JP2929506B2 - 冷却可変の高強度ｘ線源 - Google Patents
冷却可変の高強度ｘ線源Info
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- JP2929506B2 JP2929506B2 JP5508581A JP50858192A JP2929506B2 JP 2929506 B2 JP2929506 B2 JP 2929506B2 JP 5508581 A JP5508581 A JP 5508581A JP 50858192 A JP50858192 A JP 50858192A JP 2929506 B2 JP2929506 B2 JP 2929506B2
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- housing
- cooling surface
- cooling
- cathode
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
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- H01J2235/1204—Cooling of the anode
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- H—ELECTRICITY
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- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/12—Cooling
- H01J2235/1225—Cooling characterised by method
- H01J2235/1262—Circulating fluids
- H01J2235/1266—Circulating fluids flow being via moving conduit or shaft
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は高強度Ｘ線を発生する方法および装置に関す
る。
る。
過去に、熱を拡散させるように回転する陽極であって
熱が放射により除去される陽極を有するＸ線管が記載さ
れていた。他のＸ線管として、真空エンベロープにしっ
かりと固定された流体冷却式陽極および回転式真空エン
ベロープを備えたものが記載されていた。これらの装置
の主な欠点は、2000度を超える温度にまで加熱される陽
極の効果的な冷却能力に関するものである。Ｘ線管はＸ
線をパルス状に放射する装置であるので、従来の液体冷
却は満足できるものではない。その理由は、パルスの
「オン」期間中のエネルギーレベルが除去するには高ず
ぎるからである。したがって高温陽極に適合する液体冷
却システムと組み合わせた、放射冷却設計による高温性
能とエネルギーの格納とを得る手段を得る必要性があ
る。この手段は、効果的な液体冷却を行なうため最大温
度を超えることを防ぐ可変温度導体およびＸ線管の様々
な部分を冷却するためその他の方法を使う。
熱が放射により除去される陽極を有するＸ線管が記載さ
れていた。他のＸ線管として、真空エンベロープにしっ
かりと固定された流体冷却式陽極および回転式真空エン
ベロープを備えたものが記載されていた。これらの装置
の主な欠点は、2000度を超える温度にまで加熱される陽
極の効果的な冷却能力に関するものである。Ｘ線管はＸ
線をパルス状に放射する装置であるので、従来の液体冷
却は満足できるものではない。その理由は、パルスの
「オン」期間中のエネルギーレベルが除去するには高ず
ぎるからである。したがって高温陽極に適合する液体冷
却システムと組み合わせた、放射冷却設計による高温性
能とエネルギーの格納とを得る手段を得る必要性があ
る。この手段は、効果的な液体冷却を行なうため最大温
度を超えることを防ぐ可変温度導体およびＸ線管の様々
な部分を冷却するためその他の方法を使う。
概略、本発明は、陽極を含むＸ線真空管ハウジング全
体が一軸線の回りに回転するようにしてＸ線を発生する
方法および装置であって、軸線から離れた陽極の一領域
に電子を集束する手段と、陽極から離れている冷却面で
あってこの面全体にわたって実質的に均一な温度となる
ように可変熱伝導により陽極から熱が伝導される冷却面
とを備える方法および装置である。
体が一軸線の回りに回転するようにしてＸ線を発生する
方法および装置であって、軸線から離れた陽極の一領域
に電子を集束する手段と、陽極から離れている冷却面で
あってこの面全体にわたって実質的に均一な温度となる
ように可変熱伝導により陽極から熱が伝導される冷却面
とを備える方法および装置である。
この発明によると、冷却液を安全な温度に維持したま
ま、効率的な熱交換操作を行うために必要な熱拡散を達
成することが可能となる。
ま、効率的な熱交換操作を行うために必要な熱拡散を達
成することが可能となる。
本発明のもう一つの局面では、電子を発生させて前記
軸線から離れた陽極の一領域に電子を集束させるととも
に、ハウジングが回転するときにその領域と陽極との間
での相対移動を維持するための方法および装置を与え
る。この発生装置は、固定陰極の形態あるいは陽極の所
望の領域に電子ビームを偏向させるための磁場等の偏向
手段の形態をとることができる。
軸線から離れた陽極の一領域に電子を集束させるととも
に、ハウジングが回転するときにその領域と陽極との間
での相対移動を維持するための方法および装置を与え
る。この発生装置は、固定陰極の形態あるいは陽極の所
望の領域に電子ビームを偏向させるための磁場等の偏向
手段の形態をとることができる。
本発明の一つの局面では、熱交換器の様々な領域に至
る経路が異なるにもかかわらず、一連の個別領域の各々
が冷却面に実質的に等量の熱を伝達する。
る経路が異なるにもかかわらず、一連の個別領域の各々
が冷却面に実質的に等量の熱を伝達する。
本発明のもう一つの局面では、ハウジング自体の温度
を制御するためにハウジングを含むエンベロープが設け
られる。この発明の局面は、ハウジングとエンベロープ
との間に少なくとも部分的な真空を維持することによっ
て、およびまたはハウジングとエンベロープとの間の空
間を通る冷却液を循環させる手段を含めることによって
達成することができる。
を制御するためにハウジングを含むエンベロープが設け
られる。この発明の局面は、ハウジングとエンベロープ
との間に少なくとも部分的な真空を維持することによっ
て、およびまたはハウジングとエンベロープとの間の空
間を通る冷却液を循環させる手段を含めることによって
達成することができる。
最後に言及した局面と調和する本発明のもう一つの局
面は、Ｘ線以外のハウジングから発生するエネルギーに
対し半透過である冷却液を使用することによって、冷却
液のより大きな体積にわたり熱吸収を拡散させて、より
良好な熱交換を得、これによって、より低温の真空エン
ベロープを達成することができる。
面は、Ｘ線以外のハウジングから発生するエネルギーに
対し半透過である冷却液を使用することによって、冷却
液のより大きな体積にわたり熱吸収を拡散させて、より
良好な熱交換を得、これによって、より低温の真空エン
ベロープを達成することができる。
本発明のこれらの特徴および利点は、添付の図面を参
照しながら以下の明細書を精読することで、より一層明
かとなろう。以下の各図で類似の参照番号は類似の要素
を指す。
照しながら以下の明細書を精読することで、より一層明
かとなろう。以下の各図で類似の参照番号は類似の要素
を指す。
図面の簡単な説明 図１は本発明を実施するためのＸ線管の部分的に斜視
図とする概略正面図である。
図とする概略正面図である。
図２は図１に示すような、陽極を冷却するための熱交
換器の部分的に断面図とする概略正面図である。
換器の部分的に断面図とする概略正面図である。
図３は図２に示す構造の拡大概略正面図である。
図3Aは図３に図示する構造の一部の構成の１実施例を
示す正面図である。
示す正面図である。
図3Bは図３に示す構造の構成をもつ別の実施例の平面
図である。
図である。
図４は本発明の別の実施例を例示する概略正面断面図
である。
である。
好ましい実施例の説明 以下に説明する実施例からわかるように、本発明はい
ろいろの構造および方法を利用して達成することがで
き、また本発明はいくつかの部分の冷却を必要とする他
の装置に応用できるが、本発明の好ましい実施例とし
て、図１乃至図３に例示する高強度Ｘ線管（high−inte
nsity x−ray tube）を説明する。
ろいろの構造および方法を利用して達成することがで
き、また本発明はいくつかの部分の冷却を必要とする他
の装置に応用できるが、本発明の好ましい実施例とし
て、図１乃至図３に例示する高強度Ｘ線管（high−inte
nsity x−ray tube）を説明する。
図１乃至図３を参照すると、真空ハウジングまたはチ
ャンバ12を有するＸ線管10が示されており、その中には
陰極線アッセンブリ16からの電子を受けるために円形の
陽極構造体14が設けられている。この好ましい実施例で
は、陰極アッセンブリ16は熱電子陰極18を含んでおり、
この陰極18は、ハウジング12内で回転式支持体22上に配
置された支持構造体20に設けられている。ハウジング12
の全体は、図示していない駆動機構によってベアリング
24上で軸線Ａの回りを回転する。端壁26′、26″に高電
圧源26が接続されている。陰極18は、陰極ヒーターに電
力を与えるための変圧器を結合した手段またはスリップ
リングを結合した手段を使って加熱することができる。
ャンバ12を有するＸ線管10が示されており、その中には
陰極線アッセンブリ16からの電子を受けるために円形の
陽極構造体14が設けられている。この好ましい実施例で
は、陰極アッセンブリ16は熱電子陰極18を含んでおり、
この陰極18は、ハウジング12内で回転式支持体22上に配
置された支持構造体20に設けられている。ハウジング12
の全体は、図示していない駆動機構によってベアリング
24上で軸線Ａの回りを回転する。端壁26′、26″に高電
圧源26が接続されている。陰極18は、陰極ヒーターに電
力を与えるための変圧器を結合した手段またはスリップ
リングを結合した手段を使って加熱することができる。
ハウジング12が回転される間、陰極アッセンブリ16を
磁気結合アッセンブリ28等によって固定して保持するこ
とができ、これによって、電子ビームと陽極との接触点
が管アッセンブリ全体が移動しない限り空間的に固定さ
れる。公知の方法によって、Ｘ線管ビームは発生されて
ハウジングを通過するように導かれて、別の位置に送ら
れて利用される。
磁気結合アッセンブリ28等によって固定して保持するこ
とができ、これによって、電子ビームと陽極との接触点
が管アッセンブリ全体が移動しない限り空間的に固定さ
れる。公知の方法によって、Ｘ線管ビームは発生されて
ハウジングを通過するように導かれて、別の位置に送ら
れて利用される。
以下に詳細に述べるように、陽極を効率的に冷却する
ために、クーラノール（coolanol）、フルオロカーボン
又は蒸留水等の冷却媒体を管30、32と回転式液体シール
29とを経由して、熱交換器へまたは熱交換器から導くこ
とができる。
ために、クーラノール（coolanol）、フルオロカーボン
又は蒸留水等の冷却媒体を管30、32と回転式液体シール
29とを経由して、熱交換器へまたは熱交換器から導くこ
とができる。
ここで図２を参照する。陽極14は2000度を超える動作
温度に耐えるように炭素のようなセグメント40からな
る。陽極14は高温ディスク42上に装着されており、高温
ディスク42は、すべての部分が、陽極14から熱を伝導し
て逃がすためにモリブデンのような固体熱伝導材料で作
られた軸方向支持円筒つまりステム44を有する。可変熱
伝導アッセンブリ46が、ステム46から熱交換器50の別の
冷却面48へ熱を伝導する。熱交換器50では冷却液が循環
され、排出される。
温度に耐えるように炭素のようなセグメント40からな
る。陽極14は高温ディスク42上に装着されており、高温
ディスク42は、すべての部分が、陽極14から熱を伝導し
て逃がすためにモリブデンのような固体熱伝導材料で作
られた軸方向支持円筒つまりステム44を有する。可変熱
伝導アッセンブリ46が、ステム46から熱交換器50の別の
冷却面48へ熱を伝導する。熱交換器50では冷却液が循環
され、排出される。
図３に示す可変熱伝導体46の好ましい実施例では、
１、２、３・・・と表記した熱的に絶縁された一連の連
続する領域つまりセグメント52がステム44を囲んでい
て、ステム44から熱交換器50の冷却面48へ半径方向（放
射状）に熱を伝導する。領域52の構成は、一連の各領域
52の半径方向内側にあるステム44の温度が、連続する領
域の初めの方において約2000度の最大値からはじまって
大きく変化するが、各領域52がほぼ等量の熱をステム44
から冷却面48に伝達するように選択される。熱伝達の方
向は線53によって示す。
１、２、３・・・と表記した熱的に絶縁された一連の連
続する領域つまりセグメント52がステム44を囲んでい
て、ステム44から熱交換器50の冷却面48へ半径方向（放
射状）に熱を伝導する。領域52の構成は、一連の各領域
52の半径方向内側にあるステム44の温度が、連続する領
域の初めの方において約2000度の最大値からはじまって
大きく変化するが、各領域52がほぼ等量の熱をステム44
から冷却面48に伝達するように選択される。熱伝達の方
向は線53によって示す。
領域１においては温度低下が1900度で、熱伝導は僅か
である。連絡する各領域52の熱伝達特性は次第に増大す
る。異なる領域52内の熱伝達の制御は様々な方法で達成
される。図3Aに示すように、各領域52内の熱は、薄いデ
ィスク54を使って伝達され、各個別の領域52内にあるデ
ィスク54の個数および厚さは連続する領域の別々の位置
において所望の熱を伝達するように変えてある。
である。連絡する各領域52の熱伝達特性は次第に増大す
る。異なる領域52内の熱伝達の制御は様々な方法で達成
される。図3Aに示すように、各領域52内の熱は、薄いデ
ィスク54を使って伝達され、各個別の領域52内にあるデ
ィスク54の個数および厚さは連続する領域の別々の位置
において所望の熱を伝達するように変えてある。
別の例としては、図3Bに示すように、熱の大部分は
（bulk）は放射状のウェブ55を介して伝達され、領域52
の放射方向内側の部分のステム44の温度が連続する領域
の最初において非常な高温から変化するにもかかわらず
連続する領域内の一連の領域52内で領域52毎にほぼ等し
い熱を伝達するように領域52内で使用されるウェブ55の
個数および厚さが増大する。
（bulk）は放射状のウェブ55を介して伝達され、領域52
の放射方向内側の部分のステム44の温度が連続する領域
の最初において非常な高温から変化するにもかかわらず
連続する領域内の一連の領域52内で領域52毎にほぼ等し
い熱を伝達するように領域52内で使用されるウェブ55の
個数および厚さが増大する。
ディスク54およびウェブ55の個数および厚さを変化さ
せることに加えて、熱伝達特性が変化するようにこれら
の領域を作る材料を変えることができる。
せることに加えて、熱伝達特性が変化するようにこれら
の領域を作る材料を変えることができる。
各領域における材料の体積はほぼ温度低下に反比例す
る。すなわち1900度の降下を必要とする部分52は、量に
して、100度の温度が必要とされる部分の材料の19分の
１を含む。この他の方法としては、異なる熱伝導度の材
料を使用する方法がある。
る。すなわち1900度の降下を必要とする部分52は、量に
して、100度の温度が必要とされる部分の材料の19分の
１を含む。この他の方法としては、異なる熱伝導度の材
料を使用する方法がある。
本発明の冷却システムによると、Ｘ線をパルス状に放
射するのに十分な熱量をもつ陽極構造体と、放射冷却を
増強する液体冷却システムとを用いて、非常に高い温度
における陽極作動を行うことができ、これによって、陽
極による平均的な発散出力を大幅に増大させることがで
きる。
射するのに十分な熱量をもつ陽極構造体と、放射冷却を
増強する液体冷却システムとを用いて、非常に高い温度
における陽極作動を行うことができ、これによって、陽
極による平均的な発散出力を大幅に増大させることがで
きる。
図４には本発明の別の実施例を示す。この実施例で
は、固定陰極118がＸ線管110の軸線Ａ上に固定して設け
られており、また、陰極118から放射状方向外側に位置
する陽極114上の領域Ｒに電子ビームを偏向するため
に、かつ、空間内に固定したＸ線放射点を維持するため
に磁場Ｆがコイル（図示なし）により印加される。陽極
を冷却するため熱交換器に至る冷却液が管130、132を通
過する。
は、固定陰極118がＸ線管110の軸線Ａ上に固定して設け
られており、また、陰極118から放射状方向外側に位置
する陽極114上の領域Ｒに電子ビームを偏向するため
に、かつ、空間内に固定したＸ線放射点を維持するため
に磁場Ｆがコイル（図示なし）により印加される。陽極
を冷却するため熱交換器に至る冷却液が管130、132を通
過する。
図４に示す実施例では、ハウジング112を冷却、つま
りＸ線管110を冷却するために、ハウジング112を完全に
囲む密閉エンベロープが設けられている。用途によって
は、ハウジング112と密閉エンベロープ120との間の空間
122は、ハウジング112と周囲環境との間の摩擦が大きく
ならないように排気されていて、ハウジング112を加熱
させず、また、ハウジング112に安全限界を超えた応力
が加わらないようにされている。
りＸ線管110を冷却するために、ハウジング112を完全に
囲む密閉エンベロープが設けられている。用途によって
は、ハウジング112と密閉エンベロープ120との間の空間
122は、ハウジング112と周囲環境との間の摩擦が大きく
ならないように排気されていて、ハウジング112を加熱
させず、また、ハウジング112に安全限界を超えた応力
が加わらないようにされている。
また別の場合には管162によって、ハウジング112と密
閉したエンベロープ120との間の空間122に冷却流体が送
られて循環され、ライン164によってその空間から送り
出される。この流体は、Ｘ線以外のハウジング112から
出るエネルギーに対して半透過性のものであり、これに
より、より良好な熱交換のため、冷却流体により吸収さ
れる熱を非常に広い範囲にわたって分散させて、真空エ
ンベロープをより低温にする。発生するエネルギーに対
する透過性の制御は、冷却流体を構成する色、粘性、熱
伝導により行なうことができる。
閉したエンベロープ120との間の空間122に冷却流体が送
られて循環され、ライン164によってその空間から送り
出される。この流体は、Ｘ線以外のハウジング112から
出るエネルギーに対して半透過性のものであり、これに
より、より良好な熱交換のため、冷却流体により吸収さ
れる熱を非常に広い範囲にわたって分散させて、真空エ
ンベロープをより低温にする。発生するエネルギーに対
する透過性の制御は、冷却流体を構成する色、粘性、熱
伝導により行なうことができる。
用途によっては、密閉したエンベロープ120は金属で
作ることができ、Ｘ線を通過させるため、このエンベロ
ープにセラミックで造った窓を設ける。
作ることができ、Ｘ線を通過させるため、このエンベロ
ープにセラミックで造った窓を設ける。
好ましい装置及び方法を説明したが、添付の請求の範
囲には本技術分野の当業者が認識できる同一の機能を達
成する他の実施例を含むことが意図されていることを了
解されたい。
囲には本技術分野の当業者が認識できる同一の機能を達
成する他の実施例を含むことが意図されていることを了
解されたい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01J 35/10
Claims (25)
- 【請求項１】真空チャンバを形成するハウジングであっ
て、該ハウジングの全体が軸線の回りに回転可能であ
り、該ハウジングの一部が陽極であるハウジングと、 該ハウジングを前記軸線の回りに回転させる手段と、 前記チャンバ内に設けられた、電子を発生させる手段
と、 前記軸線から離れた空間点に電子を集束する手段と、 前記陽極から離れた延在冷却面と、 前記陽極から該延在冷却面までの間に異なる熱伝導を与
えて前記冷却面を実質的に均一な温度にする手段と、 前記冷却面を冷却する手段とを含むＸ線源。 - 【請求項２】請求項１のＸ線源において、前記電子を発
生させる手段及び前記電子を集束させる手段が、前記軸
線から離れて配置された陰極と、前記ハウジングが前記
軸線の回りを回転するときに前記陰極を静止状態に維持
する手段とを含むＸ線源。 - 【請求項３】請求項１のＸ線源において、前記電子を発
生させる手段及び前記電子を集束させる手段が、前記軸
線上に配置された陰極と、該陰極から前記空間点に電子
ビームを偏向させる手段とを含むＸ線源。 - 【請求項４】請求項１のＸ線源において、前記冷却面を
冷却する手段が前記冷却面に流体を移送する手段を含む
Ｘ線源。 - 【請求項５】請求項１のＸ線源において、前記冷却面を
冷却する手段が前記冷却面および前記ハウジングに流体
を移送するための手段を含むＸ線源。 - 【請求項６】請求項１のＸ線源において、前記ハウジン
グの温度を制御するために前記ハウジングを収容するエ
ンベロープを含むＸ線源。 - 【請求項７】請求項６のＸ線源において、前記ハウジン
グと前記エンベロープとの間に部分的な真空を維持する
ための手段を含むＸ線源。 - 【請求項８】請求項６のＸ線源において、前記ハウジン
グと前記エンベロープとの間の空間に冷却流体を循環さ
せる手段を含むＸ線源。 - 【請求項９】請求項８のＸ線源において、Ｘ線以外の前
記ハウジングから出るエネルギーに対して前記冷却流体
が半透明であるＸ線源。 - 【請求項１０】真空のハウジングと、 陰極から該ハウジング内の空間内の一点に電子を導き、
前記ハウジング内の陽極上に照射するための手段と、 前記ハウジング内の空間内の前記点に対して相対的に前
記ハウジングおよび前記陽極を回転させる手段と、 細長い導体を通して前記陽極から熱を伝導させる手段
と、 前記細長い導体の長さ全体の別々の位置から実質的に等
量の熱を冷却面に移送して該冷却面を実質的に均一な温
度にする手段と、 前記冷却面に冷却流体を導いて前記冷却面及び前記陽極
を冷却する手段とを含む高強度放射線発生装置。 - 【請求項１１】回転軸線を有する真空のハウジングと、 前記ハウジング内で該ハウジングの軸線と共軸的に設け
られた陽極と、 前記ハウジング内において陽極が交差する空間点に電子
ビームを指向させる陰極アッセンブリと、 前記陽極の様々な部分からＸ線源を発生させるために前
記ハウジングを回転させる手段と、 前記陽極から冷却面に熱を伝導するために前記陽極に接
続された細長い熱伝導体と、 前記冷却面を実質的に均一な温度にするために前記熱伝
導体の複数位置から前記冷却面に実質的に等量の熱を伝
導する手段と、 前記冷却面に冷却流体を導いて前記陽極を冷却する手段
とを含むＸ線源。 - 【請求項１２】請求11のＸ線源において、前記陽極が前
記ハウジング内に該ハウジングと共に回転可能であるよ
うに装着されたＸ線源。 - 【請求項１３】請求項11のＸ線源において、前記陰極ア
ッセンブリが、前記軸線から離れた位置にある陰極と、
前記軸線の回りに前記ハウジングを回転するときに前記
陰極を静止状態に維持する手段とを含むＸ線源。 - 【請求項１４】請求11のＸ線源において、前記陰極線ア
ッセンブリが、前記軸線上に位置する陰極と、該陰極か
ら前記点に電子ビームを偏向させる手段とを含むＸ線
源。 - 【請求項１５】請求項11のＸ線源において、前記ハウジ
ングを囲むエンベロープを含むＸ線源。 - 【請求項１６】請求項15のＸ線源において、Ｘ線以外の
前記ハウジングから出るエネルギーに対して半透明であ
る冷却流体であって前記ハウジングと前記エンベロープ
との間の前記空間を循環する冷却流体を含むＸ線源。 - 【請求項１７】高強度放射線を発生する方法であって、 ハウジング内に位置すると共に陽極と交差する空間点に
陰極からの電子を指向させる段階と、 前記ハウジングおよび前記陽極を回転させてＸ線を発生
させる段階と、 前記陽極から細長い導体を通して熱を伝導させる段階
と、 前記細長い導体の長さ全体における様々な位置から冷却
面に実質的に等量の熱を移送して該冷却面を実質的に均
一な温度にする段階と、 前記冷却面に冷却流体を導いて該冷却面及び前記陽極を
冷却する段階とを含む高強度放射線発生方法。 - 【請求項１８】請求項17の方法において、前記高強度放
射線以外の前記ハウジングから出るエネルギーに対し半
透明である冷却流体を前記ハウジングに導く段階を含む
方法。 - 【請求項１９】Ｘ線を発生する方法であって、 ハウジング内にあって陽極と交差する空間点に、陰極か
らの電子を指向させる段階と、 前記ハウジング内の軸線の回りに該ハウジングおよび前
記陽極を回転させて該陽極からＸ線を発生させる段階
と、 前記陽極から、該陽極から離れた延在冷却面までの間に
異なる熱伝導を与えて該冷却面を実質的に均一な温度に
する段階と、 前記延在冷却面を冷却して前記陽極を冷却する段階とを
含むＸ線発生方法。 - 【請求項２０】請求項19の方法において、前記異なる熱
伝導を与える該段階が、 細長い伝導体を通して前記陽極から熱を伝導する段階
と、 前記細長い導体の長さ全体における様々な位置から前記
冷却面に実質的に等しい熱を移送する段階とを含む方
法。 - 【請求項２１】真空のハウジングと、該ハウジング内の
陰極から該ハウジング内の陽極の様々な部分に電子ビー
ムを指向させて照射するための手段とを含む高強度放射
線発生装置であって、 前記陽極から細長い伝導体に熱を伝導する手段と、 前記細長い導体の長さ全体における様々な位置から冷却
面に実質的に等量の熱を移送して該冷却面を実質的に均
一な温度にする手段と、 前記冷却面に冷却流体を指向させて該冷却面及び前記陽
極を冷却する手段とを含む放射線発生装置。 - 【請求項２２】ハウジング内の陽極の様々な部分に陰極
から電子ビームを指向することによりＸ線を発生させる
方法であって、前記陽極が陽極の熱伝導体に接続されて
いる方法において、 前記陽極の熱伝導体の長さ方向に沿った様々な位置か
ら、前記陽極から離れた延在冷却面に、ほぼ等量の熱を
与えて前記冷却面を実質的に均一な温度にする段階と、 前記延在冷却面を冷却して前記陽極を冷却する段階とを
含むＸ線源発生方法。 - 【請求項２３】真空のハウジングと、 該ハウジング内の陽極上に陰極から電子ビームを指向さ
せて照射させる手段と、 細長い伝導体を通して前記陽極から熱を伝導させる手段
と、 前記細長い伝導体の長さ全体における様々な位置から実
質的に等量の熱を冷却面に移送して該冷却面を実質的に
均一な温度にする手段と、 前記冷却面に冷却流体を指向させて該冷却面及び前記陽
極を冷却する手段とを含む高強度放射線発生装置。 - 【請求項２４】請求項23の装置において、前記電子ビー
ムと前記陽極との間に相対的な動きを与える手段を含む
装置。 - 【請求項２５】陰極から陽極上に電子ビームを指向させ
る段階と、 前記陽極から陽極の熱伝導体に熱を伝導する段階と、 前記電子ビームと前記陽極との間に相対的な動きを与え
る段階と、 前記陽極の熱伝導体の長さ方向に沿った様々な位置か
ら、前記陽極から離れた延在冷却面に、ほぼ等量の熱を
与えて前記冷却面を実質的に均一な温度にする段階と、 前記延在冷却面を冷却して前記陽極を冷却する段階とを
含むＸ線発生方法。
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