JP2892695B2 - Transparent high barrier plastic film - Google Patents

Transparent high barrier plastic film

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JP2892695B2 JP20088289A JP20088289A JP2892695B2 JP 2892695 B2 JP2892695 B2 JP 2892695B2 JP 20088289 A JP20088289 A JP 20088289A JP 20088289 A JP20088289 A JP 20088289A JP 2892695 B2 JP2892695 B2 JP 2892695B2
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film
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silicon oxide
deposited
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耕三 尾池
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Oike and Co Ltd
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 【技術分野】【Technical field】

本発明は透明性、ガスバリヤー性、レトルト殺菌耐性
などにすぐれた、飲食品、衣料品、電子材などの分野に
おける包装材料またはガス遮断材料として有用な性能を
安定してえることができる透明ハイバリヤープラスチッ
クフイルムに関する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is a transparent high-performance resin having excellent transparency, gas barrier properties, retort sterilization resistance, etc., and capable of stably obtaining useful properties as a packaging material or a gas barrier material in the fields of food and drink, clothing, electronic materials, and the like. Related to barrier plastic films.

【従来の技術】[Prior art]

従来プラスチックフイルムのガスバリヤー性を向上さ
せる目的で、珪素酸化物をフイルム表面に蒸着させるこ
とは、特公昭53−12953号公報に示される通りである。 また、同方法により半連続式巻取り蒸着において得ら
れる珪素酸化物蒸着プラスチックフイルムは、透湿度:
3.0g/m2・24Hrs.以下、酸素透過率:2.0cc/m2・24Hrs.以
下の値が得られ、実用上、有効であることが知られてい
る。 しかしながら透湿度:1.0g/m2・24Hrs.以下、酸素透過
率:0.5cc/m2・24Hrs.以下の値が得られる珪素酸化物蒸
着プラスチックフイルムを工業規模での生産に於て、安
定した製品の製造が困難であった。 その理由は、蒸発材料として、 Si:SiO2=1:1(モル比) の混合物を用い、蒸着過程に於て、SiOxなる膜を形成す
る故である。 一方、蒸発物質を、SiOで行なえばおおむね満足する
性能のものが得られるが生産コストが高くつき、実用に
供するには問題があった。 また、珪素酸化物蒸着プラスチックフイルムの単体の
場合には、極僅かながら、珪素酸化物蒸着膜に存在する
微少ピンホール、微少クラック等の欠陥の為に例えば透
湿度:2.3g/m2・24Hrs.、酸素透過率:1.8cc/m2・24Hrs.
等の値を示すのが普通である。 更に透湿度、酸素透過率の小さい優れた透明なフイル
ムを得ようとして珪素酸化物蒸着膜の厚みを厚くするこ
とも試みられたが、実際問題としては、単に厚みを増加
しても微少ピンホール、微少クラック等の欠陥は改良さ
れることなく、得られる膜の着色が濃くなるだけであっ
て透明性が悪くなるという新たな問題点が生ずる。
Conventionally, silicon oxide is vapor-deposited on a film surface for the purpose of improving the gas barrier property of a plastic film, as shown in JP-B-53-12953. Further, the silicon oxide vapor-deposited plastic film obtained in the semi-continuous winding vapor deposition by the same method has a moisture permeability:
A value of 3.0 g / m 2 · 24 Hrs. Or less and an oxygen permeability: 2.0 cc / m 2 · 24 Hrs. Or less are obtained, and are known to be practically effective. However moisture permeability:. 1.0g / m 2 · 24Hrs less, oxygen permeability:. 0.5cc / m 2 · 24Hrs the following values are obtained silicon oxide deposited plastic film At a production on an industrial scale, stable Manufacturing of the product was difficult. The reason is that a mixture of Si: SiO 2 = 1: 1 (molar ratio) is used as the evaporation material, and a film of SiO x is formed in the vapor deposition process. On the other hand, if SiO is used as the evaporating substance, a product having generally satisfactory performance can be obtained, but the production cost is high and there is a problem in practical use. In addition, in the case of a silicon oxide vapor-deposited plastic film alone, a very small amount, due to defects such as minute pinholes and minute cracks present in the silicon oxide vapor-deposited film, for example, moisture permeability: 2.3 g / m 2 ., oxygen permeability: 1.8cc / m 2 · 24Hrs.
It is common to indicate values such as. Attempts have also been made to increase the thickness of the silicon oxide vapor-deposited film in order to obtain an excellent transparent film having a small water vapor transmission rate and oxygen permeability. Defects such as minute cracks are not improved, and only the coloring of the obtained film becomes darker, which causes another problem that transparency is deteriorated.

【発明の目的】[Object of the invention]

本発明は、透明ハイバリヤープラスチックフイルムの
構成に於て、プラスチックフイルムの片面に直接または
下塗層を介して、珪素酸化物蒸着膜を設けた珪素酸化物
蒸着プラスチックフイルム2枚を珪素酸化物蒸着膜の側
が内側になるように貼り合せるようにしたことで、透明
性、ガスバリヤー性、レトルト殺菌耐性などにすぐれ、
飲食品、医薬品、電子材料などの分野における包装材料
またはガス遮断材料として有用な性能を安定してえるこ
とができる透明ハイバリヤープラスチックフイルムを提
供することにある。
The present invention relates to a transparent high-barrier plastic film comprising a silicon oxide vapor-deposited plastic film provided with a silicon oxide vapor-deposited film directly or through an undercoat layer on one side of the plastic film. Excellent transparency, gas barrier property, retort sterilization resistance, etc.
An object of the present invention is to provide a transparent high-barrier plastic film capable of stably obtaining useful performance as a packaging material or a gas barrier material in the fields of food and drink, pharmaceuticals, electronic materials, and the like.

【発明の構成】Configuration of the Invention

本発明は、プラスチックフイルムの片面に直接または
下塗層を介して、珪素酸化物蒸着膜を設けた珪素酸化物
蒸着プラスチックフイルム2枚を珪素酸化物蒸着膜の側
が内側になるように貼り合せたことを特徴とする透明ハ
イバリヤープラスチックフイルムである。 即ち本発明は、プラスチックフイルムの片面に直接ま
たは下塗層を介して、珪素酸化物蒸着膜を設けた珪素酸
化物蒸着プラスチックフイルム2枚を珪素酸化物蒸着膜
の側が内側になるように貼り合せることにより、透明
性、ガスバリヤー性、レトルト殺菌耐性にすぐれ、飲食
品、医薬品、電子材料などの分野における包装材料また
はガス遮断材料として有用なフイルムを安定してえるこ
とができる透明ハイバリヤープラスチックフイルムを提
供することを可能としたものである。 本発明の透明ハイバリヤープラスチックフイルムの製
造方法におけるプラスチックフイルムとしては、充分な
自己保持性を有するものであればいずれも用いられる
が、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、セ
ルロースアセテート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ル、フッ素樹脂などのフイルム状物またはシート状物が
適宜用いられる。特にプラスチックフイルムとしては前
記樹脂のフイルム状物で厚さが3〜100μm程度のもの
用いるのが、しわや亀裂などのない透明ハイバリヤープ
ラスチックフイルムの製造が連続的に大量生産できる点
から好ましい。 またプラスチックフイルムは、一軸延伸や二軸延伸さ
れたものであってもよく、光沢、強度などの面からは二
軸延伸されたものが好ましく用いられる。 またプラスチックフイルムは、その表面がコロナ放電
処理、低温プラズマ処理などの表面処理がされたもので
あってもよく、一般にフイルムと蒸着した珪素酸化物と
の密着性を良くすることができて好ましい。 さらにまたプラスチックフイルムは、その表面に下塗
層を設けたものであってもよく、下塗層を形成するため
の樹脂としては、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
電子線硬化性樹脂、紫外線高架性樹脂のいずれもが用い
られ、例えばアクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、
ニトロセルロース、セルロースアセテート、ウレタン系
樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、尿素−メラミン系
樹脂、エポキシ系樹脂、アルキッド系樹脂、アミノアル
キッド系樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂などの単独ま
たは混合物や、シランカップリング剤が好ましく用いら
れる。 下塗層の形成には、前記下塗層を形成するための樹脂
の有機溶剤溶液、水溶液などやカップリング剤をロール
コーティング法、グラビアコーティング法、リバースコ
ーティング法、スプレイコーティング法などの通常のコ
ーティング法により塗布し、乾燥(熱硬化性樹脂、電子
線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などの場合は硬化)す
ることによって行なわれる。 下塗層は汎用の染料または顔料などの着色材で着色し
てもよい。 染料または顔料などの着色材は前記下塗層を形成する
ための樹脂に対し3〜30%程度の範囲から適宜選ばれ
る。 本発明の透明ハイバリヤープラスチックフイルムにお
ける蒸発原料としては、一酸化珪素単独、ほぼ等モル%
の珪素および二酸化珪素とからなる混合物、ほぼ等モル
%の珪素および二酸化珪素と1モル%以上〜30モル%未
満の一酸化珪素とからなる混合物が用いられて、公知の
真空蒸着法により蒸着形成される。 従来の珪素および二酸化珪素の等モルの蒸発材料に一
酸化珪素を1〜30モル%添加した場合、 Si+SiO2→2SiOx ……(1) の反応系において、一酸化珪素は反応促進の起爆材的役
割りを果たし、上記(1)の反応をスムーズに行なわせ
る役割りを果たす。 それが故に経済性および得られる製品品質からみて好
ましい蒸発原料である。 本発明において、珪素酸化物蒸着膜の厚さとしては特
に制限はないが、その製品の用途と所望される性能等に
よって適宜選択決定されるが、ガスバリヤー性と耐屈曲
性などを考慮して通常は10〜1000nm程度の範囲から、好
ましくは50〜200nm程度の範囲から選ばれる。 本発明の透明ハイバリヤープラスチックフイルムにお
ける接着剤および接着方法に特に制限はなく、通常のラ
ミネート法および接着剤が使用される。接着方法として
は、例えば押出しラミネート法、乾式ラミネート法や無
溶剤型ラミネート法などが適宜使用される。また接着剤
としては、例えばアクリル−塩化ビニル−酢酸ビニル
系、アクリル系、エチレン−酢酸ビニル系、エポキシ
系、スチレン−ブタジエン系、ポリエステル−イソシア
ネート系、ポリエチレン系、塩化ビニル−酢酸ビニル
系、塩化ビニル系、酢酸ビニル系、塩素化ポリプロピレ
ン系、ウレタン系などの接着剤が単独または適宜ブレン
ドして用いられる。 接着剤層の厚さは通常2〜100μmの範囲より好まし
くは3〜10μmの範囲から選ばれる。接着剤層の厚さが
2μm未満では充分な接着強度が得られず好ましくな
い。一方100μmを越えても接着強度に寄与する程度に
変化が認められない。 なお、プラスチックフイルム面には常法により保護塗
膜、保護フイルム、ヒートシール層などのほか文字図柄
などの印刷層を設けるようにしてもよく、その用途を拡
大することができる。 つぎに実施例をあげて本発明を説明する。
According to the present invention, two silicon oxide-deposited plastic films provided with a silicon oxide-deposited film are bonded to one side of the plastic film directly or via an undercoat layer such that the silicon oxide-deposited film side is on the inside. It is a transparent high barrier plastic film characterized by the above. That is, according to the present invention, two silicon oxide-deposited plastic films provided with a silicon oxide-deposited film are bonded to one side of the plastic film directly or via an undercoat layer such that the silicon oxide-deposited film side is on the inside. As a result, a transparent high-barrier plastic film having excellent transparency, gas barrier properties, and retort sterilization resistance, and capable of stably obtaining a film useful as a packaging material or a gas barrier material in the fields of foods and beverages, pharmaceuticals, electronic materials, and the like. Is made possible. As the plastic film in the method for producing a transparent high-barrier plastic film of the present invention, any plastic film having sufficient self-holding properties can be used.For example, polyethylene terephthalate, polyamide,
Film-like or sheet-like materials such as polyamideimide, polyethylene, polypropylene, cellulose acetate, polycarbonate, polyvinyl chloride, and fluororesin are used as appropriate. In particular, it is preferable to use a plastic film having a thickness of about 3 to 100 μm as the plastic film, since a transparent high barrier plastic film free of wrinkles and cracks can be continuously mass-produced. The plastic film may be uniaxially stretched or biaxially stretched, and biaxially stretched one is preferably used from the viewpoint of gloss and strength. Further, the plastic film may be one whose surface has been subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment or a low-temperature plasma treatment, and is generally preferable because the adhesion between the film and the deposited silicon oxide can be improved. Furthermore, the plastic film may have an undercoat layer provided on its surface, and as a resin for forming the undercoat layer, for example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin,
Both electron beam curable resin and ultraviolet elevated resin are used, for example, acrylic resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, polycarbonate,
Nitrocellulose, cellulose acetate, urethane-based resin, urea-based resin, melamine-based resin, urea-melamine-based resin, epoxy-based resin, alkyd-based resin, aminoalkyd-based resin, rosin-modified maleic resin, or a mixture thereof, or silane Coupling agents are preferably used. For the formation of the undercoat layer, an ordinary organic coating such as a roll coating method, a gravure coating method, a reverse coating method, a spray coating method, and the like, an organic solvent solution of the resin for forming the undercoat layer, an aqueous solution or a coupling agent. It is performed by applying by a method and drying (curing in the case of a thermosetting resin, an electron beam curable resin, an ultraviolet curable resin, or the like). The undercoat layer may be colored with a coloring material such as a general-purpose dye or pigment. A coloring material such as a dye or a pigment is appropriately selected from a range of about 3 to 30% with respect to a resin for forming the undercoat layer. In the transparent high barrier plastic film of the present invention, silicon monoxide alone, approximately equimolar%
Of silicon and silicon dioxide, and a mixture of substantially equimolar silicon and silicon dioxide and 1 mol% or more and less than 30 mol% of silicon monoxide, and formed by a known vacuum evaporation method. Is done. When silicon monoxide is added in an amount of 1 to 30 mol% to the conventional evaporation material of silicon and silicon dioxide in an equimolar amount, in a reaction system of Si + SiO 2 → 2SiO x (1), silicon monoxide is an initiator for accelerating the reaction. And plays the role of smoothly performing the reaction of the above (1). It is therefore a preferred evaporative raw material in view of economy and product quality obtained. In the present invention, the thickness of the silicon oxide vapor deposition film is not particularly limited, but is appropriately selected and determined depending on the use of the product and the desired performance, etc., in consideration of gas barrier properties and bending resistance. Usually, it is selected from the range of about 10 to 1000 nm, preferably about 50 to 200 nm. The adhesive and the bonding method in the transparent high barrier plastic film of the present invention are not particularly limited, and ordinary laminating methods and adhesives are used. As an adhesion method, for example, an extrusion lamination method, a dry lamination method, a solventless lamination method, or the like is appropriately used. Examples of the adhesive include acryl-vinyl chloride-vinyl acetate, acrylic, ethylene-vinyl acetate, epoxy, styrene-butadiene, polyester-isocyanate, polyethylene, vinyl chloride-vinyl acetate, and vinyl chloride. , Vinyl acetate, chlorinated polypropylene, and urethane adhesives are used alone or in appropriate blends. The thickness of the adhesive layer is usually selected from the range of 2 to 100 μm, preferably 3 to 10 μm. If the thickness of the adhesive layer is less than 2 μm, sufficient adhesive strength cannot be obtained, which is not preferable. On the other hand, even if it exceeds 100 μm, no change is recognized to the extent that it contributes to the adhesive strength. The plastic film surface may be provided with a protective layer, a protective film, a heat-sealing layer, and a printing layer such as a character pattern by a conventional method, so that the use thereof can be expanded. Next, the present invention will be described with reference to examples.

【実施例および比較例】[Examples and Comparative Examples]

比較例1 厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフイルム面
上に5×10-5Torrの真空下で一酸化珪素を、100nmの厚
さに真空蒸着して珪素酸化物蒸着プラスチックフイルム
を得た。 実施例1 比較例1で得た珪素酸化物蒸着プラスチックフイルム
2枚をポリウレタン樹脂−ポリイソシアネート樹脂系ド
ライラミネート用接着剤を用いて珪素酸化物蒸着膜側が
内側になるように貼り合せて本発明の透明ハイバリヤー
プラスチックフイルムを得た。 実施例2 実施例1で得た本発明の透明ハイバリヤープラスチッ
クフイルムの片面にリニアーローデンシティポリエチレ
ンをポリウレタン樹脂−ポリイソシアネート樹脂系ドラ
イラミネート用接着剤を用いて貼り合せて本発明の透明
ハイバリヤープラスチックフイルムの応用フイルムを得
た。 このフイルムで電子部品の包装にはヒートシールが使
用でき包装作業が簡単で開封せずに内容物が確認でき、
しかも充分に品質を保持できる性能を有していた。
Comparative Example 1 Silicon monoxide was vacuum-deposited on a 12 μm-thick polyethylene terephthalate film surface under a vacuum of 5 × 10 −5 Torr to a thickness of 100 nm to obtain a silicon oxide-deposited plastic film. Example 1 Two pieces of silicon oxide vapor-deposited plastic films obtained in Comparative Example 1 were bonded together using a polyurethane resin-polyisocyanate resin-based dry laminating adhesive so that the silicon oxide vapor-deposited film side was on the inside, and A transparent high barrier plastic film was obtained. Example 2 Linear high-density polyethylene was adhered to one surface of the transparent high-barrier plastic film of the present invention obtained in Example 1 using a polyurethane resin-polyisocyanate resin-based dry laminating adhesive. An application film of the film was obtained. With this film, heat sealing can be used for packaging electronic parts, the packaging work is easy and the contents can be checked without opening,
Moreover, it had a performance capable of maintaining sufficient quality.

【発明の効果】【The invention's effect】

比較例1で得られた珪素酸化物蒸着プラスチックフイ
ルムおよび実施例1および2で得られた透明ハイバリヤ
ープラスチックフイルムを用いて各5サンプルのそれぞ
れの透湿度および酸素透過率を測定した。 実施例1および2の透明ハイバリヤープラスチックフ
イルムの透湿度および酸素透過率は極めて安定しいて、
従来の珪素酸化物蒸着プラスチックフイルム(比較例
1)に見られない高性能を示した(表1参照)。
Using the silicon oxide vapor-deposited plastic film obtained in Comparative Example 1 and the transparent high barrier plastic films obtained in Examples 1 and 2, the moisture permeability and oxygen permeability of each of the five samples were measured. The moisture permeability and oxygen permeability of the transparent high barrier plastic films of Examples 1 and 2 were extremely stable.
It exhibited high performance not seen in the conventional silicon oxide-deposited plastic film (Comparative Example 1) (see Table 1).

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】プラスチックフイルムの片面に直接または
下塗り層を介して、一酸化珪素単独、ほぼ等モル%
の珪素および二酸化珪素とからなる混合物、ほぼ等モ
ル%の珪素および二酸化珪素と1モル%以上〜30モル%
未満の一酸化珪素とからなる混合物の一種である蒸発材
料から形成された珪素酸化物蒸着膜を設けた珪素酸化物
蒸着プラスチックフイルム2枚を珪素酸化物蒸着膜の側
が内側になるように、厚さ2〜10μmの接着剤層を介し
て貼り合わせた、透湿度:1g/m2・24Hrs.以下、酸素透過
率:0.5cc/m2・24Hrs.以下であることを特徴とする透明
ハイバリヤーフイルム。
1. Silicon monoxide alone, approximately equimolar% on one side of a plastic film directly or via an undercoat layer
A mixture of silicon and silicon dioxide, approximately equimolar to 1 mol% or more and 30 mol% of silicon and silicon dioxide
Two silicon oxide-deposited plastic films provided with a silicon oxide-deposited film formed of an evaporation material that is a kind of a mixture of are adhered together via an adhesive layer of 2 to 10 [mu] m, moisture permeability:. 1g / m 2 · 24Hrs less, oxygen permeability:. 0.5cc / m 2 · 24Hrs transparent high barrier, characterized in that less is Film.
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