JP2900018B2 - 研磨体の製造方法 - Google Patents
研磨体の製造方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は研磨体の製造方法に係
り、特に平坦な周面を有する円柱形研磨体の製造方法に
関する。
り、特に平坦な周面を有する円柱形研磨体の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】円柱形の研磨体を回転しながらその周面
を被研磨体へ押し付けて被研磨体の表面を研磨する加工
は従来から行なわれている。このような研磨体を用い
て、コンパクトディスク或いはレーザーディスク等のよ
うにレーザー光により再生可能な記録媒体としての光デ
ィスクの表面を研磨することも従来から知られている。
を被研磨体へ押し付けて被研磨体の表面を研磨する加工
は従来から行なわれている。このような研磨体を用い
て、コンパクトディスク或いはレーザーディスク等のよ
うにレーザー光により再生可能な記録媒体としての光デ
ィスクの表面を研磨することも従来から知られている。
【０００３】図８は、コンパクトディスク１等の光ディ
スクの読取り面を研磨する装置の従来例を示す。図示し
ない駆動源に連結された駆動軸６により円柱形の研磨体
７を回転させ、その周面７ａでコンパクトディスク１の
読取り面を研磨している。この場合、研磨体７は図９に
示すように布等の研磨体素材８を打ち抜いて環状の研磨
体素材９に切断し、これを複数積層して構成されるもの
である。この環状の研磨体素材９の円形切断面９ａが研
磨体７の周面７ａを形成する。なお、９ｂは研磨体７の
駆動軸６を通すための穴である。
スクの読取り面を研磨する装置の従来例を示す。図示し
ない駆動源に連結された駆動軸６により円柱形の研磨体
７を回転させ、その周面７ａでコンパクトディスク１の
読取り面を研磨している。この場合、研磨体７は図９に
示すように布等の研磨体素材８を打ち抜いて環状の研磨
体素材９に切断し、これを複数積層して構成されるもの
である。この環状の研磨体素材９の円形切断面９ａが研
磨体７の周面７ａを形成する。なお、９ｂは研磨体７の
駆動軸６を通すための穴である。
【０００４】図１０はコンパクトディスク１の断面を概
略的に示した断面図である。図において、コンパクトデ
ィスク１は合成樹脂製の光透過層２を有する。この光透
過層２の下面にはディジタル情報が小さな凹部（ピッ
ト）５として記録されている。このピット５はコンパク
トディスクの場合、上方から見てらせん状に配列され
る。光透過層２の下面に、例えばアルミニウム等からな
る光反射層３が蒸着等によって形成され、さらにその下
面に支持層４が形成されている。支持層４の下面は、例
えばコンパクトディスク１に記録された音楽のタイトル
等を表示したレーベル面となり、この面の反対側の面が
読取り面となる。
略的に示した断面図である。図において、コンパクトデ
ィスク１は合成樹脂製の光透過層２を有する。この光透
過層２の下面にはディジタル情報が小さな凹部（ピッ
ト）５として記録されている。このピット５はコンパク
トディスクの場合、上方から見てらせん状に配列され
る。光透過層２の下面に、例えばアルミニウム等からな
る光反射層３が蒸着等によって形成され、さらにその下
面に支持層４が形成されている。支持層４の下面は、例
えばコンパクトディスク１に記録された音楽のタイトル
等を表示したレーベル面となり、この面の反対側の面が
読取り面となる。
【０００５】図示しない記録読取りヘッドは発光素子と
受光素子を有し、発光素子によって光透過層２へ向けて
発光されたレーザー光が光反射層３で反射され、受光素
子で読み取られる。このような光ディスクでは、光透過
層２の読取り面に傷が付くと、その傷の深さや位置によ
って再生不可能となることがある。このため図８に示し
たような研磨体７により、光透過層２の読取り面を研磨
して傷を除去している。
受光素子を有し、発光素子によって光透過層２へ向けて
発光されたレーザー光が光反射層３で反射され、受光素
子で読み取られる。このような光ディスクでは、光透過
層２の読取り面に傷が付くと、その傷の深さや位置によ
って再生不可能となることがある。このため図８に示し
たような研磨体７により、光透過層２の読取り面を研磨
して傷を除去している。
【０００６】しかしながら従来は、研磨体素材８とし
て、糸の形態を経てその糸を縦横に織加工した通常の布
を用いているため、研磨中に研磨体７の周面７ａにケバ
（糸屑）が発生する。このケバが光ディスクの表面に傷
を付けてしまう。円形のバフを積層して円柱形の研磨体
とする場合も研磨中に研磨体７の周面７ａに毛玉が発生
し、この毛玉が光ディスクの表面に傷を付ける。
て、糸の形態を経てその糸を縦横に織加工した通常の布
を用いているため、研磨中に研磨体７の周面７ａにケバ
（糸屑）が発生する。このケバが光ディスクの表面に傷
を付けてしまう。円形のバフを積層して円柱形の研磨体
とする場合も研磨中に研磨体７の周面７ａに毛玉が発生
し、この毛玉が光ディスクの表面に傷を付ける。
【０００７】このように上記の研磨方法では光ディスク
の表面に細かな傷が残り、このため、肉眼で見ると光デ
ィスクの表面が光沢面とはならず、霜が付着したような
状態となる。このような状態になると、たとえ再生時に
音飛びや再生不能等のトラブルが発生しなくても外見上
美しくない。
の表面に細かな傷が残り、このため、肉眼で見ると光デ
ィスクの表面が光沢面とはならず、霜が付着したような
状態となる。このような状態になると、たとえ再生時に
音飛びや再生不能等のトラブルが発生しなくても外見上
美しくない。
【０００８】本出願人は不織布を積層して研磨体とすれ
ば研磨後のコンパクトディスク１表面が美しい光沢面と
なることを見いだした（平成６年９月２９日出願の特願
平６−２５９１８０号参照）。不織布は糸の形態を経ず
に、繊維ウェブを機械的、化学的或いは熱的に処理して
接着剤や繊維自身の融着力で接合して製造される布であ
るため、研磨体７の外周面７ａから糸屑（ケバ）が発生
しない。従って、研磨後のコンパクトディスク１の読取
り面は美しい光沢面となる。
ば研磨後のコンパクトディスク１表面が美しい光沢面と
なることを見いだした（平成６年９月２９日出願の特願
平６−２５９１８０号参照）。不織布は糸の形態を経ず
に、繊維ウェブを機械的、化学的或いは熱的に処理して
接着剤や繊維自身の融着力で接合して製造される布であ
るため、研磨体７の外周面７ａから糸屑（ケバ）が発生
しない。従って、研磨後のコンパクトディスク１の読取
り面は美しい光沢面となる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら不織布は
剛性に乏しいため、円形の切断加工の際に容易に変形し
図１１に示すように切断面９ａが傾斜する。
剛性に乏しいため、円形の切断加工の際に容易に変形し
図１１に示すように切断面９ａが傾斜する。
【００１０】また、その他の原因により、研磨体素材９
を積層する際に円柱形状の周面に凹凸等が形成され平坦
でなくなる場合がある。例えば積層する際に各研磨体素
材９の中心位置がずれた場合に生じる図１２（ａ）に示
すような凹凸や、円柱形の両端から圧力を加えたときに
研磨体素材９が変形して生じる図１２（ｂ）に示すよう
な凹凸等が形成される場合である。
を積層する際に円柱形状の周面に凹凸等が形成され平坦
でなくなる場合がある。例えば積層する際に各研磨体素
材９の中心位置がずれた場合に生じる図１２（ａ）に示
すような凹凸や、円柱形の両端から圧力を加えたときに
研磨体素材９が変形して生じる図１２（ｂ）に示すよう
な凹凸等が形成される場合である。
【００１１】このような凹凸が形成されると、研磨体７
の周面は図１２及び図１３に示すように段部７ｂが形成
され、このような研磨体７で研磨をしたコンパクトディ
スク１の読取り面は段部７ｂに対応した傷が残ってしま
う。
の周面は図１２及び図１３に示すように段部７ｂが形成
され、このような研磨体７で研磨をしたコンパクトディ
スク１の読取り面は段部７ｂに対応した傷が残ってしま
う。
【００１２】従って本発明は、研磨体素材を打ち抜き・
積層して円柱形とした研磨体の周面に形成された凹凸を
除去して平坦な周面を得ることを目的としてなされたも
のである。
積層して円柱形とした研磨体の周面に形成された凹凸を
除去して平坦な周面を得ることを目的としてなされたも
のである。
【００１３】また、本発明は、剛性に乏しい研磨体素材
を打ち抜き・積層して研磨体としたものであっても、凹
凸のない平坦な周面を得ることを目的としてなされたも
のである。
を打ち抜き・積層して研磨体としたものであっても、凹
凸のない平坦な周面を得ることを目的としてなされたも
のである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明によれば、円形の研磨体素材を複数積層して円
柱形状の研磨体を製造する方法において、円柱形状に積
層した研磨体素材へ液体を浸漬させる工程と、液体を凍
らせる工程と、研磨体素材を回転させて工具によりその
周面を平坦に削り取る工程とを有することを特徴とする
研磨体の製造方法が提供される。
に本発明によれば、円形の研磨体素材を複数積層して円
柱形状の研磨体を製造する方法において、円柱形状に積
層した研磨体素材へ液体を浸漬させる工程と、液体を凍
らせる工程と、研磨体素材を回転させて工具によりその
周面を平坦に削り取る工程とを有することを特徴とする
研磨体の製造方法が提供される。
【００１５】また、本発明によれば、円形の研磨体素材
を複数積層して円柱形状の研磨体を製造する方法におい
て、円柱形状に積層した研磨体素材を回転させ、その周
面へ液体を高速度で噴出してその周面を平坦に削り取る
ことを特徴とする研磨体の製造方法が提供される。
を複数積層して円柱形状の研磨体を製造する方法におい
て、円柱形状に積層した研磨体素材を回転させ、その周
面へ液体を高速度で噴出してその周面を平坦に削り取る
ことを特徴とする研磨体の製造方法が提供される。
【００１６】
【作用】第１の発明の場合、研磨体素材を複数積層して
円柱形状にした後、図４に示すように研磨体素材９へ液
体１４を浸漬させる。その結果、図１に示すように研磨
体素材９の周面部へ液体１４が浸透する。その後冷却し
て液体１４を凍らせることによって研磨体素材の周面部
の硬度を確保する。最後に図５に示すように研磨体素材
９を回転させて工具１５により円柱形の研磨体７の周面
を削りとる。
円柱形状にした後、図４に示すように研磨体素材９へ液
体１４を浸漬させる。その結果、図１に示すように研磨
体素材９の周面部へ液体１４が浸透する。その後冷却し
て液体１４を凍らせることによって研磨体素材の周面部
の硬度を確保する。最後に図５に示すように研磨体素材
９を回転させて工具１５により円柱形の研磨体７の周面
を削りとる。
【００１７】第２の発明の場合、研磨体素材を複数積層
して円柱形状にした後、図７に示すように研磨体７を回
転させ、高速のウォータージェットを研磨体の周面に向
けて噴射させることによって円柱形の研磨体７の周面を
削りとる。
して円柱形状にした後、図７に示すように研磨体７を回
転させ、高速のウォータージェットを研磨体の周面に向
けて噴射させることによって円柱形の研磨体７の周面を
削りとる。
【００１８】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明による研磨体の
製造方法の一実施例を説明する。図２及び図３は研磨体
素材９を積層して一体化する工程を示す斜視図である。
製造方法の一実施例を説明する。図２及び図３は研磨体
素材９を積層して一体化する工程を示す斜視図である。
【００１９】まず図２に示すように、環状の研磨体素材
９を複数枚積層して円柱形状にする。１１，１２は合成
樹脂製あるいは金属製の側板であり、それぞれ貫通孔１
１ａ，１２ａを形成されている。複数枚の研磨体素材９
の両側面から側板１１，１２を当て、貫通孔１１ａ，１
２ａ及び研磨体素材９の穴９ｂへアルミニウム等の金属
製の円筒部材１３を貫通させる。
９を複数枚積層して円柱形状にする。１１，１２は合成
樹脂製あるいは金属製の側板であり、それぞれ貫通孔１
１ａ，１２ａを形成されている。複数枚の研磨体素材９
の両側面から側板１１，１２を当て、貫通孔１１ａ，１
２ａ及び研磨体素材９の穴９ｂへアルミニウム等の金属
製の円筒部材１３を貫通させる。
【００２０】側板１１，１２へ圧力を加えて研磨体素材
９を圧縮した状態で図３に示すように円筒部材１３の両
端を側板１１，１２へかしめ固定することにより、研磨
体素材９、側板１１，１２及び円筒部材１３を一体とし
て研磨体７を構成する。
９を圧縮した状態で図３に示すように円筒部材１３の両
端を側板１１，１２へかしめ固定することにより、研磨
体素材９、側板１１，１２及び円筒部材１３を一体とし
て研磨体７を構成する。
【００２１】なお、環状の研磨体素材９は素材を打ち抜
く際にその切断面９ａに傾斜が生じている場合を想定し
ているが、これには限らず例えば、積層する際に円柱形
状の周面に図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すような
凹凸が形成されたものであれば本実施例により平坦にす
ることができる。なお、図１２（ａ）は積層する際に各
研磨体素材９の中心位置がずれた場合に生じる凹凸を示
し、図１２（ｂ）は側板１１，１２へ圧力を加えたとき
に研磨体素材９が変形して生じる凹凸等を示す。
く際にその切断面９ａに傾斜が生じている場合を想定し
ているが、これには限らず例えば、積層する際に円柱形
状の周面に図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すような
凹凸が形成されたものであれば本実施例により平坦にす
ることができる。なお、図１２（ａ）は積層する際に各
研磨体素材９の中心位置がずれた場合に生じる凹凸を示
し、図１２（ｂ）は側板１１，１２へ圧力を加えたとき
に研磨体素材９が変形して生じる凹凸等を示す。
【００２２】また、研磨体素材９が綿の不織布のように
非常に変形しやすい素材である場合に限定されず、糸を
縦横に織加工した通常の布を用いた研磨体素材９等であ
っても本発明を適用可能である。
非常に変形しやすい素材である場合に限定されず、糸を
縦横に織加工した通常の布を用いた研磨体素材９等であ
っても本発明を適用可能である。
【００２３】この研磨体７を、図４に示すように液体１
４内に浸漬して液体１４を研磨体素材９へ浸透させる。
この液体１４は例えば水のように冷却により容易に固体
となるものであることが好ましい。図４では容器１０内
に液体１４を満たし、この容器１０内に研磨体７を入れ
る例を示しているがこれに限らず液体１４を研磨体素材
９内に浸透できる方法であればどのような方法であって
もよいことは勿論である。
４内に浸漬して液体１４を研磨体素材９へ浸透させる。
この液体１４は例えば水のように冷却により容易に固体
となるものであることが好ましい。図４では容器１０内
に液体１４を満たし、この容器１０内に研磨体７を入れ
る例を示しているがこれに限らず液体１４を研磨体素材
９内に浸透できる方法であればどのような方法であって
もよいことは勿論である。
【００２４】図１は液体１４の浸透した状態を説明する
ための断面図であり、図において液体１４の浸透深さを
ｄ1，ｄ2、研磨体素材９の最大径をＬ、最少径をＭで示
している。研磨体素材９が例えば綿の不織布である場合
は短時間で比較的容易に浸透し、図１（ａ）に示すよう
に研磨体素材９の最少径Ｍを越えて液体１４を浸透させ
ることは容易である。一方、例えばアクリル等のように
液体が容易に浸透しない場合は図１（ｂ）に示すように
最大径Ｌ側において最少径Ｍを越えて液体１４を浸透さ
せることができない場合がある。
ための断面図であり、図において液体１４の浸透深さを
ｄ1，ｄ2、研磨体素材９の最大径をＬ、最少径をＭで示
している。研磨体素材９が例えば綿の不織布である場合
は短時間で比較的容易に浸透し、図１（ａ）に示すよう
に研磨体素材９の最少径Ｍを越えて液体１４を浸透させ
ることは容易である。一方、例えばアクリル等のように
液体が容易に浸透しない場合は図１（ｂ）に示すように
最大径Ｌ側において最少径Ｍを越えて液体１４を浸透さ
せることができない場合がある。
【００２５】このように研磨体素材９へ液体１４を浸透
させた研磨体７を、液体１４が固化するまで冷却する。
この結果、研磨体素材９の液体１４が浸透している部分
は硬化する。
させた研磨体７を、液体１４が固化するまで冷却する。
この結果、研磨体素材９の液体１４が浸透している部分
は硬化する。
【００２６】その後、図５に示すように研磨体７の駆動
軸挿入穴７ｃへ駆動軸６を挿通し、図示しない駆動源に
より研磨体７を回転させ工具１５により周面７ａを旋削
加工する。このとき、研磨体７の周面７ａ近傍は切削に
適する硬度となっているため、容易に除去可能である。
軸挿入穴７ｃへ駆動軸６を挿通し、図示しない駆動源に
より研磨体７を回転させ工具１５により周面７ａを旋削
加工する。このとき、研磨体７の周面７ａ近傍は切削に
適する硬度となっているため、容易に除去可能である。
【００２７】なお、研磨体素材９への液体１４の浸透が
図１（ａ）に示したように充分である場合は旋削加工の
際に研磨体素材９の最少径Ｍを越えて切断しても研磨体
７の周面７ａ近傍が変形せず確実に切削され、平坦に仕
上がるため、前述の浸透工程、冷却工程及び旋削工程は
それぞれ一度で済む。
図１（ａ）に示したように充分である場合は旋削加工の
際に研磨体素材９の最少径Ｍを越えて切断しても研磨体
７の周面７ａ近傍が変形せず確実に切削され、平坦に仕
上がるため、前述の浸透工程、冷却工程及び旋削工程は
それぞれ一度で済む。
【００２８】しかしながら図１（ｂ）に示したように浸
透が充分でない場合は切断量が液体１４の浸透深さｄ2
を越えた時、工具１５から受ける圧力のため研磨体７の
周面７ａ近傍が変形するので平坦に仕上がらない。従っ
て、平坦な面を得るために浸透工程、冷却工程及び旋削
工程を複数回繰り返す。
透が充分でない場合は切断量が液体１４の浸透深さｄ2
を越えた時、工具１５から受ける圧力のため研磨体７の
周面７ａ近傍が変形するので平坦に仕上がらない。従っ
て、平坦な面を得るために浸透工程、冷却工程及び旋削
工程を複数回繰り返す。
【００２９】このように、旋削工程において、工具１５
により研磨体素材９の凹凸或いは段部７ｂがなくなるま
で周面７ａを旋削加工する。次に本発明による研磨体の
製造方法の他の実施例を説明する。
により研磨体素材９の凹凸或いは段部７ｂがなくなるま
で周面７ａを旋削加工する。次に本発明による研磨体の
製造方法の他の実施例を説明する。
【００３０】まず、図２及び図３に示し上述したと同様
な方法で円形の研磨体素材９を複数積層して円柱形状に
一体化して研磨体７を構成する。
な方法で円形の研磨体素材９を複数積層して円柱形状に
一体化して研磨体７を構成する。
【００３１】その後、図７に示すように研磨体７の駆動
軸挿入穴７ｃへ図示しない駆動源の駆動軸６を挿通す
る。また、ウォータージェット噴射装置１６の噴出孔１
６ａを研磨体７の周面７ａへ向けて配置する。図示しな
い駆動源により研磨体７を回転させ、ウォータージェッ
ト噴射装置１６から高速・高圧の液体１７を噴射する。
液体１７の衝突により研磨体７の周面７ａは削り取られ
て平坦になる。このようにウォータージェット噴射装置
１６を用いることにより、変形しやすいために工具を用
いる切断加工では平坦に加工不可能な研磨体素材９であ
っても容易に平坦な周面７ａを得ることができる。
軸挿入穴７ｃへ図示しない駆動源の駆動軸６を挿通す
る。また、ウォータージェット噴射装置１６の噴出孔１
６ａを研磨体７の周面７ａへ向けて配置する。図示しな
い駆動源により研磨体７を回転させ、ウォータージェッ
ト噴射装置１６から高速・高圧の液体１７を噴射する。
液体１７の衝突により研磨体７の周面７ａは削り取られ
て平坦になる。このようにウォータージェット噴射装置
１６を用いることにより、変形しやすいために工具を用
いる切断加工では平坦に加工不可能な研磨体素材９であ
っても容易に平坦な周面７ａを得ることができる。
【００３２】なお、この実施例も、積層する際に円柱形
状の周面に凹凸が形成され平坦でないものであれば適用
可能であること、研磨体素材９が糸を縦横に織加工した
通常の布を用いた研磨体素材９等であっても適用可能で
あることは第１の実施例と同様である。
状の周面に凹凸が形成され平坦でないものであれば適用
可能であること、研磨体素材９が糸を縦横に織加工した
通常の布を用いた研磨体素材９等であっても適用可能で
あることは第１の実施例と同様である。
【００３３】以上本発明の研磨体の製造方法を実施例に
基づいて説明したが、本発明はこの実施例には限定され
ず種々変形可能である。
基づいて説明したが、本発明はこの実施例には限定され
ず種々変形可能である。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、研磨体素材へ液体を浸
漬させた後冷却して液体を凍らせることによって研磨体
素材の周面部の硬度を確保することができる。従って、
柔らかいために通常の工具を用いての切断加工では滑ら
かな周面を得ることができないような研磨体素材であっ
ても確実に平坦な周面を得ることができる。
漬させた後冷却して液体を凍らせることによって研磨体
素材の周面部の硬度を確保することができる。従って、
柔らかいために通常の工具を用いての切断加工では滑ら
かな周面を得ることができないような研磨体素材であっ
ても確実に平坦な周面を得ることができる。
【００３５】また、本発明によれば、研磨体を回転さ
せ、高速のウォータージェットを研磨体の周面に向けて
噴射させることにより、柔らかいために通常の工具を用
いての切断加工では滑らかな周面を得ることができない
ような研磨体素材であっても確実に平坦な周面を得るこ
とができる。
せ、高速のウォータージェットを研磨体の周面に向けて
噴射させることにより、柔らかいために通常の工具を用
いての切断加工では滑らかな周面を得ることができない
ような研磨体素材であっても確実に平坦な周面を得るこ
とができる。
【図１】 本発明の一実施例により研磨体素材へ液体が
浸透する状態を示す図であり、（ａ）は液体が浸透しや
すい研磨体素材の場合を示し、（ｂ）は液体が浸透しに
くい研磨体素材の場合を示す。
浸透する状態を示す図であり、（ａ）は液体が浸透しや
すい研磨体素材の場合を示し、（ｂ）は液体が浸透しに
くい研磨体素材の場合を示す。
【図２】 本発明の実施例により環状の研磨体素材を複
数枚積層して円柱形状にする工程を示す斜視図である。
数枚積層して円柱形状にする工程を示す斜視図である。
【図３】 本発明の実施例により研磨体素材、側板及び
円筒部材を一体として研磨体を構成する工程を示す斜視
図である。
円筒部材を一体として研磨体を構成する工程を示す斜視
図である。
【図４】 本発明の一実施例により研磨体を液体内に浸
漬して液体を研磨体素材へ浸透させる工程を示す側面図
である。
漬して液体を研磨体素材へ浸透させる工程を示す側面図
である。
【図５】 本発明の一実施例により研磨体を回転させ工
具により周面を旋削加工する工程を示す斜視図である。
具により周面を旋削加工する工程を示す斜視図である。
【図６】 図５の側面図である。
【図７】 本発明の他の実施例によりウォータージェッ
トを用いて研磨体の周面を加工する工程を示す斜視図で
ある。
トを用いて研磨体の周面を加工する工程を示す斜視図で
ある。
【図８】 コンパクトディスクの面を研磨する方法を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図９】 研磨体素材を打ち抜いて環状の研磨体素材に
切断する状態を示す斜視図である。
切断する状態を示す斜視図である。
【図１０】 コンパクトディスクの断面を概略的に示し
た断面図である。
た断面図である。
【図１１】 切断面に傾斜が生じた研磨体素材を示し、
（ａ）は斜視図、（ｂ）は断面図である。
（ａ）は斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図１２】 研磨体の周面に生じる凹凸の例を示す側面
図であり、（ａ）は積層する際に各研磨体素材の中心位
置がずれた場合に生じる凹凸を示し、（ｂ）は側板へ圧
力を加えたときに研磨体素材が変形して生じ凹凸等を示
す。
図であり、（ａ）は積層する際に各研磨体素材の中心位
置がずれた場合に生じる凹凸を示し、（ｂ）は側板へ圧
力を加えたときに研磨体素材が変形して生じ凹凸等を示
す。
【図１３】 切断面に傾斜が生じた研磨体素材の側面図
である。
である。
Ｌ 研磨体素材の最大径 Ｍ 研磨体素材の最小径 ｄ1，ｄ2 液体の浸透深さ ６ 駆動軸 ７ 研磨体 ７ａ 周面 ７ｂ 段部 ７ｃ 駆動軸挿入穴 ８ 研磨体素材 ９ 研磨体素材 ９ａ 円形切断面 ９ａ 切断面 ９ｂ 穴 １１，１２ 側板 １１ａ，１２ａ 貫通孔 １３ 円筒部材 １４ 液体 １５ 工具 １６ ウォータージェット
噴射装置 １６ａ 噴出孔 １７ 液体
噴射装置 １６ａ 噴出孔 １７ 液体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B24D 13/08 B24D 3/00 340 B26F 3/00 G11B 7/26 B23B 1/00
Claims (2)
- 【請求項１】円形の研磨体素材を複数積層して円柱形状
の研磨体とする工程と、 前記円柱形状の研摩体へ液体を浸漬させる工程と、 液体を凍らせる工程と、 円柱形状の研磨体を回転させて工具によりその周面を平
坦に削り取る工程とを有することを特徴とする研磨体の
製造方法。 - 【請求項２】請求項１記載の製造方法において、前記研
摩体素材は不織布または通常の布であることを特徴とす
る研摩体の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7090298A JP2900018B2 (ja) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | 研磨体の製造方法 |
| EP96104150A EP0738563B1 (en) | 1995-03-23 | 1996-03-15 | Method for producing a cylindrical buff |
| DE69619013T DE69619013T2 (de) | 1995-03-23 | 1996-03-15 | Verfahren zum Herstellen einer zylindrischen Schwabbelscheibe |
| US08/620,357 US5639283A (en) | 1995-03-23 | 1996-03-22 | Method for producing a cylindrical buff |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7090298A JP2900018B2 (ja) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | 研磨体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08257924A JPH08257924A (ja) | 1996-10-08 |
| JP2900018B2 true JP2900018B2 (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=13994639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7090298A Expired - Lifetime JP2900018B2 (ja) | 1995-03-23 | 1995-03-23 | 研磨体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5639283A (ja) |
| EP (1) | EP0738563B1 (ja) |
| JP (1) | JP2900018B2 (ja) |
| DE (1) | DE69619013T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6044512A (en) * | 1997-05-19 | 2000-04-04 | Lake Country Manufacturing, Inc. | Foam buffing pad and method of manufacture thereof |
| US7780745B2 (en) * | 2005-10-10 | 2010-08-24 | Silverman Martin S | Conformal lithium polymer battery |
| US20170100812A1 (en) * | 2015-10-13 | 2017-04-13 | Richard W. Knutson | Smooth Finish Tool |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2076643A5 (ja) * | 1970-01-22 | 1971-10-15 | Silor | |
| US3943666A (en) * | 1974-07-31 | 1976-03-16 | Dysan Corporation | Method and apparatus for burnishing flexible recording material |
| US4179852A (en) * | 1978-03-13 | 1979-12-25 | Three Phoenix Company | Method and apparatus for polishing floppy discs |
| US4271639A (en) * | 1979-02-12 | 1981-06-09 | Anselm Talalay | Manufacture of sponge rubber spheres |
| US4586296A (en) * | 1984-07-03 | 1986-05-06 | Charlton Associates | Method of finishing the surface of a disc |
| DE3816561C1 (ja) * | 1988-05-14 | 1989-03-16 | Harald 7121 Ingersheim De Schmid | |
| JP2628522B2 (ja) * | 1990-07-30 | 1997-07-09 | 株式会社フジコー | 高密度フェルト円筒体の製造方法 |
| US5146382A (en) * | 1991-01-03 | 1992-09-08 | Yao Ko Chen | Floppy disk cleaning machine |
| JPH05301170A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Nippon Unit Kk | 研磨具 |
| DE69421353T2 (de) * | 1993-08-31 | 2000-05-11 | Kabushiki Kaisha Shoyo Seiki, Ohme | Reinigungsgerät |
-
1995
- 1995-03-23 JP JP7090298A patent/JP2900018B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-03-15 DE DE69619013T patent/DE69619013T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-15 EP EP96104150A patent/EP0738563B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-22 US US08/620,357 patent/US5639283A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5639283A (en) | 1997-06-17 |
| EP0738563B1 (en) | 2002-02-06 |
| JPH08257924A (ja) | 1996-10-08 |
| EP0738563A2 (en) | 1996-10-23 |
| EP0738563A3 (en) | 1996-12-27 |
| DE69619013T2 (de) | 2002-08-01 |
| DE69619013D1 (de) | 2002-03-21 |
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