JP2896163B2 - トンネル内の支保工建込位置管理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、NATM工法、開削工法等によりトンネルを構
築する際の、トンネル内の支保工建込位置管理方法に関
するものである。

「従来の技術」 近年、トンネルを構築する要求は、日に日に増大して
いる。特に、山岳地帯が多い日本におけるトンネル構築
の要求は大きい。また、都市部の地下に構築する都市ト
ンネルを構築する要求も、増大している。

トンネルを構築する方法としては、前記NATM工法、開
削工法、シールド工法等がある。かかる工法の中で前記
NATM工法は、セグメントを使用しないため経済的に施工
することができる。また、前記NATM工法は，地山を緩め
ることがないので土かぶりが浅い都市トンネルを構築す
る場合にも使用することができる。そのため、両前記ト
ンネルの構築に際しては、前記NATM工法を使用すること
が少なくない。

前記NATM工法は、現場計測による計測結果を施工方法
にフィードバックする工法である。したがって、トンネ
ルの構築に前記NATM工法を使用するにあたっては、支保
が応力の再配分を良く行っているか等を確かめるため
に、細部測量、坑内測量、作業坑を通じての測量等のト
ンネル測量をすることが必要となる。

トンネル測量をするには、近年において、その正確
性、便利性から、メーザーを用いた測角器械、水準機等
のメーザー測量器械、とりわけ、レーザーを用いた測量
器械である。レーザーセオドライト、レーザートランシ
ット、さらには、レーザーレベル等を使用することによ
り行っている。しかし、前記メーザー測量器械の台数
は、１台であることが多い。

一方、前記NATM工法を使用して施工する場合において
は、リングカット工法を併用することが一般的である。
当該リングカット工法の概要を第19図（イ）及び（ロ）
に示す。第19図（イ）は当該リングカット工法により掘
削している、トンネルの横断面図であり、第19図（ロ）
は当該リングカット工法により掘削している、トンネル
の平面図である。当該リングカット工法は、軟弱地盤等
において、第19図（イ）及び同図（ロ）に示すように、
切羽Ｆが崩壊しないように中背１を残してリング状に掘
削する工法である。したがって、トンネルＴの曲線部に
おいては、前記中背１が前記トンネル測量の妨げとな
り、１台の前記メーザー測量器械２では、測量すること
ができないことが多い。そのため、前記トンネル測量
を、効率よく行うためには、２台の前記メーザー測量器
械２が必要となる。なお、ｌは視準軸である。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、２台のメーザー測量器械を使用してト
ンネル測量を行うには、測量方法等が複雑なため、前記
メーザー測量器械を１台使用する場合よりも多くの労力
を必要とするという問題点があった。特に、近年におい
ては、トンネルの線形が複雑化、多様化しており、かか
る場合における前記トンネル測量に、メーザー測量器械
を２台使用する場合には、より多くの労力を必要とする
という問題点は顕著となったまた、２台の前記メーザー
測量器械を使用した場合の前記トンネル測量の方法、及
び、測定値に基づく数値計算の方法は、複雑であり、長
時間を必要としていた。そのため、２台の前記メーザー
測量器械を使用した場合の前記トンネル測量には、多く
の労力及び時間を要するという問題点があった。

また、かかる場合の測定値には、誤差を含んでいる可
能性が高かった。蓋し、従来はメーザー測量器械設置座
標及びメーザー測量器械の視準方向を決定するためのシ
ミュレーション工程を経ずに行っていたため、視準軸と
トンネル側壁とのオフセット（支距）が大きいことによ
り、誤差を生ずる可能性が高くなるからである。前記測
定値の誤差は、直接支保工の建て込み誤差につながる。
したがって、測定値の誤差が大きくなると、当該誤差の
増大分だけ、前記支保工の建て込み誤差も大きくなる可
能性が非常に高かった。そのため、前記支保工の建て込
み誤差が有ることを想定して、トンネルの幅員を拡幅す
ることにより所定の設計巻厚を確保していた。第20図は
余巻と拡幅量との関係を示す図であり、第20図を用いて
説明すると、すなわち、前記支保工の建込誤差ｅ分を、
それぞれ両側拡幅することにより、所定の設計巻厚ｔを
確保していた。それ故、前記支保工の建込誤差ｅが大き
くなると、前記拡幅量ｗを大きくしなければならなかっ
た。前記拡幅量ｗが大きくなると、余巻（設計巻厚から
計算する設計量以上に、施工する履工）ｓの厚さが厚く
なる。したがって、前記支保工の建て込み誤差が大きく
なると、余巻ｓが増大し、施工経費が増大するという問
題点があった。なお、３は施工位置、４は設計位置、５
は履工面である。

本発明は、従来技術の有するこのような問題点に鑑み
てなされたものであり、その目的とするところは、トン
ネルの構築に前記リングカット工法を使用し、かつ、メ
ーザー測量器械を２台若しくはそれ以上使用した場合に
おいても、従来工法に比べて、前記トンネル測量及び測
定値に基づく数値計算に要する、時間の短縮及び労力の
軽減をすることができ、かつ、施工精度を高めて余巻の
厚さを薄くすることにより施工経費を軽減することがで
きる。トンネル内のメーザー測量器械設置座標及び視準
方向決定方法、当該方法を用いた支保工建込方法並びに
支保工建込位置管理方法を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明の要旨は、トンネル内の、メーザー測量器械設
置座標、及び、前記メーザー測量器械の視準方向を想定
し、メーザー測量器械設置座標に対応する、前記トンネ
ル内のメーザー測量器械設置位置に設置した前記メーザ
ー測量器械により前記視準方向を視準した場合の、予め
定めた座標上の距離程に位置する、前記トンネル側壁と
視準軸とのオフセットを算出し、前記算出により得たオ
フセットの中から、当該オフセットの値が所要の範囲内
にあるオフセットを検出し、当該オフセットに対応する
前記視準方向を選択することにより、トンネル内のメー
ザー測量器械設置座標及び視準方向を決定するシミュレ
ーション工程と、前記メーザー測量器械設置座標に対応
するトンネル内の位置に前記メーザー測量器械を設置
し、前記シミュレーションにより決定した前記視準方向
に前記メーザー測量器械の視準軸が一致するように振り
込み、前記メーザー測量器械により前記視準方向を視準
し、所定の距離程の座標に対応するトンネル内の支保工
建込位置を定め、当該支保工建込位置に前記支保工を建
て込む支保工建込工程と、前記支保工建て込み後に、測
量器械により、前記支保工を建て込んだ位置を測量し、
当該測量により得た測定量に基づき、実際に前記支保工
を建て込んだ位置の座標を算出することにより、予め定
めた絶対座標と実際に前記支保工を建て込んだ位置の座
標との差を検出し、当該差が存在する場合には、建て込
んだ前記支保工の次に建て込む支保工の位置を、前記差
が解消することができるような位置に変更することによ
り、前記差が累積しないようにする支保工建込位置管理
工程とを備えたトンネル内の支保工建込位置管理方法に
存在する。

［作用］ 本発明は、トンネル内にメーザー測量器械を設定して
視準方向に振り込む前に、メーザー測量器械設置座標及
び前記メーザー測量器械の視準方向を決定するためのシ
ミュレーション工程を行うので、シミュレーション工程
を行うことなく直接トンネル内へメーザー測量器械を設
置し視準方向に振り込むよりも、測定誤差及び盛換え
（測量器械を移動すること）回数を少なくすることが可
能となる。すなわち、前記シミュレーション工程は、ト
ンネル内のメーザー測量器械設置座標及び前記メーザー
測量器械の視準方向を想定し、メーザー測量器械設置座
標に対応する、前記メーザー測量器械設置位置に設置し
た前記メーザー測量器械により前記視準方向を視準した
場合の、予め定めた座標上の距離程に位置する、前記ト
ンネル側壁と視準軸とのオフセットを算出し、前記算出
により得たオフセットの中から、当該オフセットの値が
所要の範囲内にあるオフセットを検出し、当該オフセッ
トに対応する前記視準方向を選択するものであり、本発
明における前記所要の範囲は、盛換え回数を考慮したう
えで測定誤差を少なくすることができる範囲としている
からである。前記測定誤差を少なくすることができれ
ば、前記支保工建込位置の誤差を小さくすることが可能
である。前記支保工建込位置の誤差を少なくすることが
できれば、拡幅量を少なくすることが可能となる。拡大
量を少なくすることができれば、余巻を少なくすること
が可能となる。余巻を少なくすることができれば、施工
経費を軽減することが可能となる。また、前記シミュレ
ーション工程は、演算処理装置により行うことも可能で
ある。演算処理装置を使用すれば、前記メーザー測量器
械を２台使用しても測量に要する時間を軽減することが
可能である。その結果、本発明は、前記メーザー測量器
械を２台使用した場合においてもトンネル構築に要する
経費、期間及び労力を軽減することを可能とする。

続いて、実際に、前記メーザー測量器械設置座標に対
応するトンネル内の位置に前記メーザー測量器械を設置
し、前記シミュレーション工程により決定した前記視準
方向に前記メーザー測量器械の視準軸が一致するように
振り込み、前記メーザー測量器械により前記視準方向を
視準し、予め定めた座標上の距離程に位置する、トンネ
ル内の支保工建込位置を定めると、当該支保工建込位置
に前記支保工を建て込む際の誤差を少なくすることが可
能となる。蓋し、上述のとおり前記シミュレーション工
程は、予め定めた座標上の各距離程に位置する、前記ト
ンネル側壁と視準軸とのオフセットを算出し、前記算出
により得たオフセットの中から、当該オフセットの値が
所要の範囲内にあるオフセットを検出し、当該オフセッ
トに対応する前記視準方向を選択するものであり、本発
明における前記所要の範囲は、盛換え回数を考慮したう
えで測定誤差を少なくすることができる範囲としている
からである。その結果、本発明は、余巻を少なくするこ
とを可能とし、トンネル構築に要する経費及び労力を軽
減することを可能とする。

続いて、前記支保工建て込み後に、測量器械により、
前記支保工を建て込んだ位置を測量し、当該測量により
得た測定値に基づき、実際に前記支保工を建て込んだ位
置の座標を算出すると、予め定めた絶対座標と実際に前
記支保工を建て込んだ位置の座標との差を検出すること
が可能となる。前記差が生じる要因としては前記支保工
を建て込む際の人為的過去、前記支保工建て込み後の前
記地山の変動等があるが、一般的には後者により前記差
が生じる場合が多い。しかしながら、前記地山の変動等
により前記差が生じた場合には、前記測量器械を設置す
る地点も変動していることが多く、かつ、その変動を把
握又は予想することは困難である。そこで、本発明は、
測量器械により、前記支保工を建て込んだ位置を測量し
て得た測定値に基づき、実際に前記支保工を建て込んだ
位置の座標を算出し、予め定めた絶対座標と実際に前記
支保工を建て込んだ位置の座標との差を検出することと
した。そのため、本発明は、前記地山の変動により前記
差が生じた場合においても、前記差を検出することを可
能とした。また、前記差は、座標により検出することと
しているので、巻厚方向及びトンネル掘削方向における
差として検出することが可能である。前記差が存在する
場合には、既に建て込んだ前記支保工の次に建て込む支
保工の位置を、前記差が解消することができるような位
置に変更することにより、前記支保工建込位置と前記絶
対座標との間に生じる差が累積しないようにすることを
可能とする。その結果、本発明は、余巻を少なくするこ
とを可能とし、トンネル構築に要する経費及び労力の軽
減を可能とする。

［実施例］ 以下、本発明の一実施例について図面を参照して詳細
に説明する。ただし、本実施例に記載されている構成部
品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定
的な記載がないかぎりは、この発明の範囲をそれらのみ
に限定する趣旨のものではなく、単なる説明例にすぎな
い。

本実施例では、シミュレーション工程、支保工建込工
程、支保工建込位置管理工程を順次行っている。

まず、トンネルＴの曲線部にメーザー測量器械の一つ
である右側（前記トンネルＴの切羽Ｆに向かって右側。
以下に、同じ。）壁用レーザーセオドライト10Rと、同
じくメーザー測量器械の一つである左側（前記トンネル
Ｔの切羽Ｆに向かって左側。以下に同じ。）壁用レーザ
ーセオドライト10Lとを設置して視準方向に振り込む前
に、各レーザーセオドライト設置座標及び各前記レーザ
ーセオドライト10R,10Lの視準方向を決定するための前
記シミュレーション工程を行っている。

前記シミュレーション工程は、ます、第１図に示すよ
うに、前記曲線部に、メーザー測量器械設置座標の一つ
である右側壁用レーザーセオドライト設置座標及び同じ
くメーザー測量器械設置座標の一つである左側壁用レー
ザセオドライト設置座標を想定する。想定する各前記レ
ーザーセオドライト設置座標については、トンネルＴを
構築する地山Ｇの終息と測定誤差を考慮して定めてい
る。蓋し、各前記レーザーセオドライト設置座標に対応
する、前記トンネルＴ内の各レーザーセオドライト設置
位置20R,20Lが、前記トンネルＴの切羽Ｆから近すぎる
と、前記地山Ｇが終息していないため、前記地山Ｇの移
動により各前記レーザーセオドライト設置位置20R,20L
が変動する可能性がある。各前記レーザーセオドライト
設置位置20R,20Lが変動すれば、測定値に誤差を生ずる
こととなる。それ故、前記値山Ｇの終息を考慮して、各
前記レーザーセオドライト設置座標を想定している。

他方、前記切羽Ｆから遠すぎると、前記トンネルＴの
測量部が曲線であるので、前記トンネルＴの右側壁RW及
び左側壁LWと、視準軸であるレーザー光線軸Ｌとのオフ
セットが長くなる所が生じ、その結果、測定値に誤差が
生じる可能性が高くなる。それ故、測定誤差を考慮し
て、各前記レーザーセオドライト設置座標を想定してい
る。

なお、各前記レーザーセオドライト設置座標及び前記
視準方向については第11図（イ）、（ロ）、（ハ）及び
（ニ）に示すようなものがある。同図（イ）、（ロ）、
及び（ハ）は、各前記レーザーセオドライト10R,10Lか
らの前記レーザー光線軸軸Ｌが平行になるように振り込
む測量方法における各前記レーザー光線軸Ｌの関係を示
す図であり、同図（ニ）は、前記レーザー光線軸Ｌが独
立になるように振り込む測量方法における各前記レーザ
ー光線軸Ｌの関係を示す図である。本実施例において
は、同図（ニ）に示す、各前記レーザーセオドライト10
R,10Lからの各前記レーザー光線軸Ｌが独立している測
量方法を採用した。蓋し、同図（ニ）は、同図（イ）、
（ロ）及び（ハ）に比べオフセットｏを短くすることが
でき、その結果、誤差の少ない測定値を得ることができ
るからである。勿論、本発明には、同図（イ）、（ロ）
及び（ハ）に示す測量方法を採用することもできる。か
かる場合には、同図（イ）、（ロ）又は（ハ）に示す測
量方法に対応するような演算をする必要がある。

次いで、第２図に示すように、前記視準方向を想定す
る。本実施例において、各前記レーザーセオドライト設
置座標及び前記視準点座標により前記視準方向を定めて
いる。前記視準点座標は、前記トンネルＴの幅員のセン
ターｃから前記トンネルＴの各前記側壁RW、LWに向かっ
て等間隔に想定している。また、本実施例においては、
前記視準点座標を11点想定している。前記センターｃか
ら前記左側壁LWに向かって左側壁用視準点座標を６点、
前記センターｃから前記右側壁RWに向かって右側壁用視
準点座標を６点としている。したがって、前記センター
ｃ上の前記視準点座標は、前記左側壁用視準点座標及び
前記右側壁用視準点座標となっている。

まず、各前記レーザーセオドライト設置座標に対応す
る、各前記レーザーセオドライト設置位置20R,20Lに設
置した、各前記レーザーセオドライト10R,10Lにより、
各前記視準点座標を視準した場合の、予め定めている座
標上の各距離程に位置する、前記トンネルＴの側壁とレ
ーザー光線軸Ｌとのオフセットｏを、演算処理装置を使
用して算出する。

次いで、前記算出により得たオフセットｏの中から、
当該オフセットｏの値が所要の範囲内あるオフセットｏ
を検出する。前記所要の範囲は測定誤差と盛換え回数を
考慮して定めている。蓋し、前記オフセットｏが、短す
ぎれば盛換え回数が多くなり測量に長時間を要すること
となり、長すぎれば支保工建込誤差が多くなるからであ
る。

なお、本実施例においては、前記所要の範囲内にある
オフセットｏの検出は人力により行ったが、前記演算処
理装置により、前記オフセットｏの算出と前記所要の範
囲内にあるオフセットｏの検出とを行うことができる。
また、前記オフセットｏの検出を、前記演算処理装置と
は別個の演算処理装置等の検出装置を用いて行うことも
できる。

次いで、第３図に示すように、前記オフセットｏに対
応する各前記レーザーセオドライト設置座標、及び、検
出した各前記視準点座標により前記視準方向を選択す
る。

以上の工程により、前記レーザーセオドライト設置座
標及び前記視準方向を決定している。

続いて、本実施例においては、支保工建込工程を行う
ことにより前記支保工30を建て込んでいる。

当該支保工建込工程は、以下のように行っている。

まず、各前記レーザーセオドライト設置座標に対応す
るトンネルＴ内の各前記レーザーセオドライト設置位置
20R,20Lに、各前記レーザーセオドライト10R,10Lを設置
する。

次いで、各前記レーザーセオドライト10R,10Lによ
り、前記シミュレーション工程により決定した前記視準
点座標に対応する各視準点40を視準する。そのように視
準することにより各前記視準方向に各前記レーザーセオ
ドライト10R,10Lのレーザー光線軸Ｌが一致するように
振り込むことができる。蓋し、各前記視準方向は、各前
記レーザーセオドライト設置位置20R,20L及び各前記視
準点40により選択したからである。

各前記レーザーセオドライト10Rは、第９図に示すよ
うに前記トンネルＴの前記左側壁LWに固定している台50
に、溶接することにより設置している。前記左側壁用レ
ーザーセオドライト10Lも前記左側壁LWに同様に設置し
ている。各前記視準点40は第10図に示すように、前記ト
ンネルＴの上部にオールアンカー60を打ち込み、当該オ
ールアンカー60から糸70を吊下することにより設けてい
る。

なお、その他の物又は方法により各前記視準点40を設
けることもできる。そして、各前記レーザーセオドライ
ト10R,10Lにより各前記視準点40を視準し、予め定めた
座標上の距離程の座標に位置するトンネルＴ内の支保工
建込位置を定める。なお、実際の施工においては、各前
記レーザーセオドライト10R,10Lを各前記レーザーセオ
ドライト設置位置20R,20Lに正確に設置することができ
ない場合が多い。かかる場合においては各前記レーザー
セオドライト10R,10Lを設置した位置を、当該他の測量
器械により測量し、当該測量により得た測定値に基づ
き、オフセットｏを算出することもできる。

次いで、当該支保工建込位置に前記支保工30を建て込
む。前記支保工30の建て込み方法については従来工法に
より行えばよい。

以上の工程により、前記支保工30を建て込むことがで
きる。

続いて、本実施例においては、支保工建込位置管理工
程により支保工建込位置の管理を行っている。

当該支保工建込位置管理工程は、以下のように行って
いる。

まず、前記支保工30建て込み後、第６図に示すように
測量器械の一つであるトランシット80により、各前記支
保工30を建て込んだトンネルＴ内の位置をトラバース測
量をする。当該トラバース測量は、第７図（イ）及び同
図（ロ）に示すように、各前記支保工30に造標し、かか
る測標を測量することにより、各前記各支保工30の建て
込んだ位置を求める。

なお、その他の測量器械、例えば、ゼオドライト，レ
ーザーセオドライト等により測量することもできる。ま
た、造標についても他の方法により行うこともできる。

次いで、当該測量により得た測定値に基づき、実際に
前記支保工30を建て込んだトンネルＴ内の位置に対応す
る座標を算出する。

次いで、予め定めた絶対座標と実際に前記支保工30を
建て込んだ位置の座標との差を検出する。前記算出及び
前記検出は演算処理装置を用いて行っている。前記差
は、第８図に示すように、前記トンネルＴの，掘削方向
における差x,及び、覆工方向における差ｙとして検出し
ている。なお、前記算出及び／又は前記検出を、人力に
よって行うこともできる。

そして、前記差が存在する場合には、次ぎに建て込む
支保工40が支保工建込位置を、前記差が解消することが
できるような位置に変更し、前記差が累積しないように
する。

次ぎに、以上のように構成した、本実施例にかかる、
トンネルＴ内のメーザー測量器械設置座標及び視準方向
決定方法、当該方法を用いた支保工建込方法並びに支保
工建込位置管理方法の作用について説明する。

本実施例においては、各前記レーザーセオドライト10
R,10Lを設置して視準方向に振り込む前に、各前記レー
ザーセオドライト設置座標、及び、各前記レーザーセオ
ドライト10R,10Lの視準方向を決定するためのシミュレ
ーション工程を行うので、シミュレーション工程を行う
ことなく直接トンネルＴ内へ各前記レーザーセオドライ
ト10R,10Lを設置し視準方向に振り込むよりも、測定誤
差及び盛換え回数を少なくすることが可能となる。すな
わち、前記シミュレーション工程は、トンネルＴ内の、
レーザーセオドライト設置座標、及び、各前記レーザー
セオドライト10R,10Lの視準方向を想定し、レーザーセ
オドライト設置座標に対応する。各前記レーザーセオド
ライト設置位置20R,20Lに設置した各前記レーザーセオ
ドライト10R,10Lにより前記視準方向を視準した場合
の、予め定めた座標上の距離程に位置する、前記トンネ
ルＴの側壁とレーザー光線軸Ｌとのオフセットｏを算出
し、前記算出により得たオフセットｏの中から、当該オ
フセットｏの値が所要の範囲内にあるオフセットｏを検
出し、当該オフセットｏに対応する前記視準方向を選択
するものであり、本実施例における前記所要の範囲は、
盛換え回数を考慮したうえで測定誤差を少なくすること
ができる範囲としているからである。前記測定誤差を少
なくすることができれば、前記支保工建込位置の誤差を
小さくすることが可能となる。前記支保工建込位置の誤
差を少なくすることができれば、拡幅量を少なくするこ
とが可能となる。拡幅量を少なくすることができれば、
余巻を少なくすることが可能となる。余巻を少なくする
ことができれば、施工経費を軽減することが可能とな
る。また、前記シミュレーション工程は、演算処理装置
により行うことも可能である。演算処理装置を使用すれ
ば、前記メーザー測量器械を２台使用しても測量に要す
る時間を軽減することが可能である。その結果、本実施
例によれば、前記メーザー測量器械を２台使用した場合
においてもトンネルＴの構築に要する経費、期間及び労
力を軽減することを可能とする。

続いて、実際に、各前記レーザーセオドライト設置座
標に対応するトンネルＴ内の位置に各前記レーザーセオ
ドライト10R,10Lを設置し、前記シミュレーション工程
により決定した前記視準方向に各前記レーザーセオドラ
イト10R,10Lのレーザー光線軸Ｌが一致するように振り
込み、各前記レーザーセオドライト10R,10Lにより前記
視準方向を視準し、予め定めた座標上の距離程に位置す
る、トンネルＴ内の支保工建込位置を定めると、当該支
保工建込位置に前記支保工30を建て込む際の誤差を少な
くすることが可能となる。蓋し、上述のとおり前記シミ
ュレーション工程は、予め定めた座標上の各距離程に位
置する、前記トンネルＴの側壁とレーザー光線軸Ｌとの
オフセットｏを算出し、前記算出により得たオフセット
ｏの中から、当該オフセットｏの値が所要の範囲内にあ
るオフセットｏを検出し、当該オフセットｏに対応する
前記視準方向を選択するものであり、本実施例における
前記所要の範囲は、盛換え回数を考慮したうえで測定誤
差を少なくすることができる範囲としているからであ
る。その結果、本実施例によれば、余巻を少なくするこ
とを可能とし、トンネルＴの構築に要する経費及び労力
を軽減することを可能とする。

続いて、前記支保工30建て込み後に、測量器械によ
り、前記支保工30を建て込んだ位置を測量し、当該測量
により得た測定値に基づき、実際に前記支保工30を建て
込んだ位置の座標を算出すると、予め定めた絶対座標と
実際に前記支保工30を建て込んだ位置の座標との差を検
出することが可能となる。ここで、前記差が生じる要因
としては前記支保工30を建て込む際の人為的過失、前記
支保工30建て込み後の前記地山Ｇの変動等があるが、一
般的には後者により前記差が生じる場合が多い。しかし
ながら、前記地山Ｇの変動等により前記差が生じた場合
には、前記測量器械を設置する地点も変動していること
が多く、かつ、その変動を把握又は予想することは困難
である。そこで、本実施例にかかるメーザー測量器械設
置座標及び視準方向決定方法を用いた支保工建込位置管
理方法は、測量器械により、前記支保工30を建て込んだ
位置を測量して得た測定値に基づき、実際に前記支保工
30を建て込んだ位置の座標を算出し、予め定めた絶対座
標と実際に前記支保工30を建て込んだ位置の座標との差
を検出することとしている。そのため、本実施例は、前
記地山Ｇの変動により前記差が生じた場合においても、
前記差を検出することを可能とした。前記差が存在する
場合には、既に建て込んだ前記支保工30の次に建て込む
支保工30の位置を、前記誤差が解消することができるよ
うな位置に変更することにより、前記支保工建込位置と
前記絶対座標との間に生じる差が累積しないようにする
ことを可能とする。その結果、本実施例によれば、余巻
を少なくすることを可能とし、トンネルＴの構築に要す
る経費及び労力を軽減することを可能とし、さらに、ト
ンネルＴの掘削方向における差ｘも解消することができ
るので施工精度を向上することができる。

また、前記オフセットｏ、及び、予め定めた絶対座標
と実際に前記支保工30を建て込んだ位置の座標との差の
検出を、演算処理装置に行っているので、本実施例によ
れば、人力により前記オフセットｏ及び前記差を求める
よりも迅速に行うことを可能とする。その結果、トンネ
ルＴの構築を要する期間及び労力を軽減することができ
る。また、本実施例においては前記トンネルＴの掘削方
向における前記差を検出しているので、前記掘削方向に
おける前記差が累積しないようにすることが可能とな
る。

次ぎに、以上のように構成した、本実施例にかかる、
トンネルＴ内のメーザー測量器械設置座標及び視準方向
決定方法、当該方法を用いた支保工建込方法並びに支保
工建込位置管理方法を、トンネルＴの曲線部の構築に使
用した場合の効果について説明する。

本実施例においては、前記トンネルＴ内に各前記レー
ザーセオドライト10R,10Lを設置して視準方向に振り込
む前に、各前記レーザーセオドライト設置座標及び各前
記レーザーセオドライト10R,10Lの視準方向を決定する
ためのシミュレーション工程を行うので、前記シミュレ
ーション工程を行なわずに直接トンネルＴ内へ前記レー
ザーセオドライト10R,10Lを設置し視準方向に振り込む
よりも、測定誤差及び盛換え回数を少なくすることがで
きる。その結果、本実施例によれば、トンネルＴの構築
に要する経費、期間及び労力を軽減することができる。

本実施例においては、前記シミュレーション工程を行
った後に、実際に、各前記レーザーセオドライト設置座
標に対応するトンネルＴ内の位置に各前記レーザーセオ
ドライト10R,10Lを設置し、前記シミュレーション工程
により決定した各前記視準点座標に対応する各前記視準
点40を視準するように振り込み、各前記視準方向に各前
記レーザーセオドライト10R,10Lのレーザー光線軸Ｌが
一致するようにし、前記レーザーセオドライト10R,10L
により前記視準方向を視準することにより、予め定めた
座標上の距離程に位置する、トンネルＴ内の支保工建込
位置を定めているので、当該支保工建込位置に前記支保
工30を建て込む際の誤差を少なくすることができる。そ
の結果、本実施例によれば、トンネルＴの構築に要する
経費及び労力を軽減することができる。

本実施例においては、前記シミュレーション工程と、
前記支保工建込工程とを行った後に、測量器械により、
前記支保工30を建て込んだ位置を測量し、当該測量によ
り得た測定値に基づき、実際に前記支保工30を建て込ん
だ位置の座標を算出し、予め定めた絶対座標と実際に前
記支保工30を建て込んだ位置の座標との差を検出するこ
ととしている。即ち、本実施例においては、測量器械に
より、前記支保工30を建て込んだ位置を測量して得た測
定値に基づき、実際に前記支保工30を建て込んだ位置の
座標を算出し、予め定めた絶対座標と実際に前記支保工
30を建て込んだ位置の座標との差を検出することとして
いるので、前記地山Ｇの変動により前記差が生じた場合
においても、前記差を検出することができる。

前記差が存在する場合には、既に建て込んだ前記支保
工30の次に建て込む支保工30の位置を、前記誤差が解消
することができるような位置に変更することにより、前
記支保工建込位置と前記絶対座標との間に生じる差が累
積しないようにすることができる。その結果、本実施例
によれば、余巻を少なくすることができ、トンネルＴの
構築に要する経費及び労力を軽減することができる。さ
らに、本実施例においては、レーザーセオドライトを２
台使用しているが、演算処理装置を用いているので、前
記オフセットｏ及び前記差を人力に比べて迅速に算出す
ることができる。その結果、本実施例によれば、トンネ
ルＴの構築を要する期間及び労力を軽減することができ
る。また、本実施例においては前記トンネルＴの掘削方
向における前記差を検出しているので、前記掘削方向に
おける前記差が累積しないようにすることができる。そ
の結果、トンネルＴの掘削方向における施工誤差を少な
くすることができる。

なお、本実施例においては、レーザーセオドライトを
使用したが、他のメーザー測量器械、例えば、レーザー
レベル等を使用しても上記効果を得ることができる。ま
た、各前記セオドライト設置位置20R,20Lを決定した
後、前記視準方向を決定したが、本発明においては、そ
の順序は問はない。また、本実施例においては、各前記
レーザーセオドライト設置座標をそれぞれ１づつ想定し
て前記シミュレーション工程を行ったが、本発明におい
ては、２以上の前記メーザー測量器械設置位置を想定し
て行うことも可能である。また、本実施例においては、
レーザーセオドライトを２台使用したが、本発明におい
ては１台又は３台以上使用することもできる。また、本
実施例においては、トンネルＴの曲線部の構築において
用いたが、本発明においては、直線部にも適用すること
もできる。また、本実施例においては、前記レーザーセ
オドライト設置位置20R,20L及び前記視準点座標から前
記視準方向を定めたが、本発明においては、他の方法に
より、例えば、基準線と視準軸との測角値から求めるこ
ともできる。なお、本実施例においては前記シミュレー
ション工程を１回のみ行ったが、本発明においては、２
回以上行うこともできる。

次いで、本発明をトンネルＴの構築に実施した場合の
施工例について、実施例の説明において使用した図面を
用いて説明する。

本施工例は、第１図に示すように、距離程で6391.00m
まで掘削しており、6391.00m〜6423.00mまで掘削した場
合におけるものであり、拡幅量は50mmを予定した。な
お、前記トンネルＴの曲率半径は800mであった。

本施工例では、前記シミュレーション工程及び前記支
保工建込工程を行った後、さらに、前記支保工建込位置
管理工程を順次行った。

前記シミュレーション工程は、以下のように行った。

まず、第２図に示すように、前記右側壁用レーザーセ
オドライト設置座標は、距離程で6285.00m、前記トンネ
ルＴの幅員のセンターｃから前記左側壁LW方向へ5.00m
とし、前記左側壁用レーザーセオドライト設置座標は、
距離程で6285.50m、前記トンネルＴの幅員のセンターｃ
から前記左側壁LW方向へ5.00mと、想定した。前記視準
点座標は距離程で6380.00mとし、前記トンネルＴの幅員
のセンターｃから各前記側壁RW、LWに向かって、1.00m
づつ、前記右側壁RW用の視準点座標、前記左側壁LW用の
視準点座標を設けた。

次いで、前記右側壁用レーザーセオドライト設置座
標、前記左側壁用レーザーセオドライト設置座標及び各
前記視準点座標を、演算処理装置に入力し、各前記支保
工30の座標上の各オフセットｏを算出した。

その結果を第12図及び第13図に示す。CASE（０）は前
記センターｃ上の各前記視準点座標におけるオフセット
ｏを、CASE（１）は前記センターｃから各前記側壁RW、
LWに向かって1.00mの位置にある各前記視準点座標にお
けるオフセットｏを、CASE（２）は前記センターｃから
各前記側壁RW、LWに向かって2.00mの位置にある前記視
準点座標におけるオフセットｏを、CASE（３）は前記セ
ンターｃから各前記側壁RW,LWに向かって3.00mの位置に
ある各前記視準点座標におけるオフセットｏを、CASE
（４）は前記センターｃから各前記側壁RW,LWに向かっ
て4.00mの位置にある各前記視準点座標におけるオフセ
ットｏを、CASE（５）は前記センターｃから各前記側壁
RW,LWに向かって5.00mの位置にある各前記視準点座標に
おけるオフセットｏを、示したものである。

前記オフセットｏの所要の範囲は、測定誤差と盛換え
回数を考慮し1m前後の範囲とした。前記所要の範囲を1m
前後としたのは、拡幅量を50mmとするためには、従来の
施工経験からオフセットｏは1m前後が望ましいと考えた
からである。したがって、第12図より、CASE（４）〜CA
SE（５）に対応する前記視準点座標の間に、最適な前記
視準点座標があると推定した。また、第13図より、CASE
（２）〜CASE（４）に対応する前記視準点座標の間に、
最適な前記視準点座標があると推定した。

次いで、第４図に示すように、CASE（４）〜CASE
（５）に対応する各前記右側壁用の視準点座標の間、即
ち、前記センターｃから前記右側壁RWに向かって、4.00
m〜5.00mの間の0.2m毎の点に右側壁用の視準点座標を想
定し、CASE（２）〜CASE（４）の間、即ち、前記センタ
ーｃから前記左側壁LWに向かって、2.00m〜4.00mの0.50
m毎の点に左側壁用の視準点座標を想定し、前記各視準
点座標の演算処理装置に入力し、各前記支保工30の座標
上の各オフセットｏを算出した。

その結果を第14図及び第15図に示す。

第14図における、CASE（０）は前記センターｃから前
記右側壁RWに向かって4.00mの位置にある各前記視準点
座標におけるオフセットｏを、CASE（１）は前記センタ
ーｃから前記右側壁RWに向かって4.20mの位置にある各
前記視準点座標におけるオフセットｏを、CASE（２）は
前記センターｃから前記右側壁RWに向かって4.40mの位
置にある前記視準点座標におけるオフセットｏを、CASE
（３）は前記センターｃから前記右側壁RWに向かって4.
60mの位置にある各前記視準点座標におけるオフセット
ｏを、CASE（４）は前記センターｃから前記右側壁RWに
向かって4.80mの位置にある各前記視準点座標における
オフセットｏを、CASE（５）は前記センターｃから前記
右側壁RWに向かって5.00mの位置にある各前記視準点座
標におけるオフセットｏを示したものである。

第15図における、CASE（０）は前記センターｃから前
記左側壁LWに向かって2.00mの位置にある各前記視準点
座標におけるオフセットｏを、CASE（１）は前記センタ
ーｃから前記左側壁LWに向かって2.50mの位置にある各
前記視準点座標におけるオフセットｏを、CASE（２）は
前記センターｃから前記左側壁LWに向かって3.00mの位
置にある前記視準点座標におけるオフセットｏを、CASE
（３）は前記センターｃから前記左側壁LWに向かって3.
50mの位置にある各前記視準点座標におけるオフセット
ｏを、CASE（４）は前記センターｃから前記左側壁LWに
向かって4.00mの位置にある各前記視準点座標における
オフセットｏを示したものである。

次いで、前記算出により得た、オフセットｏの中か
ら、1.00m前後のオフセットｏを検出した。

まず、第14図より、CASE（２）におけるオフセットｏ
を検出した。CASE（０）よりも、1mから離れている、CA
SE（２）を選択したのは、次の理由による。本実施例に
よれば、第14図及び第15図に示すように、前記右側壁用
レーザーセオドライト10Rのレーザー光線軸Ｌと前記右
側壁RWとのオフセットｏよりも、前記左側壁用レーザー
セオドライト10Lのレーザー光線軸Ｌとのオフセットｏ
のほうが、各前記CASE毎のオフセットｏの値の幅が広
い。各前記CASE毎のオフセットｏの幅が広いということ
は、前記右側壁用レーザーセオドライト10Rのレーザー
光線軸Ｌと前記右側壁RWとの、検出するオフセットｏの
値の中の最小値よりも、前記左側壁用レーザーセオドラ
イト10Lのレーザー光線軸Ｌとの、検出するオフセット
ｏの値の中の最小値のほうが、小さくなる可能性が非常
に高い。オフセットｏの値が小さくなると盛換え回数は
多くなる。したがって、前記最小値の内、小さいオフセ
ットｏのほうが盛換え回数を考慮しなければならない。
ここで、前記右側壁RWのオフセットｏの最小値は0,8785
4［支保工No1157,CASE（４）］であり、前記左側壁LWの
オフセットｏの最小値は0,87141［支保工No1157,CASE
（２）］である。したがって、前記右側壁用レーザーセ
オドライト10Rのレーザー光線軸Ｌと前記右側壁RWとの
オフセットｏの検出については、盛換え回数を考慮する
必要はない。一方、オフセットｏは小さいほうが測定誤
差を少なくすることができる。以上の理由により、前記
右側壁用レーザーセオドライト10Rのレーザー光線軸Ｌ
と前記右側壁RWとのオフセットｏについては、CASE
（２）におけるオフセットｏを検出することとした。

続いて、第15図より距離程で6391.00m〜6407.00m（支
保工30No1125〜No1141）の間については、CASE（３）
を、距離程で6408.00m〜6423.00m（支保工30No1142〜No
1157）の間については、CASE（１）におけるオフセット
ｏを検出した。前記視準点座標を二つとることとしたの
は、CASE（１）の場合では、距離程で6391.00m〜6407.0
0mの間においてオフセットｏの値が大きすぎ、測定誤差
が多くなる可能性が高いからである。

なお、負の値のオフセットｏは側壁内における位置を
示すものである。したがって、かかるオフセットｏは検
出の対象とはなり得ない。

以上の工程により、前記レーザーセオドライト設置座
標及び前記視準方向を決定した。

なお、以上のシミュレーション工程に要した時間は、
28分であった。

次いで、前記支保工建込工程を行った。

前記支保工建込工程は、以下に示すように行った。

まず、前記右側壁用レーザーセオドライト10R及び前
記左側壁用レーザーセオドライト10Lを前記トンネルＴ
内に設置した。前記右側壁用レーザーセオドライト10R
の設置位置は、前記右側壁用レーザーセオドライト設置
座標に対応する前記レーザーセオドライト設置位置20R
であり、具体的には、距離程が6285.00mで、前記センタ
ーｃから前記左側壁LWに向かって5mの位置である。ま
た、前記左側壁用レーザーセオドライト10Lの設置位置
は、前記左側壁用レーザーセオドライト設置座標に対応
する前記レーザーセオドライト設置位置20Lであり、具
体的には、距離程が6285.50mで、前記センターｃから前
記左側壁LWに向かって5.00mの位置である。

次いで、前記右側壁用の視準的座標（第14図のCASE
（２）における視準点座標）に対応する前記トンネルＴ
内の位置に右側壁用の視準点40を設けた。当該位置は、
距離程が6380.00mで、前記センターｃから前記右側壁RW
に向かって4.4mの位置である。

続いて、前記左側壁用の視準点座標（第15図のCASE
（３）及びCASE（１）における視準点座標）に対応する
前記トンネルＴ内の位置に右側壁用の視準点40を設け
た。当該位置は、距離程が6380.00mで、前記センターｃ
から3.50m及び2.50mの位置である。

本施工例においては、各前記レーザーセオドライト10
R,10L及び各前記視準点40を設置した位置を測量するこ
ととした。各前記レーザーセオドライト10R,10L及び各
前記視準点40を、それぞれが対応する各前記レーザーセ
オドライト設置位置20R,20L、各前記視準点座標が対応
するトンネルＴ内の位置に正確に設置することは、施工
における労力及び時間等の点で問題がある。そのため、
各前記レーザーセオドライト設置位置20R,20L、各前記
視準点座標が対応するトンネルＴ内の位置と概ね同一と
思えることができる位置に、各前記レーザーセオドライ
ト10R,10Lを設置し、各前記視準点40を設けたからであ
る。その結果、前記右側壁用レーザーセオドライト10R
を設置した実際の位置は、距離程が6285.089mで、前記
センターｃから前記左側壁LWに向かって4.938mの位置で
あり、前記左側壁用レーザーセオドライト10Lを設置し
た実際の位置は、距離程が6285.638mで、前記センター
ｃから前記左側壁LWに向かって5.055mの位置であった。

また、前記右側壁用の視準点40を設けた実際の位置
は、距離程が6380.123mで、前記センターｃから前記右
側壁RWに向かって4.368mの位置であり、前記左側壁用の
視準点40を設けた実際の位置は、一つは距離程が6380.0
13m、前記センターｃから前記左側壁LWに向かって2.534
mの位置であり、当該他の一つは距離程が6380.112mで、
前記センターｃから前記左側壁LWに向かって3.569mの位
置であった。なお、当該測量は、トランシット80による
トラバース測量により行った。

以上の結果を前記演算処理装置に入力し、正確な前記
オフセットｏを算出した。

その結果を第16図及び第17図に示す。第16図における
CASE（０）は前記センターｃから前記右側壁RWに向かっ
て4.00mの位置にある各前記視準点座標におけるオフセ
ットｏを示したものである。第17図における、CASE
（０）は前記センターｃから前記左側壁LWに向かって2.
50mの位置にある各前記視準点座標におけるオフセット
ｏを示したものであり、CASE（１）は前記センターｃか
ら前記左側壁LWに向かって3.50mの位置にある各前記視
準点座標におけるオフセットｏを示したものである。

各前記レーザーセオドライト設置位置20R,20L及び各
前記視準点40のトンネルＴ内の位置により、検出した前
記オフセットｏに対応する各視準方向を決定した。

次いで、第５図に示すように、各前記レーザーセオド
ライト10R,10Lにより前記視準点40を視準することによ
り、前記視準方向に前記レーザー光線軸Ｌが一致するよ
うに振り込んだ。

次いで、第16図若しくは第17図に基づき前記支保工建
込位置を定めた。例えば、No1125の支保工30の前記支保
工建込位置は、距離程が6391.00mで、前記右側壁用レー
ザーセオドライト10Rのレーザー光線軸Ｌと前記右側壁R
Wとのオフセットｏは0.518m、前記左側壁用レーザーセ
オドライト10Lのレーザー光線軸Ｌとのオフセットｏは
1.103mである。

また、距離程が6423.00mのNo1157の支保工30の前記支
保工建込位置は、距離程が6423.00mで、前記右側壁用レ
ーザーセオドライト10Rのレーザー光線軸Ｌと前記右側
壁RWとのオフセットｏは約0.381m、前記左側壁用レーザ
ーセオドライト10Lのレーザー光線軸Ｌとのオフセット
ｏは0.129mである。

次いで、以上のように定めた前記支保工建込位置に、
各支保工30を建て込んだ。

以上のように行うことにより、前記支保工30を建て込
むことができた。

次いで、本施行例では、さらに、前記支保工建込位置
管理工程を行った。

前記支保工建込位置管理工程は、以下のように行っ
た。

まず、前記支保工30建て込み後に、第６図に示すよう
に、トランシット80により前記支保工30を建て込んだ位
置を、トラバース測量した。当該トラバース測量は、第
７図に示すように、前記支保工30に造標し、当該造標に
より設置した測標90を測量することにより、前記各支保
工30の建て込んだ位置を求めた。

次いで、当該トラバース測量により得た測定値に基づ
き、予め定めた絶対座標と実際に各前記支保工30を建て
込んだトンネルＴ内の位置に対応する座標との差を、演
算処理装置を用いて検出した。

その結果を第18図に示す。前記算出により第18図にお
いて距離程の差は、予め定めた絶対座標と、実際に各前
記支保工30を建て込んだ前記トンネルＴ内の位置に対応
する座標と、の差である。また、前記距離程の差は、前
記トンネルＴの掘削方向における差ｘと、前記トンネル
の覆工方向における差ｙとして表した。なお、前記予め
定めた絶対座標とは、国土地理院が定めたものを用い
た。

そして、検出した前記差に基づき、No1158以降の支保
工30の支保工建込位置を、前記差が解消することができ
るような位置に変更し、前記差が累積しないようにし
た。

なお、前記検出に要した時間は、33分であった。

また、従来拡幅量を80mmとしていた。これに対し、本
施工例では、拡幅量を50mmとした。したがって、前記施
工例では、距離程で6391.00（支保工No1125）〜6423.00
（支保工No1157）の間において、 （0.08m−0.05m）×25.00［周長］×（6423.00−6391.0
0）＝24m³ のコンクリートを節約することができた。

［発明の効果］ 本発明は、以上のように構成しているので、以下に記
載するような効果を奏する。

本発明は、まず、トンネル内にメーザー測量器械を設
置して視準方向に振り込む前に、メーザー測量器械設置
座標及び前記メーザー測量器械の視準方向を決定するた
めのシミュレーション工程を行うので、メーザー測量器
械を２台若しくは以上使用して測量しても、シミュレー
ション工程を行なわずに直接トンネル内へメーザー測量
器械を設置し視準方向に振り込むよりも、測定誤差及び
盛換え回数を少なくすることができる。その結果、本発
明は、トンネル構築に要する経費、期間及び労力を軽減
することができる。

また、本発明は、前記シミュレーション工程を行った
後に、実際に、前記メーザー測量器械設置座標に対応す
るトンネル内の位置に前記メーザー測量器械を設置し、
前記シミュレーション工程により決定した前記視準方向
に前記メーザー測量器械の視準軸が一致するように振り
込み、前記メーザー測量器械により前記視準方向を視準
することにより、予め定めた座標上の居異程に位置す
る、トンネル内の支保工建込位置を定めているので、当
該支保工建込位置に前記支保工を建て込む際の誤差を少
なくすることができる。その結果、本発明は、トンネル
構築に要する経費及び労力を軽減することができる。

続いて、前記支保工建て込み後に、測量器械により、
前記支保工を建て込んだ位置を測量し、当該測量により
得た測定値に基づき、実際に前記支保工を建て込んだ位
置の座標を算出すると、予め定めた絶対座標と実際に前
記支保工を建て込んだ位置の座標との差を検出すること
が可能となる。前記差が生じる要因としては前記支保工
を建て込む際の人為的過失、前記支保工建て込み後の前
記地山の変動等があるが、一般的には後者により前記差
が生じる場合が多い。しかしながら、前記地山の変動等
により前記差が生じた場合には、前記測量器械を設置す
る地点も変動していることが多く、かつ、その変動を把
握又は予想することは困難である。そこで、本発明は、
測量器械により、前記支保工を建て込んだ位置を測量し
て得た測定値に基づき、実際に前記支保工を建て込んだ
位置の座標を算出し、予め定めた絶対座標と実際に前記
支保工を建て込んだ位置の座標との差を検出することと
した。そのため、本発明は、前記地山の変動により前記
差が生じた場合においても、前記差を検出することを可
能とした。また、前記差は、座標により検出することし
ているので、巻厚方向及びトンネル掘削方向における差
として検出することが可能である。前記差が存在する場
合には、既に建て込んだ前記支保工の次に建て込む支保
工の位置を、前記差が解消することができるような位置
に変更することにより、前記支保工建込位置と前記絶対
座標との間に生じる差が累積しないようにすることを可
能とする。その結果、本発明は、余巻を少なくすること
を可能とし、トンネル構築に要る経費及び労力を軽減す
ることを可能とし、さらに、トンネル掘削方向における
差も解消することができるので施工精度を向上すること
ができる。

さらに、本発明は、前記シミュレーション工程と、前
記支保工建込位置とを行った後に、測量器械により、前
記支保工を建て込んだ位置を測量し、当該測量により得
た測定値に基づき、実際に前記支保工を建て込んだ位置
の座標を算出し、予め定めた絶対座標と実際に前記支保
工を建て込んだ位置の座標との差を検出することとして
いる。測ち、本発明は、測量器械により、前記支保工を
建て込んだ位置を測量して得た測定値に基づき、実際に
前記支保工を建て込んだ位置の座標を算出し、予め定め
た絶対位置と実際に前記支保工を建て込んだ位置の座標
との差を検出することとしているので、前記地山の変動
により前記差が生じた場合においても、前記差を検出す
ることを可能とした。前記差が存在する場合には、既に
建て込んだ前記支保工の次に建て込む支保工の位置を、
前記誤差が解消することができるような位置に変更する
ことにより、前記支保工建込位置と前記絶対座標との間
に生じる差が累積しないようにすることができる。その
結果、本発明は、余巻を少なくすることができ、トンネ
ル構築に要する経費及び労力を軽減することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第18図は本発明にかかる実施例を示すものであ
り、 第１図から第６図は本実施例の工程平面図、第７図
（イ）は支保工に測標を造標した図、第７図（ロ）は第
７図（イ）に示す支保工の平面図、第８図は予め定めた
絶対座標と実際に支保工を建て込んだ位置に対応する座
標との差を示す、支保工支保工脚部の概略詳細図、第９
図はトンネルにレーザーセオドライトを設置した状態を
示す概略正面図、第10図はトンネル内に視準点を設けた
状体を示す概略正面図、第11図（イ）〜（ハ）は各レー
ザー光線軸が平行な場合の、レーザーセオドライトとレ
ーザー光線軸との関係を示す概略平面図、第11図（ニ）
は各レーザー光線軸が独立している場合の、レーザーセ
オドライトとレーザー光線軸との関係を示す概略平面
図、第12図〜第15図はシミュレーション工程によるり算
出したオフセットを示す表図、第16図及び第17図は支保
工及び視準点40の測定値に基づき算出したオフセットを
示す表図、第18図は建て込んだ支保工の、予め定めた絶
対座標と、実際に各支保工を建て込んだトンネル内の位
置に対応する座標を示す表図、 第19図及び第20図は従来例を示した図であり、第19図
（イ）はリングカット工法によりトンネルを掘削した場
合のトンネルの横断面図、第19図（ロ）はリングカット
工法によりトンネルを掘削した場合のトンネルの平面
図、第20図は余巻と拡幅量との関係を示すトンネルの概
略横断面図である。 Ｔ……トンネル、 Ｆ……切羽、 Ｇ……地山、 Ｌレーザー光線軸、 RW……右側壁、 LW……前記左側壁LW、 ｃ……センター、 ｅ……建込誤差、 ｌ……視準軸、 ｏ……オフセット、 ｔ……設計巻厚、 ｓ……余巻 ｗ……拡幅量、 ｘ……掘削方向における差、 ｙ……覆工方向における差、 １……中背、 ２……メーザー測量器械、 ３……施工位置、 ４……設計位置、 ５……覆工面、 10R……右側壁用レーザーセオドライト、 10L……左側壁用レーザーセオドライト、 20R……右側壁用レーザーセオドライト設置位置、 20L……左側壁用レーザーセオドライト設置位置、 30……支保工、 40……視準点、 50……台、 60……オールアンカー、 70……糸、 80……トランシット、 90……測標、

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】トンネル内の、メーザー測量器械設置座
   標、及び、前記メーザー測量器械の視準方向を想定し、
   メーザー測量器械設置座標に対応する、前記トンネル内
   のメーザー測量器械設置位置に設置した前記メーザー測
   量器械により前記視準方向を視準した場合の、予め定め
   た座標上の距離程に位置する、前記トンネル側壁と視準
   軸とのオフセットを算出し、前記算出により得たオフセ
   ットの中から、当該オフセットの値が所要の範囲内にあ
   るオフセットを検出し、当該オフセットに対応する前記
   視準方向を選択することにより、トンネル内のメーザー
   測量器械設置座標及び視準方向を決定するシミュレーシ
   ョン工程と、 前記メーザー測量器械設置座標に対応するトンネル内の
   位置に前記メーザー測量器械を設置し、前記シミュレー
   ションにより決定した前記視準方向に前記メーザー測量
   器械の視準軸が一致するように振り込み、前記メーザー
   測量器械により前記視準方向を視準し、所定の距離程の
   座標に対応するトンネル内の支保工建込位置を定め、当
   該支保工建込位置に前記支保工を建て込む支保工建込工
   程と、 前記支保工建て込み後に、測量器械により、前記支保工
   を建て込んだ位置を測量し、当該測量により得た測定値
   に基づき、実際に前記支保工を建て込んだ位置の座標を
   算出することにより、予め定めた絶対座標と実際に前記
   支保工を建て込んだ位置の座標との差を検出し、当該差
   が存在する場合には、建て込んだ前記支保工の次に建て
   込む支保工の位置を、前記差が解消することができるよ
   うな位置に変更することにより、前記差が累積しないよ
   うにする支保工建込位置管理工程と を備えたトンネル内の支保工建込位置管理方法。