平面
的に微細に分離配置した蛍光変換膜を発光を吸収できる
位置とは別に配置すればよいので、プロセスが容易であ
ることが類推されるし、原理的に蛍光変換によって各色
の明るさが低減しないという問題がある。On the other hand, in the method using the fluorescence conversion film of the above (3), if there is a luminescent material of a certain color, the fluorescence conversion film finely separated and arranged in a plane is separated from the position where light emission can be absorbed. Since it is sufficient to dispose them, it is presumed that the process is easy, and there is a problem that the brightness of each color is not reduced by fluorescence conversion in principle.
【0006】そこで、蛍光変換膜を用いて、一色の発光
体から多色の発光を蛍光変換する方法については、一色
はエネルギー的に高い発光であることが望ましく、可視
光の場合、青色であればよりエネルギーの低い緑色や赤
色への変換が可能となり、三原色の多光発光が可能とな
る。また、紫外光の場合も同様に三原色の多光発光が可
能となる。特に有機エレクトロルミネッセンス(以下、
「エレクトロルミネッセンス」をELと略記する。)発光
素子の場合には、高効率で高輝度の青色発色が実現され
ており、また、有機物で構成されるため、あらゆる色の
発光が有機物の設計により達成される期待が大きい。[0006] Therefore, regarding a method of performing fluorescence conversion of multicolor light emission from a light emitter of one color using a fluorescence conversion film, it is desirable that one color emits light with high energy, and in the case of visible light, blue light is used. For example, conversion into green or red with lower energy becomes possible, and multi-light emission of three primary colors becomes possible. Similarly, in the case of ultraviolet light, multi-light emission of three primary colors is possible. In particular, organic electroluminescence (hereinafter, referred to as
“Electroluminescence” is abbreviated as EL. In the case of a light-emitting element, blue light emission with high efficiency and high luminance is realized, and since the light-emitting element is composed of an organic material, it is highly expected that light emission of all colors will be achieved by designing the organic material.
【0007】一方、カラーディスプレイにおいて輝度は
重要な因子である。蛍光変換膜を用いた有機EL発光素
子からなるカラーディスプレイにおいても同様であり、
この場合、蛍光変換膜からの発光輝度に合わせて全体の
発光輝度が調整されることになる。つまり、蛍光変換膜
からの発光輝度を高くすることで、全体の発光輝度を高
くすることができる。蛍光変換膜からの蛍光輝度を高く
する方法としては、光源である有機EL発光素子の発光
輝度を上げる方法と蛍光変換膜の変換効率をあげる方法
がそれぞれ提案されている。On the other hand, luminance is an important factor in a color display. The same applies to a color display comprising an organic EL light emitting element using a fluorescence conversion film,
In this case, the overall light emission luminance is adjusted according to the light emission luminance from the fluorescence conversion film. That is, by increasing the emission luminance from the fluorescence conversion film, the overall emission luminance can be increased. As a method for increasing the fluorescent luminance from the fluorescent conversion film, a method for increasing the emission luminance of the organic EL light emitting element as a light source and a method for increasing the conversion efficiency of the fluorescent conversion film have been proposed.
【0008】例えば、EL発光素子の発光輝度を高める
ために、特開平7−37688号公報には、図6に示す
ような基板125上にEL構造体130が形成されたE
L素子120が開示されている。このEL素子120に
おける基板125の発光面側には、分光フィルタ12
1,122がそれぞれ形成してあり、基板125のEL
構造体130側には、厚み方向に円柱状に形成され、周
囲よりも屈折率が大きい材料からなる高屈折率部133
が設けてある。For example, in order to increase the light emission luminance of an EL light emitting element, Japanese Patent Laid-Open No. 7-37688 discloses an EL structure in which an EL structure 130 is formed on a substrate 125 as shown in FIG.
An L element 120 is disclosed. On the light emitting surface side of the substrate 125 in the EL element 120, the spectral filter 12
EL elements of the substrate 125
On the structure 130 side, a high-refractive-index portion 133 formed of a material having a cylindrical shape in the thickness direction and having a higher refractive index than the surroundings.
Is provided.
【0009】また、特開平10−189237号公報に
は、EL素子(面状発光体)144の発光輝度を高めた
り、発光均一化する目的のために、図7に示すように、
EL素子の発光面に輝度分布制御材139を設けたEL
素子(面状発光体)144が開示されている。Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-189237 discloses, as shown in FIG. 7, for the purpose of increasing the light emission luminance of the EL element (plane light emitter) 144 and making the light emission uniform.
EL having a luminance distribution control material 139 provided on the light emitting surface of the EL element
An element (plane light emitter) 144 is disclosed.
【0010】さらに、特開平4−192290号公報に
は、EL素子(面状発光体)155の発光輝度を高める
ために、図8に示すような、EL素子155の発光面に
集光用のマイクロレンズ150を備えた薄膜EL装置1
54が開示されている。また、一方、蛍光変換膜の変換
効率を上げる方法として特開平11−8070号公報に
は、図9に示すような、EL素子168の前面に、光拡
散層162を配設してなる表示装置が開示されている。
この光拡散層162は、透明性を有する樹脂バインダー
中に、光散乱性の微粒子を分散させて構成してある。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-192290 discloses that the light-emitting surface of the EL element 155 as shown in FIG. Thin-film EL device 1 including microlens 150
54 are disclosed. On the other hand, as a method for increasing the conversion efficiency of the fluorescence conversion film, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-8070 discloses a display device in which a light diffusion layer 162 is disposed on the front surface of an EL element 168 as shown in FIG. Is disclosed.
The light diffusion layer 162 is formed by dispersing light scattering fine particles in a transparent resin binder.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
11−8070号公報に開示された有機EL素子では、
蛍光物質で放射される光のうち、EL素子の発光面側に
戻ってくる光を十分に利用することができずに、得られ
る発光輝度が不十分であるという問題が見られた。ま
た、いずれの有機EL素子等も特殊な構造を有する基板
や輝度分布制御材等を使用する必要があり、構造が複雑
化したり、あるいは製造が困難であるという問題が見ら
れた。However, in the organic EL device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-8070,
Of the light emitted by the fluorescent substance, the light returning to the light emitting surface side of the EL element could not be sufficiently utilized, and thus a problem that the obtained light emission luminance was insufficient was observed. In addition, it is necessary to use a substrate having a special structure, a luminance distribution control material, or the like for any of the organic EL elements and the like, and there has been a problem that the structure is complicated or manufacturing is difficult.
【0012】そこで、本発明の発明者らは上記問題を鋭
意検討したところ、色変換層の屈折率と透光性層の屈折
率との大小関係を規定するとともに、色変換層と透光性
層との界面構造等を工夫することにより、蛍光物質で放
射される光を十分に利用することができ、容易に発光輝
度を向上させることができることを見出した。すなわ
ち、本発明は、簡易な構造により、高い発光輝度が得ら
れる光学的表示装置およびこのような光学的表示装置が
効率的に得られる光学的表示装置の製造方法を提供する
ことを目的とする。Therefore, the inventors of the present invention diligently studied the above-mentioned problems, and determined the magnitude relationship between the refractive index of the color conversion layer and the refractive index of the light-transmitting layer. By devising the interface structure with the layer and the like, it has been found that light emitted by the fluorescent substance can be sufficiently used, and the emission luminance can be easily improved. That is, an object of the present invention is to provide an optical display device capable of obtaining high light emission luminance with a simple structure and a method of manufacturing an optical display device capable of efficiently obtaining such an optical display device. .
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明の一つの態様は、
面状発光体の発光面側に、透光性層と、色変換層とが順
次に積層された光学的表示装置において、色変換層の屈
折率を透光性層の屈折率よりも大きくし、かつ、色変換
層と透光性層との界面を凹凸形状としてあることを特徴
とする光学的表示装置である。このように構成すると、
簡易な光学的表示装置の構造により、蛍光物質で放射さ
れる光を十分に利用することができ、高い発光輝度を得
ることができる。SUMMARY OF THE INVENTION One aspect of the present invention provides
In an optical display device in which a light-transmitting layer and a color conversion layer are sequentially laminated on the light-emitting surface side of the planar light-emitting body, the refractive index of the color conversion layer is made larger than the refractive index of the light-transmitting layer. An optical display device characterized in that the interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer has an uneven shape. With this configuration,
With a simple structure of the optical display device, light emitted from the fluorescent substance can be sufficiently used, and high light emission luminance can be obtained.
【0014】また、本発明の光学的表示装置を構成する
にあたり、凹凸形状における隣接する凸部の頂点間の平
均距離を0.5〜10μmの範囲内の値とすることが好
ましい。Further, in constituting the optical display device of the present invention, it is preferable that the average distance between vertices of adjacent convex portions in the uneven shape is a value within a range of 0.5 to 10 μm.
【0015】また、本発明の光学的表示装置を構成する
にあたり、凹凸形状における凸部の頂点と凹部の底点と
の平均距離を0.5〜10μmの範囲内の値とすること
が好ましい。Further, in constituting the optical display device of the present invention, it is preferable that the average distance between the top of the convex portion and the bottom of the concave portion in the concave / convex shape is a value within a range of 0.5 to 10 μm.
【0016】また、本発明の光学的表示装置を構成する
にあたり、色変換層が、当該色変換層に入射された光よ
りも長波長の光を発する蛍光変換層であることが好まし
い。Further, in constituting the optical display device of the present invention, it is preferable that the color conversion layer is a fluorescence conversion layer that emits light having a longer wavelength than the light incident on the color conversion layer.
【0017】また、本発明の光学的表示装置を構成する
にあたり、面状発光体が有機エレクトロルミネッセンス
素子であることが好ましい。Further, in constituting the optical display device of the present invention, it is preferable that the planar illuminant is an organic electroluminescence element.
【0018】また、本発明の別の態様は、面状発光体の
発光面側に、透光性層と、中間層と、色変換層とが順次
に積層されており、色変換層の屈折率を中間層の屈折率
よりも大きくし、かつ、中間層と透光性層との界面を凹
凸形状としてあることを特徴とする光学的表示装置であ
る。このように構成すると、色変換層の表面を平滑とし
たまま、蛍光物質で放射される光を十分に利用すること
ができ、優れた発光輝度を得ることができる。In another aspect of the present invention, a light-transmitting layer, an intermediate layer, and a color conversion layer are sequentially laminated on the light-emitting surface side of the planar light-emitting body. An optical display device characterized in that the refractive index is larger than the refractive index of the intermediate layer, and the interface between the intermediate layer and the light-transmitting layer has an uneven shape. With this configuration, it is possible to sufficiently utilize light emitted from the fluorescent substance while keeping the surface of the color conversion layer smooth, and to obtain excellent emission luminance.
【0019】また、本発明の別の態様は、面状発光体の
発光面側に、透光性層と、色変換層とが順次に積層され
ており、かつ、色変換層の屈折率が透光性層の屈折率よ
りも大きい光学的表示装置の製造方法であって、色変換
層と透光性層との界面を凹凸形状とする工程を含むこと
を特徴とする光学的表示装置の製造方法である。このよ
うに実施すると、簡易な構造であって、優れた発光輝度
を得ることができる光学的表示装置を効率的に得ること
ができる。In another aspect of the present invention, a light-transmitting layer and a color conversion layer are sequentially laminated on the light-emitting surface side of the planar light-emitting body, and the refractive index of the color conversion layer is reduced. What is claimed is: 1. A method for manufacturing an optical display device having a refractive index larger than that of a light-transmitting layer, comprising the step of forming an interface between a color conversion layer and a light-transmitting layer into an uneven shape. It is a manufacturing method. When implemented in this manner, an optical display device having a simple structure and capable of obtaining excellent light emission luminance can be efficiently obtained.
【0020】また、本発明の光学的表示装置の製造方法
を実施するにあたり、色変換層と透光性層との界面を凹
凸形状とする工程において、色変換層の表面に化学的処
理および物理的処理(機械的処理)あるいはいずれか一
方の処理を施すことが好ましい。このように実施する
と、色変換層と透光性層との界面を容易に凹凸形状とす
ることができる。また、このように実施すると、透光性
層を形成する前に、凹凸形状を検査することができる。In carrying out the method of manufacturing an optical display device according to the present invention, the surface of the color conversion layer is subjected to chemical treatment and physical treatment in the step of forming the interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer into an uneven shape. It is preferable to carry out a mechanical treatment (mechanical treatment) or any one of the treatments. With such an implementation, the interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer can be easily made uneven. In addition, when implemented in this manner, the uneven shape can be inspected before forming the light-transmitting layer.
【0021】また、本発明の光学的表示装置の製造方法
を実施するにあたり、色変換層と透光性層との界面を凹
凸形状とする工程において、表面に凹凸形状を有する離
型性フィルムを介した状態で、色変換層を光硬化あるい
は熱硬化することが好ましい。このように実施すると、
色変換層を形成すると同時に界面に凹凸形状とすること
ができる。また、このように実施すると、透光性層を形
成する前に、凹凸形状を検査することができる。In carrying out the method of manufacturing an optical display device according to the present invention, in the step of forming the interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer into an uneven shape, the release film having the uneven shape on the surface is formed. It is preferable that the color conversion layer is light-cured or heat-cured in a state where the heat treatment is performed. When implemented in this way,
At the same time that the color conversion layer is formed, the interface can be made uneven. In addition, when implemented in this manner, the uneven shape can be inspected before forming the light-transmitting layer.
【0022】また、本発明の光学的表示装置の製造方法
を実施するにあたり、色変換層と透光性層との界面を凹
凸形状とする工程において、表面に凹凸形状を有する透
光性層を積層した状態で、色変換層を光硬化あるいは熱
硬化することが好ましい。このように実施すると、色変
換層を形成すると同時に、透光性層との界面に凹凸形状
を設けることができる。また、このように実施すると、
透光性層に凹凸形状を先に設けることになるが、この段
階で凹凸形状を検査することができる。In carrying out the method of manufacturing an optical display device according to the present invention, in the step of forming the interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer into an uneven shape, the light-transmitting layer having the uneven shape on the surface is formed. It is preferable that the color conversion layer is light-cured or heat-cured in the laminated state. According to this embodiment, it is possible to form the color conversion layer and, at the same time, form an uneven shape at the interface with the light-transmitting layer. Also, when implemented in this way,
The uneven shape is first provided on the light-transmitting layer. At this stage, the uneven shape can be inspected.
【0023】また、本発明の別の態様は、面状発光体の
発光面側に、透光性層と、中間層と、色変換層とが順次
に積層されており、かつ、色変換層の屈折率が透光性層
の屈折率よりも大きい光学的表示装置の製造方法であっ
て、中間層と透光性層との界面を凹凸形状とする工程を
含むことを特徴としている。このように実施すると、色
変換層を平滑としたまま、より優れた発光輝度を得るこ
とができる光学的表示装置を効率的に得ることができ
る。In another aspect of the present invention, a light-transmitting layer, an intermediate layer, and a color conversion layer are sequentially laminated on the light-emitting surface side of the planar light-emitting body. Is a method for manufacturing an optical display device having a refractive index higher than that of a light-transmitting layer, characterized by including a step of forming an interface between the intermediate layer and the light-transmitting layer into an uneven shape. According to this embodiment, it is possible to efficiently obtain an optical display device capable of obtaining more excellent light emission luminance while keeping the color conversion layer smooth.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について具体的に説明する。なお、参照する
図面は、この発明が理解できる程度に各構成成分の大き
さ、形状および配置関係を概略的に示してあるに過ぎな
い。したがって、この発明は図示例にのみ限定されるも
のではない。また、図面では、断面を表すハッチングを
省略する場合がある。Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. The drawings referred to merely schematically show the size, shape, and arrangement of each component so that the present invention can be understood. Therefore, the present invention is not limited only to the illustrated example. In the drawings, hatching representing a cross section may be omitted.
【0025】[第1の実施形態]第1の実施形態は、図
1に示すように、有機EL素子(面状発光体)10の発
光面側に、透光性層12と、色変換層14とが順次に積
層された有機EL表示装置18の断面を模式的に表した
図である。色変換層14の屈折率(n1と称する場合が
ある。)を、透光性層12の屈折率(n2と称する場合
がある。)よりも大きくし、かつ、色変換層14と透光
性層12との界面を凹凸形状としてあるため、全反射の
臨界角の式を満足する領域A、Bを形成している。ま
た、図1中に、記号L1〜L4で示される矢印は、蛍光
物質(蛍光色素)16から全方位に出射された蛍光の光
路を表しており、および記号L5〜L6で示される矢印
は、蛍光物質16から出射された蛍光のうち、色変換層
14と透光性層12との界面での反射光の光路をそれぞ
れ表している。以下、図1を参照するとともに、図2と
対比させながら、第1の実施形態である有機EL表示装
置18の構成および作用を具体的に説明する。[First Embodiment] In a first embodiment, as shown in FIG. 1, a light-transmitting layer 12 and a color conversion layer are provided on the light-emitting surface side of an organic EL element (plane light emitter) 10. 14 is a diagram schematically illustrating a cross section of an organic EL display device 18 in which the organic EL display devices 14 and 14 are sequentially stacked. The refractive index (sometimes referred to as n1) of the color conversion layer 14 is made larger than the refractive index (sometimes referred to as n2) of the light-transmitting layer 12, and the light-transmitting property of the color conversion layer 14 is increased. Since the interface with the layer 12 has an irregular shape, regions A and B satisfying the expression of the critical angle of total reflection are formed. In FIG. 1, arrows indicated by symbols L1 to L4 represent optical paths of fluorescence emitted from the fluorescent substance (fluorescent dye) 16 in all directions, and arrows indicated by symbols L5 to L6 are: The light paths of the reflected light at the interface between the color conversion layer 14 and the translucent layer 12 among the fluorescent light emitted from the fluorescent substance 16 are shown. Hereinafter, the configuration and operation of the organic EL display device 18 according to the first embodiment will be specifically described with reference to FIG. 1 and in comparison with FIG.
【0026】(1)作用 まず、第1の実施形態である有機EL表示装置18にお
いて、有機EL素子10の電極間に所定の電圧を印加す
ることにより、有機EL素子10を発光させることがで
きる。すると、有機EL素子10の発光により出射され
たEL光は、有機EL素子10の発光面11から、透光
性層12に入射される。このとき、透光性層12の光透
過率を大きくしてあるために、EL光はほとんど光吸収
されることなく通過することができる。この後、EL光
は、界面13を介して、色変換層14に入射される。(1) Operation First, in the organic EL display device 18 according to the first embodiment, the organic EL element 10 can emit light by applying a predetermined voltage between the electrodes of the organic EL element 10. . Then, the EL light emitted by the light emission of the organic EL element 10 enters the light transmitting layer 12 from the light emitting surface 11 of the organic EL element 10. At this time, since the light transmittance of the translucent layer 12 is increased, the EL light can pass through with little light absorption. After that, the EL light enters the color conversion layer 14 via the interface 13.
【0027】次いで、色変換層14に入射されたEL光
は、色変換層14に均一に分散されている蛍光物質16
に吸収される。したがって、蛍光物質16はEL光によ
り効率的に励起されて、蛍光物質16から、全方位に向
かって蛍光を発することになる。この状態の光路を、図
面上、L1〜L4でそれぞれ表している。ここで、蛍光
物質16から全方位に向かって発せられた蛍光L1〜L
4のうち、色変換層14の出射面15に向かった蛍光L
1〜L2は、光路L7で示されるように外部に取り出さ
れることになる。一方、蛍光物質16から全方位に向か
って発せられた蛍光L1〜L4のうち、色変換層14の
出射面15と反対側に向かった蛍光L3〜L4は、全反
射の臨界角の式を満足する領域、例えば、A点やB点に
おいて効率的に反射されて、進行方向が変わり、色変換
層14の出射面15に対して概ね垂直方向に向かうこと
になる。したがって、この反射光の出射面15に対する
入射角(Θ)が、色変換層14の屈折率と、空気の屈折
率との関係で全反射の臨界角以内であれば、光路L6で
示されるように外部(空気中)に取り出され、本来的に
外部に取り出された光路L7で示される光と合わさって
視認されることになる。Next, the EL light incident on the color conversion layer 14 is applied to the fluorescent substance 16 uniformly dispersed in the color conversion layer 14.
Is absorbed by Therefore, the fluorescent substance 16 is efficiently excited by the EL light, and emits fluorescent light from the fluorescent substance 16 in all directions. The optical paths in this state are represented by L1 to L4 in the drawing. Here, the fluorescences L1 to L emitted from the fluorescent substance 16 in all directions are shown.
4, the fluorescent light L directed to the emission surface 15 of the color conversion layer 14.
1 to L2 are taken out as indicated by the optical path L7. On the other hand, among the fluorescent light L1 to L4 emitted from the fluorescent substance 16 in all directions, the fluorescent light L3 to L4 directed to the side opposite to the emission surface 15 of the color conversion layer 14 satisfies the critical angle expression of total reflection. In this case, the light is efficiently reflected at an area, for example, the point A or the point B, the traveling direction is changed, and the light travels in a direction substantially perpendicular to the emission surface 15 of the color conversion layer 14. Therefore, if the angle of incidence (Θ) of the reflected light with respect to the emission surface 15 is within the critical angle of total reflection in relation to the refractive index of the color conversion layer 14 and the refractive index of air, as indicated by the optical path L6. Then, the light is extracted outside (in the air), and is visually recognized in combination with the light indicated by the optical path L7 originally extracted outside.
【0028】それに対して、従来の有機EL表示装置1
18は、図2にその断面を模式的に示すように、色変換
層114と有機EL素子(面状発光体)110との界面
111が平滑である。なお、図2においても、図1と同
様に、蛍光物質116から出射された蛍光等の光路を記
号L´1〜L´7でそれぞれ示してある。したがって、
従来の有機EL表示装置118において、蛍光物質11
6から全方位に向かって発せられた蛍光L´1〜L´4
のうち、色変換層114の出射面115と反対側に向か
った蛍光L´3〜L´4は、全反射の臨界角の式を満足
する領域が少ないため、有機EL素子10内にそのまま
進入する割合が多くなる。この有機EL素子10内に戻
ってくる光路を図面上、矢印L´6で示している。On the other hand, the conventional organic EL display device 1
In 18, the interface 111 between the color conversion layer 114 and the organic EL element (plane light emitter) 110 is smooth, as schematically shown in FIG. In FIG. 2, similarly to FIG. 1, the optical paths of the fluorescent light and the like emitted from the fluorescent substance 116 are indicated by symbols L′ 1 to L′ 7, respectively. Therefore,
In the conventional organic EL display device 118, the fluorescent substance 11
Fluorescence L′ 1 to L′ 4 emitted in all directions from No. 6
Of these, the fluorescent light L′ 3 to L′ 4 directed to the side opposite to the emission surface 115 of the color conversion layer 114 enters the organic EL element 10 as it is because there are few regions that satisfy the expression for the critical angle of total reflection. Increase the ratio. The optical path returning into the organic EL element 10 is indicated by an arrow L'6 in the drawing.
【0029】また、蛍光L´1〜L´4のうち一部はA
´点で反射されて、色変換層114の出射面115に向
かうが、色変換層114の出射面115に対して比較的
小さな角度(Θ´)で入射される。したがって、色変換
層114の屈折率と、空気の屈折率との関係で全反射の
臨界角以上の角度となりやすく、図示するように、B点
で反射されて、外部(空気中)に有効に取り出すことが
できない。よって、従来の有機EL表示装置118にお
いては、外部に取り出せるのは記号L7で示される光の
みであり、第1の実施形態である有機EL表示装置18
と比較して、外部で視認される光量が少なくなる。A part of the fluorescence L'1 to L'4 is A
The light is reflected at the point '′ and goes to the emission surface 115 of the color conversion layer 114, but enters the emission surface 115 of the color conversion layer 114 at a relatively small angle (Θ ′). Therefore, the angle between the refractive index of the color conversion layer 114 and the refractive index of air tends to be equal to or larger than the critical angle of total reflection, and as shown in the drawing, the light is reflected at the point B and effectively applied to the outside (in the air). I can't take it out. Therefore, in the conventional organic EL display device 118, only the light indicated by the symbol L7 can be extracted to the outside, and the organic EL display device 18 of the first embodiment can be extracted.
, The amount of light visually recognized outside is reduced.
【0030】(2)色変換層 第1の実施形態である有機EL表示装置18において、
色変換層14の構成材料は特に制限されるものではない
が、例えば、蛍光色素および樹脂、または蛍光色素のみ
からなり、蛍光色素および樹脂は、蛍光色素を顔料樹脂
および/またはバインダー樹脂中に溶解または分散させ
た固形状態のものを挙げることができる。(2) Color Conversion Layer In the organic EL display device 18 according to the first embodiment,
The constituent material of the color conversion layer 14 is not particularly limited. For example, the color conversion layer 14 is made of a fluorescent dye and a resin, or only a fluorescent dye, and the fluorescent dye and the resin dissolve the fluorescent dye in the pigment resin and / or the binder resin. Alternatively, a dispersed solid state can be used.
【0031】具体的な蛍光色素について説明すると、有
機EL素子における近紫外光から紫色の発光を青色発光
に変換する蛍光色素としては、1,4−ビス(2−メチ
ルスチリル)ベンゼン(以下Bis−MBS)、トラン
ス−4,4´−ジフェニルスチルベン(以下DPS)等
のスチルベン系色素、7−ヒドロキシ−4−メチルクマ
リン(以下クマリン4)等のクマリン系色素を挙げるこ
とができる。To explain a specific fluorescent dye, as a fluorescent dye for converting luminescence from near-ultraviolet light to blue light emission in an organic EL device, 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene (hereinafter referred to as Bis- MBS), stilbene dyes such as trans-4,4'-diphenylstilbene (hereinafter DPS), and coumarin dyes such as 7-hydroxy-4-methylcoumarin (hereinafter coumarin 4).
【0032】次に、有機EL素子における青色、青緑色
または白色の発光を緑色発光に変換する場合の蛍光色素
については、例えば、2,3,5,6−1H,4H−テ
トラヒドロ−8−トリフロルメチルキノリジノ(9,9
a,1−gh)クマリン(以下クマリン153)、3−
(2´−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマ
リン(以下クマリン6)、3−(2´−ベンズイミダゾ
リル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン(以下ク
マリン7)等のクマリン色素、その他クマリン色素系染
料であるベーシックイエロー51、また、ソルベントイ
エロー11、ソルベントイエロー116等のナフタルイ
ミド色素を挙げることができる。Next, as a fluorescent dye for converting blue, blue-green or white light emission into green light emission in an organic EL element, for example, 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-tri Flormethylquinolizino (9,9
a, 1-gh) coumarin (hereinafter coumarin 153), 3-
Coumarin dyes such as (2'-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (hereinafter coumarin 6), 3- (2'-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (hereinafter coumarin 7), and other coumarin dye-based dyes And naphthalimide dyes such as Basic Yellow 51, Solvent Yellow 11, and Solvent Yellow 116.
【0033】また、有機EL素子における青色から緑色
までの、または白色の発光を、橙色から赤色までの発光
に変換する場合の蛍光色素については、例えば、4−ジ
シアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミ
ノスチルリル)−4H−ピラン(以下DCM)等のシア
ニン系色素、1−エチル−2−(4−(p−ジメチルア
ミノフェニル)−1,3−ブタジエニル)−ピリジニウ
ム−パークロレート(以下ピリジン1)等のピリジン系
色素、ローダミンB、ローダミン6G等のローダミン系
色素、その他にオキサジン系色素等が挙げられる。The fluorescent dye for converting the emission of blue to green or white light from the organic EL device to emission of orange to red light is, for example, 4-dicyanomethylene-2-methyl-6 Cyanine dyes such as (p-dimethylaminostillyl) -4H-pyran (hereinafter DCM), 1-ethyl-2- (4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl) -pyridinium-perchlorate (Hereinafter referred to as pyridine 1), rhodamine dyes such as rhodamine B and rhodamine 6G, and oxazine dyes.
【0034】さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、
塩基性染料、分散染料等)も蛍光性があれば蛍光色素と
して選択することが可能である。また、蛍光色素をポリ
メタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢
酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホンア
ミド樹脂、ユリア樹脂、メラニン樹脂、ベンゾグアナミ
ン樹脂等の顔料樹脂中にあらかじめ練り込んで顔料化し
たものでもよい。また、これらの蛍光色素または顔料
は、必要に応じて、単独または混合して用いてもよい。Further, various dyes (direct dyes, acid dyes,
Basic dyes, disperse dyes, etc.) can also be selected as fluorescent dyes if they have fluorescence. Also, the fluorescent dye is kneaded in advance in a pigment resin such as polymethacrylic acid ester, polyvinyl chloride, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melanin resin, benzoguanamine resin and the like. May be used. In addition, these fluorescent dyes or pigments may be used alone or in combination as needed.
【0035】一方、バインダー樹脂は、透明な(可視光
における光透過率が50%以上)材料が好ましい。例え
ば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポ
リカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース等の透明樹脂(高分子)が挙げられる。On the other hand, the binder resin is preferably a transparent material (having a light transmittance of 50% or more in visible light). For example, transparent resins (polymers) such as polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, and carboxymethyl cellulose are exemplified.
【0036】なお、色変換層を平面的に分離配置するた
めに、フォトリソグラフィー法が適用できる感光性樹脂
も選ばれる。例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、
ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を
有する光硬化型レジスト材料が挙げられる。また、印刷
法を用いる場合には、透明な樹脂を用いた印刷インキ
(メジウム)が選ばれる。例えば、ポリ塩化ビニル樹
脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マ
レイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリゴマ
ー、ポリマーまた、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を用いる
ことができる。It is to be noted that a photosensitive resin to which a photolithography method can be applied in order to separate and arrange the color conversion layers in a plane is also selected. For example, acrylic acid type, methacrylic acid type,
Photo-curable resist materials having a reactive vinyl group, such as polyvinyl cinnamate and ring rubber, can be used. When a printing method is used, a printing ink (medium) using a transparent resin is selected. For example, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic resin, polyamide resin monomer, oligomer, polymer, polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol And a transparent resin such as polyvinylpyrrolidone, hydroxyethylcellulose and carboxymethylcellulose.
【0037】色変換層が主に蛍光色素からなる場合は、
所望の色変換層パターンのマスクを介して真空蒸着また
はスパッタリング法で成膜され、一方、蛍光色素と樹脂
からなる場合は、蛍光色素と樹脂と適当な溶剤とを混
合、分散または可溶化させて液状とし、スピンコート、
ロールコート、キャスト法等の方法で成膜し、フォトリ
ソグラエイー法で所望の色変換層パターンでパターニン
グしたり、スクリーン印刷等の方法で所望の色変換層パ
ターンでパターニングするのが一般的である。When the color conversion layer is mainly composed of a fluorescent dye,
A film is formed by a vacuum evaporation or sputtering method through a mask of a desired color conversion layer pattern.On the other hand, when a fluorescent dye and a resin are used, the fluorescent dye, the resin and an appropriate solvent are mixed, dispersed or solubilized. Liquid, spin coat,
It is common to form a film by a method such as roll coating or casting, and pattern it with a desired color conversion layer pattern by a photolithography method, or pattern it with a desired color conversion layer pattern by a method such as screen printing. is there.
【0038】また、光硬化性樹脂を用いる場合、光開始
剤や増感剤を添加することが好ましい。このように構成
することにより、光硬化性樹脂を容易に硬化させること
ができる。このような光開始剤としては、アセトフェノ
ン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化
合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、
ラジカル発生剤や光酸発生剤等が挙げられる。また、増
感剤としては、トリエタノールアミン、4,4´−ジメ
チルアミノベンゾフェノン、4−ジメチルアミノ安息香
酸エチル等が挙げられる。When a photocurable resin is used, it is preferable to add a photoinitiator or a sensitizer. With this configuration, the photocurable resin can be easily cured. Such photoinitiators include acetophenone compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, triazine compounds,
Examples include a radical generator and a photoacid generator. Examples of the sensitizer include triethanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, and ethyl 4-dimethylaminobenzoate.
【0039】また、光硬化性樹脂に紫外線吸収剤を添加
することが好ましい。このように構成することとによ
り、有機蛍光物質の劣化防止を図ることができるためで
ある。このような紫外線吸収剤としては、例えば、サリ
チル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリ
アゾール系化合物、トリアジン系化合物、シアノアクリ
レート系化合物からなる群から選択される少なくとも一
つの化合物であることが好ましい。It is preferable to add an ultraviolet absorber to the photocurable resin. This is because such a configuration makes it possible to prevent deterioration of the organic fluorescent substance. Such an ultraviolet absorber is preferably, for example, at least one compound selected from the group consisting of salicylic acid compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, triazine compounds, and cyanoacrylate compounds.
【0040】また、光硬化性樹脂に酸化防止剤および光
安定剤あるいはいずれか一方の化合物を含むことも好ま
しい。このように酸化防止剤や光安定剤を添加すること
により、優れた耐久性が得られるためである。好ましい
酸化防止剤としては、2,6−ジ−tert−ブチル−
p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール(BH
A)やテトラキス−[メチレン−3−(3´,5´−ジ
−tert−ブチル−4´−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオネート]メタン等が挙げられる。また、好ましい光
安定剤としては、ニッケルビス(オクチルフェニル)サ
ルファイド、[2,2´−チオビス(4−tert−オ
クチルフェノラート)]−n−ブチルアミンニッケル、
ニッケルコンプレックス−3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル−リン酸モノエチレート、
ニッケル−ジブチルジチオカーバメート等が挙げられ
る。It is also preferred that the photocurable resin contains an antioxidant and / or a light stabilizer or one of the compounds. This is because excellent durability can be obtained by adding an antioxidant or a light stabilizer as described above. Preferred antioxidants include 2,6-di-tert-butyl-
p-cresol, butylated hydroxyanisole (BH
A) and tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane. Preferred light stabilizers are nickel bis (octylphenyl) sulfide, [2,2′-thiobis (4-tert-octylphenolate)]-n-butylamine nickel,
Nickel complex-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl-phosphate monoethylate,
Nickel-dibutyl dithiocarbamate and the like.
【0041】なお、参考のため、好ましい色変換層14
の構成材料(顔料樹脂、バインダー樹脂)の屈折率を示
すと、以下のような値である。 塩化ビニル樹脂 :1.54(波長589nm) 塩化ビニリデン樹脂 :1.60(波長589nm) 酢酸ビニル樹脂 :1.45(波長589nm) ポリエチレン樹脂 :1.51(波長589nm) ポリスチレン樹脂 :1.59(波長589nm) メタクリル酸メチル樹脂 :1.49(波長589nm) メラミン樹脂 :1.60(波長589nm)For reference, the preferred color conversion layer 14
The refractive index of the constituent materials (pigment resin, binder resin) is as follows. Vinyl chloride resin: 1.54 (wavelength 589 nm) Vinylidene chloride resin: 1.60 (wavelength 589 nm) Vinyl acetate resin: 1.45 (wavelength 589 nm) Polyethylene resin: 1.51 (wavelength 589 nm) Polystyrene resin: 1.59 ( Methyl methacrylate resin: 1.49 (wavelength 589 nm) Melamine resin: 1.60 (wavelength 589 nm)
【0042】また、第1の実施形態である有機EL表示
装置18において、色変換層14の厚さについても特に
制限されるものではないが、例えば、0.1μm〜1m
mの範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、色変
換層14の厚さが0.1μm未満となると、機械的強度
が低下したり、積層することが困難となる場合があるた
めである。一方、色変換層14の厚さが1mmを超える
と、光透過率が著しく低下して、外部に取り出せる光量
が低下したり、あるいは有機EL表示装置18の薄型化
が困難となる場合があるためである。したがって、色変
換層14の厚さを0.1μm〜1mmの範囲内の値とす
るのが好ましく、1μm〜500μmの範囲内の値とす
るのがより好ましく、5μm〜100μmの範囲内の値
とするのがさらに好ましい。In the organic EL display device 18 according to the first embodiment, the thickness of the color conversion layer 14 is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 μm to 1 m.
It is preferable that the value be within the range of m. The reason for this is that if the thickness of the color conversion layer 14 is less than 0.1 μm, the mechanical strength may be reduced or it may be difficult to laminate. On the other hand, if the thickness of the color conversion layer 14 exceeds 1 mm, the light transmittance is significantly reduced, and the amount of light that can be extracted to the outside is reduced, or it may be difficult to reduce the thickness of the organic EL display device 18. It is. Therefore, the thickness of the color conversion layer 14 is preferably set to a value in the range of 0.1 μm to 1 mm, more preferably to a value in the range of 1 μm to 500 μm, and to a value in the range of 5 μm to 100 μm. More preferably,
【0043】なお、図1に示す有機EL表示装置18に
おいて、色変換層14を便宜上、一つのみ示している
が、同一平面上に、複数個設けても良い。例えば、有機
EL素子10上の発光面11上に、赤用色変換層と、青
用色変換層と、緑用色変換層とを、それぞれ近接して配
置しても良い。このように構成すると、有機EL表示装
置18のカラー化を容易に図ることができる。Although only one color conversion layer 14 is shown for convenience in the organic EL display device 18 shown in FIG. 1, a plurality of color conversion layers 14 may be provided on the same plane. For example, a color conversion layer for red, a color conversion layer for blue, and a color conversion layer for green may be arranged close to each other on the light emitting surface 11 on the organic EL element 10. With this configuration, the colorization of the organic EL display device 18 can be easily achieved.
【0044】(3)透光性層 第1の実施形態である有機EL表示装置18において、
透光性層12は、波長400〜700nmにおいて、光
透過率を50%以上の値とするのが好ましい。この理由
は、透光性層12の光透過率が50%未満の値となる
と、透光性層12を介して外部に取り出すことができる
光量が低下する場合があるためである。したがって、波
長400〜700nmにおいて、透光性層12の光透過
率を70%以上の値とするのがより好ましく、90%以
上の値とするのがさらに好ましい。(3) Translucent Layer In the organic EL display device 18 according to the first embodiment,
The light transmitting layer 12 preferably has a light transmittance of 50% or more at a wavelength of 400 to 700 nm. The reason is that when the light transmittance of the light transmitting layer 12 is less than 50%, the amount of light that can be extracted to the outside through the light transmitting layer 12 may be reduced. Therefore, at a wavelength of 400 to 700 nm, the light transmittance of the light transmitting layer 12 is more preferably 70% or more, and further preferably 90% or more.
【0045】また、このような透光性層12の構成材料
としては、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカー
ボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビ
ニルピロリドン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ
系樹脂、シアネート系樹脂、メラミン系樹脂、フェノー
ル系樹脂、マレイン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリア
セタール系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス等の一種単独または二種以上の有機材料の組み合わせ
が挙げられる。The constituent material of the light-transmitting layer 12 includes polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, and polyvinylpyrrolidone resin. , A kind of polyurethane resin, epoxy resin, cyanate resin, melamine resin, phenolic resin, maleic resin, vinyl acetate resin, polyacetal resin, silicone resin, fluorine resin, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, etc. A single material or a combination of two or more organic materials can be used.
【0046】また、透光性層12の構成材料として、ガ
ラス材料、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、
酸化イットリウム、酸化ゲルマニウム、酸化亜鉛、酸化
マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、
酸化バリウム、酸化鉛、酸化ナトリウム、酸化ジルコニ
ア、酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化硼素、ちっ化
シリコン等の一種単独または二種以上の無機材料の組み
合わせが挙げられる。また、好ましいガラス材料とし
て、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有
ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸
ガラス、バリウムホウケイ酸ガラスを透光性層の構成材
料として挙げることができる。As a constituent material of the light transmitting layer 12, glass material, silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide,
Yttrium oxide, germanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide,
Barium oxide, lead oxide, sodium oxide, zirconia, sodium oxide, lithium oxide, boron oxide, silicon nitride and the like may be used alone or in combination of two or more inorganic materials. Preferred glass materials include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and barium borosilicate glass as constituent materials of the light-transmitting layer.
【0047】なお、参考のため、好ましい透光性層12
の構成材料例の屈折率を示すと、以下のような値であ
る。 メタクリル酸メチル樹脂 :1.49(波長589nm) 酸化珪素(SiO2) :1.54(波長589nm) 酸化硼素(B2O3) :1.77(波長546nm) ガラス :1.49(波長589nm) テトラフルオロエチレン樹脂:1.49(波長589nm)Incidentally, for reference, a preferable light-transmitting layer 12 is used.
The refractive index of the constituent material example is as follows. Methyl methacrylate resin: 1.49 (wavelength 589 nm) Silicon oxide (SiO 2 ): 1.54 (wavelength 589 nm) Boron oxide (B 2 O 3 ): 1.77 (wavelength 546 nm) Glass: 1.49 (wavelength 589 nm) ) Tetrafluoroethylene resin: 1.49 (wavelength 589 nm)
【0048】また、透光性層12の厚さは特に制限され
るものではないが、具体的に、0.1μm〜1mmの範
囲内の値とするのが好ましい。この理由は、透光性層1
2の厚さが0.1μm未満となると、機械的強度が低下
したり、積層することが困難となる場合があるためであ
り、一方、透光性層12の厚さが1mmを超えると、光
透過率が著しく低下する場合があるためである。したが
って、透光性層12の厚さを1μm〜500μmの範囲
内の値とするのがより好ましく、1μm〜100μmの
範囲内の値とするのがさらに好ましい。Although the thickness of the light-transmitting layer 12 is not particularly limited, it is specifically preferable that the thickness be in the range of 0.1 μm to 1 mm. This is because the translucent layer 1
If the thickness of the light-transmitting layer 12 is less than 0.1 μm, the mechanical strength may be reduced or the lamination may be difficult. This is because the light transmittance may be significantly reduced. Therefore, the thickness of the translucent layer 12 is more preferably set to a value in the range of 1 μm to 500 μm, and even more preferably to a value in the range of 1 μm to 100 μm.
【0049】(4)界面における凹凸形状 第1の実施形態である有機EL表示装置18において、
透光性層12と色変換層14との界面13における凹凸
形状の大きさ等については特に制限されるものではない
が、凸形状における隣接する凸部の頂点間の平均距離
(図1中、記号Sで示す。)を0.5〜10μmの範囲
内の値とすることが好ましい。この理由は、凸部の頂点
間の平均距離が0.5〜10μmの範囲外となると、か
かる界面13での光の反射効率が低下する場合があるた
めである。したがって、凸部の頂点間の平均距離を、
0.6〜8μmの範囲内の値とすることがより好まし
く、1〜5μmの範囲内の値とすることがさらに好まし
い。(4) Concavo-convex Shape at Interface In the organic EL display device 18 according to the first embodiment,
The size of the uneven shape at the interface 13 between the translucent layer 12 and the color conversion layer 14 is not particularly limited, but the average distance between vertices of adjacent convex portions in the convex shape (in FIG. 1, (Indicated by the symbol S)) is preferably in the range of 0.5 to 10 μm. The reason for this is that if the average distance between the vertices of the projections is out of the range of 0.5 to 10 μm, the light reflection efficiency at the interface 13 may decrease. Therefore, the average distance between the vertices of the convex part is
The value is more preferably in the range of 0.6 to 8 μm, and even more preferably in the range of 1 to 5 μm.
【0050】また、透光性層12と色変換層14との界
面13における凹凸形状の凸部の頂点と凹部の底点との
平均距離(図1中、記号Tで示す。)を0.5〜10μ
mの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、凸
部の頂点と凹部の底点との平均距離が0.5〜10μm
の範囲外となると、かかる界面13での光の反射効率が
低下する場合があるためである。したがって、凸部の頂
点間の平均距離を、0.6〜8μmの範囲内の値とする
ことがより好ましく、1〜5μmの範囲内の値とするこ
とがさらに好ましい。The average distance (indicated by the symbol T in FIG. 1) between the apex of the convex portion and the bottom point of the concave portion at the interface 13 between the light-transmitting layer 12 and the color conversion layer 14 is set to 0.1. 5-10μ
It is preferable that the value be within the range of m. The reason is that the average distance between the top of the projection and the bottom of the recess is 0.5 to 10 μm.
Is out of the range, the light reflection efficiency at the interface 13 may decrease. Therefore, the average distance between the vertices of the convex portions is more preferably set to a value in the range of 0.6 to 8 μm, and even more preferably to a value in the range of 1 to 5 μm.
【0051】さらに、界面13における凹凸形状につい
ても、平坦形状と比較して全反射の臨界角の式を満足す
る領域が多く得られるものであれば特に制限されるもの
でないが、例えば、図1に示すように波型形状であって
も良く、あるいは連続したピラミッド形状(正四角錘)
や不連続のピラミッド形状であっても良い。特にピラミ
ッド形状とした場合には、頂角を90℃付近とすること
が好ましい。このようにピラミッド形状を構成すると、
全反射の臨界角の式を満足する領域をより効率的に設け
ることができる。Further, the uneven shape of the interface 13 is not particularly limited as long as it can provide a larger number of regions satisfying the expression of the critical angle of total reflection as compared with the flat shape. It may be a corrugated shape as shown in the figure, or a continuous pyramid shape (square pyramid)
Or it may be a discontinuous pyramid shape. In particular, in the case of a pyramid shape, the apex angle is preferably around 90 ° C. By configuring the pyramid shape in this way,
A region that satisfies the expression for the critical angle of total reflection can be provided more efficiently.
【0052】(5)有機EL素子 第1の実施形態においては、面状発光体としてLED,
VFD,PDP等も挙げることができるが、より薄型化
が可能であって、エネルギー効率が高いことから有機E
L素子10を用いるのが好ましい。また、より具体的に
は、図5に示すように、支持基板40上に、陽極層22
(30,32,34)と、陰極層20と、これらに挟持
された有機発光層24,26,28とから構成した有機
EL素子10を使用するのが好ましい。面状発光体とし
て、このように構成した有機EL素子10を使用するこ
とにより、発光輝度が高い上に、フルカラー化が可能な
有機EL表示装置18を提供することができる。(5) Organic EL element In the first embodiment, an LED,
VFD, PDP, etc. can also be mentioned, but since organic thinning is possible and energy efficiency is high, organic E
It is preferable to use the L element 10. More specifically, as shown in FIG.
It is preferable to use the organic EL element 10 composed of (30, 32, 34), the cathode layer 20, and the organic light emitting layers 24, 26, 28 sandwiched therebetween. By using the organic EL element 10 configured as described above as a planar light-emitting body, it is possible to provide the organic EL display device 18 which has a high emission luminance and is capable of full color display.
【0053】まず、図5を参照しながら有機発光層2
4,26,28について説明すると、かかる有機発光層
24,26,28は、発光色に対応した有機発光材料を
含んで構成されている。このような有機発光材料として
は特に制限されるものではないが、例えば、以下の3つ
の機能を併せ持つことが好ましい。 (a)電荷の注入機能:電界印加時に陽極あるいは正孔
注入層から正孔を注入することができる一方、陰極層あ
るいは電子注入層から電子を注入することができる機
能。 (b)輸送機能:注入された正孔および電子を電界の力
で移動させる機能。 (c)発光機能:電子と正孔の再結合の場を提供し、こ
れらを発光につなげる機能。 したがって、このような機能を有する有機発光材料とし
て、スチリル基を有する芳香族環化合物が挙げられる。
すなわち、スチリル基を有する芳香族環化合物を使用す
ることにより、優れた発光特性や耐久性を得ることがで
きる点で好ましい。First, referring to FIG.
The organic light-emitting layers 24, 26, and 28 include organic light-emitting materials corresponding to emission colors. Such an organic light emitting material is not particularly limited, but preferably has, for example, the following three functions. (A) Charge injection function: a function of injecting holes from an anode or a hole injection layer while applying an electric field, while injecting electrons from a cathode layer or an electron injection layer. (B) Transport function: a function of moving injected holes and electrons by the force of an electric field. (C) Light-emitting function: a function of providing a field for recombination of electrons and holes and connecting them to light emission. Therefore, as an organic light emitting material having such a function, an aromatic ring compound having a styryl group can be given.
In other words, the use of an aromatic ring compound having a styryl group is preferable in that excellent light emitting characteristics and durability can be obtained.
【0054】また、有機発光層24,26,28に、ベ
ンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキ
サゾール系等の蛍光増白剤や、スチリルベンゼン系化合
物、8−キノリノール誘導体を配位子とする金属錯体を
併用することも好ましい。また、ジスチリルアリーレン
骨格の有機発光材料、例えば4,4´一ビス(2,2−
ジフェニルビニル)ビフェニル)等をホストとし、当該
ホストに青色から赤色までの強い蛍光物質、例えばクマ
リン系あるいはホストと同様の蛍光物質をドープしたも
のを併用することも好適である。The organic light emitting layers 24, 26, and 28 may be provided with a benzothiazole-based, benzimidazole-based, benzoxazole-based fluorescent whitening agent, a styrylbenzene-based compound, or a metal having an 8-quinolinol derivative as a ligand. It is also preferable to use a complex in combination. Further, an organic light-emitting material having a distyrylarylene skeleton, for example, 4,4′-bis (2,2-
It is also preferable to use, as a host, diphenylvinyl) biphenyl) or the like, and to combine the host with a strong fluorescent substance from blue to red, for example, a coumarin-based fluorescent substance or a fluorescent substance similar to the host.
【0055】また、有機発光層24,26,28の膜厚
については特に制限はなく、状況に応じて適宜選択する
ことができるが、5nm〜5μmの範囲内の値であるこ
とが好ましい。この理由は、有機発光層の膜厚が5nm
未満となると、発光輝度や耐久性が低下する場合があ
り、一方、有機発光層の膜厚が5μmを超えると、印加
電圧の値が高くなる場合があるためである。したがっ
て、有機発光層の膜厚を10nm〜3μmの範囲内の値
とすることがより好ましく、20nm〜1μmの範囲内
の値とすることがさらに好ましい。The thickness of the organic light-emitting layers 24, 26 and 28 is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the situation, but is preferably in the range of 5 nm to 5 μm. This is because the thickness of the organic light emitting layer is 5 nm.
When the thickness is less than the above, the emission luminance and the durability may decrease. On the other hand, when the thickness of the organic light emitting layer exceeds 5 μm, the value of the applied voltage may increase. Therefore, the thickness of the organic light emitting layer is more preferably set to a value within the range of 10 nm to 3 μm, and even more preferably set to a value within the range of 20 nm to 1 μm.
【0056】次に、有機EL素子10における陽極層2
2(30,32,34)について説明する。かかる陽極
層22としては仕事関数の大きい(例えば、4.0eV
以上)金属、合金、電気電導性化合物またはこれらの混
合物を使用することが好ましい。具体的には、インジウ
ムチンオキサイド(ITO)、インジウム銅、スズ、酸
化亜鉛、金、白金、パラジウム等の1種を単独で、また
は2種以上を組み合わせて使用することができる。ま
た、陽極層22の厚さも特に制限されるものではない
が、10〜1000nmの範囲内の値とするのが好まし
く、10〜200nmの範囲内の値とするのがより好ま
しい。さらに、陽極層22に関しては、有機発光層2
4,26,28から発射された光を外部に有効に取り出
すことが出来るように、実質的に透明、より具体的に
は、光透過率が10%以上の値であることが好ましい。Next, the anode layer 2 in the organic EL device 10
2 (30, 32, 34) will be described. The anode layer 22 has a large work function (for example, 4.0 eV
Above) It is preferable to use metals, alloys, electrically conductive compounds or mixtures thereof. Specifically, one kind of indium tin oxide (ITO), indium copper, tin, zinc oxide, gold, platinum, palladium and the like can be used alone or in combination of two or more kinds. The thickness of the anode layer 22 is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 1000 nm, and more preferably in the range of 10 to 200 nm. Further, regarding the anode layer 22, the organic light emitting layer 2
In order that the light emitted from 4, 26, 28 can be effectively extracted to the outside, it is preferable that it is substantially transparent, more specifically, the light transmittance is 10% or more.
【0057】次に、有機EL素子10における陰極層2
0について説明する。かかる陰極層20には、仕事関数
の小さい(例えば、4.0eV未満)金属、合金、電気
電導性化合物またはこれらの混合物を使用することが好
ましい。具体的には、マグネシウム、アルミニウム、イ
ンジウム、リチウム、ナトリウム、セシウム、銀等の1
種を単独で、または2種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。また陰極層20の厚さも特に制限されるも
のではないが、10〜1000nmの範囲内の値とする
のが好ましく、10〜200nmの範囲内の値とするの
がより好ましい。Next, the cathode layer 2 in the organic EL element 10
0 will be described. For the cathode layer 20, it is preferable to use a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a small work function (for example, less than 4.0 eV). Specifically, one of magnesium, aluminum, indium, lithium, sodium, cesium, silver, etc.
The species can be used alone or in combination of two or more. The thickness of the cathode layer 20 is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 1000 nm, and more preferably in the range of 10 to 200 nm.
【0058】次に、有機EL素子10における支持基板
40について説明する。かかる支持基板40は、機械的
強度に優れ、水分や酸素の透過性が少ないものであれ
ば、この種の有機エレクトルミネッセンス表示装置に常
用されているものをそのまま用いることができる。具体
的には、例えば、ガラスやセラミックス等を挙げること
ができる。Next, the support substrate 40 in the organic EL device 10 will be described. As the support substrate 40, a substrate commonly used in this type of organic electroluminescence display device can be used as it is, as long as it has excellent mechanical strength and low moisture and oxygen permeability. Specifically, for example, glass and ceramics can be used.
【0059】第1の実施形態の有機EL表示装置18に
は、下記の構成の有機EL素子10を使用することが
できるが、他の構成要素、例えば正孔注入層や電子注入
層とを組み合わせた有機EL素子10の使用も考えられ
る。以下に、他の好ましい有機EL素子10の構成例
〜を併せて示す。 陽極/有機発光層/陰極層 陽極/正孔注入層/有機発光層/陰極層 陽極/有機発光層/電子注入層/陰極層 陽極/正孔注入層/有機発光層/電子注入層/陰極
層The organic EL display device 18 of the first embodiment can use the organic EL element 10 having the following configuration, but is combined with another component, for example, a hole injection layer or an electron injection layer. The use of the organic EL element 10 is also conceivable. Hereinafter, structural examples 1 to 3 of other preferable organic EL elements 10 are also shown. Anode / organic light emitting layer / cathode layer anode / hole injection layer / organic light emitting layer / cathode layer anode / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode layer anode / hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer / cathode layer
【0060】[第2の実施形態]第2の実施形態は、有
機EL表示装置の製造方法に関する実施形態であり、色
変換層を形成する工程(第1の工程と称する。)と、当
該色変換層の表面を凹凸形状とする工程(第2の工程と
称する。)と、透光性層を形成する工程(第3の工程と
称する。)と、有機EL素子を積層する工程(第4の工
程と称する。)とを含むことを特徴とする。なお、有機
EL表示装置の構成自体については、第1の実施形態と
同様の内容とすることができるため、ここでの詳細な説
明は省略するものとし、図3(a)〜(d)を参照しな
がら、有機EL表示装置の製造方法の内容について中心
に説明する。[Second Embodiment] The second embodiment relates to a method for manufacturing an organic EL display device, and includes a step of forming a color conversion layer (referred to as a first step) and the color. A step of forming the surface of the conversion layer into an uneven shape (referred to as a second step), a step of forming a light-transmitting layer (referred to as a third step), and a step of stacking the organic EL elements (fourth) ).). Since the configuration itself of the organic EL display device can be the same as that of the first embodiment, the detailed description is omitted here, and FIGS. 3A to 3D are omitted. The contents of the method for manufacturing the organic EL display device will be mainly described with reference to FIG.
【0061】(1)第1の工程 第1の工程は、図3(a)に示すように、例えば、光硬
化性樹脂と、有機蛍光物質と、紫外線吸収剤とを含む色
変換層用組成物(色変換層)42を、例えば基材44上
に成形した後、光硬化させる工程である。また、基材4
4は、例えば、ガラス基板やポリカーボネート樹脂、あ
るいはポリエステル樹脂等の透明性材料から構成されて
いる。(1) First Step As shown in FIG. 3A, the first step is, for example, a composition for a color conversion layer containing a photocurable resin, an organic fluorescent substance, and an ultraviolet absorber. In this step, the object (color conversion layer) 42 is formed on, for example, the base material 44 and then light-cured. Also, the base material 4
4 is made of a transparent material such as a glass substrate, a polycarbonate resin, or a polyester resin.
【0062】ここで、色変換層用組成物42を成形する
にあたり、光硬化性樹脂と、有機蛍光物質と、紫外線吸
収剤等からミキサや三本ロール等の混合機械を用いて均
一に組成した後、ナイフコータやグラビアコータ、ある
いはスピンコータを用いて、例えば、厚さ1〜100μ
mの層状に塗布するのが好ましい。なお、色変換層用組
成物42を均一に塗布するために有機溶剤を添加してい
る場合には、塗布後、50〜100℃の温度範囲で、5
〜60分加熱して、有機溶剤を飛散させるのが好まし
い。次いで、色変換層用組成物(色変換層)42を光硬
化させるためには、ハロゲンランプ、メタルハライドラ
ンプ等を用いて紫外線を一定量、例えば100〜200
0mJ/cm2の範囲内で露光することが好ましい。こ
の理由は、紫外線の露光量が100mJ/cm2未満と
なると、光硬化性樹脂が光硬化しない場合があるためで
あり、一方、露光量が2000mJ/cm2を超える
と、有機蛍光物質の劣化が促進される場合があるためで
ある。また、紫外線の波長を350〜400nmの範囲
内の値とするのが好ましい。この理由は、紫外線の波長
が350nm未満となると、有機蛍光物質の劣化が促進
される場合があるためであり、一方、紫外線の波長が4
00nmを超えると、光硬化性樹脂が光硬化しない場合
があるためである。Here, in molding the composition 42 for a color conversion layer, a photo-curable resin, an organic fluorescent substance, an ultraviolet absorbent and the like were uniformly mixed using a mixing machine such as a mixer or a three-roll machine. Then, using a knife coater, a gravure coater, or a spin coater, for example, a thickness of 1 to 100 μm
m. In the case where an organic solvent is added in order to uniformly apply the color conversion layer composition 42, after the application, a temperature of 50 to 100 ° C.
It is preferred that the organic solvent is scattered by heating for up to 60 minutes. Next, in order to photo-cure the color conversion layer composition (color conversion layer) 42, a predetermined amount of ultraviolet rays, for example, 100 to 200, is used using a halogen lamp, a metal halide lamp, or the like.
Exposure is preferably performed within the range of 0 mJ / cm 2 . This is because the photocurable resin may not be light-cured when the exposure amount of ultraviolet light is less than 100 mJ / cm 2 , whereas when the exposure amount exceeds 2000 mJ / cm 2 , the degradation of the organic fluorescent substance is deteriorated. May be promoted. Further, it is preferable that the wavelength of the ultraviolet light is set to a value within a range of 350 to 400 nm. The reason for this is that if the wavelength of the ultraviolet light is less than 350 nm, the deterioration of the organic fluorescent substance may be accelerated.
If the thickness exceeds 00 nm, the photocurable resin may not be photocured.
【0063】なお、色変換層用組成物42の光硬化性樹
脂の代わりに、熱硬化性樹脂を用いることも好ましい。
その場合には、紫外線を照射するかわりに、例えば、温
度50〜180℃、時間10〜180分の条件で加熱し
て、熱硬化させることが好ましい。It is also preferable to use a thermosetting resin instead of the photocurable resin of the composition 42 for the color conversion layer.
In that case, it is preferable to heat and cure by heating, for example, at a temperature of 50 to 180 ° C. for a time of 10 to 180 minutes instead of irradiating the ultraviolet rays.
【0064】(2)第2の工程 第2の工程は、図3(b)に示すように、色変換層用組
成物(色変換層)42の表面に凹凸形状47を設ける工
程である。かかる凹凸形状47を設ける方法は特に制限
されるものでないが、以下に示す方法が挙げられる。 色変換層用組成物(色変換層)42を硬化させた
後、その表面に化学的処理および物理的処理(機械的処
理)あるいはいずれか一方の処理を施す(第1の方
法)。 色変換層用組成物(色変換層)42を硬化させる前
に、その表面に凹凸形状を有する離型フィルム(図示せ
ず。)を配置して、色変換層用組成物(色変換層)42
を光硬化あるいは熱硬化する(第2の方法)。 色変換層用組成物(色変換層)42を硬化させる前
に、その表面に凹凸形状を有する透光性層用フィルム
(図示せず。)を配置して、色変換層用組成物(色変換
層)42を光硬化あるいは熱硬化する(第3の方法)(2) Second Step As shown in FIG. 3B, the second step is a step of forming an uneven shape 47 on the surface of the color conversion layer composition (color conversion layer) 42. The method of providing the concave-convex shape 47 is not particularly limited, and examples thereof include the following method. After the color conversion layer composition (color conversion layer) 42 is cured, the surface thereof is subjected to a chemical treatment and / or a physical treatment (mechanical treatment) (a first method). Before curing the color conversion layer composition (color conversion layer) 42, a release film (not shown) having an uneven shape is disposed on the surface thereof, and the color conversion layer composition (color conversion layer) is arranged. 42
Is light-cured or heat-cured (second method). Before the color conversion layer composition (color conversion layer) 42 is cured, a light transmitting layer film (not shown) having an uneven shape is disposed on the surface thereof, and the color conversion layer composition (color (Conversion layer) 42 is light-cured or heat-cured (third method)
【0065】上記第1の方法において、化学的処理とし
ては、化学エッチング,溶剤処理等が挙げられる。ま
た、物理的処理としては、研磨処理、ショットブラスト
処理、タンブリング処理、スパッタエッチング処理、グ
ロー放電処理、コロナ放電処理等の一つ単独あるいは二
種以上の組み合わせ処理が挙げられる。これらのうち、
特に研磨処理をすることにより、容易に凹凸形状47を
設けることができる。具体的には、研磨処理において、
紙やすりやラッピングフィルム(アルミナやダイモンド
粉末等の微粒子をフィルム上に固定した研磨フィルム)
を手動あるいは回転研磨機を使用し適用するとともに、
さらにアルミナ等の研磨粒子を研磨材として使用するこ
とが好ましい。In the first method, the chemical treatment includes chemical etching, solvent treatment, and the like. Examples of the physical treatment include polishing treatment, shot blast treatment, tumbling treatment, sputter etching treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, and the like, either alone or in combination of two or more. Of these,
In particular, by performing the polishing treatment, the uneven shape 47 can be easily provided. Specifically, in the polishing process,
Sandpaper and wrapping film (polishing film with fine particles such as alumina and diamond powder fixed on the film)
While applying manually or using a rotary polishing machine,
Further, it is preferable to use abrasive particles such as alumina as the abrasive.
【0066】また、上記第2の方法において使用する表
面に凹凸形状を有する離型フィルムとしては、フッ素系
フィルムやシリコン処理フィルム、あるいはポリエチレ
ン樹脂フィルムやポリプロピレン樹脂フィルム等を使用
することが好ましい。また、これらの離型フィルムに予
めエンボスや研磨処理等の手法により、表面に凹凸形状
を設けたフィルムを使用することが好ましい。そして、
かかる離型フィルムを色変換層用組成物(色変換層)4
2の表面に配置して、第1の工程と同様に紫外線を照射
したり、加熱することにより、色変換層用組成物(色変
換層)42を光硬化あるいは熱硬化するものである。こ
のような離型フィルムであれば、何度も再使用すること
ができるため、製造が極めて経済的である。また、事前
に離型フィルム上の凹凸形状を検査することができるた
め、結果として、所望の凹凸形状を色変換層用組成物
(色変換層)42の表面に正確に設けることができる。As the release film having an uneven surface on the surface used in the second method, a fluorine-based film, a siliconized film, a polyethylene resin film, a polypropylene resin film, or the like is preferably used. Further, it is preferable to use a film in which the surface is provided with an uneven shape by a method such as embossing or polishing treatment in advance for these release films. And
The release film is used as a composition for a color conversion layer (color conversion layer) 4
The composition for color conversion layer (color conversion layer) 42 is light-cured or heat-cured by irradiating it with ultraviolet light or heating it in the same manner as in the first step. Since such a release film can be reused many times, its production is extremely economical. In addition, since the uneven shape on the release film can be inspected in advance, as a result, the desired uneven shape can be accurately provided on the surface of the color conversion layer composition (color conversion layer) 42.
【0067】なお、色変換層用組成物(色変換層)42
を光硬化性樹脂から構成する場合には、耐紫外線特性を
有する離型フィルムを使用するのが好ましい。また、色
変換層用組成物(色変換層)42を熱硬化性樹脂から構
成する場合には、耐熱性を有する離型フィルムを使用す
るのが好ましい。The composition for the color conversion layer (color conversion layer) 42
In the case where is composed of a photocurable resin, it is preferable to use a release film having ultraviolet light resistance. When the color conversion layer composition (color conversion layer) 42 is made of a thermosetting resin, it is preferable to use a release film having heat resistance.
【0068】さらに、上記第3の方法においては、予め
表面に凹凸形状を設けた透光性層用フィルムを配置し
て、色変換層用組成物(色変換層)42を光硬化あるい
は熱硬化するものである。すなわち、第3の方法におい
ては、透光性層用フィルムを、光硬化あるいは熱硬化し
て色変換層42を形成した後に除去せずに、そのまま透
光性層48とすることが特徴である。したがって、この
ように実施することにより、第2の工程と、後述する第
3の工程とを同時に実施するこができるため、工程数が
少なくなるという利点が得られる。なお、透光性層用フ
ィルムの製造方法や色変換層42の形成方法について
は、第2の方法における離型フィルムや、第1の工程に
おける色変換層42の形成方法と同様の内容とすること
ができる。Further, in the third method, a film for a light-transmitting layer having an uneven surface provided in advance is arranged, and the composition for a color conversion layer (color conversion layer) 42 is photo-cured or heat-cured. Is what you do. That is, the third method is characterized in that the light-transmitting layer film is formed without being removed after the light-transmitting layer film is light-cured or heat-cured to form the color conversion layer 42, and is directly used as the light-transmitting layer 48. . Therefore, by performing the above-described steps, the second step and a third step described later can be performed at the same time, so that an advantage that the number of steps is reduced is obtained. The method for manufacturing the light-transmitting layer film and the method for forming the color conversion layer 42 are the same as those for the release film in the second method and the method for forming the color conversion layer 42 in the first step. be able to.
【0069】(3)第3の工程 第3の工程は、図3(c)に示すように、表面に凹凸形
状を設けた色変換層46上に、透光性用組成物を塗布し
て、透光性層48を形成する工程である。ここで、第2
の実施形態で使用する透光性用組成物としては、第1の
実施形態で説明した材料をそのまま使用することができ
るが、色変換層46と透光性層48との間の界面45に
気泡等が入り込まないように、低粘度に調整した透光性
用組成物を塗布することがより好ましい。具体的には、
透光性用組成物に有機溶剤等を添加し、10〜1000
0cps(温度25℃)の範囲内の値とするのが好まし
い。また、塗布する方法についても特に制限されるもの
ではないが、例えば、ナイフコータやグラビアコータ、
あるいはスピンコータを用いて、例えば、厚さ1〜10
0μmの範囲内の層状に塗布するのが好ましい。なお、
透光性用組成物が光硬化系材料から構成されている場合
には、紫外線を照射することにより光硬化させることが
でき、透光性用組成物が熱硬化系材料から構成されてい
る場合には、加熱することにより熱硬化させることがで
きる。(3) Third Step In the third step, as shown in FIG. 3 (c), a light-transmitting composition is applied on a color conversion layer 46 having a surface with irregularities. Forming the light-transmitting layer 48. Here, the second
As the translucent composition used in the embodiment, the material described in the first embodiment can be used as it is. However, the composition for the translucent layer 45 between the color conversion layer 46 and the translucent layer 48 can be used. It is more preferable to apply a light-transmitting composition adjusted to a low viscosity so that air bubbles and the like do not enter. In particular,
An organic solvent or the like is added to the composition for translucency, and 10 to 1000
It is preferable to set the value in the range of 0 cps (temperature of 25 ° C.). Also, there is no particular limitation on the method of coating, for example, a knife coater, a gravure coater,
Alternatively, using a spin coater, for example, a thickness of 1 to 10
It is preferable to apply it in a layer within the range of 0 μm. In addition,
When the translucent composition is composed of a photocurable material, the composition can be photocured by irradiating ultraviolet rays, and when the translucent composition is composed of a thermosetting material. Can be thermally cured by heating.
【0070】(4)第4の工程 第4の工程は、図3(d)に示すように、硬化させた色
変換層46の基材44側に、有機EL素子50を積層す
る工程である。この積層方法についても特に制限される
ものでなく、予め作製しておいた有機EL素子50を接
着剤等を用いて積層しても良いし、あるいは、基材44
の上に、順次に電極や有機発光層を形成しても良い。(4) Fourth Step The fourth step is a step of laminating the organic EL element 50 on the base material 44 side of the cured color conversion layer 46 as shown in FIG. . There is no particular limitation on the lamination method, and the organic EL element 50 prepared in advance may be laminated using an adhesive or the like, or the base material 44 may be used.
An electrode and an organic light emitting layer may be sequentially formed thereon.
【0071】[第3の実施形態]第3の実施形態は、有
機EL表示装置62の製造方法に関する別の実施形態で
ある。この第3の実施形態は、色変換層54を形成する
工程(第5の工程と称する。)と、表面に凹凸形状55
を有する中間層56を形成する工程(第6の工程と称す
る。)と、透光性層58を形成する工程(第7の工程と
称する。)と、有機EL素子60を積層する工程(第8
の工程と称する。)とを含むことを特徴とする。以下、
図4(a)〜(d)を参照しながら、第1および第2の
実施形態と異なる内容について中心に説明する。[Third Embodiment] A third embodiment is another embodiment relating to a method of manufacturing the organic EL display device 62. In the third embodiment, a step of forming a color conversion layer 54 (referred to as a fifth step) and an uneven surface 55
(A sixth step), a step of forming the light-transmitting layer 58 (a seventh step), and a step of laminating the organic EL element 60 (the sixth step). 8
This is referred to as a step. ). Less than,
With reference to FIGS. 4 (a) to 4 (d), a description will be given mainly of contents different from the first and second embodiments.
【0072】(1)第5の工程 第5の工程を図4(a)に示すが、色変換層54を基材
52上に形成する工程であり、第2の実施形態における
第1の工程の内容と実質的に同一であるため、ここでの
説明は省略する。(1) Fifth Step The fifth step is shown in FIG. 4A, which is a step of forming the color conversion layer 54 on the base material 52, and is the first step in the second embodiment. Are substantially the same as those described above, and a description thereof will be omitted.
【0073】(2)第6の工程 第6の工程は、図4(b)に示すように、表面に凹凸形
状55を有する中間層56を形成する工程である。かか
る凹凸形状55を設ける方法については、特に制限され
るものでないが、以下に示す方法が挙げられる。 中間層56を色変換層54の上に形成した後、中間
層56の表面に化学的処理および物理的処理あるいはい
ずれか一方の処理を施す(第4の方法)。 中間層用組成物の表面に、表面に凹凸形状を有する
離型フィルム(図示せず)を配置した状態で、中間層用
組成物を光硬化あるいは熱硬化する(第5の方法)。 中間層用組成物を用いて、表面に凹凸形状を有する
中間層56を予め形成し、それを色変換層54の上に積
層する(第6の方法)。(2) Sixth Step As shown in FIG. 4B, the sixth step is a step of forming an intermediate layer 56 having an uneven shape 55 on the surface. The method for providing the uneven shape 55 is not particularly limited, but includes the following method. After the intermediate layer 56 is formed on the color conversion layer 54, the surface of the intermediate layer 56 is subjected to a chemical treatment and / or a physical treatment (fourth method). The composition for the intermediate layer is photo-cured or heat-cured in a state where a release film (not shown) having an uneven surface is arranged on the surface of the composition for the intermediate layer (fifth method). An intermediate layer 56 having an uneven shape on the surface is formed in advance using the intermediate layer composition, and the intermediate layer 56 is laminated on the color conversion layer 54 (sixth method).
【0074】ここで、第4および第5の方法は、第2の
実施形態における第1および第2の方法と同様であるた
め、ここでの説明は省略する。また、中間層56の構成
材料としては、屈折率が透光性層58の屈折率よりも小
さいものであれば、同種内容とすることができる。した
がって、ポリアクリル系樹脂やポリメタクリル系樹脂等
の有機材料や、ガラス材料や酸化ジルコニア等の無機材
料が使用可能である。Here, the fourth and fifth methods are the same as the first and second methods in the second embodiment, and the description thereof will be omitted. Further, as the constituent material of the intermediate layer 56, the same kind of content can be used as long as the refractive index is smaller than the refractive index of the light transmitting layer 58. Therefore, organic materials such as polyacrylic resin and polymethacrylic resin, and inorganic materials such as glass material and zirconia oxide can be used.
【0075】また、第6の方法において、表面に凹凸形
状55を有する中間層56を予め形成する方法は特に制
限されるものではないが、例えば、金型成型やエンボス
方法により、容易に形成することができる。このように
事前に凹凸形状55を設けた中間層56であれば、予め
凹凸形状55を検査することができる。したがって、所
望の凹凸形状55を色変換層用組成物(色変換層)54
の表面に、より正確に設けることができる。なお、図4
(b)において、凹凸形状55を連続したピラミッド形
状(正四角錘)としてあるが、波型や異形の凹凸形状で
あっても良く、あるいは不連続のピラミッド形状として
も良い。In the sixth method, the method of previously forming the intermediate layer 56 having the unevenness 55 on the surface is not particularly limited, but is easily formed by, for example, die molding or embossing. be able to. As described above, if the intermediate layer 56 is provided with the uneven shape 55 in advance, the uneven shape 55 can be inspected in advance. Therefore, the desired concavo-convex shape 55 is formed by the composition (color conversion layer) 54 for the color conversion layer.
Can be more accurately provided on the surface. FIG.
In (b), the concavo-convex shape 55 is a continuous pyramid shape (square pyramid), but may be a corrugated or irregularly shaped concavo-convex shape or a discontinuous pyramid shape.
【0076】(3)第7の工程 第7の工程は、図4(c)に示すように透光性層58
を、中間層56上に形成する工程であるが、この第7の
工程は、第2の実施形態における第3の工程と実質的に
同様であるため、ここでの詳細な説明は省略する。(3) Seventh Step As shown in FIG. 4C, the seventh step is
Is formed on the intermediate layer 56. Since the seventh step is substantially the same as the third step in the second embodiment, a detailed description thereof will be omitted.
【0077】(4)第8の工程 第8の工程は、図4(d)に示すように硬化させた色変
換層54の基材52側に、有機EL素子60を積層する
工程であるが、この工程は、第2の実施形態における第
3の工程と実質的に同様であるため、ここでの詳細な説
明は省略する。(4) Eighth Step The eighth step is a step of laminating the organic EL element 60 on the base material 52 side of the cured color conversion layer 54 as shown in FIG. 4D. Since this step is substantially the same as the third step in the second embodiment, a detailed description thereof will be omitted.
【0078】[0078]
【実施例】[実施例1] (1)色変換層の作製 まず、ベンゾグアナミン樹脂82gと、有機蛍光物質と
してのクマリン6 6g(6重量%)と、ローダミンB
6g(6重量%)と、ローダミン6G 6g(6重量
%)とからなる蛍光顔料を組成した。次いで、ポリ塩化
ビニル樹脂(平均重量分子量2万)70g(70重量
%)に対して、蛍光顔料を30g(30重量%)を均一
に混合し、さらにシクロヘキサノンを添加して、粘度8
000cps(温度25℃)の赤色蛍光変換層用組成物
とした。EXAMPLES Example 1 (1) Production of Color Conversion Layer First, 82 g of a benzoguanamine resin, 66 g (6% by weight) of coumarin as an organic fluorescent substance, and rhodamine B
A fluorescent pigment composed of 6 g (6% by weight) and 6 g (6% by weight) of rhodamine 6G was composed. Next, 30 g (30% by weight) of a fluorescent pigment was uniformly mixed with 70 g (70% by weight) of a polyvinyl chloride resin (average molecular weight: 20,000), and cyclohexanone was added thereto to obtain a viscosity of 8%.
The composition for red fluorescence conversion layer of 000 cps (temperature of 25 ° C.) was obtained.
【0079】得られた赤色蛍光変換層用組成物を、縦2
5mm、横75mm、厚さ1.1mmのガラス基板(コ
ーニング7059)上に、バーコータを用いて20μm
の厚さになるように塗布し、温度80℃、時間10分の
条件で乾燥し、赤色蛍光変換層とした。次いで、#80
0の紙やすりを用いて、純水を噴霧しながら赤色蛍光変
換層上をラッピング研磨し、さらに、回転研磨機(Sp
eed Fam社製)により、アルミナ微粒子研磨剤を
用いて純水を噴霧しながら赤色蛍光変換層上を研磨し
た。この状態で、赤色蛍光変換層上の表面における凹凸
を、レーザー顕微鏡を用いて測定したところ、凹凸形状
における隣接する凸部の頂点間の平均距離は2.5μm
であり、凹凸形状における凸部の頂点と凹部の底点との
平均距離は1.1μmであった。さらに、赤色蛍光変換
層の屈折率を、屈折率計を用いて測定したところ、1.
58(波長600nm)であった。The obtained composition for red fluorescence conversion layer was
On a glass substrate (Corning 7059) having a size of 5 mm, a width of 75 mm and a thickness of 1.1 mm, a bar coater was used to cover 20 μm.
And dried at a temperature of 80 ° C. for a time period of 10 minutes to obtain a red fluorescence conversion layer. Next, # 80
Using a sandpaper of No. 0, lapping polishing is performed on the red fluorescence conversion layer while spraying pure water, and further, a rotary polishing machine (Sp
The surface of the red fluorescence conversion layer was polished while spraying pure water with an alumina fine particle abrasive (Eed Fam). In this state, when the unevenness on the surface of the red fluorescence conversion layer was measured using a laser microscope, the average distance between the vertices of adjacent convex portions in the uneven shape was 2.5 μm.
The average distance between the top of the projection and the bottom of the recess in the uneven shape was 1.1 μm. Further, the refractive index of the red fluorescence conversion layer was measured using a refractometer.
58 (wavelength 600 nm).
【0080】次いで、研磨処理した赤色蛍光変換層の上
に、透光性層としてアクリレート系光硬化型樹脂JNP
C06(JSR(株)製、固形物38重量%)をスピン
コートし、温度80℃、時間10分の条件で加熱乾燥し
た。この状態で高圧水銀灯を光源とするコンタクト式露
光機に装着し、露光量が600mJ/cm2となる様に
紫外線(波長365nm)を照射し、さらに温度160
℃、時間30分の条件で熱硬化させた。こうして、透光
性層付きの赤色蛍光変換基板を作製した。なお、透光性
層のみの屈折率を、屈折率計を用いて測定したところ、
1.54(600nm)であり、赤色蛍光変換層の屈折
率よりも小さいことを確認した。Next, on the polished red fluorescence conversion layer, an acrylate-based photocurable resin JNP was used as a light-transmitting layer.
C06 (manufactured by JSR Corporation, solid content 38% by weight) was spin-coated, and dried by heating at a temperature of 80 ° C. for 10 minutes. In this state, the apparatus was mounted on a contact type exposure machine using a high-pressure mercury lamp as a light source, and was irradiated with ultraviolet rays (wavelength: 365 nm) so that the exposure amount became 600 mJ / cm 2, and further, at a temperature of 160
The composition was thermally cured at 30 ° C. for 30 minutes. Thus, a red fluorescence conversion substrate provided with a translucent layer was produced. When the refractive index of only the light-transmitting layer was measured using a refractometer,
1.54 (600 nm), which was smaller than the refractive index of the red fluorescence conversion layer.
【0081】(2)有機EL素子の作製 一方、縦25mm、横75mm、厚さ1.1mmのガラ
ス基板(コーニング7059)上に、厚さ120nmの
ITO膜をスパッタリング法により全面的に成膜した。
このITO膜上に、ポジ型フォトレジストHPR204
(富士ハントエレクトロニクステクノロジー(株)製)
をスピンコートし、温度80℃、時間10分の条件で乾
燥した。次いで、フォトマスクを介して、露光量が10
0mJ/cm2となるように、高圧水銀灯を光源とした
コンタクト露光を行った。現像液としてTMAH(テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド)を用いて、露光部
を現像した。次いで、オーブンを用いて、温度130℃
の条件でポストベーク処理した後、臭化水素酸水溶液を
エッチャントとして用いて、ITO膜をエッチングし
た。その後、剥離液N303(長瀬産業(株)製)を用
いてポジ型レジストを除去し、150mm×50mmの
ITOパターンを形成した。(2) Preparation of Organic EL Element On the other hand, a 120 nm thick ITO film was entirely formed on a glass substrate (Corning 7059) having a length of 25 mm, a width of 75 mm and a thickness of 1.1 mm by a sputtering method. .
A positive photoresist HPR204 is formed on the ITO film.
(Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.)
Was spin-coated and dried under the conditions of a temperature of 80 ° C. and a time of 10 minutes. Next, the exposure amount is set to 10 through a photomask.
Contact exposure was performed using a high-pressure mercury lamp as a light source so as to obtain 0 mJ / cm 2 . The exposed part was developed using TMAH (tetramethylammonium hydroxide) as a developing solution. Then, using an oven, the temperature is 130 ° C.
After the post-baking treatment, the ITO film was etched using a hydrobromic acid aqueous solution as an etchant. Thereafter, the positive resist was removed using a stripping solution N303 (manufactured by Nagase & Co., Ltd.) to form an ITO pattern of 150 mm × 50 mm.
【0082】次いで、ITOパターンが形成されたガラ
ス基板をイソプロピルアルコール洗浄および紫外線洗浄
した後、この基板を、蒸着装置(日本真空技術(株)
製)内の基板ホルダーに固定した。そして、蒸着装置内
のモリブテン製の加熱ボードに、正孔注入材料として、
4,4´,4´´−トリス[N−(3−メチルフェニ
ル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(MT
DATA)および4,4´−ビス[N−(1−ナフチ
ル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(NPD)、有
機発光材料として、4,4´−ビス(2,2−ジフェニ
ルビニル)ビフェニル(DPVBi)、電子注入材料と
して、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Al
q)をそれぞれ充填し、さらに対向電極(陰極)材料と
しての銀ワイヤーをタングステン製フィラメントに、同
じくマグネシウムリボンをモリブテン製の加熱ボードに
装着した。その状態で、蒸着装置の真空度を5X10-7
Torrまで減圧し、以下の蒸着速度および膜厚となる
ように、正孔注入層から陰極の形成まで、途中で真空状
態を破らず、一回の真空引きで順次積層し、有機EL素
子を作製した。なお、対向電極の銀およびマグネシウム
は、それぞれ同時蒸着し、合わせて膜厚が200nmと
なるように成膜した。 MTDATA:蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚60nm NPD :蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚20nm DPVBi :蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚50nm Alq :蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚20nm Mg :蒸着速度1.3〜1.4nm/sec.,膜厚200nm Ag :蒸着速度0.1nm/sec., 膜厚200nmNext, the glass substrate on which the ITO pattern is formed is washed with isopropyl alcohol and ultraviolet light, and then the substrate is deposited on a vapor deposition apparatus (Nihon Vacuum Technology Co., Ltd.).
). Then, on a molybdenum heating board in the vapor deposition device, as a hole injection material,
4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (MT
DATA), 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD), and 4,4'-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) as an organic light emitting material. ), Tris (8-quinolinol) aluminum (Al)
q), and a silver wire as a counter electrode (cathode) material was mounted on a tungsten filament, and a magnesium ribbon was mounted on a molybdenum heating board. In this state, the degree of vacuum of the vapor deposition device is set to 5 × 10 −7.
The pressure is reduced to Torr, and from the hole injection layer to the formation of the cathode, the layers are successively laminated by a single evacuation from the hole injecting layer to the formation of the cathode so that the following deposition rates and film thicknesses are obtained. did. In addition, silver and magnesium of the counter electrode were simultaneously vapor-deposited, respectively, to form a film with a total thickness of 200 nm. MTDATA: evaporation rate 0.1 to 0.3 nm / sec. , Film thickness 60 nm NPD: evaporation rate 0.1 to 0.3 nm / sec. , Film thickness 20 nm DPVBi: evaporation rate 0.1-0.3 nm / sec. , Film thickness 50 nm Alq: evaporation rate 0.1-0.3 nm / sec. , Thickness: 20 nm Mg: deposition rate: 1.3 to 1.4 nm / sec. , Thickness 200 nm Ag: evaporation rate 0.1 nm / sec. , Thickness 200nm
【0083】得られた有機EL素子の下部電極(ITO
パターン,陽極)と、対向電極である上部電極(陰極)
との間に、DC12Vの電圧を印加して発光させた。色
彩色差計CS100(ミノルタ(株)製)を用いて発光
輝度を測定したところ、200cd/m2という値が得
られ、CIE色度座標は、X=0.14,Y=0.20
である青色の発光が得られることを確認した。The lower electrode (ITO) of the obtained organic EL device
Pattern, anode) and upper electrode (cathode) as the counter electrode
During this period, a voltage of 12 V DC was applied to emit light. When the light emission luminance was measured using a colorimeter CS100 (manufactured by Minolta Co., Ltd.), a value of 200 cd / m 2 was obtained, and the CIE chromaticity coordinates were X = 0.14, Y = 0.20.
It was confirmed that blue light emission was obtained.
【0084】(3)有機EL表示装置の作製 上記(1)で得られた、ガラス基板に形成された赤色変
換基板を、透光性層側から上記(2)で得られた有機E
L素子の発光面(下部電極側)に積層して、実施例1の
有機EL表示装置とした。得られた有機EL表示装置に
おいて、下部電極(ITOパターン,陽極)と、対向電
極である上部電極(陰極)との間に、DC12Vの電圧
を印加して発光させた。色彩色差計CS100(ミノル
タ(株)製)を用いて発光輝度を測定したところ、70
cd/m2という値が得られ、変換効率が35%である
ことを確認した。また、得られた発光についての、JI
S Z 8701に準拠したCIE色度座標は、X=
0.61,Y=0.34であり、赤色(レッド)の強い
発光が得られることを確認した。(3) Production of Organic EL Display Device The red conversion substrate formed on the glass substrate obtained in the above (1) was replaced with the organic E obtained in the above (2) from the transparent layer side.
The organic EL display device of Example 1 was obtained by laminating on the light emitting surface (lower electrode side) of the L element. In the obtained organic EL display device, a voltage of 12 V DC was applied between the lower electrode (ITO pattern, anode) and the upper electrode (cathode) as a counter electrode to emit light. The light emission luminance was measured using a color difference meter CS100 (manufactured by Minolta Co., Ltd.).
A value of cd / m 2 was obtained, and it was confirmed that the conversion efficiency was 35%. In addition, the JI
CIE chromaticity coordinates based on SZ8701 are represented by X =
0.61, Y = 0.34, and it was confirmed that strong red (red) light emission was obtained.
【0085】[実施例2]実施例1における#800の
紙やすりの代りに、#600のアルミナを固定したラッ
ピングフィルム(住友スリーエム(株)製)を用いたほ
かは、実施例1と同様に表面に凹凸形状を有する赤色変
換層を作製した。この赤色蛍光変換層表面における凹凸
をレーザー顕微鏡を用いて測定したところ、凹凸形状に
おける隣接する凸部の頂点間の平均距離は4.0μmで
あり、凹凸形状における凸部の頂点と凹部の底点との平
均距離は2.5μmであった。Example 2 Example 1 was repeated, except that the # 800 sandpaper was replaced with a # 600 alumina-fixed wrapping film (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.). A red conversion layer having an uneven shape on the surface was produced. When the unevenness on the surface of the red fluorescence conversion layer was measured using a laser microscope, the average distance between the apexes of adjacent convex portions in the uneven shape was 4.0 μm. Was 2.5 μm.
【0086】次いで、研磨処理した赤色蛍光変換層の上
に、実施例1と同様に透光性層を積層して、透光性層付
きの赤色蛍光変換基板を作製した。次いで、得られた赤
色蛍光変換基板を、実施例1と同様に作製した有機EL
素子の発光面(下部電極側)に積層して、実施例2の有
機EL表示装置とした。得られた有機EL表示装置にお
いて、下部電極と、上部電極との間に、DC12Vの電
圧を印加して発光させた。色彩色差計CS100を用い
て発光輝度を測定したところ、68cd/m2という値
が得られ、変換効率が34%であることを確認した。ま
た、得られた発光についてのCIE色度座標は、X=
0.62,Y=0.34であり、赤色(レッド)の強い
発光が得られることを確認した。Next, a translucent layer was laminated on the polished red fluorescence conversion layer in the same manner as in Example 1 to produce a red fluorescence conversion substrate provided with a translucent layer. Next, the obtained red fluorescence conversion substrate was used in the same manner as in Example 1 to produce an organic EL.
The organic EL display device of Example 2 was formed by laminating on the light emitting surface (lower electrode side) of the element. In the obtained organic EL display device, a voltage of 12 V DC was applied between the lower electrode and the upper electrode to emit light. When the light emission luminance was measured using the color difference meter CS100, a value of 68 cd / m 2 was obtained, and it was confirmed that the conversion efficiency was 34%. The CIE chromaticity coordinates of the obtained light emission are represented by X =
0.62, Y = 0.34, and it was confirmed that strong red (red) light emission was obtained.
【0087】[実施例3]実施例1における#800の
紙やすりの代りに、サンドブラスト処理を行ったほか
は、実施例1と同様に表面に凹凸形状を有する赤色変換
層を作製した。この赤色蛍光変換層表面における凹凸
を、レーザー顕微鏡を用いて測定したところ、凹凸形状
における隣接する凸部の頂点間の平均距離は7.0μm
であり、凹凸形状における凸部の頂点と凹部の底点との
平均距離は4.0μmであった。次いで、研磨処理した
赤色蛍光変換層の上に、実施例1と同様に透光性層を積
層して、透光性層付きの赤色蛍光変換基板を作製した。
次いで、得られた赤色蛍光変換基板を、実施例1と同様
に作製した有機EL素子の発光面(下部電極側)に積層
して、実施例3の有機EL表示装置とした。得られた有
機EL表示装置において、下部電極と、上部電極との間
に、DC12Vの電圧を印加して発光させた。色彩色差
計CS100を用いて発光輝度を測定したところ、66
cd/m2という値が得られ、変換効率が33%である
ことを確認した。また、得られた発光についてのCIE
色度座標は、X=0.61,Y=0.35であり、赤色
(レッド)の強い発光が得られることを確認した。Example 3 A red conversion layer having an uneven surface was produced in the same manner as in Example 1 except that sandblasting was performed instead of sandpaper # 800 in Example 1. When the unevenness on the surface of the red fluorescence conversion layer was measured using a laser microscope, the average distance between the apexes of adjacent convex portions in the uneven shape was 7.0 μm.
And the average distance between the top of the protrusion and the bottom of the recess in the uneven shape was 4.0 μm. Next, a translucent layer was laminated on the polished red fluorescence conversion layer in the same manner as in Example 1 to produce a red fluorescence conversion substrate with a translucent layer.
Next, the obtained red fluorescence conversion substrate was laminated on the light emitting surface (lower electrode side) of the organic EL element manufactured in the same manner as in Example 1, to obtain an organic EL display device of Example 3. In the obtained organic EL display device, a voltage of 12 V DC was applied between the lower electrode and the upper electrode to emit light. When the emission luminance was measured using a color difference meter CS100, 66
A value of cd / m 2 was obtained, and it was confirmed that the conversion efficiency was 33%. In addition, the CIE for the obtained light emission
The chromaticity coordinates were X = 0.61 and Y = 0.35, and it was confirmed that strong red (red) light emission was obtained.
【0088】[実施例4]透光性層として、実施例1に
おける光硬化型樹脂JNPC06の代りに、ポリビニル
アルコール水溶液(平均分子量20,000、濃度10
重量%)を用いたほかは、実施例1と同様に透光性層付
きの赤色変換基板を作製した。この透光性層のみの屈折
率を、屈折率計を用いて測定したところ、1.53(波
長600nm)であり、赤色蛍光変換層の屈折率(1.
58)よりも小さいことを確認した。また、透光性層を
積層する前の赤色蛍光変換層表面における凹凸を、レー
ザー顕微鏡を用いて測定したところ、凹凸形状における
隣接する凸部の頂点間の平均距離は2.5μmであり、
凹凸形状における凸部の頂点と凹部の底点との平均距離
は1.1μmであった。次いで、得られた透光性層付き
の赤色蛍光変換基板を、実施例1と同様に作製した有機
EL素子の発光面(下部電極側)に積層して、実施例4
の有機EL表示装置とした。得られた有機EL表示装置
において、下部電極と、上部電極との間に、DC12V
の電圧を印加して発光させた。色彩色差計CS100を
用いて発光輝度を測定したところ、68cd/m2とい
う値が得られ、変換効率が34%であることを確認し
た。また、得られた発光についてのCIE色度座標は、
X=0.62,Y=0.36であり、赤色(レッド)の
強い発光が得られることを確認した。Example 4 Instead of the photocurable resin JNPC06 in Example 1, a polyvinyl alcohol aqueous solution (average molecular weight: 20,000, concentration: 10) was used as the light-transmitting layer.
Wt%), except that a red conversion substrate with a light-transmitting layer was prepared in the same manner as in Example 1. The refractive index of this translucent layer alone was measured using a refractometer and found to be 1.53 (wavelength 600 nm), which was the refractive index of the red fluorescence conversion layer (1.
58). In addition, when the unevenness on the surface of the red fluorescence conversion layer before the light-transmitting layer was laminated was measured using a laser microscope, the average distance between vertices of adjacent convex portions in the uneven shape was 2.5 μm,
The average distance between the top of the protrusion and the bottom of the recess in the uneven shape was 1.1 μm. Next, the obtained red fluorescence conversion substrate provided with the light-transmitting layer was laminated on the light emitting surface (lower electrode side) of the organic EL device manufactured in the same manner as in Example 1, and Example 4 was performed.
Organic EL display device. In the obtained organic EL display device, DC 12 V was applied between the lower electrode and the upper electrode.
Was applied to emit light. When the light emission luminance was measured using the color difference meter CS100, a value of 68 cd / m 2 was obtained, and it was confirmed that the conversion efficiency was 34%. The CIE chromaticity coordinates of the obtained light emission are as follows:
X = 0.62 and Y = 0.36, and it was confirmed that strong red (red) light emission was obtained.
【0089】[実施例5]実施例1の赤色蛍光変換層用
組成物におけるポリ塩化ビニル樹脂(平均重量分子量2
万)の代りに、アクリレート系の光硬化レジストV25
9PA(新日鉄化学(株)製、固形分50重量%)を用
いたほかは、実施例1と同様に赤色蛍光変換層用組成物
を得た。得られた赤色蛍光変換層用組成物を、縦25m
m、横75mm、厚さ1.1mmのガラス基板(コーニ
ング7059)上に、スピンコータを用いて塗布し、温
度80℃、時間10分の条件で乾燥した。この状態で、
高圧水銀灯を光源とするコンタクト式露光機に装着し、
赤色蛍光変換層用組成物の積層面側から露光量が100
0mJ/cm2となるように、紫外線(波長365n
m)を照射して、20μmの厚さの赤色蛍光変換層を得
た。この赤色蛍光変換層の屈折率を、屈折率計を用いて
測定したところ、1.59(600nm)であった。次
いで、実施例1と同様に、この膜表面に凹凸を形成し
た。レーザー顕微鏡を用いて測定したところ、凹凸形状
における隣接する凸部の頂点間の平均距離は3.2μm
であり、凹凸形状における凸部の頂点と凹部の底点との
平均距離は1.7μmであった。次いで、得られた赤色
蛍光変換層上に、透光性層用材料であるポリメタクリル
酸メチル(平均重量分子量25,000)のテトラクロ
ロエタン溶液をスピンコートし、温度80℃、時間10
分の条件で乾燥して、透光性層付きの赤色蛍光変換基板
を作製した。なお、透光性層のみの屈折率を、屈折率計
を用いて測定したところ、1.47(600nm)であ
り、赤色蛍光変換層の屈折率よりも小さいことを確認し
た。次いで、得られた透光性層付きの赤色蛍光変換基板
を、実施例1と同様に作製した有機EL素子の発光面
(下部電極側)に積層して、実施例5の有機EL表示装
置とした。得られた有機EL表示装置において、下部電
極と、上部電極(陰極)との間に、DC12Vの電圧を
印加して発光させた。色彩色差計CS100を用いて発
光輝度を測定したところ、66cd/m2という値が得
られ、変換効率が33%であることを確認した。また、
得られた発光についてのCIE色度座標は、X=0.6
1,Y=0.35であり、赤色(レッド)の強い発光が
得られることを確認した。Example 5 A polyvinyl chloride resin (average weight molecular weight 2) in the composition for a red fluorescence conversion layer of Example 1
Acrylate-based photocurable resist V25
A composition for a red fluorescence conversion layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that 9PA (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., solid content: 50% by weight) was used. The obtained composition for a red fluorescence conversion layer was applied in a length of 25 m.
It was applied on a glass substrate (Corning 7059) having a width of 75 mm, a width of 75 mm and a thickness of 1.1 mm using a spin coater, and was dried at a temperature of 80 ° C. for 10 minutes. In this state,
Attached to a contact type exposure machine using a high pressure mercury lamp as a light source,
The exposure amount is 100 from the lamination surface side of the composition for a red fluorescence conversion layer.
0 mJ / cm 2 so that ultraviolet rays (wavelength 365 n
m) to obtain a red fluorescence conversion layer having a thickness of 20 μm. When the refractive index of this red fluorescence conversion layer was measured using a refractometer, it was 1.59 (600 nm). Next, as in Example 1, irregularities were formed on the film surface. When measured using a laser microscope, the average distance between the vertices of adjacent convex portions in the uneven shape was 3.2 μm.
The average distance between the top of the projection and the bottom of the recess in the uneven shape was 1.7 μm. Next, a tetrachloroethane solution of polymethyl methacrylate (average weight molecular weight: 25,000), which is a material for a light-transmitting layer, was spin-coated on the obtained red fluorescence conversion layer, and the temperature was 80 ° C. for 10 hours.
After drying under the conditions of minutes, a red fluorescence conversion substrate with a translucent layer was produced. In addition, when the refractive index of only the translucent layer was measured using a refractometer, it was 1.47 (600 nm), and it was confirmed that it was smaller than the refractive index of the red fluorescence conversion layer. Next, the obtained red fluorescence conversion substrate with a light-transmitting layer was laminated on the light emitting surface (lower electrode side) of the organic EL device manufactured in the same manner as in Example 1, and the organic EL display device of Example 5 did. In the obtained organic EL display device, a voltage of 12 V DC was applied between the lower electrode and the upper electrode (cathode) to emit light. When the light emission luminance was measured using the color difference meter CS100, a value of 66 cd / m 2 was obtained, and it was confirmed that the conversion efficiency was 33%. Also,
The CIE chromaticity coordinates for the resulting luminescence were X = 0.6
1, Y = 0.35, and it was confirmed that strong red light emission was obtained.
【0090】[実施例6]実施例5において作製した赤
色蛍光変換基板上に積層した透光性層上に、さらに保護
膜として二酸化珪素(SiO2)膜を、基板温度160
℃、真空度1×10-6の条件にてスパッタリングして、
成膜した。次いで、この二酸化珪素(SiO2)膜上
に、実施例1に準じて有機EL素子を形成した。すなわ
ち、厚さ150nmのITO膜(表面抵抗20Ω/□)
をスパッタリング法により全面的に成膜した。このIT
O膜等をイソプロピルアルコール洗浄および紫外線洗浄
した後、蒸着装置(日本真空技術(株)製)内の基板ホ
ルダーに固定した。そして、蒸着装置内のモリブテン製
の加熱ボードに、正孔注入材料として、MTDATAお
よびNPD、有機発光材料としてDPVBi、ドーパン
トとしてDPAVB、電子注入材料としてAlqをそれ
ぞれ充填し、さらに対向電極(陰極)材料としての銀ワ
イヤーをタングステン製フィラメントに、同じくマグネ
シウムリボンをモリブテン製の加熱ボードに装着した。
その状態で、蒸着装置の真空度を5X10-7torrま
で減圧し、以下の蒸着速度および膜厚となるように、正
孔注入層から陰極の形成まで、途中で真空状態を破ら
ず、一回の真空引きで順次積層し、有機EL素子を作製
した。なお、DPVBiおよびDPAVBは同時蒸着し
て、DPAVBのドーパント量が重量比で1.4となる
ように成膜した。また、対向電極の銀およびマグネシウ
ムについても同時蒸着し、合わせて膜厚が200nmと
なるように成膜した。 MTDATA:蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚60nm NPD :蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚20nm DPVBi :蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚50nm DPAVB :蒸着速度0.05nm/sec. Alq :蒸着速度0.1〜0.3nm/sec.,膜厚20nm Mg :蒸着速度1.3〜1.4nm/sec.,膜厚200nm Ag :蒸着速度0.1nm/sec., 膜厚200nmExample 6 A silicon dioxide (SiO 2 ) film was further formed as a protective film on the translucent layer laminated on the red fluorescence conversion substrate prepared in Example 5, and a substrate temperature of 160.
℃, the degree of vacuum 1 × 10 -6 under sputtering conditions,
A film was formed. Next, an organic EL element was formed on the silicon dioxide (SiO 2 ) film in the same manner as in Example 1. That is, an ITO film having a thickness of 150 nm (a surface resistance of 20Ω / □)
Was entirely formed by a sputtering method. This IT
After the O film and the like were washed with isopropyl alcohol and ultraviolet light, they were fixed to a substrate holder in a vapor deposition apparatus (manufactured by Nippon Vacuum Engineering Co., Ltd.). Then, a heating board made of molybdenum in the vapor deposition apparatus is filled with MTDATA and NPD as hole injection materials, DPVBi as an organic light emitting material, DPAVB as a dopant, and Alq as an electron injection material, respectively, and further, a counter electrode (cathode) material. Was mounted on a tungsten filament, and a magnesium ribbon was mounted on a molybdenum heating board.
In this state, the degree of vacuum of the vapor deposition apparatus was reduced to 5 × 10 −7 torr, and the vacuum was not broken during the process from the hole injection layer to the formation of the cathode once, so that the following vapor deposition rate and film thickness were obtained. Were sequentially laminated by vacuuming to produce an organic EL device. Note that DPVBi and DPAVB were simultaneously deposited to form a film so that the weight ratio of the DPAVB dopant was 1.4. In addition, silver and magnesium of the counter electrode were simultaneously vapor-deposited to form a film with a total thickness of 200 nm. MTDATA: evaporation rate 0.1 to 0.3 nm / sec. , Film thickness 60 nm NPD: evaporation rate 0.1 to 0.3 nm / sec. , Film thickness 20 nm DPVBi: evaporation rate 0.1-0.3 nm / sec. DPAVB: deposition rate 0.05 nm / sec. Alq: deposition rate of 0.1 to 0.3 nm / sec. , Thickness: 20 nm Mg: deposition rate: 1.3 to 1.4 nm / sec. , Thickness 200 nm Ag: evaporation rate 0.1 nm / sec. , Thickness 200nm
【0091】得られた有機EL素子の下部電極と、対向
電極である上部電極(陰極)との間に、DC8Vの電圧
を印加して発光させた。色彩色差計CS100を用いて
発光輝度を測定したところ、33cd/m2という値が
得られ、CIE色度座標は、X=0.61,Y=0.3
5である赤色の強い発光が得られることを確認した。ま
た、赤色蛍光変換層を機械的に削って、下地の発光を測
定したところ、100cd/m2という値が得られ、C
IE色度座標は、X=0.16,Y=0.24である青
色の発光が得られることを確認した。A voltage of DC 8 V was applied between the lower electrode of the obtained organic EL device and the upper electrode (cathode) as a counter electrode to emit light. When the emission luminance was measured using the colorimeter CS100, a value of 33 cd / m 2 was obtained, and the CIE chromaticity coordinates were X = 0.61 and Y = 0.3.
It was confirmed that a strong red light emission of 5 was obtained. When the red fluorescence conversion layer was mechanically shaved and the emission of the base was measured, a value of 100 cd / m 2 was obtained.
The IE chromaticity coordinates confirmed that blue light emission with X = 0.16 and Y = 0.24 was obtained.
【0092】[比較例1]実施例1において、赤色蛍光
変換層の研磨処理を行わなかったほかは、実施例1と同
様に赤色蛍光変換層を作製した。この赤色蛍光変換層表
面における凹凸をレーザー顕微鏡を用いて測定したとこ
ろ、表面は平滑であり、特に表面凹凸は観察されなかっ
た。また、赤色蛍光変換層の屈折率を、屈折率計を用い
て測定したところ、1.58(600nm)であった。Comparative Example 1 A red fluorescence conversion layer was produced in the same manner as in Example 1, except that the polishing treatment of the red fluorescence conversion layer was not performed. When the unevenness on the surface of the red fluorescence conversion layer was measured using a laser microscope, the surface was smooth, and no particular surface unevenness was observed. Moreover, the refractive index of the red fluorescence conversion layer was measured using a refractometer, and was 1.58 (600 nm).
【0093】次いで、平滑な赤色蛍光変換層の上に、実
施例1と同様に透光性層を積層して、透光性層付きの赤
色蛍光変換層を作製した。なお、透光性層のみの屈折率
を、屈折率計を用いて測定したところ、1.54(60
0nm)であった。次いで、得られた透光性層付きの赤
色蛍光変換基板を、実施例1と同様に作製した有機EL
素子の発光面(下部電極側)に積層して、比較例1の有
機EL表示装置とした。得られた有機EL表示装置にお
いて、下部電極(ITOパターン,陽極)と、対向電極
である上部電極(陰極)との間に、DC12Vの電圧を
印加して発光させた。色彩色差計CS100を用いて発
光輝度を測定したところ、60cd/m2という値が得
られ、変換効率が30%であることを確認した。また、
得られた発光についてのCIE色度座標は、X=0.5
9,Y=0.36であり、赤色(レッド)の発光が得ら
れることを確認した。Next, a translucent layer was laminated on the smooth red fluorescence conversion layer in the same manner as in Example 1 to produce a red fluorescence conversion layer with a translucent layer. When the refractive index of only the light transmitting layer was measured using a refractometer, it was 1.54 (60
0 nm). Next, the obtained red fluorescence conversion substrate with a light-transmitting layer was prepared in the same manner as in Example 1 by using an organic EL.
The organic EL display device of Comparative Example 1 was obtained by laminating on the light emitting surface (lower electrode side) of the element. In the obtained organic EL display device, a voltage of 12 V DC was applied between the lower electrode (ITO pattern, anode) and the upper electrode (cathode) as a counter electrode to emit light. The emission luminance was measured using a color difference meter CS100. As a result, a value of 60 cd / m 2 was obtained, and it was confirmed that the conversion efficiency was 30%. Also,
The CIE chromaticity coordinates for the resulting luminescence were X = 0.5
9, Y = 0.36, and it was confirmed that red (red) light emission was obtained.
【0094】[0094]
【発明の効果】以上、本発明の光学的表示装置によれ
ば、色変換層の屈折率と透光性層の屈折率との大小関係
を規定するとともに、色変換層と透光性層との界面構造
を工夫することにより、蛍光物質で全方位に放射される
光を十分に利用することができ、容易に発光輝度を向上
させることができるようになった。また、本発明の別の
光学的表示装置によれば、中間層の屈折率と透光性層の
屈折率との大小関係を規定するとともに、中間層と透光
性層との界面構造等を工夫することにより、蛍光物質で
全方位に放射される光を十分に利用することができ、容
易に発光輝度を向上させることができるようになった。
また、本発明の光学的表示装置の製造方法によれば、蛍
光物質で全方位に放射される光を十分に利用することが
でき、発光輝度が高い光学的表示装置を効率的に得るこ
とができるようになった。その他、本発明の光学的表示
装置は、有機EL素子から発光された光を長波長に変換
することができるため、有機EL素子と組み合わせて、
色変換表示装置としても使用することができる。As described above, according to the optical display device of the present invention, the relationship between the refractive index of the color conversion layer and the refractive index of the light-transmitting layer is defined, and the color conversion layer and the light-transmitting layer are By devising the interface structure of (1), the light emitted in all directions by the fluorescent material can be sufficiently utilized, and the emission luminance can be easily improved. According to another optical display device of the present invention, the magnitude relationship between the refractive index of the intermediate layer and the refractive index of the light-transmitting layer is defined, and the interface structure between the intermediate layer and the light-transmitting layer is determined. By devising, the light emitted in all directions by the fluorescent substance can be sufficiently used, and the emission luminance can be easily improved.
Further, according to the method for manufacturing an optical display device of the present invention, light emitted in all directions by a fluorescent substance can be sufficiently used, and an optical display device having high emission luminance can be efficiently obtained. Now you can. In addition, since the optical display device of the present invention can convert light emitted from the organic EL element into a long wavelength, in combination with the organic EL element,
It can also be used as a color conversion display device.
【図1】第1の実施形態における有機EL表示装置の断
面を模式的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a cross section of an organic EL display device according to a first embodiment.
【図2】従来の有機EL表示装置の断面を模式的に示す
図である(その1)。FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section of a conventional organic EL display device (No. 1).
【図3】第2の実施形態における有機EL表示装置の製
造工程を模式的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a manufacturing process of an organic EL display device according to a second embodiment.
【図4】第3の実施形態における有機EL表示装置の製
造工程を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a manufacturing process of an organic EL display device according to a third embodiment.
【図5】有機EL素子の断面を模式的に示す図である。FIG. 5 is a view schematically showing a cross section of an organic EL element.
【図6】従来の有機EL表示装置の断面を模式的に示す
図である(その2)。FIG. 6 is a diagram schematically showing a cross section of a conventional organic EL display device (part 2).
【図7】従来の有機EL表示装置の断面を模式的に示す
図である(その3)。FIG. 7 is a diagram schematically showing a cross section of a conventional organic EL display device (part 3).
【図8】従来の有機EL表示装置の断面を模式的に示す
図である(その4)。FIG. 8 is a diagram schematically showing a cross section of a conventional organic EL display device (part 4).
【図9】従来の有機EL表示装置の断面を模式的に示す
図である(その5)。FIG. 9 is a view schematically showing a cross section of a conventional organic EL display device (part 5).
10 面状発光体(有機EL素子) 11 発光面 12 透光性層(透光性基材) 13 出射面(界面) 14 色変換層(色変換用組成物) 15 界面 16 蛍光物質 18 光学的表示装置(有機EL表示装置) 20 陰極 22 陽極 24,26,28 色変換層 30,32,34 陽極 40,44,52 基材 42,54 色変換層(色変換用組成物) 45 界面 47,55 凹凸形状 48,58 透光性層 50,60 有機EL素子 56 中間層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Planar light-emitting body (organic EL element) 11 Light-emitting surface 12 Translucent layer (translucent base material) 13 Emission surface (interface) 14 Color conversion layer (composition for color conversion) 15 Interface 16 Fluorescent substance 18 Optical Display device (organic EL display device) 20 Cathode 22 Anode 24, 26, 28 Color conversion layer 30, 32, 34 Anode 40, 44, 52 Base material 42, 54 Color conversion layer (composition for color conversion) 45 Interface 47, 55 Roughness 48,58 Translucent layer 50,60 Organic EL device 56 Intermediate layer
Claims (11)
色変換層とが順次に積層された光学的表示装置におい
て、 前記色変換層の屈折率を前記透光性層の屈折率よりも大
きくし、 かつ、前記色変換層と前記透光性層との界面を凹凸形状
としてあることを特徴とする光学的表示装置。1. A light-transmitting layer on a light-emitting surface side of a planar light-emitting body,
In an optical display device in which a color conversion layer and a color conversion layer are sequentially laminated, the refractive index of the color conversion layer is made larger than the refractive index of the light transmissive layer, and the color conversion layer and the light transmissive layer An optical display device, characterized in that the interface of (1) has an uneven shape.
点間の平均距離を0.5〜10μmの範囲内の値とする
ことを特徴とする請求項1に記載の光学的表示装置。2. The optical display device according to claim 1, wherein an average distance between vertexes of adjacent convex portions in the concave-convex shape is a value within a range of 0.5 to 10 μm.
の底点との平均距離を0.5〜10μmの範囲内の値と
することを特徴とする請求項1または2に記載の光学的
表示装置。3. The optical device according to claim 1, wherein the average distance between the top of the convex portion and the bottom of the concave portion in the concave / convex shape is a value within a range of 0.5 to 10 μm. Display device.
れた光よりも長波長の光を発する蛍光変換層であること
を特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学
的表示装置。4. The color conversion layer according to claim 1, wherein the color conversion layer is a fluorescence conversion layer that emits light having a longer wavelength than light incident on the color conversion layer. Optical display device.
ッセンス素子であることを特徴とする1〜4のいずれか
一項に記載の光学的表示装置。5. The optical display device according to claim 1, wherein the planar luminous body is an organic electroluminescence element.
中間層と、色変換層とが順次に積層された光学的表示装
置において、前記色変換層の屈折率を前記中間層の屈折
率よりも大きくし、かつ、前記中間層と前記透光性層と
の界面を凹凸形状としてあることを特徴とする光学的表
示装置。6. A light-transmitting layer on a light-emitting surface side of a planar light-emitting body,
In an optical display device in which an intermediate layer and a color conversion layer are sequentially laminated, the refractive index of the color conversion layer is larger than the refractive index of the intermediate layer, and the intermediate layer and the light-transmitting layer An optical display device, wherein the interface with the substrate has an uneven shape.
色変換層とが順次に積層されており、かつ、色変換層の
屈折率が透光性層の屈折率よりも大きい光学的表示装置
の製造方法において、 前記色変換層と前記透光性層との界面を凹凸形状とする
工程を含むことを特徴とする光学的表示装置の製造方
法。7. A light-transmitting layer on a light-emitting surface side of a planar light-emitting body,
A method for manufacturing an optical display device in which a color conversion layer and a color conversion layer are sequentially laminated, and the refractive index of the color conversion layer is larger than the refractive index of the light transmissive layer, wherein the color conversion layer and the light transmissive layer A method of manufacturing an optical display device, the method comprising:
凹凸形状とする工程において、前記色変換層の表面を化
学的処理および物理的処理あるいはいずれか一方の処理
を施すことを特徴とする請求項7に記載の光学的表示装
置の製造方法。8. In the step of forming the interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer into an uneven shape, the surface of the color conversion layer may be subjected to a chemical treatment and / or a physical treatment. A method for manufacturing an optical display device according to claim 7, wherein:
凹凸形状とする工程において、表面に凹凸形状を有する
離型性フィルムを介した状態で、前記色変換層を光硬化
あるいは熱硬化することを特徴とする請求項7または8
に記載の光学的表示装置の製造方法。9. In the step of forming an interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer into an uneven shape, the color conversion layer is light-cured or cured with a release film having an uneven shape on the surface. 9. The method of claim 7, wherein the thermosetting is performed.
3. The method for manufacturing an optical display device according to 1.
を凹凸形状とする工程において、表面に凹凸形状を有す
る透光性層を積層した状態で、前記色変換層を光硬化あ
るいは熱硬化することを特徴とする請求項7または8に
記載の光学的表示装置の製造方法。10. In the step of forming an interface between the color conversion layer and the light-transmitting layer into an uneven shape, the color conversion layer is light-cured or laminated while a light-transmitting layer having an uneven shape on the surface is laminated. The method for manufacturing an optical display device according to claim 7, wherein the optical display device is thermally cured.
と、中間層と、色変換層とが順次に積層されており、か
つ、色変換層の屈折率が透光性層の屈折率よりも大きい
光学的表示装置の製造方法において、 前記中間層と前記透光性層との界面を凹凸形状とする工
程を含むことを特徴とする光学的表示装置の製造方法。11. A light-transmitting layer, an intermediate layer, and a color conversion layer are sequentially laminated on the light-emitting surface side of the planar light-emitting body, and the refractive index of the color conversion layer is a light-transmitting layer. A method of manufacturing an optical display device having a refractive index higher than the refractive index of the optical display device, the method including a step of forming an interface between the intermediate layer and the light-transmitting layer into an uneven shape.
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