JP2913962B2 - 板状試料測定用天びん - Google Patents
板状試料測定用天びんInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 本発明は例えばシリコンウエハ
等の板状の試料を精密に質量測定するための天びんに関
する。
等の板状の試料を精密に質量測定するための天びんに関
する。
【０００２】
【従来の技術】 シリコンウエハ等の板状試料の質量を
測定するため、板状の試料を水平に支える上下の支持具
を有する枠体を、天びんの計量フックないしは計量皿に
係合させ、一方側の支持具に基準用ないしは参照用の試
料を、他方には測定を必要とする試料を載せるように
し、両者の質量を個々に計量してその差から、被測定試
料の質量情報を求めるようにした天びんがある。
測定するため、板状の試料を水平に支える上下の支持具
を有する枠体を、天びんの計量フックないしは計量皿に
係合させ、一方側の支持具に基準用ないしは参照用の試
料を、他方には測定を必要とする試料を載せるように
し、両者の質量を個々に計量してその差から、被測定試
料の質量情報を求めるようにした天びんがある。
【０００３】すなわち、例えばシリコンウエハへの製膜
やエッチング工程の前後に、そのウエハの質量の変化を
求めることにより、平均膜厚や平均エッチング深さ等を
知ることができるが、このような用途における質量の変
化は極めて微小であり、ウエハが大気から受ける浮力の
影響、つまり大気圧や温度による浮力の変化の影響が無
視できない程度となる。例えば８インチウエハ全面のシ
リコンの膜厚については、膜厚の１３オングストローム
の変化によりウエハの質量が０．１ｍｇだけ変化する
が、大気圧が１０ミリバール変化することによって、天
びん側に全く誤差がない状態でもその計量値には０．３
ｍｇの変化が生じる。製膜等の処理前後にこのような大
気圧や温度の変化があれば、処理前後における質量変化
から求められる膜厚等のデータには大きな誤差が生じる
ことになる。
やエッチング工程の前後に、そのウエハの質量の変化を
求めることにより、平均膜厚や平均エッチング深さ等を
知ることができるが、このような用途における質量の変
化は極めて微小であり、ウエハが大気から受ける浮力の
影響、つまり大気圧や温度による浮力の変化の影響が無
視できない程度となる。例えば８インチウエハ全面のシ
リコンの膜厚については、膜厚の１３オングストローム
の変化によりウエハの質量が０．１ｍｇだけ変化する
が、大気圧が１０ミリバール変化することによって、天
びん側に全く誤差がない状態でもその計量値には０．３
ｍｇの変化が生じる。製膜等の処理前後にこのような大
気圧や温度の変化があれば、処理前後における質量変化
から求められる膜厚等のデータには大きな誤差が生じる
ことになる。
【０００４】そこで、前記したように上下の支持具の一
方に参照用のウエハを載せてその質量を測定してこれを
下ろした後、他方の支持具に測定すべきウエハを載せて
その質量を測定して、両者の差を算出すれば、参照用お
よび被測定用のウエハはその時点における大気圧および
温度等の測定環境の影響を等しく受けているので、求め
られた差にはその環境に基づく影響がキャンセルされる
ことになる。従って、処理前後に同じ参照用ウエハを用
いて両者の差を算出すれば、処理前後に大気圧変化等が
生じていても、処理前後における参照用ウエハとの差の
差から、当該処理によるウエハの質量変化を正確に知る
ことが可能となり、これから求められた膜厚等のデータ
は正確なものとなるわけである。
方に参照用のウエハを載せてその質量を測定してこれを
下ろした後、他方の支持具に測定すべきウエハを載せて
その質量を測定して、両者の差を算出すれば、参照用お
よび被測定用のウエハはその時点における大気圧および
温度等の測定環境の影響を等しく受けているので、求め
られた差にはその環境に基づく影響がキャンセルされる
ことになる。従って、処理前後に同じ参照用ウエハを用
いて両者の差を算出すれば、処理前後に大気圧変化等が
生じていても、処理前後における参照用ウエハとの差の
差から、当該処理によるウエハの質量変化を正確に知る
ことが可能となり、これから求められた膜厚等のデータ
は正確なものとなるわけである。
【０００５】このような天びんは、例えばウエハの処理
工程にインラインで設置されることが多く、上記のよう
な処理前後における質量差の測定を１サイクルの動作で
自動的に行うようにしたものがすでに実用化されてい
る。
工程にインラインで設置されることが多く、上記のよう
な処理前後における質量差の測定を１サイクルの動作で
自動的に行うようにしたものがすでに実用化されてい
る。
【０００６】このような目的のため、前記したように参
照用および被測定用のウエハを載せるための上下の支持
具を有する枠体を、荷重感応部、つまり天びんの計量フ
ックまたは計量皿に係合させ、一方を参照用ウエハ載置
用に、他方を被測定ウエハ載置用とするとともに、その
枠体の上下の支持具に対してウエハをそれぞれ載せ降ろ
しするために、各支持具に対して別途天びんの荷重感応
部やこの枠体に対して非接触の支持具をそれぞれ配置
し、その載せ降ろし用の支持具を互いに上下逆向きに動
作させるような機構に装着することにより、枠体の上下
の支持具のうちいずれか一方にのみウエハが載せられ、
その状態で他のウエハは載せ降ろし用の支持具で支え、
その後、載せ降ろし用の支持具を動かすことによって、
枠体に負荷されるウエハを交代させるようにして測定す
る方式が実用化できる。
照用および被測定用のウエハを載せるための上下の支持
具を有する枠体を、荷重感応部、つまり天びんの計量フ
ックまたは計量皿に係合させ、一方を参照用ウエハ載置
用に、他方を被測定ウエハ載置用とするとともに、その
枠体の上下の支持具に対してウエハをそれぞれ載せ降ろ
しするために、各支持具に対して別途天びんの荷重感応
部やこの枠体に対して非接触の支持具をそれぞれ配置
し、その載せ降ろし用の支持具を互いに上下逆向きに動
作させるような機構に装着することにより、枠体の上下
の支持具のうちいずれか一方にのみウエハが載せられ、
その状態で他のウエハは載せ降ろし用の支持具で支え、
その後、載せ降ろし用の支持具を動かすことによって、
枠体に負荷されるウエハを交代させるようにして測定す
る方式が実用化できる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】 ところで、以上のよ
うなウエハの膜厚測定等に供する天びんは、当然ながら
その読取限度が極めて小さく、例えば０．１ｍｇないし
は０．０１ｍｇ程度である。このような天びんに対し、
以上のように枠体に上下２個の支持具を設けるととも
に、これらに対応して試料の載せ降ろしおよび入れ換え
機構を設けることにより、試料の載せ換え時において人
の接近による温度変化等の測定条件を乱すことが防止さ
れ、高感度の測定が可能となる。
うなウエハの膜厚測定等に供する天びんは、当然ながら
その読取限度が極めて小さく、例えば０．１ｍｇないし
は０．０１ｍｇ程度である。このような天びんに対し、
以上のように枠体に上下２個の支持具を設けるととも
に、これらに対応して試料の載せ降ろしおよび入れ換え
機構を設けることにより、試料の載せ換え時において人
の接近による温度変化等の測定条件を乱すことが防止さ
れ、高感度の測定が可能となる。
【０００８】しかし、ウエハ等の板状の試料において
は、室内の対流等の僅かな気流にも影響を及ぼされ、計
量値が安定するまでに時間を要したり、あるいは計量値
が安定しない等の問題が生じ、測定誤差の原因ともな
る。
は、室内の対流等の僅かな気流にも影響を及ぼされ、計
量値が安定するまでに時間を要したり、あるいは計量値
が安定しない等の問題が生じ、測定誤差の原因ともな
る。
【０００９】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
ので、気流等による影響を受けず、ウエハ等の板状試料
の質量を常に正確に測定することのできる板状試料測定
用天びんの提供を目的としている。
ので、気流等による影響を受けず、ウエハ等の板状試料
の質量を常に正確に測定することのできる板状試料測定
用天びんの提供を目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】 上記の目的を達成する
ため、本発明の板状試料測定用天びんでは、天びんの荷
重感応部に係合する枠体に、前記したような上下２個の
支持具（第１と第２の支持具）を設けるとともに、この
各支持具に対してそれぞれ試料載せ降ろし用の支持具
（第３と第４の支持具）を非接触に配置して、この載せ
降ろし用の支持具を上下運動機構により互いに逆向きに
上下動させることにより、上下２枚の被測定物のうちい
ずれか一方が枠体に負荷され、他方を載せ降ろし用の支
持具側で支え、かつ、枠体に負荷する側の被測定物を上
下で交代させるようにした天びんにおいて、上記第１お
よび第２の支持具それぞれの上下に、上記枠体および第
１と第２の支持具とは非接触に遮蔽板を設けたことによ
って特徴付けられる。
ため、本発明の板状試料測定用天びんでは、天びんの荷
重感応部に係合する枠体に、前記したような上下２個の
支持具（第１と第２の支持具）を設けるとともに、この
各支持具に対してそれぞれ試料載せ降ろし用の支持具
（第３と第４の支持具）を非接触に配置して、この載せ
降ろし用の支持具を上下運動機構により互いに逆向きに
上下動させることにより、上下２枚の被測定物のうちい
ずれか一方が枠体に負荷され、他方を載せ降ろし用の支
持具側で支え、かつ、枠体に負荷する側の被測定物を上
下で交代させるようにした天びんにおいて、上記第１お
よび第２の支持具それぞれの上下に、上記枠体および第
１と第２の支持具とは非接触に遮蔽板を設けたことによ
って特徴付けられる。
【００１１】
【作用】 ウエハ等の板状の被測定物を計量すべく支え
る第１および第２の支持具それぞれの上下に遮蔽板を設
けることによって、被測定物の載せ換え時に生じる対流
や、あるいは外界からの気流が被測定物に作用せず、測
定結果に影響を及ぼすことがない。
る第１および第２の支持具それぞれの上下に遮蔽板を設
けることによって、被測定物の載せ換え時に生じる対流
や、あるいは外界からの気流が被測定物に作用せず、測
定結果に影響を及ぼすことがない。
【００１２】
【実施例】 図１は本発明実施例の要部構成図で、図２
はそのＡ−Ａ矢視図である。天びんの計量フック１に吊
るされた枠体２には、上下２箇所に第１と第２の試料支
持具３と４が形成されている。この第１と第２の試料支
持具３と４は、それぞれ所定の円周上に３箇所以上、例
えば４箇所に等配された突起ｅを有し、その頂部におい
てウエハ等の板状の試料Ｗ0 ないしはＷ1 を水平に支え
得るようになっている。
はそのＡ−Ａ矢視図である。天びんの計量フック１に吊
るされた枠体２には、上下２箇所に第１と第２の試料支
持具３と４が形成されている。この第１と第２の試料支
持具３と４は、それぞれ所定の円周上に３箇所以上、例
えば４箇所に等配された突起ｅを有し、その頂部におい
てウエハ等の板状の試料Ｗ0 ないしはＷ1 を水平に支え
得るようになっている。
【００１３】この第１と第２の試料支持具３と４にそれ
ぞれ近接して、第３と第４の試料支持具５と６が配置さ
れている。この第３と第４の試料支持具５と６は、第１
と第２の試料支持具３と４に対する試料の載せ降ろし用
の支持具であって、同様に円周上に４等配された突起ｅ
の頂部によって板状の試料を水平に支承し得るようにな
っているとともに、それぞれ腕木７と８を介して上下運
動機構９に接続されている。この第３と第４の試料支持
具５と６、および腕木７と８は、それぞれ枠体２および
第１と第２の試料支持具３と４のいずれとも非接触の状
態で運動するようになっている。
ぞれ近接して、第３と第４の試料支持具５と６が配置さ
れている。この第３と第４の試料支持具５と６は、第１
と第２の試料支持具３と４に対する試料の載せ降ろし用
の支持具であって、同様に円周上に４等配された突起ｅ
の頂部によって板状の試料を水平に支承し得るようにな
っているとともに、それぞれ腕木７と８を介して上下運
動機構９に接続されている。この第３と第４の試料支持
具５と６、および腕木７と８は、それぞれ枠体２および
第１と第２の試料支持具３と４のいずれとも非接触の状
態で運動するようになっている。
【００１４】上下運動機構９は、各腕木７と８に固着さ
れたスライダ９ａと９ｂ、この各スライダ９ａ，９ｂの
運動方向を上下方向のみに規制するガイド９ｃ、各スラ
イダ９ａおよび９ｂにそれぞれ一端がピン接合され、か
つ、他端がそれぞれ円板９ｄにピン接合されたロッド９
ｅおよび９ｆ、および円板９ｄを回転させるモータ９ｇ
等によって構成された、いわゆるスライダ−クランク機
構であって、ロッド９ｅと９ｆは円板９ｄに対してその
回転中心を挟んで反対側に接合されている。この構成に
より、モータ９ｇの駆動によって第３と第４の試料支持
具５と６は互いに逆向きに同期して上下に変位すること
になる。
れたスライダ９ａと９ｂ、この各スライダ９ａ，９ｂの
運動方向を上下方向のみに規制するガイド９ｃ、各スラ
イダ９ａおよび９ｂにそれぞれ一端がピン接合され、か
つ、他端がそれぞれ円板９ｄにピン接合されたロッド９
ｅおよび９ｆ、および円板９ｄを回転させるモータ９ｇ
等によって構成された、いわゆるスライダ−クランク機
構であって、ロッド９ｅと９ｆは円板９ｄに対してその
回転中心を挟んで反対側に接合されている。この構成に
より、モータ９ｇの駆動によって第３と第４の試料支持
具５と６は互いに逆向きに同期して上下に変位すること
になる。
【００１５】第１の試料支持具３の上方には、ある程度
の間隙を開けて水平方向に伸びる第１遮蔽板１１が配設
されており、この第１の試料支持具３の下方には、第３
の試料支持具５の上下動を妨げない位置に同じく水平方
向に伸びる第２の遮蔽板１２が配設されている。
の間隙を開けて水平方向に伸びる第１遮蔽板１１が配設
されており、この第１の試料支持具３の下方には、第３
の試料支持具５の上下動を妨げない位置に同じく水平方
向に伸びる第２の遮蔽板１２が配設されている。
【００１６】また、同様にして第２の試料支持具４の上
方には、同じく間隙を開けて水平方向の第３の遮蔽板１
３が配設されており、更に第２の試料支持具４の下方に
は、第４の試料支持具の上下動を妨げない位置に水平方
向の第４の遮蔽板１４が配設されている。
方には、同じく間隙を開けて水平方向の第３の遮蔽板１
３が配設されており、更に第２の試料支持具４の下方に
は、第４の試料支持具の上下動を妨げない位置に水平方
向の第４の遮蔽板１４が配設されている。
【００１７】以上の各遮蔽板のうち、第１〜第３の遮蔽
板１１〜１３には、枠体２が貫通するための孔ｈ・・ｈが
形成されており、最下方の第４の遮蔽板１４も含めてい
ずれも枠体２および第１と第２の試料支持具３と４のい
ずれにも接触しないようになっている。
板１１〜１３には、枠体２が貫通するための孔ｈ・・ｈが
形成されており、最下方の第４の遮蔽板１４も含めてい
ずれも枠体２および第１と第２の試料支持具３と４のい
ずれにも接触しないようになっている。
【００１８】ここで、以上の枠体２および第１〜第４の
試料支持具３〜６、腕木７，８、および第１〜第４の遮
蔽板１１〜１４の全体は、開閉扉を持つひょう量室内に
収容され、上下運動機構９はそのひょう量室後方のケー
ス内に収容される。
試料支持具３〜６、腕木７，８、および第１〜第４の遮
蔽板１１〜１４の全体は、開閉扉を持つひょう量室内に
収容され、上下運動機構９はそのひょう量室後方のケー
ス内に収容される。
【００１９】さて、以上の構造を持つ本発明実施例は、
マイクロコンピュータによって制御されるが、図３はそ
の動作を示すフローチャートである。測定を開始する前
に、第１と第４の試料支持具３と６の上にそれぞれ板状
の試料を載せるが、この例では第１の試料支持具３の上
に参照用のウエハＷ0 を載せ、実際に測定するウエハＷ
1 は第４の試料支持具６の上に載せる。なお、第１ない
しは第４の試料支持具３ないしは６へのウエハの載せ降
ろしは、外部からウエハハンドリング装置によって行わ
れるが、これは人手によって行うようにしてもよい。
マイクロコンピュータによって制御されるが、図３はそ
の動作を示すフローチャートである。測定を開始する前
に、第１と第４の試料支持具３と６の上にそれぞれ板状
の試料を載せるが、この例では第１の試料支持具３の上
に参照用のウエハＷ0 を載せ、実際に測定するウエハＷ
1 は第４の試料支持具６の上に載せる。なお、第１ない
しは第４の試料支持具３ないしは６へのウエハの載せ降
ろしは、外部からウエハハンドリング装置によって行わ
れるが、これは人手によって行うようにしてもよい。
【００２０】各試料を載せた状態で例えば当初に第３の
試料支持具５が下降し、同時に第４の試料支持具６が上
昇する。この状態では図１に示すように上側のウエハＷ
0 が第１の試料支持具３の上に乗り、下側のウエハＷ1
は第４の試料支持具６上に乗って枠体１とは非接触の状
態となっている。
試料支持具５が下降し、同時に第４の試料支持具６が上
昇する。この状態では図１に示すように上側のウエハＷ
0 が第１の試料支持具３の上に乗り、下側のウエハＷ1
は第４の試料支持具６上に乗って枠体１とは非接触の状
態となっている。
【００２１】モータ９ｇはこの状態で一時停止し、その
状態で天びんの計量データＤ0 が読み込まれる。その
後、モータ９ｇは逆方向に回転する。これにより、第３
の試料支持具５が上昇してウエハＷ0 を持ち上げて第１
の試料支持具３ないしは枠体１と非接触の状態とすると
同時に、第４の試料支持具６が下降してウエハＷ1 が第
２の試料支持具４上に乗った状態となる。モータ９ｇは
この状態でも一時停止し、その状態での天びんの計量デ
ータＤ1 が読み込まれる。
状態で天びんの計量データＤ0 が読み込まれる。その
後、モータ９ｇは逆方向に回転する。これにより、第３
の試料支持具５が上昇してウエハＷ0 を持ち上げて第１
の試料支持具３ないしは枠体１と非接触の状態とすると
同時に、第４の試料支持具６が下降してウエハＷ1 が第
２の試料支持具４上に乗った状態となる。モータ９ｇは
この状態でも一時停止し、その状態での天びんの計量デ
ータＤ1 が読み込まれる。
【００２２】以上の一連の動作において、ウエハＷ0 お
よびＷ1はそれぞれ第１と第２の遮蔽板１１と１２、お
よび第３と第４の遮蔽板１３と１４によってそれぞれ上
下が遮蔽されているから、対流等に起因する空気流が作
用せず、従って各計量データＤ0 およびＤ1 は正確なも
のとなる。
よびＷ1はそれぞれ第１と第２の遮蔽板１１と１２、お
よび第３と第４の遮蔽板１３と１４によってそれぞれ上
下が遮蔽されているから、対流等に起因する空気流が作
用せず、従って各計量データＤ0 およびＤ1 は正確なも
のとなる。
【００２３】さて、コンピュータでは、以上のようにし
て読み取られたウエハＷ0 とＷ1 の計量データの差（Ｄ
0 −Ｄ1 ）を算出し、その値δ0 をメモリに格納する。
この場合、Ｗ0 の計量データＤ0 を測定したとき、この
Ｄ0 の値をゼロ表示とし、Ｗ1 の計量データＤ1 を直接
表示するとその値Ｄ1 は（Ｄ0 −Ｄ1 ）を表すことにな
るから、このような方法を採用することもできる。
て読み取られたウエハＷ0 とＷ1 の計量データの差（Ｄ
0 −Ｄ1 ）を算出し、その値δ0 をメモリに格納する。
この場合、Ｗ0 の計量データＤ0 を測定したとき、この
Ｄ0 の値をゼロ表示とし、Ｗ1 の計量データＤ1 を直接
表示するとその値Ｄ1 は（Ｄ0 −Ｄ1 ）を表すことにな
るから、このような方法を採用することもできる。
【００２４】そして、ウエハＷ0 はそのまま第３の試料
支持具５上に残し、ウエハＷ1 は取り去られて製膜等の
処理工程に掛けられる。この処理が完了した後、再びウ
エハＷ1 が第４の試料支持具６の上に載せられ、上記と
同様にして参照用ウエハＷ0 とともにその質量が測定さ
れる。そして、コンピュータでは同様にして両計量デー
タの差δ1 を算出するとともに、更に処理前後における
差の差δ0 −δ1 を算出し、表示器に表示する。この表
示値δ0 −δ1 は、ウエハＷ1 の処理前後における質量
の変化量を表すことになり、例えば処理が製膜処理であ
るならばこの表示値と膜面積および膜材料の密度とから
その膜の厚さを知ることができる。
支持具５上に残し、ウエハＷ1 は取り去られて製膜等の
処理工程に掛けられる。この処理が完了した後、再びウ
エハＷ1 が第４の試料支持具６の上に載せられ、上記と
同様にして参照用ウエハＷ0 とともにその質量が測定さ
れる。そして、コンピュータでは同様にして両計量デー
タの差δ1 を算出するとともに、更に処理前後における
差の差δ0 −δ1 を算出し、表示器に表示する。この表
示値δ0 −δ1 は、ウエハＷ1 の処理前後における質量
の変化量を表すことになり、例えば処理が製膜処理であ
るならばこの表示値と膜面積および膜材料の密度とから
その膜の厚さを知ることができる。
【００２５】ここで、ウエハＷ1 の処理前後において例
えば大気圧や温度等の変化があっても、ウエハＷ1 はそ
の絶対質量の変化を算出するのではなく、同一の参照用
ウエハＷ0 との計量値の差を、処理前後で比較するか
ら、いわば零位法的な測定となり、上記のような測定環
境の変化による影響を受けることがないとともに、前記
したように第１〜第４の遮蔽板１１〜１４の存在により
対流等の影響を受けずに測定されるから、得られた値は
極めて正確なものとなる。
えば大気圧や温度等の変化があっても、ウエハＷ1 はそ
の絶対質量の変化を算出するのではなく、同一の参照用
ウエハＷ0 との計量値の差を、処理前後で比較するか
ら、いわば零位法的な測定となり、上記のような測定環
境の変化による影響を受けることがないとともに、前記
したように第１〜第４の遮蔽板１１〜１４の存在により
対流等の影響を受けずに測定されるから、得られた値は
極めて正確なものとなる。
【００２６】なお、上下運動機構９におけるモータ９ｇ
に換えて、手動のハンドルにより円板９ｄを回動させる
ようにしてもよく、また、その機構については上記した
実施例のものに限定されることなく、同様な機能を達成
できるものであれば任意の機構を採用することができ
る。
に換えて、手動のハンドルにより円板９ｄを回動させる
ようにしてもよく、また、その機構については上記した
実施例のものに限定されることなく、同様な機能を達成
できるものであれば任意の機構を採用することができ
る。
【００２７】また、各試料支持具３〜６の突起ｅの数は
４に限らず、板状の試料を水平に支えることができれば
３個以上の任意数の突起を設けてもよいことは勿論であ
る。
４に限らず、板状の試料を水平に支えることができれば
３個以上の任意数の突起を設けてもよいことは勿論であ
る。
【００２８】
【発明の効果】 以上説明したように、本発明によれ
ば、ウエハ等の板状試料を、参照用および被測定用の２
枚を上下２箇所に設けた支持具によって個別に測定し、
両者の差から被測定用試料の質量を高感度で測定する天
びんにおいて、上下の試料支持具それぞれの上下を遮蔽
板によって遮蔽するよう構成しているので、ひょう量室
内での対流や外界からの空気の流入等に起因する空気流
が板状試料に作用せず、測定値が空気流により影響され
ることなく、常に正確な測定を行うことが可能となっ
た。特に、ウエハの各種処理前後の質量変化から、その
処理により形成された膜の厚さやエッチング量等を計算
する等の用途においては、処理による質量変化が極めて
微小であり、僅かな対流等による計量値の変化も計算結
果に大きな影響を及ぼすが、このような用途に対して本
発明の適用による効果は大である。
ば、ウエハ等の板状試料を、参照用および被測定用の２
枚を上下２箇所に設けた支持具によって個別に測定し、
両者の差から被測定用試料の質量を高感度で測定する天
びんにおいて、上下の試料支持具それぞれの上下を遮蔽
板によって遮蔽するよう構成しているので、ひょう量室
内での対流や外界からの空気の流入等に起因する空気流
が板状試料に作用せず、測定値が空気流により影響され
ることなく、常に正確な測定を行うことが可能となっ
た。特に、ウエハの各種処理前後の質量変化から、その
処理により形成された膜の厚さやエッチング量等を計算
する等の用途においては、処理による質量変化が極めて
微小であり、僅かな対流等による計量値の変化も計算結
果に大きな影響を及ぼすが、このような用途に対して本
発明の適用による効果は大である。
【図１】 本発明実施例の要部構成図
【図２】 そのＡ−Ａ矢視図
【図３】 本発明実施例の動作を示すフローチャート
１・・・・計量フック ２・・・・枠体 ３〜６・・・・第１〜第４の試料支持具 ７，８・・・・腕木 ９・・・・上下運動機構 １１〜１４・・・・遮蔽板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01G 21/22 G01G 17/00 G01G 21/30
Claims (1)
- 【請求項１】 それぞれが板状の被測定物を水平に支え
る第１と第２の支持具を上下に有した枠体が、計量フッ
クに吊り下げられ、もしくは計量皿に載置されるととも
に、上記第１と第２の支持具に対応して当該第１と第２
の支持具および枠体にそれぞれ非接触状態で配設され、
かつ、被測定物を水平に支える第３と第４の支持具を有
し、この第３と第４の支持具は、上下運動機構により互
いに逆向きに同期して上下動することにより、上下２枚
の被測定物のうち一方が上記第１と第２の支持具のうち
対応するものに支持され、他方が当該第３と第４の支持
具のうち対応するものに支持されるよう動作して、上記
枠体には上下いずれかの被測定物が１枚だけ負荷され、
かつ、これらが交代で負荷されるように構成された天び
んにおいて、上記第１および第２の支持具それぞれの上
下に、上記枠体および第１と第２の支持具とは非接触に
遮蔽板が設けられていることを特徴とする板状試料測定
用天びん。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31217891A JP2913962B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 板状試料測定用天びん |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31217891A JP2913962B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 板状試料測定用天びん |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05149780A JPH05149780A (ja) | 1993-06-15 |
| JP2913962B2 true JP2913962B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=18026164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31217891A Expired - Fee Related JP2913962B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 板状試料測定用天びん |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2913962B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0719469D0 (en) | 2007-10-04 | 2007-11-14 | Metryx Ltd | Measurement apparatus and method |
| GB0719460D0 (en) | 2007-10-04 | 2007-11-14 | Metryx Ltd | Measurement apparatus and method |
| GB0804499D0 (en) * | 2008-03-11 | 2008-04-16 | Metryx Ltd | Measurement apparatus and method |
| GB201315715D0 (en) * | 2013-09-04 | 2013-10-16 | Metryx Ltd | Method and device for determining information relating to the mass of a semiconductor wafer |
| TW202347555A (zh) * | 2022-01-14 | 2023-12-01 | 英商美特拉斯有限公司 | 稱重裝置 |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP31217891A patent/JP2913962B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05149780A (ja) | 1993-06-15 |
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