JPS6151335A - Transparent synthetic resin body having permeability resistance - Google Patents

Transparent synthetic resin body having permeability resistance

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JPS6151335A
JPS6151335A JP17294484A JP17294484A JPS6151335A JP S6151335 A JPS6151335 A JP S6151335A JP 17294484 A JP17294484 A JP 17294484A JP 17294484 A JP17294484 A JP 17294484A JP S6151335 A JPS6151335 A JP S6151335A
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JP
Japan
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synthetic resin
resin body
thin film
film layer
transparent
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JP17294484A
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山中 計
福本 義行
河合 重征
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 末完F!J4は耐透湿性を有する合成樹脂体に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) Final F! J4 relates to a synthetic resin body having moisture permeability resistance.

(従来技術) 従来より、食品や薬品、化学製品の包装において内容物
の変質を避けるために、また、エレクトロニクス分野で
はKL素子の保護などのために耐    ゛透湿性を有
する透明台tj、S脂体が使用されている。
(Prior art) Moisture-resistant transparent TJ and S resins have been used to prevent the contents from deteriorating in the packaging of foods, medicines, and chemical products, and to protect KL elements in the electronics field. body is used.

たとえば、特1lII唱5l−1144831)公報で
けポリエステルフィルムに金属アルミニタムを蒸着した
ものが提案されているが、アルミニタムを蒸着すれと当
然透明性が損なわれてしまい、密着強度も比較的小さい
ので、限られた用途にしか使用できない。また、特公昭
53−12953号公報ではグラスチックフィルム1c
sixoyの薄膜層を設けて透明性を保持したものが提
案されているが、耐透湿性社不十分なものであった。
For example, a polyester film in which metal aluminum is vapor-deposited is proposed in Japanese Patent Application No. 11-1144831). Can only be used for limited purposes. In addition, in Japanese Patent Publication No. 53-12953, the glass film 1c
Although it has been proposed to maintain transparency by providing a sixoy thin film layer, the moisture permeability resistance was insufficient.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、上記従来の欠点を解消し、透明性を損なわず
、しかも耐透湿性が極めて良好な透明合成樹脂体を提供
することを目的としてなされたものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention has been made for the purpose of eliminating the above-mentioned conventional drawbacks, and providing a transparent synthetic resin body that does not impair transparency and has extremely good moisture permeability resistance. It is.

(発明の要旨) 本発明において、基材の透明合成樹脂体としては、ポリ
塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリビニル
ブチラール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミ
ド、七ロノ・ン等の透明な合成樹脂体が使用される。
(Summary of the Invention) In the present invention, transparent synthetic resin bodies such as polyvinyl chloride, polystyrene, polyester, polyvinyl butyral, polyethylene, polypropylene, polyamide, hexaronone, etc. are used as the transparent synthetic resin body of the base material. Ru.

また、透明合成樹脂体は柔軟性のあるフィルム蟲 状体であるが、包装あるいは積層し゛て使用するために
都合が良い。しかしながら、本発明は基材がフィルム状
体であるものに限られるのではなく、7t、!:、tば
、板状体、レンズ体のような合成樹脂成型品に適用され
、水分の吸収による合成樹脂体の変質、劣化変形を防止
することができる。
Furthermore, the transparent synthetic resin body is a flexible film-shaped body, which is convenient for use in packaging or lamination. However, the present invention is not limited to those in which the base material is a film-like body; : It is applied to synthetic resin molded products such as mirrors, plates, and lens bodies, and can prevent deterioration, deterioration, and deformation of the synthetic resin body due to moisture absorption.

フィルム状の透明合成樹脂体は、5〜300μmの柔軟
性を有するフィルム状体であることが好ましく、さらに
好ましい厚みは5〜100μmである。
The film-like transparent synthetic resin body preferably has a flexibility of 5 to 300 μm, and more preferably has a thickness of 5 to 100 μm.

フィルム状の透明合成樹脂体に、酸化物損、成物を蒸着
するKTfi、通常冷却ロールを介した巻き取ガニ程が
必要であるが、フィルム状の透明合成樹脂体の厚みが5
μm未満であると、しわや亀裂の発生が生じやすくなり
、厚みが300μmを越えると柔軟性に乏しくなって連
続巻き取りが困llKなってしまう。
KTfi, which deposits oxides and compounds on a film-like transparent synthetic resin body, usually requires a winding crab through a cooling roll, but the thickness of the film-like transparent synthetic resin body is 5.
When the thickness is less than μm, wrinkles and cracks are likely to occur, and when the thickness exceeds 300 μm, the flexibility becomes poor and continuous winding becomes difficult.

透明合成樹脂体の少なくとも片面にけ透明薄膜層が形成
される。該透明薄膜層はP2Os、 A I20m 。
A transparent thin film layer is formed on at least one side of the transparent synthetic resin body. The transparent thin film layer is P2Os, A I20m.

Mρ(MはNa、K、Rbなどの周期律表第Ia族元素
を示す)がモル比で、(P、0.) : (A It’
s) :(Mto)=2〜8:2〜5:1〜3となされ
た組成物からなる。
Mρ (M represents Group Ia elements of the periodic table such as Na, K, and Rb) is the molar ratio, (P, 0.) : (A It'
s): (Mto)=2-8:2-5:1-3.

透明薄膜層のモル比が、上記の範囲を外れると相分離を
起こしやすくなり、耐湿性が低下する。上記組成物の中
に不純物としてPbO、S ion、 Boo。
When the molar ratio of the transparent thin film layer is out of the above range, phase separation tends to occur and moisture resistance decreases. The above composition contains impurities such as PbO, Sion, and Boo.

などの酸化物Fis重量%以下であれば、耐透湿性に極
端な悪化はみられず、本発明耐透湿性を有する透明合成
樹脂体を製造する場合にけ不純物を上記の範囲にするこ
とが望ましい。
If the oxide Fis weight% or less, no extreme deterioration in moisture permeability is observed, and when producing the transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance of the present invention, it is possible to keep impurities within the above range. desirable.

上記組成の酸化物からなる透明薄膜を形成する方法は既
知の真空蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリ
ング法などの方法でおこなえばよい。以下、その形成方
法について詳しく説明する。
A method for forming a transparent thin film made of an oxide having the above composition may be a known method such as a vacuum evaporation method, an ion blasting method, or a sputtering method. The formation method will be explained in detail below.

上記の酸化駒組allをプラスチック基板に形成する方
法として最も好ましいのはスパッタリングで6す、スパ
ッタリングのターゲットを上記の組成とすることてほぼ
同じ組成のアモルファス状透明薄膜層を形成することが
できる。
The most preferable method for forming the above oxidized frame assembly all on a plastic substrate is sputtering6. By using the sputtering target with the above composition, an amorphous transparent thin film layer having almost the same composition can be formed.

また、真空蒸着法、イオンブレーティング法によっても
、上記の組成の透明薄膜層を形成することができる。真
空蒸着法の場合は、蒸気圧の異なる混合物質をそのまま
の組成で薄膜層を形成するのけ困難であるとされている
。しかし、本発明者らは上記組成物を予め電気炉で熔融
し固化したものを蒸発材として使用し、電子銃加熱方式
で蒸発させれば、略同じ組成の蒸着膜が得られることを
確認した。
Further, a transparent thin film layer having the above composition can also be formed by a vacuum evaporation method or an ion blating method. In the case of vacuum evaporation, it is said that it is difficult to form a thin film layer using mixed substances having different vapor pressures with the same composition. However, the present inventors have confirmed that a deposited film having approximately the same composition can be obtained by melting and solidifying the above composition in advance in an electric furnace and using it as an evaporator and evaporating it using an electron gun heating method. .

また、一般に混合物を真空蒸着する時に用いられるフラ
ッシェ蒸着法によっても、上記の組成の蒸着膜を形成す
ることができる。
Further, a vapor deposited film having the above composition can also be formed by a flash vapor deposition method which is generally used when vacuum vapor depositing a mixture.

本発明においては、真空蒸着法、イオン、ブレーティン
グ法、スパッタリング法のいずれによっても、透明薄膜
層の基材の透明合成樹脂体に対する密着性は良好であり
、透明性も良い。また、透明薄膜層を真空蒸着法等で形
成したフィルム状の透明合成樹脂体でカール性が大きな
問題とならないのも本発明の特徴である。これは、従来
のS i xoyに比較して本発明(P、 O,、A、
1*0. 、 M2O)の系では透明薄膜層の残留応力
が少ないためであろうと考えられる。
In the present invention, the adhesiveness of the transparent thin film layer to the transparent synthetic resin body of the base material is good, and the transparency is also good, regardless of whether the vacuum evaporation method, ion, blating method, or sputtering method is used. Another feature of the present invention is that curling does not pose a major problem in a film-like transparent synthetic resin body in which a transparent thin film layer is formed by a vacuum evaporation method or the like. Compared to the conventional Si xoy, this invention (P, O,, A,
1*0. , M2O), this is probably because the residual stress in the transparent thin film layer is small.

真空蒸着法、イオンブレーティング法により透明薄膜層
を形成するには、通常2 X 10−” torr以下
の真空雰囲気下で行なわれるが、不純物の混入による性
能の低下をさけるためKはI X 10 ’torr以
下の真空雰囲気下て行なうのが好ましい。
Forming a transparent thin film layer by vacuum evaporation method or ion blating method is usually carried out in a vacuum atmosphere of 2 X 10-'' torr or less, but in order to avoid deterioration of performance due to contamination of impurities, K is set to I X 10. It is preferable to carry out the process under a vacuum atmosphere of less than 'torr.

透明薄膜層は、柔軟性、密着性を良好なものにするため
にその膜厚をQ01μm = a 5μmの範囲にする
のが良く、j!に好菫しく#1aos〜a3μmの範囲
にするのがよい。透明薄膜層の厚みは、a01μm以上
なければ一様な連続膜に成らないため、a01μm以上
は必要である。また、膜厚がへ5μmを越えると透明性
を損なうことはないが、フィルム状の透明合成樹脂体の
カールが問題となったり、透明膜の亀裂や剥離が生じや
すくなることがある。
In order to have good flexibility and adhesion, the transparent thin film layer preferably has a thickness in the range of Q01μm = a 5μm, and j! It is preferable that the violet is in the range of #1 aos to a3 μm. The thickness of the transparent thin film layer must be at least a01 μm, since a uniform continuous film cannot be formed unless the thickness is at least a01 μm. Furthermore, if the film thickness exceeds 5 μm, the transparency will not be impaired, but curling of the film-like transparent synthetic resin body may become a problem, and the transparent film may be prone to cracking or peeling.

(作 用) 本発明耐透耐性合成樹脂体を包装体として使用する場合
、ヒートシール性を付与することが望ましくなる。その
場合、(PgOs 、 A It’s 、 M!0−)
の系からなる透明薄膜層の上にヒートシール性を有する
合成樹脂フィルムを積層することにより、本発明耐透湿
性を有する透明合成樹脂体にヒートシール性を付与でき
る。
(Function) When the permeation-resistant and durable synthetic resin body of the present invention is used as a packaging body, it is desirable to impart heat sealability to the body. In that case, (PgOs, A It's, M!0-)
By laminating a synthetic resin film having heat sealability on a transparent thin film layer made of the system, heat sealability can be imparted to the transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance of the present invention.

ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムとしては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重
合体、エチレン系アイオノマー等が挙げられ、透明性を
うしなわないものとされる。
Examples of the synthetic resin film having heat-sealing properties include polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-based ionomer, etc., which do not compromise transparency.

ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムを積層するに
は、接着剤を用いる決(ドライラミネート法)、合成樹
脂をフィルム状に溶融押出して基材に圧着する法(エク
ストルージョンラミネート法)がある。
To laminate synthetic resin films having heat-sealing properties, there are two methods: using an adhesive (dry lamination method), and melt-extruding a synthetic resin into a film and pressing it onto a base material (extrusion lamination method).

ドライラミネート法においては、合成樹脂フィルムによ
って使用する接着剤が変わってくるが、一般にインシア
ネート系の接着剤が使用される。
In the dry lamination method, the adhesive used varies depending on the synthetic resin film, but incyanate-based adhesives are generally used.

エクストルージョンラミネート法においては、(P雪O
s 、 A 1m’s 、 M2O)の系からなる透明
薄膜層にアンカー効果が発現される光め、通常行なわれ
る有機チタネート系、イノシアネート系、ポリエチレン
イミン系のアンカー剤によるアンカー処理が不要になる
。従って、従来の有機溶剤を使用する必要がなくなり、
製造作業環境を悪化することも、製品中に有機溶剤が残
存することもなくなる。
In the extrusion lamination method, (P snow O
s, A1m's, M2O) system, the anchoring effect is expressed in the transparent thin film layer, which eliminates the need for the usual anchoring treatment with organic titanate-based, inocyanate-based, or polyethyleneimine-based anchoring agents. . Therefore, there is no need to use conventional organic solvents,
There will be no deterioration of the manufacturing work environment, and no organic solvents will remain in the product.

(実施例) 以下に本発明の実施例を示す。(Example) Examples of the present invention are shown below.

〈実施例1〉 PgOs 、 A l tri 、 N agoのモル
比を5:3:2とした酸化物の混合物を電気炉で溶解し
固化したものを5X10torrの真空下で電子銃加熱
方式で加熱蒸発させ、ポリエチレンテレフタレート(P
ET)フィルム(15μm厚)上にα1μmの透明薄膜
層を形成した。透明薄膜層の厚みは水晶発振式のモニタ
ーにより計測した。透明薄膜層の組成は、X線マイク田
アナライザーで分析したところ、当初の混合物の組成と
略同等てらった。
<Example 1> A mixture of oxides with a molar ratio of PgOs, Altri, and Nago of 5:3:2 was melted and solidified in an electric furnace, and then heated and evaporated using an electron gun heating method under a vacuum of 5 x 10 torr. and polyethylene terephthalate (P
A transparent thin film layer with a thickness of α1 μm was formed on a film (15 μm thick). The thickness of the transparent thin film layer was measured using a crystal oscillation type monitor. The composition of the transparent thin film layer was analyzed using an X-ray microphone analyzer and was found to be approximately the same as the composition of the initial mixture.

形成された透明薄膜層の密着性けJ I S D 02
02で確認したが非常に良好てらった。
Adhesion of the formed transparent thin film layer JIS D 02
I checked it on 02 and found it to be very good.

また、透明薄膜層を形成したフィルムの光線透過率は未
蒸着フィルムと略同等であり、透明性は良好てらった。
Furthermore, the light transmittance of the film on which the transparent thin film layer was formed was approximately the same as that of the undeposited film, and the transparency was good.

透湿度は40℃、相対湿度9096RHにおいて。Moisture permeability is at 40°C and relative humidity 9096RH.

J I S Z 0208(カップによる重量法)およ
び湿度計法で測定したが、両者の値は略同等であった。
It was measured using JIS Z 0208 (gravimetric method using a cup) and a hygrometer method, and both values were approximately the same.

〈実施例2〉 実施例1において、透明薄膜層の厚みをα2μmとした
<Example 2> In Example 1, the thickness of the transparent thin film layer was set to α2 μm.

〈実施例3.4〉 実施例1.20PETフイルムに代えて、二軸延伸ポリ
プロピレン(OFF)フィルム(25μm厚)を使用し
た。
<Example 3.4> Example 1.20 A biaxially oriented polypropylene (OFF) film (25 μm thick) was used in place of the PET film.

〈実施例5〜10〉 実施例1の混合物組成に代えて、表に示・した組成のも
のを使用して、透明薄膜層を形成した◇く比較例1〜4
〉 実施例1の混合物組成に代えて、本発明のモル比の範囲
からはずれるものを使用して、透明薄膜層を形成し光。
<Examples 5 to 10> In place of the mixture composition of Example 1, the composition shown in the table was used to form a transparent thin film layer.◇ Comparative Examples 1 to 4
> Instead of the mixture composition of Example 1, a mixture having a molar ratio outside the range of the present invention was used to form a transparent thin film layer.

く比較例5.6〉 従来公知の耐透湿性透明薄膜層を形成するS2Oおよび
s i o、を使用して、透明薄膜層を形成した。
Comparative Example 5.6> A transparent thin film layer was formed using S2O and sio, which are conventionally known to form a moisture permeable transparent thin film layer.

く比較例7〉 不透明であるが、耐透湿性が良好であると言われていゑ
A1薄膜層を、PETフィルム上に形成させた。
Comparative Example 7 A thin A1 layer, which is opaque but is said to have good moisture permeability, was formed on a PET film.

(以下余白) (発明の効果) 以上詳述した通り、本発明耐透混性を有する透明合成樹
脂体は透明性を損なうことなく、従来得られなかった極
めて良好な耐透湿性を得ることができ、食品や薬品の包
装体として、EL素子の保護体として使用することがで
きる。
(The following is a blank space) (Effects of the invention) As detailed above, the transparent synthetic resin body having permeation and mixing resistance of the present invention can obtain extremely good moisture permeation resistance that has not been obtained conventionally, without impairing transparency. It can be used as a package for food or medicine, or as a protector for EL elements.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 透明合成樹脂体の少なくとも片面に、P_2O_5
、Al_2O_3、M_2O(MはNa、K、Rbなど
の周期律表第 I a族元素を示す)がモル比で、(P_
2O_5):(Al_2O_3):(M_2O)=2〜
8:2〜5:1〜3となされた組成物の透明薄膜層が形
成されてなることを特徴とする耐透湿性を有する透明合
成樹脂体。 2 透明合成樹脂体が厚み5〜300μmの柔軟性を有
するフィルム状体であり、透明薄膜層が厚み0.01〜
0.5μmである特許請求の範囲第1項記載の耐透湿性
を有する透明合成樹脂体。 3、透明薄膜層が真空蒸着法またはイオンプレーティン
グ法またはスパッタリング法によって形成されている特
許請求の範囲第1項または第2項記載の耐透湿性を有す
る透明合成樹脂体。
[Claims] 1. P_2O_5 on at least one side of the transparent synthetic resin body.
, Al_2O_3, M_2O (M represents an element of group Ia of the periodic table such as Na, K, Rb, etc.) in molar ratio, (P_
2O_5):(Al_2O_3):(M_2O)=2~
A transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance, characterized in that a transparent thin film layer of a composition having a ratio of 8:2 to 5:1 to 3 is formed. 2. The transparent synthetic resin body is a flexible film-like body with a thickness of 5 to 300 μm, and the transparent thin film layer has a thickness of 0.01 to 300 μm.
A transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance according to claim 1, which has a moisture permeability of 0.5 μm. 3. A transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance according to claim 1 or 2, wherein the transparent thin film layer is formed by a vacuum deposition method, an ion plating method, or a sputtering method.
JP17294484A 1984-08-20 1984-08-20 Transparent synthetic resin body having permeability resistance Granted JPS6151335A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5442424A (en) * 1993-04-06 1995-08-15 Fuji Xerox Co., Ltd. Image recording device for forming an electrostatic latent image on an image holding member

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5442424A (en) * 1993-04-06 1995-08-15 Fuji Xerox Co., Ltd. Image recording device for forming an electrostatic latent image on an image holding member

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