JP2930935B2 - スチロール基又はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサン組成物、その製法、その塗布法、及びそれからの被覆膜及び成形体 - Google Patents

スチロール基又はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサン組成物、その製法、その塗布法、及びそれからの被覆膜及び成形体

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スチロール基又は
α−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサン組
成物、その製法、その塗布法及びそれから製造される被
覆膜及び成形体に関する。
【0002】
【従来の技術】交互に炭化水素基及び環状ポリシロキサ
ンを有する架橋結合可能なオルガノシリコーンプレポリ
マーは、欧州特許(EP)第423688号明細書(He
rculesIncoporated)に記載されていて、ここでは、プ
レポリマー構成は、3個又はそれ以上の≡SiH−基を
有する、環状ポリシロキサンを有する非芳香族ポリエン
によって行なわれる。この際、もう1つの官能化は、付
加的なビスアルケニル化合物の使用によって達成するこ
とができる。
【0003】アルケニル基を含有するシロキサンコポリ
マーは、米国特許(US)第5241034号明細書(W
acker-Chemie GmbH)に記載されている。
【0004】(メチル)スチロール及びα−メチルスチ
ロールの重合は、以前から公知技術水準であり、当業者
に公知である。
【0005】電荷移動−錯体を経る、多電子性及び少電
子性化合物の、重合開始剤を使用しない一般的光重合法
は、欧州特許(EP)第618237号明細書(Fusion
Systems Corp.)から公知である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、場合
により重合開始剤及び/又はコモノマーと関連して、熱
的に又は高エネルギーの放射線の供給により架橋結合さ
れ得る、改善された特性を有する、新規のスチロール基
又はα−メチルスチロール基を有する有機珪素組成物を
供給することである。この課題は本発明により解明され
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、 A)少なくとも1個の式: GRCSiO(4-C-1)/2 (I) の単位を有する、又は少なくとも1個の式(I)の単位
及び少なくとも1個の式: O(4-C-1/2)CSi−G1−RCSiO(4-C-1)/2 (II) の単位を有するオリゴマー又はポリマー有機珪素化合物
[式中、Rは、1基当たり1〜900個の炭素原子を有
する、ハロゲン化されていてよい又はハロゲン化されて
いない、同じ又は異なる炭化水素基、又は式:
【0008】
【化2】
【0009】の基であり、ここで、R′は、有利に1基
当たり1〜8個の炭素原子を有する、直鎖又は分枝鎖の
アルキレン基であり、R″は、水素原子、有利に1基当
たり1〜8個の炭素原子を有するアルキル基、又は式:
−CO−R″′の基であり、ここで、R″′は、有利に
1基当たり1〜8個の炭素原子を有するアルキル基であ
り、Gは、[−Y(5-d)]及び(−R3 d)で置換されて
いる、式(IV)−R2−(フェニル)の基であるが、
少なくとも1個の基R3を含有しているという条件を有
し、かつG1は、[−Y(4-d)]で置換されている、式
(V)−(フェニル)−(R2d−の基であり、ここ
で、R2は、有利に1基当たり2〜8個の炭素原子を有
する、直鎖又は分枝鎖の、置換された又は非置換のアル
キレン基であり、R3は、ビニル基又はイソプロペニル
基であり、Yは、同じ又は異なっていてよく、水素原
子、Rと同一のもの(ここで、Rは前記のものであ
る)、又は式−OR1の基であり、ここで、R1は前記の
ものであり、かつcは、0、1又は2、平均0.0〜
2.0であり、dは、1、2又は3であり、oは、0又
は1〜100の整数であり、有利に0又は3〜35の整
数であり、pは、0又は1〜100の整数であり、有利
に0又は3〜35の整数であり、かつqは、0又は1〜
100の整数であり、有利に0又は3〜35の整数であ
るが、o+p+qの合計は>0であるという条件を有す
る]、B)モノマーアルケニルオキシ化合物、マレイネ
ート、フマレート、マレインイミド、(メタ)アクリレ
ート、(メチル)スチロール、アクリルアミド、イタコ
ン酸エステル及び/又は平均して1個よりも多いアルケ
ニルオキシ−、マレイネート−、フマレート−、マレイ
ンイミド−又は(メタ)アクリレート基を有するオリゴ
マー又はポリマー有機珪素化合物を基礎として製造可能
、スチロール基又はα−メチルスチロール基を有する
オルガノシロキサン組成物である。
【0010】他の成分として、 C)場合によりラジカル、陰イオン又は陽イオンを形成
させる重合開始剤、 D)場合により可使時間の調整のための重合開始剤が含
有されていてよい。
【0011】他のスチロール基又はα−メチルスチロー
ル基を有するオルガノシロキサン組成物は、更に付加的
に、式:
【0012】Rの例は、有利にアルキル基、例えばメチ
ル−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、
1−n−ブチル−、2−n−ブチル−、イソ−ブチル
−、t−ブチル−、n−ペンチル−、イソ−ペンチル
−、ネオ−ペンチル−、t−ペンチル基;ヘキシル基、
例えばn−ヘキシル基;ヘプチル基、例えばn−ヘプチ
ル基;オクチル基、例えばn−オクチル基及びイソ−オ
クチル基、例えば2,2,4−トリメチルペンチル基;
ノニル基、例えばn−ノニル基;デシル基、例えばn−
デシル基;ドデシル基、例えばn−ドデシル基;オクタ
デシル基、例えばn−オクタデシル基;シクロアルキル
基、例えばシクロペンチル−、シクロヘキシル−、シク
ロヘプチル基及びメチルシクロヘキシル基;アリール
基、例えばフェニル−、ナフチル−、アントリル−及び
フェナントリル基;アルカリール基、例えばo−、m
−、p−トリル基;キシリル基及びエチルフェニル基;
及びアラルキル基、例えばベンジル基、α−及びβ−フ
ェニルエチル基である。メチル基が有利である。
【0013】ハロゲン化された基Rの例は、ハロゲンア
ルキル基、例えば3,3,3−トリフルオル−n−プロ
ピル基、2,2,2,2′,2′,2′−ヘキサフルオ
ルイソプロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基及び
ハロゲンアリール基、例えばo−、m−及びp−クロル
フェニル基である。
【0014】基R′の例は、有利に、式:−CH2−C
2−、−CH2−CH2−CH2−、−CH2−CH(−
CH3)−CH2−のアルキレン基である。
【0015】R″の有利な基は、殊に水素原子、メチル
−及びn−ブチル基であり、R″′の有利な基は、メチ
ル基である。
【0016】アルキル基R1の例は、有利に、メチル
−、エチル−、n−プロピル−、イソプロピル−、1−
n−ブチル−、2−n−ブチル−、イソ−ブチル−、t
−ブチル基である。メチル−及びエチル基が有利であ
る。1個のエーテル酸素原子によって置換されているア
ルキル基R1の例は、有利に、メトキシエチル−及びエ
トキシエチル基である。
【0017】基R2の例は、有利に−CH2−CH2−及
び −CH2−CH(−CH3)−である。
【0018】基R3の例は、有利に−CH=CH2 及び
−C(−CH3)=CH2である。
【0019】本発明による有利な成分(B)の例は、ド
デシルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、ジ
エチレングリコールビニルエーテル、トリエチレングリ
コールジビニルエーテル、ジブチルマレイネート、ジイ
ソオクチルマレイネート、ジエチルフマレート、ジブチ
ルフマレート、N−ブチルマレインイミド、N−オクチ
ルマレインイミド、N−トリデシルマレインイミド、ア
クリル酸ブチルエステル、アクリル酸エチルエステル、
メチルメタクリレート、α−メチルスチロール、ジイソ
プロペニルベンゾール、スチロール、ジビニルベンゾー
ル、アクリルアミド、アクリルニトリル、イタコン酸ジ
エチルエステル及び/又は欧州特許(EP−B)第10
5341号明細書、2頁38〜51行、欧州特許(EP
−B)第439777号明細書、2頁29〜5頁24
行、米国特許(US)第5145915号明細書、2欄
26行〜3欄17行、世界知的所有権機構(WO)第9
3/22368号明細書及び世界知的所有権機構(W
O)第93/22369号明細書に記載の、平均して1
個よりも多いアルケニルオキシ基を有する有機珪素化合
物及び/又は欧州特許(EP)第716114号明細
書、2頁31〜3頁18行及び4頁4行〜5頁20行に
記載の、平均して1個よりも多い(メタ)アクリレート
基を有する有機珪素化合物(ここに挙げたこれらの明細
書は公示への引用によって包含されている("incorpora
ted by reference))及び/又は平均して1個よりも多
いマレインイミド基を有する有機珪素化合物、例えば、
有利に、E)少なくとも1個の式:
【0020】
【化3】
【0021】[式中、R4は、1個又は数個のエーテル
酸素原子を含有していてよい2価の、場合により置換さ
れた炭化水素基を表わし、かつR5は、同じ又は異なっ
ていて、水素原子又は1〜18個の炭素原子を有する、
場合により置換された炭化水素基を表わす]のマレイン
イミド基を有する有機珪素化合物である。
【0022】ここで使用される有機珪素化合物(E)と
は、例えば、直鎖、分枝鎖又は環状であってよい、任意
の、従来公知のマレインイミド基を有するモノマー、オ
リゴマー又はポリマー有機珪素化合物であってよい。
【0023】有機珪素化合物(E)とは、有利に、式: Ja6 bSiXe(4-a-b-e)/2 (VI) [式中、R6は、同じ又は異なり、1〜18個の炭素原
子を有する1価の、場合によりハロゲン化された炭化水
素基を表わし、Xは、同じ又は異なり、ハロゲン原子又
は基 −OR7 であり、ここで、R7は、1又は数個の
エーテル酸素原子によって置換されていてよい、1基当
たり1〜18個の炭素原子を有するアルキル基を表わ
し、Jは、式(V)の基であり、aは、0又は1であ
り、bは、0、1、2又は3であり、かつeは、0、
1、2又は3であり、ここで、a+b+eの合計は≦4
であり、かつ1分子当たり少なくとも1個の基Jを含有
しているという条件を伴う]の単位から成るものであ
る。
【0024】ここで使用される有機珪素化合物(E)の
場合には、式(V)の基がSiC−結合を介して珪素原
子に結合しているのが有利である。
【0025】ここで使用される、式(VI)の単位から
成る有機珪素化合物(E)の場合には、aは有利に0.
001〜1.0の平均値を有し、bは有利に0〜3.0
の平均値を有し、eは有利に0.0〜3.0の平均値を
有し、a+b+eの合計は有利に0.1〜4.0の平均
値を有する。
【0026】ここで使用される有機珪素化合物(E)
は、有利に200〜1000000g/モル、特に有利
に1000〜50000g/モルの平均分子量(Mn
を有する。
【0027】ここで使用される有機珪素化合物(E)
は、25℃で有利に10〜1000000mm2/s、
殊に25℃で20〜100000mm2/sの粘度を有
する。
【0028】基R6の例は、アルキル基、例えばメチル
−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、1
−n−ブチル−、2−n−ブチル−、イソ−ブチル−、
t−ブチル−、n−ペンチル−、イソ−ペンチル−、ネ
オ−ペンチル−、t−ペンチル基;ヘキシル基、例えば
n−ヘキシル基;ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基;
オクチル基、例えばn−オクチル基及びイソ−オクチル
基、例えば2,2,4−トリメチルペンチル基;ノニル
基、例えばn−ノニル基;デシル基、例えばn−デシル
基;ドデシル基、例えばn−ドデシル基;オクタデシル
基、例えばn−オクタデシル基;シクロアルキル基、例
えばシクロペンチル−、シクロヘキシル−、シクロヘプ
チル基及びメチルシクロヘキシル基;アルケニル基、例
えばアリル−、メタリル−及びヘキセニル基;アルキニ
ル基、例えばプロパルギル基;アリール基、例えばフェ
ニル−、ナフチル−及びアントリル−及びフェナントリ
ル基;アルカリール基、例えばo−、m−、p−トリル
基;キシリル基及びエチルフェニル基;及びアラルキル
基、例えばベンジル基、α−及びβ−フェニルエチル基
である。
【0029】ハロゲン化された基R6の例は、ハロゲン
アルキル基、例えば3,3,3−トリフルオル−n−プ
ロピル基、2,2,2,2′,2′,2′−ヘキサフル
オル−イソプロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基
及びハロゲンアリール基、o−、m−及びp−クロルフ
ェニル基である。
【0030】基R6とは、有利に、メチル−及びフェニ
ル基であり、ここでメチル基が特に有利である。
【0031】アルキル基R7の例は、基R6について挙げ
た例、並びにメトキシエチル−及びエトキシエチル基で
ある。
【0032】基R7とは、有利に、メチル−、エチル
−、イソ−プロピル−及びメトキシエチル基であり、こ
こでメチル−及びエチル基が有利である。
【0033】ハロゲン原子である基Xとは、有利に塩素
原子である。
【0034】基Xとは、有利に、メトキシ−及びエトキ
シ基である。
【0035】基R4の例は、アルキレン基、例えば−C
2−CH2−、−(CH23−、−(CH24−及び−
(CH2−CH(CH3)−CH2−、アルケニレン基、
例えば −CH=CH−CH2−、芳香族基、例えば
−CH2−CH2−C64−及び−(CH23−C6
4−、並びに式:
【0036】
【化4】
【0037】[式中、wは各々0又は1〜15の整数で
ある]のもの、例えば−CH2CH2−O−CH2CH2
2−である。
【0038】基R4とは、有利に、1又は数個のエーテ
ル酸素原子によって置換されていてよい、1〜35個の
炭素原子を有する、2価の、場合によりハロゲン原子で
置換された炭化水素基である。
【0039】基R4とは、特に有利に、1又は数個の酸
素原子により遮断されていてよい、各々1〜35個の炭
素原子を有するアルキレン基及びアルケニレン基、特
に、基−(CH23−、−CH=CH−CH2−、−C
2−CH2−C64−及び−CH=CH−CH2O(C
2CH2O)WCH2CH2−[ここでwは前記のもので
ある]である。
【0040】R5の例は、水素原子及びR6について挙げ
た例である。
【0041】基R5は、有利に水素原子、メチル−又は
フェニル基であり、ここで水素原子が特に有利である。
【0042】基Jの例は、
【0043】
【化5】
【0044】マレインイミド基を有する有機珪素化合物
(E)とは、特に有利に、式:
【0045】
【化6】
【0046】[式中、J及びR6は、前記のものであ
り、gは、同じ又は異なっていてよく、0又は1であ
り、nは、0又は1〜1500の整数であり、かつm
は、0又は1〜200の整数であり、ここで、1分子当
たり少なくとも1個の基Jを含有していて、n個の単位
(SiR6 2O)及びm個の単位(SiR6JO)が任意
に分子中に分配されていてよいという条件を伴う]のも
ののことである。
【0047】ここで使用されるマレインイミド基を有す
る有機珪素化合物(E)の例は、
【0048】
【化7】
【0049】であり、ここで、J1は、
【0050】
【化8】
【0051】と同一であり、ここで、J2は、
【0052】
【化9】
【0053】と同一であり、ここで、J3は、
【0054】
【化10】
【0055】と同一であり、Meは、メチル基を表す。
【0056】本発明により使用される化合物(B)と
は、このような化合物の単一種類のものであっても、異
なる種類からの混合物であってもよい。
【0057】スチロール基又はα−メチルスチロール基
を有するシロキサンコポリマーとしては、 a)式: R2SiO (I′)又は R3SiO1/2
(I″) のシロキサン単位、 b)1分子当たり少なくとも1個の式: GRSiO 又は GR2SiO1/2 (II′) のシロキサン単位、及び/又は1分子当たり少なくとも
1個の式: O1/22SiG12SiO1/2 (III′)又は ORSiG1RSiO (IV′) の単位を含有する(この際、少なくとも1個の単位(I
I′)を含有しているという条件を伴う)ものが有利で
ある。
【0058】更に、スチロール基又はα−メチルスチロ
ール基を有するシロキサンコポリマーとしては、式:
【0059】
【化11】
【0060】[式中、G、G1及びRは、前記のもので
あり、かつfは、0又は1であり、xは、0又は1〜2
00の整数であり、yは、0又は1〜50の整数であ
り、zは、0又は1〜1000の整数である]のものが
有利であり、この際、少なくとも1個のGが存在すると
いう条件が伴う。
【0061】基(SiROG)x、(SiR21SiR2
O)y 又は(SiR2O)zの順序は任意である。
【0062】スチロール基又はα−メチルスチロール基
を有する有機珪素組成物は、有利に、500〜1000
000g/モル、有利に5000〜150000g/モ
ルの平均分子量、有利に、25℃で10〜100000
0mm2・s-1の粘度を有する。
【0063】更に、本発明は、本発明によるスチロール
基又はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキ
サン組成物の製法に関し、この方法は、(A)及び
(B)を熱及び/又は高エネルギーの放射線の供給によ
って架橋結合させることを特徴とする。
【0064】この際、場合により、 C)ラジカル、陰イオン又は陽イオンを形成させる重合
開始剤及び D)可使時間の調整のための抑制剤が存在していてよ
い。
【0065】本発明による組成物は、有機珪素化合物
(A)並びに化合物(B)を、広い範囲で変動する比率
で含有することができ、この際、この比率はこれらの化
合物の化学量論に従う。即ち、[−Y(5-d)]及び(−
3 d)で置換されている化合物(A)の式(IV)−R
2−(フェニル)−基中の二重結合と、化合物(B)中
の二重結合との数値的比率は、有利に、0.1〜20、
特に有利に0.3〜10、殊に0.5〜7の範囲にあ
る。
【0066】本発明による組成物は、高エネルギー放射
線の影響下で架橋結合することができる。この際、多種
の放射線、例えば電子線、γ−線、レントゲン線、UV
−光、例えば200〜400nmの範囲の波長を有する
それ、及び可視光、例えば200〜600nmの波長を
有するそれ、要するにいわゆる”ハロゲン光”が好適で
ある。紫外線光は、例えばキセノン−、水銀低圧−、水
銀中圧−又は水銀高圧灯及びエクシマ−灯(Excimerlam
pen)で発生させることができる。
【0067】もう1つの有利な方法は、高エネルギーの
放射線の照射による、本発明による(α−メチル)スチ
ロールシロキサン組成物の架橋結合法である。
【0068】本発明による組成物がそれによって架橋結
合される高エネルギーの放射線とは、有利に、200〜
400nmの範囲のUV−光、又は電子線、例えば有利
に、単色エクシマー灯又は水銀中圧灯である。
【0069】本発明による組成物は、高エネルギーの放
射線を供給しなくても、純粋に熱的に架橋結合させるこ
とができ、従って、本発明による組成物は、この放射線
の排除下でも、限定されてはいるが耐久性を有する。し
かし、このいわゆる可使時間は、高エネルギーの放射線
の影響下での、架橋結合時間の数倍に達し、従って、純
粋に熱的な硬化は確かに可能ではあるが、有利ではな
い。
【0070】更に、光化学的及び熱的架橋結合を組み合
わせることも可能である。
【0071】本発明による(α−メチル)スチロールシ
ロキサン組成物は、場合によりラジカル形成性重合開始
剤(C)を含有することができる。成分(A)と成分
(B)との好適な組合せは、任意の成分(C)が無くて
も、例えば電子線又はエクシマー灯により硬化すること
ができるが、放射エネルギーを吸収し、それによってラ
ジカルに分解するラジカル重合開始剤の添加は、架橋結
合速度の上昇に作用する。
【0072】ラジカル的架橋結合の際に、場合により使
用される重合開始剤(C)の例は、有利に、ベンゾイン
エーテル、例えばベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベ
ンジルケタール、例えばベンジルジメチルケタール、
α,α−ジアルコキシアセト−フェノン、例えばα,α
−ジエトキシアセトフェノン、α−ヒドロキシアルキル
フェノン、例えば1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、及び2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、α−アミノアルキルフェノ
ン、例えば2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェ
ニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、アシルホ
スフィンオキシド、例えば2,4,6−トリメチルベン
ゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、及びビスアシ
ルホスフィンオキシド、例えばビス(2,6−ジメトキ
シベンゾイル)−イソオクチルホスフィンオキシドであ
る。
【0073】ラジカル的架橋結合の際の重合開始剤
(C)として、有利に、ケトン、例えばベンゾフェノ
ン、1−クロル−4−プロポキシチオキサントン、イソ
プロピルチオキサントン及びチオキサントンが有利であ
るが、特に、アミノ助重合開始剤、例えばトリエタノー
ルアミン又は2−n−ブトキシエチル−4−(ジメチル
アミノ)ベンゾエートと組み合わせても同様に有効であ
り、この際、異なる種類のこのような重合開始剤からの
混合物を使用することもできる。
【0074】場合による、陽イオン又は陽子を形成する
重合開始剤(C)の例は、有利に、スルホニウム−、ヨ
−ドニウム−又はジアゾニウム塩、BF3、AlCl3
TiCl4及びSnCl4と水又はアルコール、プロトン
酸、例えばHCl及びH2SO4とからの錯体のあらゆる
種類であり、この際、このような重合開始剤の異なる種
類からの混合物を使用することもできる。
【0075】場合による、陰イオンを形成する重合開始
剤(C)の例は、有利に、アルカリ金属及びその有機化
合物、フェニルリチウム、ブチルリチウム、フェニルナ
トリウム、トリフェニルメチルカリウム又は所謂、アル
フィン触媒であり、この際、このような重合開始剤の異
なる種類からの混合物を使用することもできる。
【0076】本発明により場合により使用される重合開
始剤(C)とは、このような重合開始剤の単一の種類、
並びにこのような重合開始剤の異なる種類からの混合物
であってよい。
【0077】重合開始剤(C)は、各々(A)及び
(B)の総重量に対して、有利に、0.001〜5重量
%、特に有利に、0.01〜3重量%の量で使用され
る。より良好な操作の理由から、例えば、使用可能な組
成物のその貯蔵の間の早期架橋結合を回避するために、
(A)+(B)+(C)からの混合物に、少量の抑制性
成分(D)を加えることが有利である。この物質の課題
は、一般に、生成ラジカル、陽イオン又は陰イオンを無
効にし、それによって、例えば、構造: (IV)−R2−(フェニル) {これは、[−Y(5-d)]及び(−R3 d)で置換されて
いる}の基と、成分(B)の分子との、ラジカル性、陰
イオン性又は陽イオン性重合の開始を遅延させる又は回
避させることである。
【0078】照射又は多大の加熱により、多量のラジカ
ル、陰イオン又は陽イオンが遊離される場合には、抑制
剤分子(D)が急速に消費され、本発明による組成物の
硬化は極めて突然に始まる。場合により使用される抑制
剤(D)の例は、従来同様にラジカル的経過の方法で使
用されている慣用の全ての抑制剤(D)、例えば有利
に、ヒドロキノン、4−メトキシフェノール、2,6−
ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール又はフェノチア
ジンである。本発明により場合により使用される抑制剤
(D)は、このような抑制剤の単一種類、並びに、この
ような抑制剤の異なる種類からの混合物のことであって
よい。陽イオン又は陰イオン性重合の抑制剤の他の例
は、有利に、水酸化カリウム、ソルビン酸カリウム、ア
ミン、アルコール、酸である。
【0079】抑制剤(D)は、各々、本発明による(α
メチル)スチロールシロキサン組成物の総量に対し
て、有利に10〜10000ppm、特に有利に50〜
1000ppmの量で使用するのが有利である。放射線
架橋結合は、有利に、0〜100℃、特に有利に、20
〜60℃の温度で、環境圧、即ち900〜1100hP
a.で行なわれる。
【0080】更に、本発明によるシロキサン組成物をも
っぱら熱的に硬化させることは可能であるが、これは有
利ではなく、その際には、その後に、ラジカルを形成さ
せる過酸化物又はアゾ化合物(CE)の添加が有利であ
る。場合により添加される成分(CE)の例は、有利
に、過酸化ラウロイル、過酸化ベンゾイル、2,4−ジ
クロルベンゾイルペルオキシド及びアゾイソブチロニト
リルである。陽イオン架橋結合、熱的架橋結合のための
(CE)の更なる例は、有利に、ジアゾニウム塩又はヨ
ードニウム塩である。
【0081】熱的架橋結合は、有利に、−70〜200
℃、特に有利に、−40〜150℃の温度で、環境圧、
即ち、900〜1100hPa.で行なわれる。この
際、まわりの雰囲気は、空気、窒素ガス、キセノンガス
又は他の保護ガスであってよい。更に、本発明による組
成物は、なお場合により、添加物質、例えば有利に、充
填剤、顔料及び付着助剤、例えばシラン又はエポキシド
化合物を含有することができる。
【0082】本発明のもう1つの目的は、本発明によ
チロール基又はα−メチルスチロール基を有するオル
ガノシロキサン組成物の塗布法であり、この方法は、本
発明によるスチロール基又はα−メチルスチロール基
有するオルガノシロキサン組成物を、支持体上に塗布す
ることを特徴とする。
【0083】本発明のもう1つの目的は、本発明によ
チロール基又はα−メチルスチロール基を有するオル
ガノシロキサン組成物から成る被覆膜又は成形体であ
る。
【0084】本発明による硬化可能なシロキサン組成物
は、成分(A)が成分(B)と著しく相容性であり、従
って、相分離せずに澄明な混合物が得られるという利点
を有する。更に、本発明による組成物は、それが簡単な
方法で、極めて容易に硬い被覆膜又は成形体に架橋結合
するという利点を有する。本発明による組成物は、従来
も架橋結合可能なシロキサン組成物を基礎とする架橋結
合可能な組成物が使用された所ではどこでも使用するこ
とができる。本発明による組成物は、例えば硬い被覆膜
又は成形体の製造のために著しく好適である。支持体の
例は、有利に、本発明による被覆膜を塗布することがで
きる表面であり、これは、有利に、紙、木材、コルク、
プラスチックシート、例えばポリエチレンシート又はポ
リプロピレンシート、セラミック物体、ガラス繊維を包
含するガラス、金属、アスベストから成るものを包含す
る厚紙、及び天然又は合成有機繊維からの織物の及び非
織布の表面である。成形体の例は、パッキン、筺体、電
子工学用部品の密封用注入コンパウンドである。
【0085】塗布すべき表面上への本発明による(α−
メチル)スチロールシロキサン組成物、又はそれらの処
方物の塗布は、液状物質からの被覆膜の製造のために好
適である多くの公知の任意の方法で、例えば浸漬、ハケ
塗り、注入、噴霧、ローラー掛け、印刷、例えばオフセ
ットグラビア被覆装置、ナイフ−又は掻除器被覆を用い
て行なうことができる。殊に、本発明による組成物は、
接着性被覆材料中で使用するために好適である。
【0086】
【実施例】例1: 白金含量1重量%(純金属に対して)を有するトルオー
ル中の、ジイソプロペニルベンゾール66g(0.41
7モル)及び1,3−ジビニル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサン白金(O)−錯体0.332g
を、室温で撹拌下で、前以て装入する。これに、トリメ
チルシロキシ−、水素ジメチルシロキシ−、ジメチルシ
ロキシ−及び水素メチルシロキシ単位、25℃で31m
/sの粘度及び珪素原子に結合した水素原子含量
0.13重量%を有するポリシロキサン100gを2時
間かけて滴加し、この際、温度は40℃に上昇する。引
き続いて、この反応混合物を40℃で更に6時間撹拌す
る。反応終了後に、生成物を高真空中で120℃で重量
が一定になるまで濃縮させ、濾過する。25℃で粘度1
38mm/sを有する澄明な黄色油状物110g(理
論値の90.2%)が得られる(ポリ1)。
【0087】例2: ジイソプロペニルベンゾール28.5g(0.18モ
ル)及び例1に記載した白金触媒0.257gを、室温
で撹拌下で前以て装入する。これに、トリメチルシロキ
シ−、ジメチルシロキシ−及び水素メチルシロキシ単
位、25℃で395mm/sの粘度及び珪素原子に結
合した水素原子含量0.06重量%を有するポリシロキ
サン100gを1時間かけて滴加し、この際、温度は3
5℃に上昇する。引き続いて、反応混合物を室温で更に
6時間撹拌する。この反応の終了後に、生成物を高真空
中で120℃で重量が一定になるまで濃縮させ、濾過す
る。25℃で粘度1585mm/sを有する澄明な褐
色油状物105g(理論値の95.9%)が得られる
(ポリ2)。
【0088】例3: ジイソプロペニルベンゾール95g(0.6モル)及び
例1に記載した白金触媒0.39gを、室温で撹拌下で
前以て装入する。これに、水素ジメチルシロキシ−及び
ジメチルシロキシ単位、25℃で7.2mm/sの粘
度及び珪素原子に結合した水素原子含量0.2重量%を
有するポリシロキサン100gを3時間かけて滴加し、
この際、温度は45℃に上昇する。引き続いて、この反
応混合物を室温で更に6時間撹拌する。反応終了後に、
生成物を高真空中で120℃で重量が一定になるまで濃
縮させ、濾過する。25℃で粘度30mm/sを有す
る澄明な褐色油状物123g(理論値の93.4%)が
得られる(ポリ3)。
【0089】例4: ジイソプロニルベンゾール13g(0.082モ
ル)、例1に記載した白金触媒0.226g及び水素ジ
メチルシロキシ−及びジメチルシロキシ単位、25℃で
170mm/sの粘度及び珪素原子に結合した水素原
子含量0.027重量%を有するポリシロキサン100
gを、30℃で7時間撹拌する。反応終了後に、生成物
を高真空中で120℃で重量が一定になるまで濃縮さ
せ、濾過する。25℃で粘度710mm/sの澄明な
明褐色油状物102g(理論値の97.8%)が得られ
る(ポリ4)。
【0090】例5: ジイソプロペニルベンゾール13gの代わりに、ジビニ
ルベンゾール10.7g(0.082モル)を使用し
て、例4を前記のように繰り返す。25℃で粘度690
mm/sを有する澄明な、やや黄色の油状物101g
(理論値の97.6%)が得られる(ポリ5)。
【0091】一般的な放射線硬化法 後記の処方物を、ガラス棒で、グラシン−紙(熱時カレ
ンダー圧延し、ポリビニルアルコールで表面処理した
紙、例えば Bosso 社製の Bosso 925 )上に、約2〜
3mmの層厚で塗布する。硬化は、Fusion 社のマイク
ロウェーブ励起の中圧水銀灯下で、120W/cm2
行なわれ、この際、場合により、総硬化管は窒素ガスで
残余酸素約30ppmまで不活性化することができる。
照射時間は、被覆紙がそれの上に固定されていて、放射
線源の下を通過する移動ベルトの速度を介して調節する
ことができる。
【0092】例6:ポリ1(2g)(−C(CH3)=
CH2 0.987ミリモル/g)を、25℃で粘度
2.7mm2/sのトリグリコールジビニルエーテル
0.465g(9.9ミリモル −O−CH=CH2
g)及びミリスチン酸イソプロピル中の式:
【0093】
【化12】
【0094】の物質の50重量%の溶液0.049gと
混合させる。硬化は、ベルト速度3m/分で、窒素ガス
下、及び空気下で行なわれる。双方の場合に、縞模様の
ないシリコーン被覆物が得られる。
【0095】例7:ポリ2(2g)(−C(CH3)=
CH2 0.52ミリモル/g)を、フマル酸ジブチル
0.23g(−CH=CH− 4.4ミリモル/g)と
混合させる。硬化は、窒素ガス不活性化下に、ベルト速
度2m/分で行なわれる。縞模様のないシリコーン被覆
物が得られる。
【0096】例8:ポリ3(2g)(−C(CH3)=
CH2 1.51ミリモル/g)、アクリル酸メチルエ
ステル0.26g(H2C=CH− 11.6ミリモル
/g)を、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル
プロパン−1−オン(Ciba Geigy 社の Darocur(登録
商標)1173)0.045gと混合させる。硬化は、窒素
ガス不活性化下で、ベルト速度5m/分で行なわれる。
縞模様のないシリコーン被覆物が得られる。
【0097】例9:ポリ1(2g)(−C(CH3)=
CH2 0.987ミリモル/g)及び25℃で粘度2
770mm2/sのトリメチルシロキシ−、ジメチルシ
ロキシ−及び3−N−マレインイミドプロプ−1−エニ
ルメチルシロキシ単位を有するポリシロキサン4.2g
(−CH=CH− 0.47ミリモル/g)を混合させ
る。硬化は、窒素ガス不活性化下で、ベルト速度12.
5m/分で、かつ空気下で、8.5m/分で行なわれ
る。双方の場合に、縞模様のないシリコーン被覆物が得
られる。
【0098】例10:ポリ5(10g)を、 Darocur
(登録商標)1173(Ciba Geigy 社)0.2gと混合させ
る。硬化は、窒素ガス不活性化下で、ベルト速度15m
/分で行なわれる。縞模様のないシリコーン被覆物が得
られる。
【0099】例11:ポリ4(10g)に、n−ヘキサ
ン中のブチルリチウムの15重量%の溶液0.5gを、
−25℃で、ガラスフラスコ中で加える。突然の硬化が
起こる。有機溶剤中に不溶性の、透明な塊状物が得られ
る。
【0100】例12:ポリ1(2.37g)(−C(C
3)=CH2 0.987ミリモル/g)及び25℃で
粘度54mm2/sのトリメチルシロキシ−及び11−
ビニルオキシ−3,6,9−トリオキサウンデセニルメ
チルシロキシ単位を有するポリシロキサン5.12g
(2.94ミリモル −O−CH=CH2/g)を、例
6に記載したスルホニウム塩0.15gと混合させる。
硬化は、ベルト速度8m/分で、窒素ガス下で、及び空
気下で行なわれる。双方の場合に、縞模様のないシリコ
ーン被覆物が得られる。
【0101】例13:ポリ1(1g)(−C(CH3
=CH2 0.987ミリモル/g)及び25℃で粘度
355mm2/sのジメチルシロキシ−及びアルケンジ
イルビスオキサプロピルアクリレートメチルシロキシ単
位を有するポリシロキサン2.06g及び Darocur(登
録商標)1173(Ciba Geigy 社)0.1gと混合させる。
硬化は、窒素ガス下で、ベルト速度18m/分で行なわ
れる。縞模様のないシリコーン被覆物が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルンヴァルト ドイプツァー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン フ ィルヒョヴシュトラーセ 14 (56)参考文献 特開 平2−306981(JP,A) 特開 平2−178291(JP,A) 特開 平2−41322(JP,A) 特開 昭63−241012(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 290/00 - 290/14 C08F 299/00 - 299/08 C09D 1/00 - 201/10 C08G 77/00 - 77/62

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】A)少なくとも1個の式: GRCSiO(4-C-1)/2 (I) の単位を有する、又は少なくとも1個の式(I)の単位
    及び少なくとも1個の式: O(4-C-1/2)CSi−G1−RCSiO(4-C-1)/2 (II) の単位を有するオリゴマー又はポリマー有機珪素化合物
    [式中、Rは、ハロゲン化されていてよい又はハロゲン
    化されていない、同じ又は異なる炭化水素基、又は式: 【化1】 の基であり、ここで、 R′は、直鎖又は分枝鎖のアルキレン基であり、 R″は、水素原子、アルキル基、又は式:−CO−
    R″′の基であり、ここで、R″′は、アルキル基であ
    り、 Gは、[−Y(5-d)]及び(−R3 d)で置換されてい
    る、式(IV) −R2−(フェニル) の基である
    が、少なくとも1個の基R3を含有するという条件を有
    し、かつG1は、[−Y(4-d)]で置換されている、式
    (V)−(フェニル)−(R2d−の基であり、ここ
    で、 R2は、直鎖又は分枝鎖の、置換された又は非置換のア
    ルキレン基であり、 R3は、ビニル基又はイソプロペニル基であり、 Yは、同じ又は異なっていてよく、水素原子、Rと同一
    のもの(ここで、Rは前記のものである)、又は式 −
    OR1 の基であり、ここで、R1は前記のものであり、
    かつcは、0、1又は2、平均0.0〜2.0であり、 dは、1、2又は3であり、 oは、0又は1〜100の整数であり、 pは、0又は1〜100の整数であり、かつqは、0又
    は1〜100の整数であるが、 o+p+qの合計は>0であるという条件を有する]、 B)モノマーアルケニルオキシ化合物、マレイネート、
    フマレート、マレインイミド、(メタ)アクリレート、
    (メチル)スチロール、アクリルアミド、イタコン酸エ
    ステル及び/又は平均して1個よりも多いアルケニルオ
    キシ−、マレイネート−、フマレート−、マレインイミ
    ド−又は(メタ)アクリレート基を有するオリゴマー又
    はポリマー有機珪素化合物を基礎として製造可能な、ス
    チロール基又はα−メチルスチロール基を有するオルガ
    ノシロキサン組成物。
  2. 【請求項2】 成分A)は付加的に、式: RaSi(OR1b4-(a+b)/2 (III) [式中、Rは、請求項1に記載したものであり、かつR
    1は、1個のエーテル酸素原子によって置換されていて
    よい、1基当たり1〜8個の炭素原子を有する、同じ又
    は異なるアルキル基を表わし、 a、bは、0、1、2または3であり、a+bの合計は
    3よりも大きくない]の単位を含有している、請求項1
    に記載のスチロール基又はα−メチルスチロール基を有
    するオルガノシロキサン組成物。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載のスチロール基又
    はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサン
    組成物の樹脂硬化物を製造するために、(A)及び
    (B)を、熱及び/又は高エネルギーの放射線の供給に
    よって架橋結合させることを特徴とする、スチロール基
    又はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサ
    ン組成物の樹脂硬化物の製法。
  4. 【請求項4】 スチロール基又はα−メチルスチロール
    基を有するオルガノシロキサン組成物を支持体上に塗布
    することを特徴とする、請求項1からまでのいずれか
    1項に記載スチロール基又はα−メチルスチロール基
    を有するオルガノシロキサン組成物を塗布する方法。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2に記載のスチロール基又
    はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサン
    組成物の架橋結合した硬化物から成る被覆膜又は成形
    体。
JP12217498A 1997-05-02 1998-05-01 スチロール基又はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサン組成物、その製法、その塗布法、及びそれからの被覆膜及び成形体 Expired - Lifetime JP2930935B2 (ja)

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