JP2914949B1 - Substrate processing equipment - Google Patents
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Abstract
【要約】
【課題】 液晶表示器用ガラス基板や半導体ウエハ等の
基板の表面に対して洗浄等の処理を行う基板処理装置で
あって、装置の小型化、低コスト化を図りかつメンテナ
ンスが容易性で処理能力の向上を図ることが可能な基板
処理装置を提供すること。
【解決手段】 基板処理装置1は、ハウジング2と、ロ
ーダ部3と、U字状の搬送経路を形成する表面処理部4
及びトランスファーユニット5と、アンローダ部6と、
メンテナンスエリア7と、搬送用カセットバッファ部8
と、処理用カセットバッファ部9とでなり、トランスフ
ァユニット5をハウジング2の上方に配設することによ
ってメンテナンスエリア7への出入りが容易であり、か
つ作業効率、省スペース化を図る。Kind Code: A1 A substrate processing apparatus for performing processing such as cleaning on the surface of a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display or a semiconductor wafer. The apparatus is reduced in size and cost, and maintenance is easy. Provided is a substrate processing apparatus capable of improving the processing capacity. A substrate processing apparatus includes a housing, a loader unit, and a surface processing unit that forms a U-shaped transfer path.
And a transfer unit 5, an unloader unit 6,
Maintenance area 7 and transport cassette buffer 8
And the processing cassette buffer unit 9, and the transfer unit 5 is disposed above the housing 2, so that it is easy to get in and out of the maintenance area 7, and work efficiency and space saving are achieved.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示器用ガラ
ス基板や半導体ウエハ等(以下、基板という)の基板の
表面に対して、洗浄、剥離、リンス、乾燥などの表面処
理を行う基板処理装置に関し、特に、カセットに収納さ
れた複数枚の基板に対しての処理を行う基板処理装置に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing a surface treatment such as cleaning, peeling, rinsing, and drying on the surface of a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display or a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a substrate). More particularly, the present invention relates to a substrate processing apparatus that performs processing on a plurality of substrates stored in a cassette.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の基板処理装置として、図6乃至図
9に示すものがある。図6は、従来の基板処理装置の外
観を示す斜視図、図7は、図6の基板処理装置内の構成
を示す平面図、図8は、ローダ側ロボットの構成を示す
図、図9は、基板処理装置に装備される姿勢転換ロボッ
ト及び処理用カセットを搬送する表面処理ロボットの構
成を示す図である。2. Description of the Related Art FIGS. 6 to 9 show a conventional substrate processing apparatus. FIG. 6 is a perspective view showing the appearance of a conventional substrate processing apparatus, FIG. 7 is a plan view showing the configuration inside the substrate processing apparatus of FIG. 6, FIG. 8 is a view showing the configuration of a loader-side robot, and FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a posture changing robot and a surface processing robot that transports a processing cassette provided in the substrate processing apparatus.
【0003】図6及び図7に示すように、従来の基板処
理装置101は、ローダ部102と、表面処理部103
と、アンローダ部104と、メンテナンスエリア105
と、搬送用カセットバッファ部106と、処理用カセッ
トバッファ部107とからなっている。[0003] As shown in FIGS. 6 and 7, a conventional substrate processing apparatus 101 includes a loader section 102 and a surface processing section 103.
, Unloader section 104 and maintenance area 105
, A transport cassette buffer unit 106 and a processing cassette buffer unit 107.
【0004】図7に示すように、複数枚の基板が収納さ
れた搬送用カセット116がローダ部102の搬入口1
11に搬入され載置台114上に載置されるとき、ロー
ダ側ロボット118を挟んで載置台114と平行に配設
されている載置台115上に空の処理用カセット117
が待機状態で載置されている。この処理用カセット11
7は、上部を載置台114側に向け基板を水平状態で挿
入するように載置台115上に横転状態で位置してい
る。そして、載置台114に載置された搬送用カセット
116に収納された処理前の基板は、ローダ側ロボット
118により載置台115に載置された処理用カセット
117に移替えられる。[0004] As shown in FIG. 7, a transfer cassette 116 in which a plurality of substrates are stored is loaded into the loading port 1 of the loader unit 102.
11 and is placed on the mounting table 114, the empty processing cassette 117 is placed on the mounting table 115 disposed in parallel with the mounting table 114 with the loader-side robot 118 interposed therebetween.
Are placed in a standby state. This processing cassette 11
Numeral 7 is positioned on the mounting table 115 in a rolled state such that the substrate is inserted in a horizontal state with the upper part facing the mounting table 114 side. The unprocessed substrates stored in the transfer cassette 116 mounted on the mounting table 114 are transferred to the processing cassette 117 mounted on the mounting table 115 by the loader-side robot 118.
【0005】前記ローダ側ロボット118は、図8に示
すように、基台118aと、この基台118a内にZ方
向に伸縮自在でかつ回転可能に設けられた軸118b
と、この軸118bの上部に基端部が回転自在に取り付
けられた第1アーム118cと、この第1アーム118
cの先端部に基端部が回転自在に取り付けられた第2ア
ーム118dと、この第2アーム118dの先端部に基
端部が回転自在に取り付けられた基板載置部118eと
からなる。従って、ローダ側ロボット118は、第1ア
ーム118c及び第2アーム118dが伸縮することに
よって基板載置部118eが挿抜可能となっている。As shown in FIG. 8, the loader-side robot 118 includes a base 118a and a shaft 118b provided in the base 118a so as to be extendable and contractible in the Z direction and rotatable.
A first arm 118c having a base end rotatably attached to an upper portion of the shaft 118b; and a first arm 118c.
The second arm 118d has a base end rotatably attached to the tip end of the second arm 118d, and a substrate mounting portion 118e having a base end rotatably attached to the tip end of the second arm 118d. Therefore, the loader-side robot 118 can insert and remove the substrate mounting portion 118e by the expansion and contraction of the first arm 118c and the second arm 118d.
【0006】次に、このローダ側ロボット118による
基板の移替え動作について説明する。Next, a description will be given of a substrate transfer operation performed by the loader-side robot 118.
【0007】まず、軸118bを伸縮又は収縮させて基
板載置部118eを搬送用カセット116の最下段(又
は最上段)に収納された基板の下方に位置決めし、次に
第1アーム118c及び第2アーム118dを同期回転
させて図Cに示す折り畳まれた状態から伸張させて基板
載置部118eを搬送用カセット116の最下段に収納
された基板の下方に挿入する。次に、軸118bをZ方
向に僅かに伸張させて基板載置部118eを上昇させて
基板の下面に当接させて吸着する。この状態で、前記回
転方向とは逆方向に第1アーム118c及び第2アーム
118dを同期回転させて基板載置部118eを搬送用
カセット116から取り出す。First, the shaft 118b is expanded or contracted to position the substrate mounting portion 118e below the substrate stored in the lowermost (or uppermost) stage of the transport cassette 116, and then the first arm 118c and the first The two arms 118d are rotated synchronously and extended from the folded state shown in FIG. C, and the substrate mounting part 118e is inserted below the substrate stored in the lowermost stage of the transport cassette 116. Next, the shaft 118b is slightly extended in the Z direction, and the substrate mounting portion 118e is raised to be brought into contact with the lower surface of the substrate and sucked. In this state, the first arm 118c and the second arm 118d are synchronously rotated in a direction opposite to the rotation direction, and the substrate mounting portion 118e is taken out of the transport cassette 116.
【0008】次に、軸118bを基台118aに対して
180度回転させて基板載置部118eの先端を処理用
カセット117側に向ける。この処理用カセット117
への移替えのローダ側ロボット118の動作は、前記搬
送用カセット116とほぼ同じであるので説明を省略す
る。Next, the shaft 118b is rotated by 180 degrees with respect to the base 118a so that the tip of the substrate mounting portion 118e is directed toward the processing cassette 117. This processing cassette 117
The operation of the loader-side robot 118 for the transfer to the transfer cassette 116 is almost the same as that of the transfer cassette 116, and a description thereof will be omitted.
【0009】前記ローダ側ロボット118により搬送用
カセット116から基板を処理用カセット117に全て
移替えを終了すると、空の搬送用カセット116は搬送
用カセットバッファ部106を経てアンローダ部104
の載置台121に搬送される。また、処理前の複数枚の
基板を収納した処理用カセット117は、表面処理部1
03に移送する。When the transfer of all the substrates from the transfer cassette 116 to the processing cassette 117 is completed by the loader-side robot 118, the empty transfer cassette 116 is transferred to the unloader unit 104 via the transfer cassette buffer unit 106.
To the mounting table 121. Further, the processing cassette 117 containing a plurality of substrates before processing is provided in the surface processing unit 1.
Transfer to 03.
【0010】図7に示すように、表面処理部103は、
一点鎖線で示すように、「U」字型の搬送経路に沿って
複数の処理槽123を配設している。これら複数の処理
槽123により処理用カセット117に収納した複数枚
の基板を各種の洗浄液等により洗浄して乾燥する。[0010] As shown in FIG.
As indicated by a dashed line, a plurality of processing tanks 123 are provided along a “U” -shaped transport path. The plurality of substrates accommodated in the processing cassette 117 are washed with various cleaning liquids and the like by the plurality of processing tanks 123 and dried.
【0011】次に、表面処理部103について図7及び
図9を参照して説明する。Next, the surface treatment section 103 will be described with reference to FIGS.
【0012】表面処理部103は、ローダ部102の載
置台115上に横転状態で載置された処理用カセット1
17を起立させる姿勢転換ロボット124と、この姿勢
転換ロボット124により起立させた処理用カセット1
17を受け取って前記「U」字型の搬送経路に沿って搬
送し、かつ各処理槽123に浸漬して洗浄を行い若しく
は乾燥を行うカセット搬送ロボット125、126、1
27と、カセット搬送ロボット127により最終工程の
処理が完了して起立状態にある処理用カセット117を
受け取り横転させてアンローダ部104の載置台122
上に載置する姿勢転換ロボット128とからなってい
る。The surface processing section 103 is a processing cassette 1 mounted on a mounting table 115 of the loader section 102 in an overturned state.
17 and the processing cassette 1 standing by the posture changing robot 124.
The cassette transfer robots 125, 126, and 1 which receive the transfer cartridge 17 and transfer it along the “U” -shaped transfer path, and immerse it in each processing tank 123 to perform cleaning or drying.
27, and the processing cassette 117 in the upright state after the processing of the final step is completed by the cassette transport robot 127, is received and turned over, and the mounting table 122 of the unloader unit 104 is mounted.
And a posture changing robot 128 mounted thereon.
【0013】次に、図9に示すように、表面処理部10
3の姿勢転換ロボット124及びカセット搬送ロボット
125の構成及び動作について説明する。なお、姿勢転
換ロボット128については、姿勢転換ロボット124
と同一であり、カセット搬送ロボット126及び127
についてはカセット搬送ロボット125と略同一である
ので、その説明を省略する。Next, as shown in FIG.
The configuration and operation of the third posture changing robot 124 and the cassette transfer robot 125 will be described. Note that the posture changing robot 128 has a posture changing robot 124.
And the cassette transfer robots 126 and 127
Is substantially the same as that of the cassette transfer robot 125, and the description thereof is omitted.
【0014】図9に示すように、姿勢転換ロボット12
4は、一対のガイドレール131aと、モータ及びボー
ルねじからなる駆動部材132bと、この駆動部材13
2bにより駆動され前記ガイドレール131aにより案
内されるテーブル132cとからなる案内機構131
と、前記テーブル132cに立設してなる昇降部材13
2と、この昇降部材132の側面にZ方向に昇降自在に
取り付けてなる駆動部133と、この駆動部133の両
側端部にアーム134aの基端部が取り付けられ、該ア
ーム134aの先端部に該アーム134aに対して駆動
部133からの駆動力をベルトを介して付与されて回動
自在に取り付けられたチャック部134bとからなるチ
ャック134とを有している。As shown in FIG. 9, the posture changing robot 12
Reference numeral 4 denotes a pair of guide rails 131a, a driving member 132b including a motor and a ball screw, and a driving member 13b.
A guide mechanism 131 including a table 132c driven by the guide rail 131a and driven by the guide rail 131a.
And the elevating member 13 erected on the table 132c
2, a driving unit 133 attached to the side surface of the elevating member 132 so as to be able to move up and down in the Z direction, and a base end of an arm 134a attached to both side ends of the driving unit 133, and a tip end of the arm 134a A chuck 134 comprising a chuck portion 134b rotatably attached by applying a driving force from a driving portion 133 to the arm 134a via a belt.
【0015】カセット搬送ロボット125は、複数のガ
イドレール125aと、このガイドレール125aに沿
ってY方向に往復動自在に移動可能なであってZ軸方向
に昇降自在な昇降機構125bと、この昇降機構125
bの上端部にX方向に延びた一対の回転軸及び該回転軸
先端に開閉自在なフックを有する開閉支持機構125c
とからなる。この開閉支持機構125cは、前記姿勢転
換ロボット124により起立状態にある処理用カセット
117をフックに係止させて受け取り、後段の各処理槽
123に搬送するためのものである。そして、カセット
搬送ロボット125は、図7に示すPP1までの搬送を
行い、処理用カセット117は順次カセット搬送ロボッ
ト126(PP1からPP2まで)及びカセット搬送ロ
ボット127に受け渡し各処理を行う。The cassette transport robot 125 includes a plurality of guide rails 125a, an elevating mechanism 125b that can move reciprocally in the Y direction along the guide rails 125a, and that can move up and down in the Z axis direction. Mechanism 125
an opening and closing support mechanism 125c having a pair of rotating shafts extending in the X direction at the upper end of the rotating shaft b and a hook that can be opened and closed at the tip of the rotating shaft
Consists of The opening / closing support mechanism 125c is for receiving the processing cassette 117 in a standing state by the posture changing robot 124 by hooking it on a hook, and transporting the processing cassette 117 to the processing tanks 123 at the subsequent stage. Then, the cassette transport robot 125 performs transport to PP1 shown in FIG. 7, and the processing cassette 117 is sequentially transferred to the cassette transport robot 126 (from PP1 to PP2) and the cassette transport robot 127 to perform each process.
【0016】カセット搬送ロボット127は、最終の乾
燥工程が終了すると、姿勢転換ロボット128に起立状
態の処理用カセット117を引き渡す。この処理用カセ
ット117の引き渡しの動作は、前述した姿勢転換ロボ
ット124からカセット搬送ロボット125への受け渡
し動作と逆の動作となる。そして、姿勢転換ロボット1
28は、受け取った処理用カセット117を起立状態か
ら横転状態にその姿勢を転換してアンローダ部104の
載置台122上に載置する。When the final drying step is completed, the cassette transport robot 127 transfers the standing processing cassette 117 to the posture changing robot 128. The transfer operation of the processing cassette 117 is the reverse of the transfer operation from the posture changing robot 124 to the cassette transfer robot 125 described above. And the posture changing robot 1
28 changes the posture of the received processing cassette 117 from the upright state to the overturned state and mounts the processing cassette 117 on the mounting table 122 of the unloader unit 104.
【0017】アンローダ部104は、処理用カセット1
17内の洗浄処理後の基板を受け取る洗浄前と同一の搬
送用カセット116が載置台121上に待機しているの
で、アンローダ側ロボット119によりローダ側ロボッ
ト118とは逆の動作により処理用カセット117内の
基板を搬送用カセット116内に順次移替える。この移
替え完了後、搬送用カセット116を搬出口112から
搬出する。なお、アンローダ側ロボット119は、ロー
ダ側ロボット118と同一の構成であるので、説明を省
略する。The unloader section 104 includes the processing cassette 1
17, the same transfer cassette 116 as that before cleaning, which receives the substrate after the cleaning process, is waiting on the mounting table 121. Therefore, the unloader robot 119 performs the processing cassette 117 by the reverse operation of the loader robot 118. Are sequentially transferred into the transfer cassette 116. After the transfer is completed, the transport cassette 116 is unloaded from the unloading port 112. The unloader-side robot 119 has the same configuration as the loader-side robot 118, and a description thereof will be omitted.
【0018】[0018]
【発明が解決しようとする課題】従来の基板処理装置1
01は、搬送用カセットバッファ部106と処理用カセ
ットバッファ部107とが順送りされる構成となってい
る。つまり、搬入口111により搬入された搬送用カセ
ット116内の基板は、処理用カセット117に移替え
て洗浄処理が行われるので、1対1の関係となってい
る。従って、この基板処理装置101の処理能力は、搬
送用カセットバッファ部106と処理用カセットバッフ
ァ部107上に載置可能なカセット数となっている。こ
のカセット数を増加させると、装置が大型化してしま
う。A conventional substrate processing apparatus 1
Reference numeral 01 denotes a configuration in which the transport cassette buffer unit 106 and the processing cassette buffer unit 107 are sequentially fed. In other words, the substrates in the transport cassette 116 carried in by the carry-in entrance 111 are transferred to the processing cassette 117 and subjected to the cleaning process, and thus have a one-to-one relationship. Therefore, the processing capacity of the substrate processing apparatus 101 is the number of cassettes that can be placed on the transport cassette buffer unit 106 and the processing cassette buffer unit 107. When the number of cassettes is increased, the size of the apparatus is increased.
【0019】また、従来の基板処理装置101は、搬送
用カセットバッファ部106内に搬送用カセット116
を順送りする送り機構、処理用カセットバッファ部10
7の処理用カセット117を順送りする送り機構、姿勢
転換ロボット124及び姿勢転換ロボット128の各装
置が必要であり、かつそれら各装置の制御を行わなけれ
ばならないので制御が複雑となっている。Further, the conventional substrate processing apparatus 101 includes a transfer cassette 116 in a transfer cassette buffer unit 106.
Feed mechanism, cassette buffer 10 for processing
7 requires a feed mechanism for sequentially feeding the processing cassette 117, the posture changing robot 124, and the posture changing robot 128, and the control of these devices must be performed, which complicates the control.
【0020】また、従来の基板処理装置101は、図6
に示すように、メンテナンスエリア105に入るために
メンテナンス入口108から進入する構成となっている
が、図7から明らかなように、姿勢転換ロボット117
とカセット搬送ロボット125とを同期制御して受け渡
しを行うために、それほどスペースに余裕がない。そこ
で、姿勢転換ロボット124には図9にて明らかなよう
に、ガイドレール125aに沿ってY方向に移動する機
構が備えられている。こうすることによって姿勢転換ロ
ボット124とカセット搬送ロボット125とが近接若
しくは離間可能となっている。しかしながら、処理用カ
セット117の受け渡しは、精度の高い同期制御が必要
なため、更に複雑な制御を行っている。A conventional substrate processing apparatus 101 is similar to that of FIG.
As shown in FIG. 7, it is configured to enter from the maintenance entrance 108 in order to enter the maintenance area 105. As is clear from FIG.
And the cassette transfer robot 125 are transferred synchronously with each other, so that there is not much space. Therefore, the posture changing robot 124 is provided with a mechanism for moving in the Y direction along the guide rail 125a, as is apparent from FIG. By doing so, the posture changing robot 124 and the cassette transfer robot 125 can be moved closer to or away from each other. However, the transfer of the processing cassette 117 requires more precise synchronization control, so that more complicated control is performed.
【0021】また、従来の基板処理装置101は、カセ
ット搬送ロボット125、カセット搬送ロボット12
6、カセット搬送ロボット127により表面処理部10
3の各工程の処理を行うが、図7から明らかなように、
カセット搬送ロボット126は処理用カセット117を
係止する開閉支持機構125c(図9参照)の方向が他
のカセット搬送ロボット125及び127と異なるた
め、先端のフックの形状を変えなければならない。ま
た、各カセット搬送ロボット125,126,127間
の処理用カセット117の受け取り動作を行うための同
期制御を行わなければならない。しかも、各カセット搬
送ロボット125、126、127は処理用カセット1
17を順次受け渡していかなければならないので、これ
ら各カセット搬送ロボット125、126、127の移
動速度、処理能力以上の稼働を行うことはできないとい
う課題がある。The conventional substrate processing apparatus 101 includes a cassette transfer robot 125 and a cassette transfer robot 12.
6. Surface treatment unit 10 by cassette transport robot 127
3 are performed. As is clear from FIG.
Since the direction of the open / close support mechanism 125c (see FIG. 9) for locking the processing cassette 117 is different from that of the other cassette transport robots 125 and 127, the cassette transport robot 126 must change the shape of the hook at the tip. In addition, it is necessary to perform synchronous control for performing a receiving operation of the processing cassette 117 between the cassette transport robots 125, 126, and 127. In addition, each of the cassette transport robots 125, 126, and 127 is a processing cassette 1
17 must be sequentially transferred, so that there is a problem that it is impossible to operate the cassette transfer robots 125, 126, 127 at a speed higher than the moving speed and the processing capacity.
【0022】本発明の目的は、上記従来技術の欠点に鑑
みてなされたものであって、液晶表示器用ガラス基板や
半導体ウエハ等の基板の表面に対して洗浄等の処理を行
う基板処理装置において、装置の小型化、低コスト化を
図りかつメンテナンスが容易で、しかも処理能力の向上
を図ることが可能な基板処理装置を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus for performing processing such as cleaning on the surface of a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display or a semiconductor wafer. Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of reducing the size and cost of the apparatus, maintaining the apparatus easily, and improving the processing capacity.
【0023】[0023]
【課題を解決するための手段】本発明による基板処理装
置は、カセットに収納された複数枚の基板に対して表面
処理を行う基板処理装置であって、複数枚の基板を所定
のピッチで収納する搬送用カセットを搬入口あるいは搬
出口と基板の移替え位置との間で所定の距離移動させる
シフト手段と、前記搬送用カセットと前記所定のピッチ
と異なる配列ピッチを有する処理用カセットとの間で基
板を移替える基板移替手段と、処理前若しくは処理後の
基板を収納する処理用カセットの姿勢を代える姿勢転換
手段と、前記処理用カセットを搬送し洗浄槽等に浸漬処
理を行い一連の処理を行う少なくとも2以上のカセット
搬送手段を有する表面処理部と、前記表面処理部のカセ
ット搬送手段と共に略U字状の搬送経路を形成するトラ
ンスファーユニットと、前記搬送用カセットを複数スト
ックする搬送用カセットバッファ部と、前記処理用カセ
ットを複数ストックする処理用カセットバッファ部と、
前記搬送用カセットバッファ部の搬送用カセットと前記
処理用カセットバッファ部の処理用カセットの移動を行
うカセット移動手段とを備え、前記トランスファーユニ
ットは、前記洗浄槽等の上方に位置して配設され、下方
をメンテナンスエリア内への出入りが可能な空間を設け
てなるものである。SUMMARY OF THE INVENTION A substrate processing apparatus according to the present invention is a substrate processing apparatus for performing a surface treatment on a plurality of substrates stored in a cassette, wherein the plurality of substrates are stored at a predetermined pitch. The transfer cassette to be loaded
Shifting means for moving a predetermined distance between an outlet and a transfer position of the substrate, the transfer cassette and the predetermined pitch
And the substrate reassignment means for changing transfer substrates between the processing cassette having a different arrangement pitch, a posture change means for changing the posture of the processing cassette for accommodating the substrate after the pretreatment or treatment, the processing cassette a surface treatment unit having at least two cassette transport means for transporting a series of processes performed immersed in the cleaning tank or the like, hank of the surface treatment unit
A transfer unit that forms a substantially U-shaped transport path with Tsu preparative conveying means, a conveying cassette buffer for multiple stock the transport cassette, and processing cassette buffer for several stocks the processing cassette,
A transfer unit that moves the transfer cassette of the transfer cassette buffer unit and the processing cassette of the processing cassette buffer unit; and the transfer unit is disposed above the cleaning tank and the like. , A space is provided below which allows access to the maintenance area.
【0024】また、本発明による基板処理装置の前記搬
送用カセットバッファ部と前記処理用カセットバッファ
部とは、夫々少なくとも2以上の段で構成してなるもの
である。The transport cassette buffer section and the processing cassette buffer section of the substrate processing apparatus according to the present invention are each constituted by at least two or more stages.
【0025】また、本発明による基板処理装置の前記搬
送用カセットバッファ部の搬送用カセットと前記処理用
カセットバッファ部の処理用カセットは異なる処理方式
により移送されてなり、前記搬送用カセットバッファ部
の搬送用カセットは先詰め方式により順次移送してなる
ものである。In the substrate processing apparatus according to the present invention, the transport cassette in the transport cassette buffer unit and the processing cassette in the processing cassette buffer unit are transported by different processing methods. The transport cassettes are sequentially transferred by a first-loading method.
【0026】また、本発明による基板処理装置の前記ト
ランスファーユニットは、案内手段により案内されるテ
ーブル上に前記処理用カセットを少なくとも1以上載置
可能でなり、該テーブル上に前記処理用カセットを待機
可能である。In the transfer unit of the substrate processing apparatus according to the present invention, at least one of the processing cassettes can be mounted on a table guided by guide means, and the processing cassettes are placed on standby on the table. It is possible.
【0027】また、本発明による基板処理装置の前記2
以上のカセット搬送手段は、異なる処理速度を有するも
のである。Further, in the substrate processing apparatus according to the second aspect of the present invention,
The above-described cassette transport means have different processing speeds.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明によ
る基板処理装置の実施例について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a substrate processing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0029】図1は、本発明による基板処理装置の外観
及び内部の概略を示す図、図2は、本発明による基板処
理装置内の構成を示す平面図、図3は、カセット移動手
段によりカセットの移動を説明する図、図4は、ローダ
側基板移替ロボットにより基板の搬送工程を説明する
図、図5は、トランスファーユニットの構成を示す図で
ある。FIG. 1 is a view schematically showing the appearance and the inside of a substrate processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing the configuration inside the substrate processing apparatus according to the present invention, and FIG. FIG. 4 is a diagram illustrating a substrate transfer process by a loader-side substrate transfer robot, and FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of a transfer unit.
【0030】図1及び図2に示すように、本発明による
基板処理装置1は、ハウジング2と、ローダ部3と、表
面処理部4と、トランスファーユニット5と、アンロー
ダ部6と、メンテナンスエリア7と、搬送用カセットバ
ッファ部8と、処理用カセットバッファ部9とからなっ
ている。As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate processing apparatus 1 according to the present invention comprises a housing 2, a loader section 3, a surface processing section 4, a transfer unit 5, an unloader section 6, and a maintenance area 7. , A transport cassette buffer unit 8 and a processing cassette buffer unit 9.
【0031】図1に示すように、ハウジング1は、内部
が高清浄な雰囲気下に保たれており、洗浄処理が行われ
る工程中に基板等に塵埃等が付着しないようになってい
る。As shown in FIG. 1, the interior of the housing 1 is maintained in a highly clean atmosphere, so that dust and the like do not adhere to the substrate or the like during the process of performing the cleaning process.
【0032】図1及び図2に示すように、複数枚の基板
が収納された搬送用カセット11がローダ部3の搬入口
13にX方向から搬入されると、搬送用カセット11は
図示せぬ載置台上に載置される。そして、この搬送用カ
セット11は、図示せぬシフト手段により矢印Ya方向
に1つ分シフトされる。このシフト手段は、シリンダ等
の駆動機構を備えており、このシリンダ等の駆動機構に
より載置台をYa方向に1つ分シフトするものである。
これは、搬送用カセット11内の基板W(図4及び図5
に図示)の移替え中に更に後の搬送用カセット11をハ
ウジング2内に待機させて作業効率を向上させると共に
後述するカセット搬送ロボットをより搬入口13側まで
移動可能としている。従って、作業効率、省スペース化
を図っている。As shown in FIGS. 1 and 2, when the transport cassette 11 containing a plurality of substrates is loaded into the loading port 13 of the loader unit 3 in the X direction, the transport cassette 11 is not shown. It is mounted on a mounting table. The transport cassette 11 is shifted by one in the direction of the arrow Ya by a shift means (not shown). The shift means includes a driving mechanism such as a cylinder, and shifts the mounting table by one in the Ya direction by the driving mechanism such as the cylinder.
This is because the substrate W in the transfer cassette 11 (see FIGS. 4 and 5)
(Shown in FIG. 3), the further transfer cassette 11 is kept in the housing 2 to improve work efficiency, and a cassette transfer robot, which will be described later, can be further moved to the carry-in port 13 side. Therefore, working efficiency and space saving are achieved.
【0033】搬送用カセット11が所定の位置に位置決
めされると、ローダ側基板移替ロボット17を挟んで搬
送用カセット11が載置されている載置台と平行に配設
してなる姿勢転換部15の略L字型のアーム15aに空
の処理用カセット12が待機状態で載置されている。こ
の処理用カセット12は、上部を搬送用カセット11側
に向けて基板Wを水平状態で挿入可能なように姿勢転換
部15のアーム15aが横転状態で位置している。When the transfer cassette 11 is positioned at a predetermined position, a posture changing section disposed in parallel with the mounting table on which the transfer cassette 11 is mounted with the loader side substrate transfer robot 17 interposed therebetween. An empty processing cassette 12 is placed in a standby state on 15 substantially L-shaped arms 15a. In the processing cassette 12, the arm 15 a of the posture changing unit 15 is positioned in a horizontal position so that the substrate W can be inserted in a horizontal state with the upper part thereof facing the transfer cassette 11.
【0034】この状態で、搬送用カセット11に収納さ
れた処理前の基板は、ローダ側基板移替ロボット17に
より処理用カセット12への移替えを行う。このとき、
搬送用カセット11内の複数の基板Wの配列ピッチは、
処理用カセット12の基板の配列ピッチよりも大きくな
っている。処理用カセット12の基板の配列ピッチは、
最適なピッチとなっているが、この処理用カセット12
の配列ピッチを搬送用カセット11の配列ピッチよりも
小さくすることにより洗浄槽の小型化を図っている。In this state, the unprocessed substrates stored in the transport cassette 11 are transferred to the processing cassette 12 by the loader-side substrate transfer robot 17. At this time,
The arrangement pitch of the plurality of substrates W in the transfer cassette 11 is as follows:
The pitch is larger than the arrangement pitch of the substrates in the processing cassette 12. The arrangement pitch of the substrates in the processing cassette 12 is as follows:
Although the pitch is optimal, the processing cassette 12
By making the arrangement pitch smaller than the arrangement pitch of the transport cassettes 11, the size of the cleaning tank is reduced.
【0035】次に、搬送用カセット11から処理用カセ
ット12への基板の移替えを行うローダ側基板移替ロボ
ット17について、図1及び図4を参照して説明する。
なお、アンローダ側基板移替ロボット18については、
ローダ側基板移替ロボット17と同一の構成であるの
で、説明を省略する。なお、ローダ側基板移替ロボット
17及びアンローダ側基板移替ロボット18を、基板移
替手段と称する。Next, a loader-side substrate transfer robot 17 for transferring substrates from the transfer cassette 11 to the processing cassette 12 will be described with reference to FIGS.
In addition, about the unloader side substrate transfer robot 18,
Since the configuration is the same as that of the loader-side substrate transfer robot 17, the description is omitted. The loader-side substrate transfer robot 17 and the unloader-side substrate transfer robot 18 are referred to as substrate transfer means.
【0036】ローダ側基板移替ロボット17は、図1に
示すハウジング2の床面に設置されてなり、図4に示す
ように、基体部17aと、基体部17a内に設けられ図
示せぬ駆動手段により上下方向、すなわちZ軸方向に伸
縮自在でかつR方向に回転可能に設けられた昇降軸17
bと、この昇降軸17bの上部に取付固定された回転ベ
ース17cと、この回転ベース17cの案内溝17c1
に沿って基端部17d1が図示せぬ駆動機構により駆動
力が付与されて案内され該基端部17d1の両端に取り
付けられた一対のアーム17d2が前後方向、すなわち
X方向に移動自在な基板載置部17dとからなってい
る。The loader-side substrate transfer robot 17 is installed on the floor of the housing 2 shown in FIG. 1, and as shown in FIG. 4, a base 17a and a drive (not shown) provided in the base 17a. Elevating shaft 17 provided to be vertically expandable and contractible in the Z-axis direction and rotatable in the R-direction by means
b, a rotating base 17c mounted and fixed on the upper part of the elevating shaft 17b, and a guide groove 17c 1 of the rotating base 17c.
Movable base end portion 17d 1 causes unexpected drive mechanism by a pair of arms 17d 2 attached to both ends of the driving force is guided granted proximal end portion 17d 1 is the front-rear direction shown, i.e. in the X direction along the And a suitable substrate mounting portion 17d.
【0037】このローダ側基板移替ロボット17による
基板Wの移替え動作について説明する。The transfer operation of the substrate W by the loader-side substrate transfer robot 17 will be described.
【0038】図4に示すように、略矩形状の液晶表示器
などに使用される大型のガラス基板Wは、前後方向に開
口部11oを有しかつ複数の支柱11aにより箱形に形
成されてなる搬送用カセット11内に所定のピッチで配
列されている。As shown in FIG. 4, a large-sized glass substrate W used for a substantially rectangular liquid crystal display or the like has an opening 11o in the front-rear direction and is formed in a box shape by a plurality of columns 11a. Are arranged at a predetermined pitch in the transfer cassette 11.
【0039】そして、ローダ側基板移替ロボット17
は、昇降軸17bを伸縮又は収縮させて基板載置部17
dのアーム17d2を搬送用カセット11の最下段(又
は最上段)に収納された基板Wの下方に位置決めする。
この位置決めは、基板処理装置1が備えているマイクロ
コンピュータ等からなる制御手段としての制御装置(図
示せず)が行う。なお、本発明による種々の制御は、全
てこの制御装置が行う。Then, the loader-side substrate transfer robot 17
Is used to expand or contract the elevating shaft 17b,
positioning d of the arm 17d 2 below the substrate W stored at the bottom (or top) of the transport cassette 11.
This positioning is performed by a control device (not shown) as control means including a microcomputer or the like provided in the substrate processing apparatus 1. It should be noted that various controls according to the present invention are all performed by this control device.
【0040】次に、昇降軸17b及び上端部に取り付け
られた回転ベース17cをR方向に回転させて基板載置
部17dのアーム17d2を搬送用カセット11の開口
部11oに向けて位置決めする。この位置決め後、回転
ベース17cは基板載置部17dの基端部17d1に駆
動力を付与してアーム17d2を搬送用カセット11の
開口部11o内に進入させて基板Wの下面に移動させ
る。次に、昇降軸17bをZ方向に僅かに伸張させて基
板載置部17dを上昇させて基板Wの下面に当接させて
吸着する。なお、この吸着は、アーム17d2 が有す
る真空吸着等の吸着手段によるが、図4においては図示
していない。Next, the rotation base 17c that is attached to the elevator shaft 17b and the upper end is rotated in the R direction to position toward the arm 17d 2 of the substrate platform 17d to opening 11o of the transport cassette 11. After this positioning, the rotary base 17c moves by applying a driving force to the proximal end portion 17d 1 of the substrate mounting portion 17d by advancing the arm 17d 2 in the opening 11o of the transport cassette 11 on the lower surface of the substrate W . Next, the elevating shaft 17b is slightly extended in the Z direction to raise the substrate mounting portion 17d and abut on the lower surface of the substrate W for suction. Incidentally, this adsorption depends on the suction means such as vacuum suction provided in the arm 17d 2, not shown in FIG.
【0041】基板載置部17dが基板Wを保持すると、
前記とは逆の動作を行う。すなわち、基板載置部17d
を搬送用カセット11内から退避移動させて回転ベース
17cをRv方向に回転させる。そして、図1及び図2
に示すように、基板載置部17dを処理用カセット12
の開口部12oに対峙させる。この処理用カセット12
は、搬送用カセット11と配列ピッチが異なる他は、同
一となっている。従って、ローダ側基板移替ロボット1
7が搬送用カセット11から処理用カセット12に基板
Wを移替える場合には、配列ピッチが異なるので昇降軸
17bを位置決めする必要がある。When the substrate mounting portion 17d holds the substrate W,
The operation opposite to the above is performed. That is, the substrate mounting portion 17d
From the transport cassette 11 to rotate the rotary base 17c in the Rv direction. 1 and 2
As shown in FIG.
To the opening 12o. This processing cassette 12
Is the same as the transport cassette 11 except that the arrangement pitch is different. Accordingly, the loader side substrate transfer robot 1
When the substrate 7 transfers the substrate W from the transport cassette 11 to the processing cassette 12, the arrangement pitch is different, so that it is necessary to position the elevating shaft 17b.
【0042】以上の動作により搬送用カセット11から
処理用カセット12に基板Wが移替えられる。By the above operation, the substrate W is transferred from the transport cassette 11 to the processing cassette 12.
【0043】次に、処理前の複数枚の基板Wを収納した
横転状態の処理用カセット12は、姿勢転換手段として
の姿勢転換部15により開口部12oが上方に向くよう
に支軸15bを中心として図示せぬ駆動手段により駆動
されて起立状態に回動する(図1,矢印Ro参照)。こ
の姿勢転換手段としての姿勢転換部15は、ハウジング
2内の図示せぬ固定手段に固定されている。なお、姿勢
転換部16は、姿勢転換部15と同一の構成であるの
で、説明を省略する。Next, the processing cassette 12 in the overturned state, in which a plurality of substrates W before processing are stored, is centered on the support shaft 15b so that the opening 12o faces upward by the posture changing part 15 as the posture changing means. It is driven by a driving means (not shown) to rotate to an upright state (see an arrow Ro in FIG. 1). The posture changing section 15 as the posture changing means is fixed to fixing means (not shown) in the housing 2. Note that the posture changing unit 16 has the same configuration as that of the posture changing unit 15, and a description thereof will be omitted.
【0044】次に、姿勢転換部15にある処理用カセッ
ト12は、カセット搬送手段としてのカセット搬送ロボ
ット21により表面処理部4に搬送する。カセット搬送
手段としてのカセット搬送ロボット22は、カセット搬
送ロボット21と同一の構成であるので、説明を省略す
る。なお、カセット搬送ロボット21は、主として洗浄
工程への搬送を行い、カセット搬送ロボット22は、主
としてリンス及び乾燥工程への搬送を行う。この表面処
理部4は、後述するトランスファーユニット5と共に、
略「U」字型の搬送経路をなしている。Next, the processing cassette 12 in the posture changing section 15 is transferred to the surface processing section 4 by a cassette transfer robot 21 as a cassette transfer means. Since the cassette transfer robot 22 as the cassette transfer means has the same configuration as the cassette transfer robot 21, description thereof will be omitted. The cassette transfer robot 21 mainly transfers to the cleaning process, and the cassette transfer robot 22 mainly transfers to the rinsing and drying processes. This surface treatment section 4 is provided with a transfer unit 5 described later,
It forms a substantially "U" -shaped transport path.
【0045】図1及び図2に示すように、表面処理部4
の洗浄工程及びリンス工程は、7つの槽からなってい
る。すなわち、カセット搬送ロボット21のチャックを
洗浄するチャック洗浄槽23、剥離洗浄槽24及び2
5、剥離洗浄槽24及び25の剥離液をリンスするDM
SO(ジメチルスルホキシド=dimethyl su
lfoxide)洗浄槽26、リンス槽27及び28、
乾燥槽29である。これら各槽を以下、洗浄槽等と呼
び、各種の洗浄液及びリンス液等を洗浄液等と呼ぶ。As shown in FIGS. 1 and 2, the surface treatment unit 4
The washing step and the rinsing step consist of seven tanks. That is, the chuck cleaning tank 23 for cleaning the chuck of the cassette transfer robot 21 and the peeling cleaning tanks 24 and 2
5. DM for rinsing stripping solution in stripping cleaning tanks 24 and 25
SO (dimethyl sulfoxide = dimethyl su)
lfoxide) cleaning tank 26, rinsing tanks 27 and 28,
This is a drying tank 29. These tanks are hereinafter referred to as cleaning tanks and the like, and various cleaning liquids and rinsing liquids are referred to as cleaning liquids and the like.
【0046】次に、表面処理部4について図1を参照し
て説明する。Next, the surface treatment section 4 will be described with reference to FIG.
【0047】表面処理部4は、各洗浄槽等(23乃至2
9)と、姿勢転換部15から処理前の処理用カセット1
2を各洗浄槽等に搬送するカセット搬送手段としてのカ
セット搬送ロボット21と、各洗浄槽等に搬送し、かつ
処理後の処理用カセット12を姿勢転換部16に受け渡
すカセット搬送手段としてのカセット搬送ロボット22
とからなっている。The surface treatment section 4 includes cleaning tanks (23 to 2).
9) and the processing cassette 1 before processing from the posture changing unit 15
A cassette transport robot 21 as a cassette transport means for transporting the cleaning cassette 2 to each cleaning tank and the like; and a cassette transport means for transporting the processed cassette 12 to each of the cleaning tanks and the like and transferring the processed processing cassette 12 to the attitude changing unit 16. Transfer robot 22
It consists of
【0048】次に、カセット搬送手段としてのカセット
搬送ロボット21について図1を参照して説明する。Next, the cassette transfer robot 21 as a cassette transfer means will be described with reference to FIG.
【0049】カセット搬送ロボット21は、複数のガイ
ドレール等からなる案内機構21aと、この案内機構2
1aに支持されてベルト若しくはチェーン等により駆動
力を付与されてX方向に往復動自在で、かつZ軸方向に
昇降自在な昇降機構21bと、この昇降機構21bの上
端部にY方向に延びた支持アーム21cと、この支持ア
ーム21cの下部に開閉自在なフックを有する開閉機構
21dとからなる。The cassette transfer robot 21 includes a guide mechanism 21a including a plurality of guide rails and the like, and a guide mechanism 2a.
A lifting mechanism 21b which is supported by 1a, is reciprocally movable in the X direction by being provided with a driving force by a belt or a chain, and is vertically movable in the Z axis direction, and extends in the Y direction at the upper end of the lifting mechanism 21b. It comprises a support arm 21c and an opening / closing mechanism 21d having a hook which can be opened and closed below the support arm 21c.
【0050】このカセット搬送ロボット21は、図2に
示すように、案内機構21aの一方の端部が姿勢転換部
15と並ぶ位置、すなわちAで示すラインまで進入する
構成となっている。この構成により姿勢転換部15は、
ハウジング2内の図示せぬ固定手段に固定することが可
能となっており、姿勢転換部15のアーム15aは、横
転状態と起立状態との間を回動する構成で足りるので、
処理用カセット12の受け渡しの制御が簡単である。ま
た、案内機構21aを姿勢転換部15と並んだ位置まで
進入させるため、搬送用カセット11をパーク位置P1
からパーク位置P2にシフトする構成としたことによっ
て、次の搬送用カセット11をハウジング2内のパーク
位置P1に待機させて次の処理を直ちに行うことができ
る構成となっている。As shown in FIG. 2, the cassette transfer robot 21 is configured to enter a position where one end of the guide mechanism 21a is aligned with the posture changing unit 15, that is, a line indicated by A. With this configuration, the posture changing unit 15
Since the arm 15a of the posture changing portion 15 can be fixed between the rolled state and the upright state, the arm 15a of the posture changing section 15 can be fixed to the fixing means (not shown) in the housing 2.
The control of the transfer of the processing cassette 12 is simple. Further, the transport cassette 11 is moved to the park position P 1 in order to allow the guide mechanism 21a to enter a position aligned with the posture changing unit 15.
By having a configuration in which the shift to the park position P 2 from the following transport cassette 11 on standby to the park position P 1 in the housing 2 has a configuration capable of immediately performing the following process.
【0051】カセット搬送ロボット21の開閉機構21
dは、前記姿勢転換部15により起立状態にある処理用
カセット12をフックに係止させて受け取り、各洗浄槽
等23乃至26の各々に順次処理用カセット12毎浸漬
して洗浄を行う。Opening / closing mechanism 21 of cassette transfer robot 21
As for d, the processing cassette 12 in an upright state is received by the posture changing part 15 by being hooked on a hook, and the processing cassette 12 is sequentially immersed in each of the cleaning tanks 23 to 26 for cleaning.
【0052】カセット搬送ロボット21によりDMSO
洗浄槽26の洗浄が終了すると、トランスファーユニッ
ト5に処理用カセット12を移送する。図2に示すよう
に、トランスファーユニット5の下部には、DMSO洗
浄槽26が配設されてなり、このDMSO洗浄槽26と
並んでカセット搬送ロボット21の案内機構21aの他
方の端部が配設されてカセット搬送ロボット21が最奥
部まで進入可能となっている。The cassette transfer robot 21 uses the DMSO
When the cleaning of the cleaning tank 26 is completed, the processing cassette 12 is transferred to the transfer unit 5. As shown in FIG. 2, a DMSO cleaning tank 26 is provided below the transfer unit 5, and the other end of the guide mechanism 21a of the cassette transport robot 21 is provided alongside the DMSO cleaning tank 26. Then, the cassette transfer robot 21 can enter the innermost part.
【0053】図1に示すように、トランスファーユニッ
ト5は、前記DMSO洗浄槽26の上方に配設されてな
り、このトランスファーユニット5の下部は、オープン
スペースとなってメンテナンスエリア7内へ自由に出入
り可能となっている。この構成によって、本発明による
基板処理装置1は、図2に示すように、バッファとなる
バッファ洗浄槽31及び32や各装置へのメンテナンス
作業が容易であり、本発明の特徴の1つとなっている。As shown in FIG. 1, the transfer unit 5 is disposed above the DMSO cleaning tank 26, and the lower part of the transfer unit 5 is an open space to freely enter and exit the maintenance area 7. It is possible. With this configuration, as shown in FIG. 2, the substrate processing apparatus 1 according to the present invention facilitates maintenance work on the buffer cleaning tanks 31 and 32 serving as buffers and each device, which is one of the features of the present invention. I have.
【0054】次に、トランスファーユニット5の構成及
び動作について説明する。Next, the configuration and operation of the transfer unit 5 will be described.
【0055】図5に示すように、トランスファーユニッ
ト5は、2本のトラックレール35aと、このトラック
レール35aに跨架され、断面略コ字状で転動体として
のボール又はころを介してトラックレール35aの軌道
に沿って往復動自在に案内されるスライダ35bと、こ
のスライダ35bに取付固定されたテーブル35cと、
このテーブル35cの下面中央に取り付けられ一対のプ
ーリ35eに巻回されてなる無端ベルト35dと、一対
のプーリ35eの一方に駆動力を付与するモータ35f
とからなっている。前記トラックレール35aと、スラ
イダ35bとを案内手段と呼ぶ。As shown in FIG. 5, the transfer unit 5 is straddled by two track rails 35a and the track rails 35a. A slider 35b guided reciprocally along the track 35a, a table 35c fixed to the slider 35b,
An endless belt 35d attached to the center of the lower surface of the table 35c and wound around a pair of pulleys 35e, and a motor 35f for applying a driving force to one of the pair of pulleys 35e.
It consists of The track rail 35a and the slider 35b are referred to as guide means.
【0056】図1、図2及び図5に示すように、カセッ
ト搬送ロボット21がDMSO洗浄槽26から洗浄処理
が終了した処理用カセット12を開閉機構21dのフッ
クに係止させてトランスファーユニット5のテーブル3
5c上の所定の位置に載置する。そして、モータ35f
は図示せぬ制御装置からの指令により駆動されると、テ
ーブル35cは無端ベルト35dと共にY方向に向かっ
て移動する。そして、リンス槽27の上方に到来する
と、この処理用カセット12は、カセット搬送手段とし
てのカセット搬送ロボット22に受け渡される。As shown in FIGS. 1, 2 and 5, the cassette transfer robot 21 locks the processing cassette 12 from the DMSO cleaning tank 26, on which the cleaning processing has been completed, to the hook of the opening / closing mechanism 21d, and Table 3
5c is placed at a predetermined position. And the motor 35f
When driven by a command from a control device (not shown), the table 35c moves in the Y direction together with the endless belt 35d. When the processing cassette 12 arrives above the rinsing tank 27, the processing cassette 12 is transferred to a cassette transport robot 22 as cassette transport means.
【0057】上記トランスファーユニット5のテーブル
35cは、図5では処理用カセット12が1つ載置され
ているが、この処理用カセット12が複数載置される大
きさのものとすることも可能である。この場合、無端ベ
ルト35d及びテーブル35fは、カセット搬送ロボッ
ト22の昇降機構(カセット搬送ロボット21の昇降機
構21b参照)を避ける構成、すなわちテーブルの中央
にスリットを設けたり、無端ベルト31dを片側に寄せ
る構成のものとすればよい。In the table 35c of the transfer unit 5, one processing cassette 12 is mounted in FIG. 5, but it is also possible to have a size in which a plurality of processing cassettes 12 are mounted. is there. In this case, the endless belt 35d and the table 35f are configured to avoid the elevating mechanism of the cassette transport robot 22 (see the elevating mechanism 21b of the cassette transport robot 21), that is, to provide a slit at the center of the table, or to move the endless belt 31d to one side. What is necessary is just to have a structure.
【0058】つまり、このトランスファーユニット5
は、カセット搬送ロボット21及び22の処理速度や移
動速度により処理工程に時間を要している場合などに
は、トランスファーユニット5のテーブル35c上に処
理用カセット12を一時的に待機させることが可能であ
る。こうすることによって、カセット搬送ロボット21
とカセット搬送ロボット22とを必ずしも同期を取る必
要がなくなり、作業の処理速度が向上すると共に制御も
容易なものとなっている。That is, the transfer unit 5
In the case where time is required for the processing step due to the processing speed or moving speed of the cassette transport robots 21 and 22, the processing cassette 12 can be temporarily put on standby on the table 35c of the transfer unit 5. It is. By doing so, the cassette transport robot 21
And the cassette transport robot 22 are not always required to be synchronized, so that the processing speed of the work is improved and the control is easy.
【0059】次に、カセット搬送ロボット22は、トラ
ンスファーユニット5から処理用カセット12を受け取
り、各リンス槽27及び28を経て最終の乾燥槽29が
終了すると、姿勢転換部16に起立状態の処理用カセッ
ト12を引き渡す。この処理用カセット12の引き渡し
の動作は、前述した姿勢転換部15からカセット搬送ロ
ボット21への受け渡し動作と逆の動作となる。そし
て、姿勢転換部16は、受け取った処理用カセット12
を起立状態から横転状態にその姿勢を転換する。そし
て、次にアンローダ部6の処理がなされる。このアンロ
ーダ部6は、基板移替手段としてのアンローダ基板移替
ロボット18により処理後の基板Wを処理用カセット1
2から基板Wを搬送したものと同一の搬送用カセット1
1に移替えて搬送口14から搬出される。なお、アンロ
ーダ側基板移替ロボット18からの基板Wの移替え動作
は、ローダ側基板移替ロボット17と同一の構成となっ
ており、基板Wの移替え動作が逆となるだけでその他は
同じであり、また、図2に示すように、パーク位置P3
からパーク位置P4へのシフト動作は、前述したパーク
位置P1及びパーク位置P2と同じであるので説明を省略
する。Next, the cassette transfer robot 22 receives the processing cassette 12 from the transfer unit 5, and after the final drying tank 29 is completed through the rinsing tanks 27 and 28, the posture changing unit 16 moves the processing cassette 12 upright. Deliver the cassette 12. The transfer operation of the processing cassette 12 is the reverse of the transfer operation from the attitude changing unit 15 to the cassette transfer robot 21 described above. Then, the posture changing unit 16 receives the processing cassette 12
The posture is changed from a standing state to a rollover state. Then, the process of the unloader unit 6 is performed. The unloader unit 6 loads the substrates W after processing by the unloader substrate transfer robot 18 as substrate transfer means into the processing cassette 1.
The same transport cassette 1 that transports the substrate W from 2
1 and is carried out of the transfer port 14. The transfer operation of the substrate W from the unloader-side substrate transfer robot 18 has the same configuration as that of the loader-side substrate transfer robot 17, except that the transfer operation of the substrate W is reversed. And, as shown in FIG. 2, the park position P 3
Shifting operation to the park position P 4 from will be omitted because it is same as the park position P 1 and the park position P 2 as described above.
【0060】次に、本発明による基板処理装置の特徴と
なっている搬送用カセットバッファ部8、処理用カセッ
トバッファ部9及びカセット移動手段10について説明
を行う。Next, a description will be given of the transport cassette buffer unit 8, the processing cassette buffer unit 9, and the cassette moving unit 10, which are features of the substrate processing apparatus according to the present invention.
【0061】図1及び図3に示すように、搬送用カセッ
トバッファ部8と処理用カセットバッファ部9は、共に
上下二段の構成となっている。この構成とすることによ
って、省スペース化を図りかつ搬送用カセット11及び
処理用カセット12を複数ストックすることが可能とな
っている。前記搬送用カセットバッファ部8と処理用カ
セットバッファ部9は上下二段の構成となっているが、
複数の段で構成してもよい。As shown in FIGS. 1 and 3, each of the transport cassette buffer section 8 and the processing cassette buffer section 9 has an upper and lower two-stage configuration. With this configuration, it is possible to save space and to stock a plurality of transfer cassettes 11 and processing cassettes 12. The transport cassette buffer section 8 and the processing cassette buffer section 9 have a two-stage configuration,
It may be composed of a plurality of stages.
【0062】搬送用カセットバッファ部8と処理用カセ
ットバッファ部9とは、上下二段の構成である点は共通
であるが、搬送用カセットバッファ部8と処理用カセッ
トバッファ部9とは送り方式が異なる。すなわち、搬送
用カセットバッファ部8は、先詰め方式と称されてお
り、搬入口13から搬入される搬送用カセット11の順
番がそのまま維持されて搬出口13から搬出されるもの
である。従って、搬送用カセット11に収納された基板
Wは、洗浄処理後同一の搬送用カセット11に戻される
こととなる。従って、搬送用カセットバッファ部8の上
下二段の配列は所定の規則に従って順送り制御されてい
る。The transport cassette buffer section 8 and the processing cassette buffer section 9 are common in that they have a two-stage configuration in the upper and lower stages, but the transport cassette buffer section 8 and the processing cassette buffer section 9 are of a feed system. Are different. That is, the transport cassette buffer unit 8 is called a first-loading type, and is transported out of the transport outlet 13 while maintaining the order of the transport cassettes 11 loaded from the transport entrance 13. Therefore, the substrates W stored in the transport cassette 11 are returned to the same transport cassette 11 after the cleaning process. Therefore, the arrangement of the upper and lower two stages of the transport cassette buffer unit 8 is controlled in order according to a predetermined rule.
【0063】しかして、処理用カセットバッファ部9
は、処理用カセット12は表面処理部4及びトランスフ
ァユニット5の搬送経路を巡回すればよいので、後述す
るカセット移動手段10によりランダムに姿勢転換部1
5に搬送される。従って、図1及び図3では、搬送用カ
セット11及び処理用カセット12が整然と配列されて
いるが、処理用カセット1については、空いているとこ
ろがあれば、カセット移動手段10により姿勢転換部1
6から受け取った処理用カセット12を該箇所に搬送す
ることとなる。勿論、搬送用カセット11と同様に先詰
め方式でもよいが、このようにする方が処理速度が向上
する。The processing cassette buffer 9
Since the processing cassette 12 only has to circulate the transport path of the surface processing section 4 and the transfer unit 5, the posture changing section 1 is randomly moved by the cassette moving means 10 described later.
5. Therefore, in FIGS. 1 and 3, the transport cassette 11 and the processing cassette 12 are arranged in an orderly manner.
The processing cassette 12 received from 6 is conveyed to the location. Of course, as in the case of the transport cassette 11, a first-stuffing method may be used, but this method improves the processing speed.
【0064】次に、カセット移動手段10の構成及び動
作について説明する。Next, the structure and operation of the cassette moving means 10 will be described.
【0065】図3に示すように、カセット移動手段10
は、一対のガイドレール38aと、このガイドレール3
8aに沿って図示せぬ駆動手段によりY方向に往復動自
在に案内される略L字状の基台38bと、この基台38
bの立設部に沿ってZ軸方向に昇降自在な昇降台38c
と、この支持部38c上を図示せぬ駆動手段により駆動
されX方向に突出して搬送用カセット11及び処理用カ
セット12内部に進退自在で該搬送用カセット11及び
処理用カセット12を取り出して移送するカセット移動
片38dとからなっている。As shown in FIG. 3, the cassette moving means 10
Is a pair of guide rails 38a and the guide rails 3
A substantially L-shaped base 38b guided reciprocally in the Y direction by driving means (not shown) along the base 8b;
elevating table 38c that can be moved up and down in the Z-axis direction along the standing portion b
Then, the transport cassette 11 and the processing cassette 12 are taken out of the transporting cassette 11 and the processing cassette 12 so as to be able to advance and retreat into the transporting cassette 11 and the processing cassette 12 by being driven by a driving means (not shown) on the support portion 38c so as to advance and retreat. And a cassette moving piece 38d.
【0066】このカセット移動手段10は、搬送用カセ
ット11を移動させる場合には、昇降台38cを支柱1
1の下方に位置するように位置決めしてカセット移動片
38dを伸ばして搬送用カセット11内に進入させた後
昇降台38cを上昇させてカセット移動片38dに載置
させて搬送用カセット11を所定の位置に移動させる。
処理用カセット12についても同様に行う。When the transport cassette 11 is to be moved, the cassette moving means 10 moves the elevator 38 c to the support 1.
1, the cassette moving piece 38d is extended to enter the transporting cassette 11, and then the elevating table 38c is raised to place the cassette moving piece 38d on the cassette moving piece 38d so that the transporting cassette 11 is positioned at a predetermined position. To the position.
The same applies to the processing cassette 12.
【0067】このように、本発明による基板処理装置1
は、カセット移動手段10により搬送用カセットバッフ
ァ部8及び処理用カセットバッファ部10の処理を行う
ので、設置スペースも狭くかつ処理能力も向上させるこ
とができる。As described above, the substrate processing apparatus 1 according to the present invention
Since the processing of the transport cassette buffer unit 8 and the processing cassette buffer unit 10 is performed by the cassette moving unit 10, the installation space can be reduced and the processing capacity can be improved.
【0068】なお、カセット移動手段10は、姿勢転換
部15及び姿勢転換部16への処理用カセット12の移
送若しくは受け取りを行う際、ローダ側基板移替ロボッ
ト17及びアンローダ側基板移替ロボット18との衝突
を避けるために、昇降台38c及び昇降軸17bの高さ
制御により両者が衝突しない構成となっている。When transferring or receiving the processing cassette 12 to / from the attitude changing section 15 and the attitude changing section 16, the cassette moving means 10 communicates with the loader-side substrate transferring robot 17 and the unloader-side substrate transferring robot 18. In order to avoid collision, the height of the lifting platform 38c and the lifting shaft 17b are controlled so that they do not collide.
【0069】[0069]
【発明の効果】以上のように、本発明による基板処理装
置は、搬送用カセットバッファ部及び処理用カセットバ
ッファ部とが共に複数段で構成されているため多くのカ
セットを収納することが可能でかつ小型化することが可
能であり、しかも搬送用カセットバッファ部と処理用カ
セットバッファ部とは送り方式が異なるので処理速度を
向上させることができると共に作業効率の向上を図るこ
とができる。As described above, the substrate processing apparatus according to the present invention is capable of accommodating a large number of cassettes because both the transport cassette buffer section and the processing cassette buffer section are composed of a plurality of stages. In addition, since the transport cassette buffer unit and the processing cassette buffer unit use different feeding systems, the processing speed can be improved and the working efficiency can be improved.
【0070】また、本発明による基板処理装置は、搬送
用カセットバッファ部と処理用カセットバッファ部との
間の処理をカセット移動手段により行うので、装置の構
成が簡単でありしかも制御も容易となり、コストも低減
することができる。Further, in the substrate processing apparatus according to the present invention, since the processing between the transport cassette buffer section and the processing cassette buffer section is performed by the cassette moving means, the configuration of the apparatus is simple and the control is easy. Cost can also be reduced.
【0071】また、本発明による基板処理装置は、トラ
ンスファーユニットを有してなるので、メンテナンスエ
リア内に容易に出入りすることが可能となっており、メ
ンテナンスが容易であると共にカセット搬送ロボットに
代えてトランスファーユニットで構成したために装置全
体が複雑化せず制御も容易なものとなっている。特に、
カセット搬送ロボット間の同期制御を図る必要がなく、
しかもカセット搬送ロボットが作業中であるときはトラ
ンスファーユニットで待機状態とすることが可能となる
ので作業効率及び作業速度を向上させることができる。
しかも、本発明によれば、処理槽の数が異なる結果、同
一の処理速度のカセット搬送ロボットでは作業時間が異
なってくるのでこのようなトランスファーユニットを設
けることによってそれらの時間差を解消することが可能
となる。そして、更に、このトランスファーユニットを
有効に活用することによって、異なる処理速度のカセッ
ト搬送ロボットを使用することも可能となる。Further, since the substrate processing apparatus according to the present invention has a transfer unit, it is possible to easily enter and exit the maintenance area, so that the maintenance is easy and the substrate processing apparatus can be replaced with a cassette transport robot. Because of the transfer unit, the entire apparatus is not complicated and the control is easy. Especially,
There is no need to perform synchronous control between cassette transfer robots.
In addition, when the cassette transport robot is working, the transfer unit can be in a standby state, so that the working efficiency and the working speed can be improved.
In addition, according to the present invention, since the number of processing tanks is different, the work time is different for cassette transport robots having the same processing speed. Therefore, by providing such a transfer unit, it is possible to eliminate the time difference between them. Becomes Further, by effectively utilizing the transfer unit, it is possible to use cassette transport robots having different processing speeds.
【図1】本発明による基板処理装置の外観及び内部の概
略を示す図である。FIG. 1 is a view schematically showing the appearance and the inside of a substrate processing apparatus according to the present invention.
【図2】本発明による基板処理装置内の構成を示す平面
図である。FIG. 2 is a plan view showing a configuration inside a substrate processing apparatus according to the present invention.
【図3】カセット移動手段によりカセットの移動を説明
する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating movement of a cassette by a cassette moving unit.
【図4】ローダ側基板移替ロボットにより基板の搬送工
程を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a substrate transfer process by a loader-side substrate transfer robot.
【図5】トランスファーユニットの構成を示す図であ
る。FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of a transfer unit.
【図6】従来の基板処理装置の外観を示す斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view showing the appearance of a conventional substrate processing apparatus.
【図7】図6の基板処理装置内の構成を示す平面図であ
る。FIG. 7 is a plan view showing a configuration inside the substrate processing apparatus of FIG. 6;
【図8】ローダ側ロボットの構成を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration of a loader-side robot.
【図9】基板処理装置に装備される姿勢転換ロボット及
び処理用カセットを搬送する表面処理ロボットの構成を
示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration of a posture changing robot and a surface processing robot that transports a processing cassette provided in the substrate processing apparatus.
1 基板処理装置 2 ハウジング 3 ローダ部 4 表面処理部 5 トランスファーユニット 6 アンローダ部 7 メンテナンスエリア 8 搬送用カセットバッファ部 9 処理用カセットバッファ部 10 カセット移動手段 11 搬送用カセット 12 処理用カセット 13 搬入口 14 搬出口 15、16 姿勢転換部 17 ローダ側基板移替ロボット 18 アンローダ側基板移替ロボット 21、22 カセット搬送ロボット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing apparatus 2 Housing 3 Loader part 4 Surface treatment part 5 Transfer unit 6 Unloader part 7 Maintenance area 8 Transport cassette buffer part 9 Processing cassette buffer part 10 Cassette moving means 11 Transport cassette 12 Processing cassette 13 Loading entrance 14 Loading port 15, 16 Attitude change section 17 Loader-side substrate transfer robot 18 Unloader-side substrate transfer robot 21, 22 Cassette transfer robot
Claims (5)
して表面処理を行う基板処理装置であって、 複数枚の基板を所定のピッチで収納する搬送用カセット
を搬入口あるいは搬出口と基板の移替え位置との間で所
定の距離移動させるシフト手段と、 前記搬送用カセットと前記所定のピッチと異なる配列ピ
ッチを有する処理用カセットとの間で基板を移替える基
板移替手段と、 処理前若しくは処理後の基板を収納する処理用カセット
の姿勢を代える姿勢転換手段と、 前記処理用カセットを搬送し洗浄槽等に浸漬処理を行い
一連の処理を行う少なくとも2以上のカセット搬送手段
を有する表面処理部と、 前記表面処理部のカセット搬送手段と共に略U字状の搬
送経路を形成するトランスファーユニットと、 前記搬送用カセットを複数ストックする搬送用カセット
バッファ部と、 前記処理用カセットを複数ストックする処理用カセット
バッファ部と、 前記搬送用カセットバッファ部の搬送用カセットと前記
処理用カセットバッファ部の処理用カセットの移動を行
うカセット移動手段とを備え、 前記トランスファーユニットは、前記洗浄槽等の上方に
位置して配設され、下方をメンテナンスエリア内への出
入りが可能な空間を設けてなることを特徴とする基板処
理装置。1. A substrate processing apparatus for performing a surface treatment on a plurality of substrates stored in the cassette, the transport cassette for accommodating a plurality of substrates at a predetermined pitch entrance or unloading port and the substrate Shift means for moving a predetermined distance between the transfer cassette and the transfer cassette, and a substrate transfer for transferring a substrate between the transport cassette and a processing cassette having an arrangement pitch different from the predetermined pitch. Replacement means; attitude changing means for changing the attitude of a processing cassette for storing substrates before or after processing; and at least two or more of performing a series of processing by transporting the processing cassette and immersing it in a cleaning tank or the like. a surface treatment unit having a cassette carrying unit, wherein the surface and transfer unit that forms a substantially U-shaped transport path with processing of the cassette transport means, a plurality of the transport cassette stopper Transport cassette buffer unit, a processing cassette buffer unit that stocks a plurality of the processing cassettes, a cassette movement that moves the transport cassette of the transport cassette buffer unit and the processing cassette of the processing cassette buffer unit Means, wherein the transfer unit is disposed above the cleaning tank and the like, and a space is provided below the transfer unit so that the space can enter and exit the maintenance area.
理用カセットバッファ部とは、夫々少なくとも2以上の
段で構成してなることを特徴とする請求項1記載の基板
処理装置。2. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the transport cassette buffer unit and the processing cassette buffer unit each include at least two or more stages.
カセットと前記処理用カセットバッファ部の処理用カセ
ットは異なる処理方式により移送されてなり、前記搬送
用カセットバッファ部の搬送用カセットは先詰め方式に
より順次移送してなることを特徴とする請求項1又は請
求項2記載の基板処理装置。3. The transport cassette of the transport cassette buffer unit and the processing cassette of the processing cassette buffer unit are transported by different processing methods, and the transport cassette of the transport cassette buffer unit is first-filled. 3. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus sequentially transfers the substrates.
段により案内されるテーブル上に前記処理用カセットを
少なくとも1以上載置可能でなり、該テーブル上に前記
処理用カセットを待機可能であることを特徴とする請求
項1記載の基板処理装置。4. The transfer unit according to claim 1, wherein at least one or more of the processing cassettes can be mounted on a table guided by guiding means, and the processing cassettes can be on standby on the table. The substrate processing apparatus according to claim 1.
る処理速度を有することを特徴とする請求項1記載の基
板処理装置。5. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the two or more cassette transport units have different processing speeds.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP5011598A JP2914949B1 (en) | 1998-02-16 | 1998-02-16 | Substrate processing equipment |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP5011598A JP2914949B1 (en) | 1998-02-16 | 1998-02-16 | Substrate processing equipment |
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JP2914949B1 true JP2914949B1 (en) | 1999-07-05 |
JPH11233590A JPH11233590A (en) | 1999-08-27 |
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Country Status (1)
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CN109808157A (en) * | 2019-03-20 | 2019-05-28 | 浙江隐齿丽医学技术有限公司 | Device for removing scum, method for demoulding and one-stop facing production system |
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1998
- 1998-02-16 JP JP5011598A patent/JP2914949B1/en not_active Expired - Fee Related
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