JP2917116B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JP2917116B2 JP2917116B2 JP7335593A JP33559395A JP2917116B2 JP 2917116 B2 JP2917116 B2 JP 2917116B2 JP 7335593 A JP7335593 A JP 7335593A JP 33559395 A JP33559395 A JP 33559395A JP 2917116 B2 JP2917116 B2 JP 2917116B2
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- coating
- gas
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
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- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バツキングロール
に案内されて搬送する基材に向かつて、塗布液吐出スリ
ツトから塗布液を吐出して塗布を行う塗布装置に関する
ものである。
に案内されて搬送する基材に向かつて、塗布液吐出スリ
ツトから塗布液を吐出して塗布を行う塗布装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、塗布装置１は、図２（Ａ）（Ｂ）
に示すように、外周面２ａ上に基材搬送路Ｒを形成した
矢符Ｅ方向へ回転自在なバツキングロール２と、基材搬
送路Ｒに臨む塗布液吐出スリツト３ａを基材搬送路Ｒの
横断方向に沿つて延設した塗布ダイ３とを備えたものが
ある。塗布装置１は、バツキングロール２に案内されて
くる紙、プラスチツクフイルム又は金属箔等のシート状
の基材Ｗに向かつて、塗布液吐出スリツト３ａから塗布
液Ｃを吐出し、基材表面Ｗａに所望膜厚みＴの塗布膜Ｍ
を形成する。
に示すように、外周面２ａ上に基材搬送路Ｒを形成した
矢符Ｅ方向へ回転自在なバツキングロール２と、基材搬
送路Ｒに臨む塗布液吐出スリツト３ａを基材搬送路Ｒの
横断方向に沿つて延設した塗布ダイ３とを備えたものが
ある。塗布装置１は、バツキングロール２に案内されて
くる紙、プラスチツクフイルム又は金属箔等のシート状
の基材Ｗに向かつて、塗布液吐出スリツト３ａから塗布
液Ｃを吐出し、基材表面Ｗａに所望膜厚みＴの塗布膜Ｍ
を形成する。
【０００３】図３及び図４は従来の塗布装置の別態様を
示すものであり、図３（Ａ）は主要部を断面して示す側
面図、同図（Ｂ）は塗布中の塗布液吐出スリツト近傍を
拡大して示す側面図、同図（Ｃ）は別態様の堰の先端を
拡大して示す側面図、図４は図３（Ａ）のイーイ線で右
側を断面した中間省略した平面図である。
示すものであり、図３（Ａ）は主要部を断面して示す側
面図、同図（Ｂ）は塗布中の塗布液吐出スリツト近傍を
拡大して示す側面図、同図（Ｃ）は別態様の堰の先端を
拡大して示す側面図、図４は図３（Ａ）のイーイ線で右
側を断面した中間省略した平面図である。
【０００４】塗布装置１１は、前記従来装置と同様に、
外周面２ａ上に基材搬送路Ｒを形成した矢符Ｅ方向へ回
転自在なバツキングロール２と、基材搬送路Ｒに臨む塗
布液吐出スリツト３ａを基材搬送路Ｒの横断方向（図４
に示す矢符Ｄ方向）に沿つて延設した塗布ダイ３とを備
えている。塗布装置１１の改良点は、塗布ダイ３より搬
入側に気体室１２を設けると共に、気体室１２より更に
搬入側に吸引室１３を並設し、両室１２，１３の境界に
横断方向（矢符Ｄ方向）へ延びる堰板１４を設けたこと
である。
外周面２ａ上に基材搬送路Ｒを形成した矢符Ｅ方向へ回
転自在なバツキングロール２と、基材搬送路Ｒに臨む塗
布液吐出スリツト３ａを基材搬送路Ｒの横断方向（図４
に示す矢符Ｄ方向）に沿つて延設した塗布ダイ３とを備
えている。塗布装置１１の改良点は、塗布ダイ３より搬
入側に気体室１２を設けると共に、気体室１２より更に
搬入側に吸引室１３を並設し、両室１２，１３の境界に
横断方向（矢符Ｄ方向）へ延びる堰板１４を設けたこと
である。
【０００５】上記気体室１２は、基材搬送路Ｒ及び塗布
液吐出スリツト３ａに面する室内１２ａを形成するよう
に、室内１２ａと室外Ｈとを仕切壁１５及び塗布ダイ３
とで仕切つてある。気体室１２は、室内１２ａに気体供
給具１６の給気口１６ａを開口させ、室内１２ａに炭酸
ガス又は溶剤ガス等の置換気体を充満させることができ
るようにしてある。更に、気体室１２は、室内１２ａに
吸引具１７の吸引口１７ａを開口させ、室内１２ａを室
外Ｈに対して負圧にできるようにしてある。
液吐出スリツト３ａに面する室内１２ａを形成するよう
に、室内１２ａと室外Ｈとを仕切壁１５及び塗布ダイ３
とで仕切つてある。気体室１２は、室内１２ａに気体供
給具１６の給気口１６ａを開口させ、室内１２ａに炭酸
ガス又は溶剤ガス等の置換気体を充満させることができ
るようにしてある。更に、気体室１２は、室内１２ａに
吸引具１７の吸引口１７ａを開口させ、室内１２ａを室
外Ｈに対して負圧にできるようにしてある。
【０００６】前記吸引室１３は、基材搬送路Ｒに面する
室内１３ａを形成するように、室内１３ａと室外Ｈとを
仕切壁１８で仕切つてある。吸引室１３は、室内１３ａ
に吸引具１７の吸引口１７ｂを開口させ、室内１３ａを
室外Ｈに対して負圧にできるようにしてある。吸引室１
３は、搬入側に、横断方向（矢符Ｄ方向）に延設した仕
切板１９を、バツキングロール２に向かつて進退調節可
能に設けてあり、仕切板１９の先端１９ａと基材Ｗとの
隙間を調節できるようにしてある。
室内１３ａを形成するように、室内１３ａと室外Ｈとを
仕切壁１８で仕切つてある。吸引室１３は、室内１３ａ
に吸引具１７の吸引口１７ｂを開口させ、室内１３ａを
室外Ｈに対して負圧にできるようにしてある。吸引室１
３は、搬入側に、横断方向（矢符Ｄ方向）に延設した仕
切板１９を、バツキングロール２に向かつて進退調節可
能に設けてあり、仕切板１９の先端１９ａと基材Ｗとの
隙間を調節できるようにしてある。
【０００７】前記堰板１４は、バツキングロール２に向
かつて進退調節可能に設けてあり、その先端１４ａと基
材Ｗとの隙間Ｊの大きさを調節できるようにしてある。
堰板１４は、その先端１４ａを平坦面に形成する他に、
同図（Ｃ）に示すように、横断方向（矢符Ｄ方向）に延
びる凹溝１４ｂの一条又は複数条を凹設して、通気抵抗
が大きくなるように形成することもある。
かつて進退調節可能に設けてあり、その先端１４ａと基
材Ｗとの隙間Ｊの大きさを調節できるようにしてある。
堰板１４は、その先端１４ａを平坦面に形成する他に、
同図（Ｃ）に示すように、横断方向（矢符Ｄ方向）に延
びる凹溝１４ｂの一条又は複数条を凹設して、通気抵抗
が大きくなるように形成することもある。
【０００８】前記吸引具１７は、吸引フアン２０の吸引
側を分岐形成すると共に、各分岐路１７ｃ，１７ｄに調
節弁２１，２１を設け、気体室１２の室内１２ａの負圧
よりも吸引室１３の室内１３ａの負圧の方を低く設定で
きるようにしてある。
側を分岐形成すると共に、各分岐路１７ｃ，１７ｄに調
節弁２１，２１を設け、気体室１２の室内１２ａの負圧
よりも吸引室１３の室内１３ａの負圧の方を低く設定で
きるようにしてある。
【０００９】前述の如く構成された塗布装置１１は、塗
布運転中、気体室１２の室内１２ａを気体供給具１６か
ら供給された置換気体で充満させると共に、気体室１２
の室内１２ａを吸引具１７の吸引により室外に対して負
圧にする。更に、塗布装置１１は、吸引具１７の調節弁
２１，２１の調節により、吸引室１３の室内１３ａの負
圧を気体室１２の室内１２ａの負圧よりも低く設定す
る。
布運転中、気体室１２の室内１２ａを気体供給具１６か
ら供給された置換気体で充満させると共に、気体室１２
の室内１２ａを吸引具１７の吸引により室外に対して負
圧にする。更に、塗布装置１１は、吸引具１７の調節弁
２１，２１の調節により、吸引室１３の室内１３ａの負
圧を気体室１２の室内１２ａの負圧よりも低く設定す
る。
【００１０】図３（Ｂ）に示すように、塗布液吐出スリ
ツト３ａから吐出して基材Ｗに接触しようとする塗布液
吐出部分Ｃａは、気体室１２の室内１２ａが室外に対し
て負圧であるため、室外Ｈ側が大気で矢符Ｆ方向に押圧
されると共に、室内１２ａ側が室内方向である矢符Ｇ方
向に吸引される。そのため、塗布液吐出部分Ｃａは、基
材Ｗに対して略直行する方向に進行し、基材Ｗとの接触
部にビードＣｂを形成しつつ塗布される。そのため、室
内１２ａ内の置換気体は、ビードＣｂの形成により、基
材表面Ｗａと塗布液吐出部分Ｃａとの間に侵入し難くな
る。
ツト３ａから吐出して基材Ｗに接触しようとする塗布液
吐出部分Ｃａは、気体室１２の室内１２ａが室外に対し
て負圧であるため、室外Ｈ側が大気で矢符Ｆ方向に押圧
されると共に、室内１２ａ側が室内方向である矢符Ｇ方
向に吸引される。そのため、塗布液吐出部分Ｃａは、基
材Ｗに対して略直行する方向に進行し、基材Ｗとの接触
部にビードＣｂを形成しつつ塗布される。そのため、室
内１２ａ内の置換気体は、ビードＣｂの形成により、基
材表面Ｗａと塗布液吐出部分Ｃａとの間に侵入し難くな
る。
【００１１】前記置換気体として、塗布液Ｃに溶解され
やすい気体（例えば、炭酸ガス又は塗布液Ｃ中に含まれ
る溶剤の気体等）を用いたときには、例え基材表面Ｗａ
と塗布液吐出部分Ｃａとの間に、微量の気体が侵入した
としても、この微量の気体は塗布膜Ｍ中に溶解して消失
する。そのため、気泡の残留しない塗布膜Ｍが得られ
る。
やすい気体（例えば、炭酸ガス又は塗布液Ｃ中に含まれ
る溶剤の気体等）を用いたときには、例え基材表面Ｗａ
と塗布液吐出部分Ｃａとの間に、微量の気体が侵入した
としても、この微量の気体は塗布膜Ｍ中に溶解して消失
する。そのため、気泡の残留しない塗布膜Ｍが得られ
る。
【００１２】更に、堰板１４の先端１４ａと基材表面Ｗ
ａとの隙間Ｊは、吸引室１３の室内１３ａの負圧が吸引
具１７により気体室１２の室内１２ａの負圧よりも低く
設定されているため、基材搬送方向（矢符Ｅ方向）と逆
の方向に置換気体を流すことができる。この隙間Ｊを流
れる置換気体は、基材表面Ｗａに付着してくる同伴流を
隙間Ｊで除去する。その結果、前記塗布液吐出部分Ｃａ
（図３（Ｂ）参照）は、到達する同伴流がゼロ又は非常
に微量となり、同伴流で室外Ｈ側へ押圧されることもな
く、基材表面Ｗａとの間で楔状の空間Ｎ（図２（Ｂ）参
照）を形成することもない。
ａとの隙間Ｊは、吸引室１３の室内１３ａの負圧が吸引
具１７により気体室１２の室内１２ａの負圧よりも低く
設定されているため、基材搬送方向（矢符Ｅ方向）と逆
の方向に置換気体を流すことができる。この隙間Ｊを流
れる置換気体は、基材表面Ｗａに付着してくる同伴流を
隙間Ｊで除去する。その結果、前記塗布液吐出部分Ｃａ
（図３（Ｂ）参照）は、到達する同伴流がゼロ又は非常
に微量となり、同伴流で室外Ｈ側へ押圧されることもな
く、基材表面Ｗａとの間で楔状の空間Ｎ（図２（Ｂ）参
照）を形成することもない。
【００１３】以上の如く、塗布装置１１は、気体室１２
の室内１２ａに充満した置換気体の吸引作用及び堰板１
４による同伴流の除去作用の相乗作用により、基材表面
Ｗａと塗布液吐出部分Ｃａとの間に気泡をより一層侵入
させ難くすることができる。その結果、塗布装置１１
は、基材Ｗの搬送速度を速くしても、塗布膜Ｍに気泡欠
陥のない塗布を可能にする。
の室内１２ａに充満した置換気体の吸引作用及び堰板１
４による同伴流の除去作用の相乗作用により、基材表面
Ｗａと塗布液吐出部分Ｃａとの間に気泡をより一層侵入
させ難くすることができる。その結果、塗布装置１１
は、基材Ｗの搬送速度を速くしても、塗布膜Ｍに気泡欠
陥のない塗布を可能にする。
【００１４】なお、前記塗布装置１１は、気体室１２の
室内１２ａを吸引具１７の吸引口１７ａで吸引しなくて
も、堰板１４の先端１４ａと基材表面Ｗａとの隙間Ｊの
調節により、室内１２ａを室外Ｈに対して負圧にできる
ときには、吸引口１７ａを省略することが可能である。
室内１２ａを吸引具１７の吸引口１７ａで吸引しなくて
も、堰板１４の先端１４ａと基材表面Ｗａとの隙間Ｊの
調節により、室内１２ａを室外Ｈに対して負圧にできる
ときには、吸引口１７ａを省略することが可能である。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図２に示す
従来の塗布装置１において、基材Ｗは、その搬送速度が
高速になると、その表面Ｗａに搬送速度と同一速度の同
伴流を伴う。しかし、この高速の同伴流は、同図（Ｂ）
に示すように、塗布液吐出スリツト３ａから吐出して基
材Ｗに接触しようとする塗布液吐出部分Ｃａを矢符Ｅで
示す搬送方向へ強く押圧するため、楔状の空間Ｎを形成
して塗布膜Ｍと基材表面Ｗａとの間に侵入することがあ
る。侵入した同伴流は、微細な気泡Ｂとなつて残留し
て、塗布膜Ｍの欠陥を生じさせることになる。そのた
め、従来は、基材Ｗの搬送速度を高速にするほど気泡Ｂ
の発生が増え、塗布欠陥が発生しやすくなるという問題
があつた。
従来の塗布装置１において、基材Ｗは、その搬送速度が
高速になると、その表面Ｗａに搬送速度と同一速度の同
伴流を伴う。しかし、この高速の同伴流は、同図（Ｂ）
に示すように、塗布液吐出スリツト３ａから吐出して基
材Ｗに接触しようとする塗布液吐出部分Ｃａを矢符Ｅで
示す搬送方向へ強く押圧するため、楔状の空間Ｎを形成
して塗布膜Ｍと基材表面Ｗａとの間に侵入することがあ
る。侵入した同伴流は、微細な気泡Ｂとなつて残留し
て、塗布膜Ｍの欠陥を生じさせることになる。そのた
め、従来は、基材Ｗの搬送速度を高速にするほど気泡Ｂ
の発生が増え、塗布欠陥が発生しやすくなるという問題
があつた。
【００１６】そこで、本発明は、上記問題を解決するた
めに、基材の搬送速度を高速にしても、気泡の発生を阻
止できる塗布を行うことができる塗布装置の提供を目的
とする。
めに、基材の搬送速度を高速にしても、気泡の発生を阻
止できる塗布を行うことができる塗布装置の提供を目的
とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、外周面
上に基材搬送路を形成した回転自在なバツキングロール
と、該基材搬送路に臨む塗布液吐出スリツトを基材搬送
路の横断方向に沿つて延設した塗布ダイとを備えた塗布
装置において、前記塗布液吐出スリツトより基材搬入側
にノズル箱を設け、該ノズル箱は、前記基材搬送路と対
面して前記横断方向に延びる案内面と、前記基材搬送路
と該案内面との間の隙間に向かって基材搬送方向と逆方
向に気体を吐出する気体吐出スリツトとを備え、該ノズ
ル箱と前記塗布ダイとの間に、前記基材搬送路及び前記
塗布液吐出スリツトに面する室内を形成した気体室を設
けたことを特徴とする塗布装置である。
上に基材搬送路を形成した回転自在なバツキングロール
と、該基材搬送路に臨む塗布液吐出スリツトを基材搬送
路の横断方向に沿つて延設した塗布ダイとを備えた塗布
装置において、前記塗布液吐出スリツトより基材搬入側
にノズル箱を設け、該ノズル箱は、前記基材搬送路と対
面して前記横断方向に延びる案内面と、前記基材搬送路
と該案内面との間の隙間に向かって基材搬送方向と逆方
向に気体を吐出する気体吐出スリツトとを備え、該ノズ
ル箱と前記塗布ダイとの間に、前記基材搬送路及び前記
塗布液吐出スリツトに面する室内を形成した気体室を設
けたことを特徴とする塗布装置である。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗布装置（以
下、「本発明装置」という）を図面に示す実施の形態に
基づいて説明する。
下、「本発明装置」という）を図面に示す実施の形態に
基づいて説明する。
【００１９】図１は本発明装置の実施の形態を示すもの
であり、主要部を断面して示す側面図である。本実施の
形態に係る塗布装置３１は、従来装置と同様に、外周面
２ａ上に基材搬送路Ｒを形成した矢符Ｅ方向へ回転自在
なバツキングロール２と、基材搬送路Ｒに臨む塗布液吐
出スリツト３ａを基材搬送路Ｒの横断方向（図４に示す
矢符Ｄ方向）に沿つて延設した塗布ダイ３とを備えてい
る。塗布装置３１の改良点は、塗布液吐出スリツト３ａ
より基材搬入側にノズル箱３３を設け、ノズル箱３３と
塗布ダイ３との間に気体室３２を設け、ノズル箱３３の
搬入側に吸引室３４を設けたことである。
であり、主要部を断面して示す側面図である。本実施の
形態に係る塗布装置３１は、従来装置と同様に、外周面
２ａ上に基材搬送路Ｒを形成した矢符Ｅ方向へ回転自在
なバツキングロール２と、基材搬送路Ｒに臨む塗布液吐
出スリツト３ａを基材搬送路Ｒの横断方向（図４に示す
矢符Ｄ方向）に沿つて延設した塗布ダイ３とを備えてい
る。塗布装置３１の改良点は、塗布液吐出スリツト３ａ
より基材搬入側にノズル箱３３を設け、ノズル箱３３と
塗布ダイ３との間に気体室３２を設け、ノズル箱３３の
搬入側に吸引室３４を設けたことである。
【００２０】該ノズル箱３３は、基材搬送路Ｒと対面し
て基材搬送路Ｒの横断方向（図４に示す矢符Ｄ方向）に
延びる案内面３３ａと、基材搬送路Ｒと案内面３３ａと
の間の隙間Ｋに向かつて基材搬送方向（矢符Ｅ方向）と
逆方向に気体を噴出する気体吐出スリツト３３ｂとを備
え、気体吐出スリツト３３ｂから吐出した気体が隙間Ｋ
を流れるようにしてある。ノズル箱３３は、箱内部３３
ｃに整流板３３ｄを内蔵してあり、気体供給装置３５の
フアン３６から供給される気体を、気体吐出スリツト３
３ｂの幅方向全域から均一に吐出するようにしてある。
て基材搬送路Ｒの横断方向（図４に示す矢符Ｄ方向）に
延びる案内面３３ａと、基材搬送路Ｒと案内面３３ａと
の間の隙間Ｋに向かつて基材搬送方向（矢符Ｅ方向）と
逆方向に気体を噴出する気体吐出スリツト３３ｂとを備
え、気体吐出スリツト３３ｂから吐出した気体が隙間Ｋ
を流れるようにしてある。ノズル箱３３は、箱内部３３
ｃに整流板３３ｄを内蔵してあり、気体供給装置３５の
フアン３６から供給される気体を、気体吐出スリツト３
３ｂの幅方向全域から均一に吐出するようにしてある。
【００２１】前記気体室３２は、基材搬送路Ｒ、塗布液
吐出スリツト３ａ及び上記隙間Ｋに面する室内３２ａを
形成するように、室内３２ａと室外Ｈとを仕切壁３６、
塗布ダイ３及びノズル箱３３で仕切つてある。気体室３
２は、室内３２ａに気体供給具１６の給気口１６ａを開
口させ、室内３２ａに炭酸ガス又は溶剤ガス等の置換気
体を充満させることができるようにしてある。
吐出スリツト３ａ及び上記隙間Ｋに面する室内３２ａを
形成するように、室内３２ａと室外Ｈとを仕切壁３６、
塗布ダイ３及びノズル箱３３で仕切つてある。気体室３
２は、室内３２ａに気体供給具１６の給気口１６ａを開
口させ、室内３２ａに炭酸ガス又は溶剤ガス等の置換気
体を充満させることができるようにしてある。
【００２２】前記吸引室３４は、ノズル箱３３の案内面
３３ａと基材搬送路Ｒとの間の隙間Ｋからでてきた気体
を、回収装置３７で回収するためのものであり、作業環
境の衛生保全のために必要に応じて設けられるものであ
る。
３３ａと基材搬送路Ｒとの間の隙間Ｋからでてきた気体
を、回収装置３７で回収するためのものであり、作業環
境の衛生保全のために必要に応じて設けられるものであ
る。
【００２３】塗布装置３１は、塗布運転中に、ノズル箱
３３の気体吐出スリツト３３ｂから吐出した気体が隙間
Ｋに流れると、隙間Ｋに流入する気体の吸引作用により
気体室３２の室内３２ａを負圧にすると共に、基材表面
Ｗａに付着している同伴流を隙間Ｋに流れる気体で除去
する。置換気体の充満して負圧状態となつている気体室
３２は、前記第１の実施の態様の気体室１２ａと同様の
作用効果を発揮し、基材表面Ｗａと塗布液吐出部分Ｃａ
（図３（Ｂ）参照）との間への置換気体の侵入をし難く
する。そして、塗布装置３１は、気体室３２の室内３２
ａに充満した置換気体の吸引作用及びノズル箱３３によ
る同伴流の除去作用の相乗作用により、基材表面Ｗａと
塗布液吐出部分Ｃａとの間に気泡をより一層侵入させ難
くすることができる。その結果、塗布装置３１は、基材
Ｗの搬送速度を速くしても、塗布膜Ｍに気泡欠陥のない
塗布を可能にする。
３３の気体吐出スリツト３３ｂから吐出した気体が隙間
Ｋに流れると、隙間Ｋに流入する気体の吸引作用により
気体室３２の室内３２ａを負圧にすると共に、基材表面
Ｗａに付着している同伴流を隙間Ｋに流れる気体で除去
する。置換気体の充満して負圧状態となつている気体室
３２は、前記第１の実施の態様の気体室１２ａと同様の
作用効果を発揮し、基材表面Ｗａと塗布液吐出部分Ｃａ
（図３（Ｂ）参照）との間への置換気体の侵入をし難く
する。そして、塗布装置３１は、気体室３２の室内３２
ａに充満した置換気体の吸引作用及びノズル箱３３によ
る同伴流の除去作用の相乗作用により、基材表面Ｗａと
塗布液吐出部分Ｃａとの間に気泡をより一層侵入させ難
くすることができる。その結果、塗布装置３１は、基材
Ｗの搬送速度を速くしても、塗布膜Ｍに気泡欠陥のない
塗布を可能にする。
【００２４】
【発明の効果】以上詳述の如く、本発明装置は、気体室
の室内に充満した置換気体の吸引作用及びノズル箱によ
る同伴流の除去作用の相乗作用により、塗布膜に対する
気泡の侵入を阻止するために、基材の搬送速度を速くし
ても、塗布膜に気泡欠陥のない塗布を可能にする。
の室内に充満した置換気体の吸引作用及びノズル箱によ
る同伴流の除去作用の相乗作用により、塗布膜に対する
気泡の侵入を阻止するために、基材の搬送速度を速くし
ても、塗布膜に気泡欠陥のない塗布を可能にする。
【図１】本発明装置の実施の形態を示すものであり、主
要部を断面して示す側面図である。
要部を断面して示す側面図である。
【図２】従来の塗布装置を示すものであり、（Ａ）は主
要部を断面して示す側面図、（Ｂ）は塗布中の塗布液吐
出スリツト近傍を拡大して示す側面図である。
要部を断面して示す側面図、（Ｂ）は塗布中の塗布液吐
出スリツト近傍を拡大して示す側面図である。
【図３】従来の塗工装置の別態様を示すものであり、
（Ａ）は主要部を断面して示す側面図、（Ｂ）は塗布中
の塗布液吐出スリツト近傍を拡大して示す側面図、同図
（Ｃ）は別態様の堰の先端を拡大して示す側面図であ
る。
（Ａ）は主要部を断面して示す側面図、（Ｂ）は塗布中
の塗布液吐出スリツト近傍を拡大して示す側面図、同図
（Ｃ）は別態様の堰の先端を拡大して示す側面図であ
る。
【図４】図３（Ａ）のイーイ線で右側を断面した中間省
略した平面図である。
略した平面図である。
２…バツキングロール ３…塗布ダイ ３ａ…塗布液吐出スリツト １２（３２）…気体室 １３…吸引室 １４…堰板 １６…気体供給具 １７…吸引具 ３３…ノズル箱 Ｒ…基材搬送路 Ｗ…基材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B05C 5/00 - 5/04
Claims (1)
- 【請求項１】外周面上に基材搬送路を形成した回転自在
なバツキングロールと、該基材搬送路に臨む塗布液吐出
スリツトを基材搬送路の横断方向に沿つて延設した塗布
ダイとを備えた塗布装置において、前記塗布液吐出スリ
ツトより基材搬入側にノズル箱を設け、該ノズル箱は、
前記基材搬送路と対面して前記横断方向に延びる案内面
と、前記基材搬送路と該案内面との間の隙間に向かって
基材搬送方向と逆方向に気体を噴出する気体吐出スリツ
トとを備え、該ノズル箱と前記塗布ダイとの間に、前記
基材搬送路及び前記塗布液吐出スリツトに面する室内を
形成した気体室を設けたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7335593A JP2917116B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7335593A JP2917116B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09141170A JPH09141170A (ja) | 1997-06-03 |
| JP2917116B2 true JP2917116B2 (ja) | 1999-07-12 |
Family
ID=18290327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7335593A Expired - Lifetime JP2917116B2 (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2917116B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FI115295B (fi) * | 1999-09-01 | 2005-04-15 | Metso Paper Inc | Verhopäällystin ja verhopäällystysmenetelmä |
| JP3676182B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2005-07-27 | 三菱重工業株式会社 | 塗工装置および塗工方法 |
| JP4263615B2 (ja) * | 2001-12-13 | 2009-05-13 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド | フローコーティング方法及び装置 |
| JP5015477B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2012-08-29 | メッツォ ペーパー インコーポレイテッド | 非接触塗工装置及びそれを備えた製紙機械 |
| JP4865893B2 (ja) | 2009-09-28 | 2012-02-01 | パナソニック株式会社 | ダイヘッドおよび液体塗布装置 |
| JP2011253784A (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 塗布装置及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
-
1995
- 1995-11-17 JP JP7335593A patent/JP2917116B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09141170A (ja) | 1997-06-03 |
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