JP2000340631A - Truck for wafer transfer - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハをクリー
ン室内で搬送するのに用いるウェハ搬送用台車に関す
る。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a wafer transport cart used for transporting wafers in a clean room.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置の製造工程における、たとえ
ば、ウェーハプロセスでは、コンタミネーションを避け
るため、ウェーハに対して所定の処理を施す処理設備は
クリーンルーム内に設置される。クリーンルーム内での
ウェーハの搬送は、たとえば、ウェーハカセット等のウ
ェーハ保持具にウェーハを収容し、これを各種処理装置
間で搬送することにより行なわれる。従来において、た
とえば、直径が200mmにウェーハの搬送システムで
は、天井搬送用モノレール、床上搬送用無人車、床上搬
送用ロボットアーム付き無人車等の自動化された搬送手
段を用いた搬送システムが構築されてきた。2. Description of the Related Art In a semiconductor device manufacturing process, for example, in a wafer process, processing equipment for performing predetermined processing on a wafer is installed in a clean room in order to avoid contamination. The transfer of the wafer in the clean room is performed, for example, by storing the wafer in a wafer holder such as a wafer cassette and transferring the wafer between various processing apparatuses. Conventionally, for example, in a wafer transfer system having a diameter of 200 mm, a transfer system using automated transfer means such as a ceiling transfer monorail, a floor transfer unmanned vehicle, and an unmanned vehicle with a floor transfer robot arm has been constructed. Was.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、たとえ
ば、直径が300mmのウェーハのようにウェーハの大
径化に伴って上記のような自動化された搬送システムを
構築すると、搬送設備の大型化、設備投資額の増大等の
不利益があった。また、従来においてウェーハを保持す
るウェーハカセットは、たとえば、クリーンルーム内の
雰囲気に晒した状態で搬送するオープン式のカセット
と、ウェーハを密閉状態で搬送する密閉式のカセットを
作業内容に応じて使い分けており、これら仕様の異なる
ウェーハカセットにそれぞれ専用の搬送手段が必要であ
り、固定化されたフレキシビリティが少ない搬送システ
ムであった。一方、製品のライフサイクルが短くなり需
要に即応するには、自動化された搬送手段によって搬送
を行うよりも、人中心の搬送のほうが対応しやすい。こ
のため、人力による台車を用いたウェーハの搬送が行わ
れるようになった。しかし、台車を用いたウェーハの搬
送では、人によってウェーハの移載が行われるため、人
からの発塵が半導体装置の品質に大きな影響を与え、特
に、近年の半導体チップの微細化、高集積化が進む中で
は顕著であった。たとえば、従来においては、ウェーハ
に所定の処理を施す処理装置へのウェーハの投入、排出
は、たとえば、作業者がウェーハをウェーハカセット単
位で行っていたため、ウェーハが作業者の発塵によって
汚染される可能性が高かった。However, if an automated transfer system as described above is constructed along with an increase in the diameter of a wafer such as a wafer having a diameter of 300 mm, for example, the size of the transfer equipment and the capital investment will increase. There were disadvantages such as an increase in the amount. Conventionally, a wafer cassette for holding a wafer is, for example, an open type cassette for transporting a wafer exposed to the atmosphere in a clean room, and a closed type cassette for transporting a wafer in a sealed state depending on the work content. Therefore, dedicated transfer means are required for each of the wafer cassettes having different specifications, and the transfer system is fixed and has less flexibility. On the other hand, in order to shorten the life cycle of a product and immediately respond to demand, it is easier to respond by human-centered transport than by automated transport means. For this reason, the transfer of wafers using a cart by human power has come to be performed. However, when transporting wafers using a trolley, the wafers are transferred by humans, so dust from humans has a great effect on the quality of semiconductor devices. It was remarkable in the course of progress. For example, in the related art, the loading and unloading of a wafer into and from a processing apparatus that performs a predetermined process on the wafer is performed, for example, because the worker performs the wafer in units of wafer cassettes. It was likely.
【0004】本発明は、上述の不利益を解消すべくなさ
れたものであって、台車を用いたウェーハの各種工程間
の搬送を行う際に、ウェーハの汚染を極力防止すること
が可能で、仕様が異なるウェーハ保持具の搬送に共用可
能で、簡易にかつ安価にウェーハ搬送システムを構築可
能なウェーハ搬送用台車を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned disadvantages, and it is possible to minimize the contamination of a wafer when carrying a wafer between various processes using a cart. An object of the present invention is to provide a wafer transport cart that can be used for transporting wafer holders having different specifications and that can easily and inexpensively construct a wafer transport system.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、ウェーハを収
納保持するウェーハ保持具を所定の処理工程間で搬送す
るウェーハ搬送用台車であって、前記ウェーハ保持具を
収納する収納空間部と、前記ウェーハ保持具を前記収納
空間部内で独立に移動可能に保持する複数の収納空間内
保持手段と、前記収納空間部内で移動可能かつ前記収納
空間部外に移動可能な前記ウェーハ保持具を保持する移
載用保持手段とを具備し、前記移載用保持手段と前記複
数の収納空間内保持手段のうち任意の収納空間内保持手
段との協動によって前記ウェーハ保持具の受け渡しを行
い、前記ウェーハ保持具を前記各処理工程に設置された
処理装置と前記収納空間部との間で移載する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a wafer carrier for carrying a wafer holder for accommodating and holding a wafer between predetermined processing steps, comprising a storage space for accommodating the wafer holder. A plurality of holding means in the storage space for independently and movably holding the wafer holder in the storage space; and holding the wafer holder movable in the storage space and movable out of the storage space. Transferring means for transferring the wafer holder by cooperation of the holding means for transfer and any holding means in the storage space among the plurality of holding means in the storage space, and The holder is transferred between the processing device installed in each of the processing steps and the storage space.
【0006】前記移載用保持手段は、仕様の異なる複数
種類のウェーハ保持具を前記収納空間部と前記処理装置
との間で移載可能である。The transfer holding means can transfer a plurality of types of wafer holders having different specifications between the storage space and the processing apparatus.
【0007】前記ウェーハ保持具は、被保持部がそれぞ
れ異なる複数のウェーハ保持具からなり、前記移載用保
持手段は、前記複数のウェーハ保持具の各被保持部をそ
れぞれ保持可能な複数の保持アームを具備する保持アー
ム部を有する。The wafer holder comprises a plurality of wafer holders each having a different holding part, and the transfer holding means comprises a plurality of holding members capable of holding the respective holders of the plurality of wafer holders. It has a holding arm part having an arm.
【0008】前記ウェーハ保持具は、前記ウェーハを密
閉状態で収容保持する第1のウェーハ保持具と、前記ウ
ェーハを雰囲気に晒した状態で収容保持する第2のウェ
ーハ保持具とからなり、前記第1および第2のウェーハ
保持具の被保持部は、それぞれ異なる位置に設けられて
いる。The wafer holder comprises a first wafer holder for accommodating and holding the wafer in a sealed state, and a second wafer holder for accommodating and holding the wafer in an exposed state to the atmosphere. The held portions of the first and second wafer holders are provided at different positions.
【0009】前記移載用保持手段の保持アーム部は、前
記第1および第2のウェーハ保持具の被保持部を保持す
る第1および第2の保持アームを備えている。The holding arm portion of the transfer holding means has first and second holding arms for holding the held portions of the first and second wafer holders.
【0010】前記移載用保持手段は、前記保持アーム部
を前記収納空間部の有する出入口に対して出入する出入
方向にスライドさせるスライド機構と、前記保持アーム
部を前記収納空間部内で所定の昇降方向に昇降させる昇
降機構と、を具備し、前記収納空間内保持手段は、前記
ウェーハ保持具を載置保持可能な第1および第2の可動
部材と、前記第1の可動部材を前記収納空間部内で前記
出入方向にスライドさせるスライド機構と、前記第2の
可動部材を前記収納空間部内で前記昇降方向に移動させ
る昇降機構とを具備する。[0010] The transfer holding means includes a slide mechanism for sliding the holding arm portion in and out of the doorway of the storage space portion, and moving the holding arm portion up and down within the storage space portion by a predetermined amount. An elevating mechanism for raising and lowering in the direction, wherein the holding means in the storage space includes first and second movable members capable of mounting and holding the wafer holder and the first movable member in the storage space. A sliding mechanism that slides in the entry / exit direction within the unit; and an elevating mechanism that moves the second movable member in the elevating direction within the storage space.
【0011】また、本発明は、前記移載用保持手段の保
持アーム部と前記第1または第2の可動部材との間の前
記ウェーハ保持具の受け渡し動作を前記保持アーム部と
前記第1および第2の可動部材とのスライド動作および
昇降動作の組合せによって行う。The present invention also relates to a transfer operation of the wafer holder between the holding arm portion of the transfer holding means and the first or second movable member, wherein the transfer operation of the wafer holding tool is performed by the first and second movable members. This is performed by a combination of the sliding operation and the elevating operation with the second movable member.
【0012】本発明のウェーハ搬送用台車では、各処理
装置間のウェーハの搬送は、ウェーハを保持収納したウ
ェーハ保持具を収納空間部にある複数の収納空間内保持
手段に保持させた状態、すなわち、収納空間部に収納し
た状態で、作業者がウェーハ搬送用台車を移動させるこ
とで行われる。ウェーハ搬送用台車を一の処理装置に移
動すると、ウェーハ搬送用台車は、収納空間部の複数の
収納空間内保持手段に保持された任意のウェーハ保持具
が移載用保持手段に受け渡され、移載用保持手段が選択
されたウェーハ保持具を処理装置に移載する。[0012] In the wafer transport cart of the present invention, the wafer is transported between the processing apparatuses in a state where the wafer holder holding and storing the wafer is held by a plurality of holding means in the storage space in the storage space. The operation is performed by the worker moving the wafer transfer cart in the state of being stored in the storage space. When the wafer transport trolley is moved to one processing apparatus, the wafer transport trolley is transferred to any transfer holding means held by any of the wafer holders held by the plurality of storage space holding means in the storage space, The transfer holding means transfers the selected wafer holder to the processing apparatus.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は、本発明のウェーハ
搬送用台車の一実施形態を示す構成図であり、(a)は
前面図であり、(b)は側面図である。図1に示すよう
に、本実施形態に係るウェーハ搬送用台車1は、ケース
2に囲まれた収納空間部3と、移載用保持機構部11
と、第1の収納空間保持機構部31と、第2の収納空間
保持機構部41とを有している。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a wafer transport cart according to the present invention, in which (a) is a front view and (b) is a side view. As shown in FIG. 1, a carriage 1 for wafer transfer according to the present embodiment includes a storage space section 3 surrounded by a case 2 and a transfer holding mechanism section 11.
, A first storage space holding mechanism 31 and a second storage space holding mechanism 41.
【0014】収納空間部3は、後述するウェーハを収納
保持するウェーハ保持具を収納するための空間であり、
ウェーハ搬送用台車1のケース2によって囲まれている
ため、収納空間部3には外部からの塵等が侵入しにくく
なっている。収納空間部3の一側面には、ウェーハ保持
具を収納空間部3内から外部に排出し、かつ収納空間部
3内に投入するための出入口5が開口している。The storage space 3 is a space for storing a wafer holder for storing and holding a wafer described later.
Since it is surrounded by the case 2 of the wafer carrier 1, dust and the like from the outside hardly enter the storage space 3. On one side surface of the storage space 3, an entrance 5 for opening the wafer holder out of the storage space 3 to the outside and charging the wafer holder into the storage space 3 is opened.
【0015】また、ウェーハ搬送用台車1のケース2の
下部には、複数(4個)の車輪70が回動自在に設けら
れており、ウェーハ搬送用台車1を手動で移動させるこ
とができる。これら車輪70は、例えば、ウレタン系の
材料等の比較的軟らかい材料から形成され、ウェーハ搬
送用台車1への振動を和らげている。A plurality of (four) wheels 70 are rotatably provided below the case 2 of the wafer transport trolley 1 so that the wafer transport trolley 1 can be manually moved. These wheels 70 are formed of a relatively soft material such as a urethane-based material, for example, and reduce the vibration applied to the wafer carrier 1.
【0016】ここで、図2は移載用保持機構部11の構
造を示す図であって、(a)は上面図であり、(b)は
側面図である。図2に示すように、移載用保持機構部1
1は、アーム昇降用フレーム15と、保持アーム部12
とを有しており、アーム昇降用フレーム15は4本のリ
ニアガイド8に沿って矢印B1およびB2方向に移動自
在に保持されている。また、アーム昇降用フレーム15
はリニアガイド8に対して平行となるように、かつ、回
転自在に設けられたボールネジ16と螺合連結されてお
り、ボールネジ16は図示しない伝達機構を介して駆動
モータ17に接続されている。ボールネジ16は駆動モ
ータ17によって回転駆動され、アーム昇降用フレーム
15が矢印B1およびB2方向に昇降する。FIGS. 2A and 2B show the structure of the transfer holding mechanism 11, wherein FIG. 2A is a top view and FIG. 2B is a side view. As shown in FIG. 2, the transfer holding mechanism 1
1 is an arm elevating frame 15 and a holding arm 12
The arm raising / lowering frame 15 is held along four linear guides 8 so as to be movable in the directions of arrows B1 and B2. In addition, the arm 15
Is screwed and connected to a ball screw 16 provided parallel to the linear guide 8 and rotatably. The ball screw 16 is connected to a drive motor 17 via a transmission mechanism (not shown). The ball screw 16 is driven to rotate by a drive motor 17, and the arm elevating frame 15 moves up and down in the directions of arrows B1 and B2.
【0017】保持アーム部12は、リニアガイド20に
よってアーム昇降用フレーム15に対して矢印A1およ
びA2方向に移動自在に保持されている。また、保持ア
ーム部12は、たとえば、ラックおよびピニオン等から
なる伝達手段によって駆動モータ18と接続されてお
り、駆動モータ18の回転駆動によって略水平方向であ
る矢印A1およびA2にスライドする。The holding arm 12 is held by a linear guide 20 so as to be movable in the directions of arrows A1 and A2 with respect to the arm elevating frame 15. The holding arm section 12 is connected to the drive motor 18 by a transmission means such as a rack and a pinion, and slides in the substantially horizontal directions indicated by arrows A1 and A2 by the rotation of the drive motor 18.
【0018】保持アーム部12は、ウェーハ保持具を保
持するための第1および第2の保持アーム13、14を
有している。第1の保持アーム13は、保持アーム部1
2のフレームに対して略水平方向に延びており、先端に
互いに平行な2つのフォーク部13aを備えている。第
2の保持アーム14は、互いに平行な2本のアームから
なり、図2(a)に示すように、第1の保持アーム13
の両側に配置されている。The holding arm section 12 has first and second holding arms 13 and 14 for holding a wafer holder. The first holding arm 13 includes the holding arm unit 1.
The two forks 13a extend in a substantially horizontal direction with respect to the two frames, and have two forks 13a parallel to each other at the ends. The second holding arm 14 is composed of two arms parallel to each other, and as shown in FIG.
Are located on both sides.
【0019】図3および図4は、保持アーム部12によ
って、それぞれ異なる仕様のウェーハ保持具61、62
を保持した状態を示す図であり、(a)は前面図であ
り、(b)は側面図である。図3に示すウェーハ保持具
61は、上面にホルダ部62が設けられている。ホルダ
部62のネック部61bに対して第1の保持アーム13
を2つのフォーク部13aで挟むように挿入し、第1の
保持アーム13を上昇させることにより、ホルダ部62
は2つのフォーク部13aによって保持される。FIGS. 3 and 4 show wafer holders 61 and 62 of different specifications, respectively, by the holding arm 12.
(A) is a front view, and (b) is a side view. The wafer holder 61 shown in FIG. 3 has a holder 62 on the upper surface. The first holding arm 13 with respect to the neck portion 61b of the holder portion 62
Is inserted between the two forks 13a, and the first holding arm 13 is raised.
Is held by the two forks 13a.
【0020】図4に示すウェーハ保持具65は、底部の
両側に沿って2本の第2の保持アーム14が嵌まる溝部
65aが設けられている。第2の保持アーム14をウェ
ーハ保持具65に底部に位置させ、第2の保持アーム1
4をウェーハ保持具65に対してスライドさせることに
より、ウェーハ保持具65は第2の保持アーム14によ
って保持される。The wafer holder 65 shown in FIG. 4 is provided with grooves 65a along which the two second holding arms 14 fit along both sides of the bottom. The second holding arm 14 is positioned at the bottom of the wafer holder 65 and the second holding arm 1
The wafer holder 65 is held by the second holding arm 14 by sliding the wafer holder 4 with respect to the wafer holder 65.
【0021】上記したウェーハ保持具61は、たとえ
ば、図示しない開閉蓋を有し、内部にウェーハを収納
し、開閉蓋を閉じることによりウェーハを密閉状態で搬
送することができるタイプのものを用いることができ
る。また、ウェーハ保持具65は、たとえば、いわゆる
オープンカセットと呼ばれる、ウェーハをクリーンルー
ムの雰囲気に晒した状態でウェーハを収容保持するもの
を用いることができる。The above-mentioned wafer holder 61 has, for example, a type having an opening / closing lid (not shown), capable of accommodating a wafer therein and closing the opening / closing lid to convey the wafer in a sealed state. Can be. Further, as the wafer holder 65, for example, a so-called open cassette, which accommodates and holds wafers in a state where the wafers are exposed to a clean room atmosphere, can be used.
【0022】図5は、第1の収納空間保持機構部31の
構造を示す図であって、(a)は上面図であり、(b)
は側面図である。図5に示すように、第1の収納空間保
持機構部31は、ウェーハ保持具61、6を載置保持す
る可動板32と、可動板32を略水平方向である矢印C
1およびC2方向に移動自在に保持するリニアガイド3
3と、可動板32を駆動するための駆動モータ34とを
有している。可動板32と駆動モータ34は、たとえ
ば、ラックとピニオンからなる伝達機構によって接続さ
れ、可動板32は、駆動モータ34の回転駆動によって
矢印C1およびC2方向に駆動される。FIGS. 5A and 5B are views showing the structure of the first storage space holding mechanism 31, where FIG. 5A is a top view and FIG.
Is a side view. As shown in FIG. 5, the first storage space holding mechanism 31 includes a movable plate 32 on which the wafer holders 61 and 6 are placed and held, and an arrow C that is substantially horizontal.
Linear guide 3 movably held in directions 1 and C2
3 and a drive motor 34 for driving the movable plate 32. The movable plate 32 and the drive motor 34 are connected by, for example, a transmission mechanism including a rack and a pinion. The movable plate 32 is driven in the directions of arrows C1 and C2 by the rotational drive of the drive motor 34.
【0023】図6は、第2の収納空間保持機構部41の
構造を示す図であって、(a)は上面図であり、(b)
は側面図である。図6に示すように、第2の収納空間保
持機構部41は、ウェーハ保持具61、6を載置保持す
る可動板42と、可動板42を矢印D1およびD2方向
に移動自在に保持するリニアガイド47と、リニアガイ
ド47に平行に回転自在に設けられたボールネジ46
と、ボールネジ46を回転駆動する駆動モータ44とを
有する。FIGS. 6A and 6B show the structure of the second storage space holding mechanism 41. FIG. 6A is a top view and FIG.
Is a side view. As shown in FIG. 6, the second storage space holding mechanism 41 includes a movable plate 42 for placing and holding the wafer holders 61 and 6 and a linear plate for holding the movable plate 42 movably in the directions of arrows D1 and D2. A guide 47 and a ball screw 46 rotatably provided in parallel with the linear guide 47
And a drive motor 44 that rotationally drives the ball screw 46.
【0024】可動板42は、ボールネジ46に螺合連結
されており、ボールネジ46が回転することによって矢
印D1およびD2方向に昇降する。ボールネジ46は、
ベルト45を介して駆動モータ44と連結されており、
駆動モータ44の回転駆動によって駆動される。The movable plate 42 is threadably connected to a ball screw 46, and moves up and down in the directions of arrows D1 and D2 as the ball screw 46 rotates. The ball screw 46 is
Connected to a drive motor 44 via a belt 45,
It is driven by the rotational drive of the drive motor 44.
【0025】次に、上記構成のウェーハ搬送用台車1の
動作の一例について図7〜図12を参照して説明する。
ウェーハの加工工程では、ウェーハを比較的高いクリー
ン度の下で取り扱う必要がある工程と、比較的低いクリ
ーン度の下で処理が行われ、ウェーハをクリーンルーム
の雰囲気に晒した状態で搬送可能な工程とが存在する。
このため、高いクリーン度を要する工程では、たとえ
ば、上記したウェーハを密閉状態で搬送することができ
るウェーハ保持具61が用いられる。また、ウェーハを
クリーンルームの雰囲気に晒してもよい工程では、たと
えば、上記したオープンカセットのようなウェーハ保持
具65が用いられる。Next, an example of the operation of the wafer transporting cart 1 having the above configuration will be described with reference to FIGS.
In the wafer processing process, there is a process that requires handling the wafer under relatively high cleanliness, and a process that performs processing under relatively low cleanliness and can transfer the wafer while it is exposed to the atmosphere of the clean room And exists.
Therefore, in a process requiring a high degree of cleanliness, for example, a wafer holder 61 capable of transporting the above-mentioned wafer in a sealed state is used. In a process in which the wafer may be exposed to a clean room atmosphere, for example, a wafer holder 65 such as the above-described open cassette is used.
【0026】収納動作 まず、ウェーハに対して処理を行う処理装置に存在する
ウェーハ保持具61(または65)のウェーハ搬送用台
車1への収納動作について説明する。たとえば、作業者
がウェーハ搬送用台車1を押して移動し、ウェーハ搬送
用台車1に収納すべきウェーハ保持具61(または6
5)が存在する処理装置に移動させる。次いで、図7に
示すように、保持アーム部12を駆動して矢印A1の向
きにスライドさせ、出入口5を通じて収納空間部3から
突出させ、保持アーム部12を処理装置のアンロードポ
ートにあるウェーハ保持具61(または65)に対して
スライドさせて保持アーム13または14によってウェ
ーハ保持具61(または65)を保持する。次いで、保
持アーム部12を矢印A2方向にスライドさせて、保持
しているウェーハ保持具61(または65)を収納空間
部3内に収容する。 Storing Operation First, the storing operation of the wafer holder 61 (or 65) existing in the processing apparatus for processing a wafer into the wafer transport carriage 1 will be described. For example, an operator pushes and moves the wafer transport trolley 1, and the wafer holder 61 (or 6) to be stored in the wafer transport trolley 1.
5) Move to the existing processing device. Next, as shown in FIG. 7, the holding arm 12 is driven to slide in the direction of arrow A1, and is projected from the storage space 3 through the entrance 5 so that the holding arm 12 is located at the unload port of the processing apparatus. The wafer holder 61 (or 65) is slid with respect to the holder 61 (or 65) to be held by the holding arm 13 or 14. Next, the holding arm unit 12 is slid in the direction of arrow A <b> 2, and the held wafer holder 61 (or 65) is stored in the storage space 3.
【0027】第1の可動板32への移載動作 ウェーハ保持具61(または65)を第1の可動板32
上に移載する場合には、図8に示すように、第1の可動
板32を矢印C1の向きにスライドさせ、第1の可動板
32を収納空間部3内の出入口5側の所定の位置まで移
動させる。保持アーム部12は、出入口5側の所定の位
置まで移動した第1の可動板32の上方に位置させてお
り、アーム昇降用フレーム15を矢印B1の向きに下降
させていく。 Transfer operation to the first movable plate 32 The wafer holder 61 (or 65) is moved to the first movable plate 32.
When the upper part is to be transferred, as shown in FIG. 8, the first movable plate 32 is slid in the direction of arrow C <b> 1 and the first movable plate 32 is moved to a predetermined position on the entrance 5 side in the storage space 3. Move to the position. The holding arm unit 12 is located above the first movable plate 32 that has moved to a predetermined position on the entrance 5 side, and lowers the arm elevating frame 15 in the direction of arrow B1.
【0028】アーム昇降用フレーム15の下降によって
保持アーム部12が所定の位置に達すると、保持アーム
部12によって保持されたウェーハ保持具61(または
65)が第1の可動板32上に載置される。この状態か
ら、保持アーム部12を出入口5とは反対側の方向、す
なわち、矢印A2の向きにスライドさせ、さらに、アー
ム昇降用フレーム15を原位置に上昇させ、第1の可動
板32を出入口5とは反対側の終端位置にスライドさせ
ると、図9に示すように、ウェーハ保持具61(または
65)の第1の可動板32への移載が完了する。When the holding arm 12 reaches a predetermined position by the lowering of the arm raising / lowering frame 15, the wafer holder 61 (or 65) held by the holding arm 12 is placed on the first movable plate 32. Is done. From this state, the holding arm unit 12 is slid in the direction opposite to the entrance 5, that is, in the direction of the arrow A <b> 2, and further, the arm elevating frame 15 is raised to the original position, and the first movable plate 32 is brought into the entrance. When the wafer holder 61 is slid to the terminal position on the opposite side, the transfer of the wafer holder 61 (or 65) to the first movable plate 32 is completed, as shown in FIG.
【0029】第2の可動板42への移載動作 ウェーハ保持具61(または65)を第2の可動板42
へ移載する場合には、図10に示すように、第2の可動
板42を矢印D1の向きに上昇させ、上方に位置する保
持アーム部12に保持されたウェーハ保持具61(また
は65)を第2の可動板42上に載置させる。この状態
から、保持アーム部12を出入口5とは反対側の終端位
置までスライドさせることにより、図10に示す状態と
なる。ウェーハ保持具61(または65)を載置保持し
た第2の可動板42を原位置まで下降させることによ
り、ウェーハ保持具61(または65)の第2の可動板
42への移載が完了する。 Transfer operation to the second movable plate 42 The wafer holder 61 (or 65) is moved to the second movable plate 42.
In the case of transfer to the wafer holder, as shown in FIG. 10, the second movable plate 42 is raised in the direction of the arrow D1, and the wafer holder 61 (or 65) held by the holding arm unit 12 located above. Is placed on the second movable plate 42. From this state, the holding arm 12 is slid to the end position on the opposite side of the entrance 5 to reach the state shown in FIG. By lowering the second movable plate 42 on which the wafer holder 61 (or 65) is placed and held to the original position, the transfer of the wafer holder 61 (or 65) to the second movable plate 42 is completed. .
【0030】排出動作 次に、第1または第2の可動板32、42上に保持さ
れ、収納空間部3内に収納されたウェーハ保持具61
(または65)を排出して、処理装置のロードポートに
移載する動作について説明する。 Ejection Operation Next, the wafer holder 61 held on the first or second movable plate 32, 42 and stored in the storage space 3.
The operation of discharging (or 65) and transferring it to the load port of the processing apparatus will be described.
【0031】第1の可動板32からの排出動作 第1の可動板32に載置保持された状態のウェーハ保持
具61(または65)を出入口5を通じて収納空間部3
から排出し、処理装置のロードポートに移載する場合に
は、図11に示すように、ウェーハ保持具61(または
65)を保持した状態にある第1の可動板32を出入口
5側の終端位置までスライドさせる。原位置にあるアー
ム昇降用フレーム15において、保持アーム部12を出
入口5とは反対側の終端位置までスライドさせた状態に
し、アーム昇降用フレーム15を下降させ、保持アーム
部12の保持アーム13または14が第1の可動板32
に保持されたウェーハ保持具61(または65)を受け
渡し可能な位置に位置決めし、図11に示す状態にす
る。 Discharge Operation from First Movable Plate 32 The wafer holder 61 (or 65) placed and held on the first movable plate 32 is inserted through the entrance 5 into the storage space 3.
When the wafer is discharged from the processing apparatus and transferred to the load port of the processing apparatus, as shown in FIG. 11, the first movable plate 32 holding the wafer holder 61 (or 65) is terminated at the entrance 5 side. Slide to position. In the arm raising / lowering frame 15 at the original position, the holding arm 12 is slid to the end position opposite to the entrance 5, and the arm raising / lowering frame 15 is lowered to hold the holding arm 13 of the holding arm 12 or 14 is the first movable plate 32
The wafer holder 61 (or 65) held at the position shown in FIG.
【0032】この状態から、保持アーム部12を出入口
5側である矢印A1の向きにスライドさせ、ウェーハ保
持具61(または65)を第1の可動板32から保持ア
ーム部12に移載する。ウェーハ保持具61(または6
5)が移載された保持アーム部12を出入口5まで上昇
させ、保持アーム部12を出入口5を通じて収納空間部
3の外にスライドさせることにより、ウェーハ保持具6
1(または65)の処理装置のロードポートへの移載が
行われる。From this state, the holding arm 12 is slid in the direction of the arrow A1 on the entrance 5 side, and the wafer holder 61 (or 65) is transferred from the first movable plate 32 to the holding arm 12. Wafer holder 61 (or 6)
5) is moved to the entrance 5 by moving the holding arm 12 to which the transferred wafer 5 is transferred, and the holding arm 12 is slid out of the storage space 3 through the entrance 5 so that the wafer holder 6 is moved.
The transfer to the load port of the 1 (or 65) processing device is performed.
【0033】第2の可動板42からの排出動作 第2の可動板42に載置保持された状態のウェーハ保持
具61(または65)を出入口5を通じて収納空間部3
から排出し、処理装置のロードポートに移載する場合に
は、まず、保持アーム部12を出入口5とは反対側の終
端位置までスライドさせて退避させておき、図12に示
すように、ウェーハ保持具61(または65)を保持し
た状態にある第2の可動板42を出入口5の位置まで上
昇させ、図12に示す状態とする。 Discharge Operation from Second Movable Plate 42 The wafer holder 61 (or 65) placed and held on the second movable plate 42 is inserted through the entrance 5 into the storage space 3.
When the wafer is discharged from the processing apparatus and transferred to the load port of the processing apparatus, first, the holding arm 12 is slid to the end position on the opposite side to the entrance 5 to retract, and as shown in FIG. The second movable plate 42 holding the holding tool 61 (or 65) is raised to the position of the entrance 5 so as to be in the state shown in FIG.
【0034】この状態から、保持アーム部12を出入口
5側にスライドさせて第2の可動板42から保持アーム
部12にウェーハ保持具61(または65)を受け渡
し、第2の可動板42を終端位置まで下降させる。ウェ
ーハ保持具61(または65)を保持した状態にある保
持アーム部12を出入口5を通じて収納空間部3の外に
スライドさせることにより、ウェーハ保持具61(また
は65)の処理装置のロードポートへの移載が行われ
る。From this state, the holding arm portion 12 is slid toward the entrance 5 to transfer the wafer holder 61 (or 65) from the second movable plate 42 to the holding arm portion 12, and the second movable plate 42 is terminated. Lower to the position. The holding arm 12 holding the wafer holder 61 (or 65) is slid out of the storage space 3 through the entrance 5 to allow the wafer holder 61 (or 65) to be connected to the load port of the processing apparatus. Transfer is performed.
【0035】以上のように、本実施形態によれば、ウェ
ーハ搬送用台車1を各処理装置間で人力で移動させるの
みで、処理装置とウェーハ搬送用台車1の有する収納空
間部3との間のウェーハ保持具61、65の移載は自動
的に行われる。このため、たとえば、ウェーハが大径化
してウェーハ保持具61、65の重量が増大しても、人
力を中心としたウェーハ搬送システムを簡易かつ安価に
構築することができる。また、ウェーハ搬送用台車1の
作業者による搬送中には、ウェーハ保持具61、65
は、収納空間部3に収納されているため、人からの発塵
の影響が抑制され、ウェーハ保持具61、65の処理装
置との間の移載は自動化されているため、人からの発塵
による汚染を極力抑制することができる。As described above, according to the present embodiment, the wafer transporting trolley 1 is moved manually between the processing apparatuses only, and the space between the processing apparatus and the storage space 3 of the wafer transporting trolley 1 is maintained. The transfer of the wafer holders 61 and 65 is automatically performed. For this reason, for example, even if the diameter of the wafer increases and the weight of the wafer holders 61 and 65 increases, a wafer transfer system centering on human power can be simply and inexpensively constructed. Further, during the transfer of the wafer transfer cart 1 by the operator, the wafer holders 61 and 65 are not used.
Are stored in the storage space portion 3 so that the influence of dust from humans is suppressed, and the transfer of the wafer holders 61 and 65 to and from the processing apparatus is automated, so that Dust contamination can be minimized.
【0036】また、本実施形態に係るウェーハ搬送用台
車1では、収納空間部3には、複数の可動板32、42
が設けられており、移載用保持機構部11は、可動板3
2、42に保持されたウェーハ保持具61、65のうち
任意のものを移載することが可能であるので、ウェーハ
搬送用台車1を処理段階や処理工程の異なるウェーハの
搬送に同時に用いることができる。また、本実施形態に
係るウェーハ搬送用台車1の保持アーム部12は、異な
る仕様のウェーハ保持具61、65のいずれも保持可能
な保持アーム13、14を有しているため、異なる仕様
のウェーハ保持具61、65に共用でき、ウェーハ搬送
用台車1の汎用性が高い。すなわち、ウェーハを密閉状
態で搬送する必要がある工程と、ウェーハをクリーンル
ームの雰囲気に晒した状態で搬送可能な工程とのいずれ
にもウェーハ搬送用台車1を用いることで、ウェーハ搬
送用台車1の導入台数を抑制することが可能となる。In the carriage 1 for carrying a wafer according to the present embodiment, a plurality of movable plates 32 and 42
Is provided, and the transfer holding mechanism 11 is provided with the movable plate 3.
Since any one of the wafer holders 61 and 65 held by the wafer holders 2 and 42 can be transferred, the wafer transport cart 1 can be used simultaneously for transporting wafers having different processing stages and processing steps. it can. Further, since the holding arm portion 12 of the wafer carrier 1 according to the present embodiment has the holding arms 13 and 14 capable of holding the wafer holders 61 and 65 of different specifications, the wafers of different specifications are used. It can be shared by the holders 61 and 65, and the versatility of the wafer transport cart 1 is high. In other words, by using the wafer transport cart 1 for both the process in which the wafer needs to be transported in a sealed state and the process in which the wafer can be transported while being exposed to the atmosphere of the clean room, the wafer transport cart 1 is used. It is possible to reduce the number of introduced devices.
【0037】[0037]
【発明の効果】本発明によれば、異なる仕様のウェーハ
保持具の搬送にウェーハ搬送用台車を共用できる。たと
えば、クリーンルーム内の雰囲気に晒した状態で搬送す
ることが可能な場合と、ウェーハを密閉状態で搬送しな
けらばならない場合に対応可能である。また、本発明に
よれば、ウェーハ搬送用台車と各処理装置との間でのウ
ェーハ保持具の受け渡しが自動化することができるた
め、ウェーハ保持具の受け渡しの際にウェーハ搬送用台
車の操作者からの発塵によるウェーハ汚染を極力防止す
ることができるとともに、ウェーハ保持具の受け渡しを
迅速に行なうことができる。According to the present invention, a wafer carrier can be used commonly for carrying wafer holders of different specifications. For example, it is possible to cope with a case where the wafer can be transported while being exposed to the atmosphere in the clean room and a case where the wafer has to be transported in a sealed state. Further, according to the present invention, since the transfer of the wafer holder between the wafer transport trolley and each processing apparatus can be automated, the operator of the wafer transport trolley receives the wafer holder when the wafer holder is transferred. In addition, it is possible to prevent wafer contamination due to dust generation as much as possible, and to quickly transfer the wafer holder.
【図1】本発明のウェーハ搬送用台車の一実施形態を示
す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of a wafer transport cart of the present invention.
【図2】移載用保持機構部11の構成を示す構成図であ
る。FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a configuration of a transfer holding mechanism unit 11;
【図3】保持アーム部12に第1のウェーハ保持具を保
持した状態を示す図である。FIG. 3 is a view showing a state in which a first wafer holder is held by a holding arm unit 12;
【図4】保持アーム部12に第2のウェーハ保持具を保
持した状態を示す図である。FIG. 4 is a view showing a state where a second wafer holder is held by a holding arm unit 12;
【図5】第1の収納空間保持機構部31の構成を示す構
成図である。FIG. 5 is a configuration diagram showing a configuration of a first storage space holding mechanism unit 31;
【図6】第2の収納空間保持機構部41の構成を示す構
成図である。FIG. 6 is a configuration diagram showing a configuration of a second storage space holding mechanism section 41.
【図7】処理装置から収納空間部にウェーハ保持具を移
載する動作を説明するための図である。FIG. 7 is a view for explaining an operation of transferring the wafer holder from the processing apparatus to the storage space.
【図8】保持アーム部から第1の可動板にウェーハ保持
具を受け渡す動作を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining an operation of transferring a wafer holder from a holding arm unit to a first movable plate.
【図9】図8に続く動作を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram illustrating an operation subsequent to FIG. 8;
【図10】保持アーム部から第2の可動板にウェーハ保
持具を受け渡す動作を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining an operation of transferring a wafer holder from a holding arm unit to a second movable plate.
【図11】第1の可動板から保持アーム部にウェーハ保
持具を受け渡す動作を説明するための図である。FIG. 11 is a view for explaining an operation of transferring the wafer holder from the first movable plate to the holding arm.
【図12】第2の可動板から保持アーム部にウェーハ保
持具を受け渡す動作を説明するための図である。FIG. 12 is a view for explaining an operation of transferring a wafer holder from a second movable plate to a holding arm unit.
1…ウェーハ搬送用台車、2…ケース、3…収納空間
部、11…移載用保持機構部、31…第1の収納空間保
持機構部、41…第2の収納空間保持機構部。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wafer carrying cart, 2 ... Case, 3 ... Storage space part, 11 ... Transfer holding mechanism part, 31 ... First storage space holding mechanism part, 41 ... Second storage space holding mechanism part.
Claims (7)
所定の処理工程間で搬送するウェーハ搬送用台車であっ
て、 前記ウェーハ保持具を収納する収納空間部と、 前記ウェーハ保持具を前記収納空間部内で独立に移動可
能に保持する複数の収納空間内保持手段と、 前記収納空間部内で移動可能かつ前記収納空間部外に移
動可能な前記ウェーハ保持具を保持する移載用保持手段
とを具備し、 前記移載用保持手段と前記複数の収納空間内保持手段の
うち任意の収納空間内保持手段との協動によって前記ウ
ェーハ保持具の受け渡しを行い、前記ウェーハ保持具を
前記各処理工程に設置された処理装置と前記収納空間部
との間で移載するウェーハ搬送用台車。1. A wafer carrier for carrying a wafer holder for accommodating and holding a wafer between predetermined processing steps, comprising: a storage space for accommodating the wafer holder; and a storage space for accommodating the wafer holder. A plurality of holding means in the storage space for independently and movably holding in the unit; and a transfer holding means for holding the wafer holder movable in the storage space and movable out of the storage space. The transfer of the wafer holder is performed by cooperation of the transfer holding means and the holding means in the storage space among the plurality of storage space holding means, and the wafer holding tool is transferred to each of the processing steps. A wafer transport trolley for transferring between the installed processing apparatus and the storage space.
種類のウェーハ保持具を前記収納空間部と前記処理装置
との間で移載可能である請求項1に記載のウェーハ搬送
用台車。2. The trolley according to claim 1, wherein the transfer holding means is capable of transferring a plurality of types of wafer holders having different specifications between the storage space and the processing apparatus. .
れ異なる複数のウェーハ保持具からなり、 前記移載用保持手段は、前記複数のウェーハ保持具の各
被保持部をそれぞれ保持可能な複数の保持アームを具備
する保持アーム部を有する請求項2に記載のウェーハ搬
送用台車。3. The wafer holder comprises a plurality of wafer holders each having a different held part, and the transfer holding means comprises a plurality of wafer holders each capable of holding each held part of the plurality of wafer holders. 3. The carriage for transporting wafers according to claim 2, further comprising: a holding arm portion having the holding arm.
閉状態で収容保持する第1のウェーハ保持具と、 前記ウェーハを雰囲気に晒した状態で収容保持する第2
のウェーハ保持具とからなり、 前記第1および第2のウェーハ保持具の被保持部は、そ
れぞれ異なる位置に設けられている請求項2に記載のウ
ェーハ搬送用台車。4. A first wafer holder for holding and holding the wafer in a sealed state, and a second wafer holder for holding and holding the wafer in an atmosphere.
3. The carrier according to claim 2, wherein the held portions of the first and second wafer holders are provided at different positions. 4.
記第1および第2のウェーハ保持具の被保持部を保持す
る第1および第2の保持アームを備えている請求項4に
記載のウェーハ搬送用台車。5. The transfer arm according to claim 4, wherein the holding arm portion of the transfer holding means includes first and second holding arms for holding the held portions of the first and second wafer holders. The cart for transporting wafers according to the above.
を前記収納空間部の有する出入口に対して出入する出入
方向にスライドさせるスライド機構と、前記保持アーム
部を前記収納空間部内で所定の昇降方向に昇降させる昇
降機構と、を具備し、 前記収納空間内保持手段は、前記ウェーハ保持具を載置
保持可能な第1および第2の可動部材と、前記第1の可
動部材を前記収納空間部内で前記出入方向にスライドさ
せるスライド機構と、前記第2の可動部材を前記収納空
間部内で前記昇降方向に移動させる昇降機構とを具備す
る請求項3に記載のウェーハ搬送用台車。6. The transfer holding means includes: a slide mechanism for sliding the holding arm in a direction in which the holding arm is moved in and out of an entrance of the storage space, and a predetermined movement of the holding arm in the storage space. An elevating mechanism for elevating in the elevating direction, wherein the holding means in the storage space includes a first and a second movable member capable of mounting and holding the wafer holder and the first movable member. 4. The carriage according to claim 3, further comprising: a slide mechanism that slides in the storage space in the entry / exit direction; and a lifting mechanism that moves the second movable member in the storage space in the vertical direction. 5.
第1または第2の可動部材との間の前記ウェーハ保持具
の受け渡し動作を前記保持アーム部と前記第1および第
2の可動部材とのスライド動作および昇降動作の組合せ
によって行う請求項6に記載のウェーハ搬送用台車。7. A transfer operation of said wafer holder between said holding arm portion of said transfer holding means and said first or second movable member is performed by said holding arm portion and said first and second movable members. 7. The wafer transfer cart according to claim 6, wherein the carriage is performed by a combination of a sliding operation and a lifting operation with a member.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14961499A JP2000340631A (en) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | Truck for wafer transfer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14961499A JP2000340631A (en) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | Truck for wafer transfer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000340631A true JP2000340631A (en) | 2000-12-08 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2000340631A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002373926A (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Shinko Electric Co Ltd | Article-conveying vehicle |
JP2006114561A (en) * | 2004-10-12 | 2006-04-27 | Nec Electronics Corp | Wafer conveying cart |
KR20150017296A (en) | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 가부시키가이샤 사무코 | Wafer conveying cart and wafer conveying method |
JP2021178712A (en) * | 2020-05-13 | 2021-11-18 | 株式会社ダイフク | Article conveying device |
CN114212469A (en) * | 2021-11-12 | 2022-03-22 | 山东新华医疗器械股份有限公司 | Special transport AGV for transporting sterilization rack in disinfection supply center |
-
1999
- 1999-05-28 JP JP14961499A patent/JP2000340631A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002373926A (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Shinko Electric Co Ltd | Article-conveying vehicle |
JP4682455B2 (en) * | 2001-06-15 | 2011-05-11 | ムラテックオートメーション株式会社 | Goods transport vehicle |
JP2006114561A (en) * | 2004-10-12 | 2006-04-27 | Nec Electronics Corp | Wafer conveying cart |
JP4555655B2 (en) * | 2004-10-12 | 2010-10-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Wafer transfer cart |
KR20150017296A (en) | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 가부시키가이샤 사무코 | Wafer conveying cart and wafer conveying method |
JP2021178712A (en) * | 2020-05-13 | 2021-11-18 | 株式会社ダイフク | Article conveying device |
JP7222378B2 (en) | 2020-05-13 | 2023-02-15 | 株式会社ダイフク | Article conveying device |
CN114212469A (en) * | 2021-11-12 | 2022-03-22 | 山东新华医疗器械股份有限公司 | Special transport AGV for transporting sterilization rack in disinfection supply center |
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