JP2885314B2 - 原子力蒸気供給系の温度測定システム及び温度測定方法 - Google Patents
原子力蒸気供給系の温度測定システム及び温度測定方法Info
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- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
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- G21C17/022—Devices or arrangements for monitoring coolant or moderator for monitoring liquid coolants or moderators
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
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- G21D3/08—Regulation of any parameters in the plant
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、温度測定システム
に関し、特に、２つのループを有する原子力蒸気供給系
（ＮＳＳＳとも略称する）のための温度測定システムに
関するものである。また、本発明は、２つのループを有
する原子力蒸気供給系のループの温度測定システム及び
温度測定方法に関するものである。
に関し、特に、２つのループを有する原子力蒸気供給系
（ＮＳＳＳとも略称する）のための温度測定システムに
関するものである。また、本発明は、２つのループを有
する原子力蒸気供給系のループの温度測定システム及び
温度測定方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】加圧水形原子炉（ＰＷＲ）のための慣用
の温度測定システムにおいては、原子力蒸気供給系（Ｎ
ＳＳＳ）のホットレッグ及びコールドレッグを構成する
配管にサーモウエル取付け温度依存抵抗器（ＲＴＤ）が
直接設置されている。即ち、ホットレッグ配管の円周面
に沿い３個の温度依存抵抗器（ＲＴＤ）が、互いに１２
０°離間して取り付けられている。これら３個の温度依
存抵抗器（ＲＴＤ）の読み量もしくは出力信号を用い
て、ホットレッグの温度の平均温度測定が行われてい
る。また、別の１つの温度依存抵抗器（ＲＴＤ）を用い
て、コールドレッグの温度の単一箇所での測定が行われ
ている。
の温度測定システムにおいては、原子力蒸気供給系（Ｎ
ＳＳＳ）のホットレッグ及びコールドレッグを構成する
配管にサーモウエル取付け温度依存抵抗器（ＲＴＤ）が
直接設置されている。即ち、ホットレッグ配管の円周面
に沿い３個の温度依存抵抗器（ＲＴＤ）が、互いに１２
０°離間して取り付けられている。これら３個の温度依
存抵抗器（ＲＴＤ）の読み量もしくは出力信号を用い
て、ホットレッグの温度の平均温度測定が行われてい
る。また、別の１つの温度依存抵抗器（ＲＴＤ）を用い
て、コールドレッグの温度の単一箇所での測定が行われ
ている。
【０００３】この構造では、原子力蒸気供給系（ＮＳＳ
Ｓ）の１つのループのための保護装置に、１つの平均ホ
ットレッグ温度を得るのに用いられる３個のホットレッ
グ用の温度依存抵抗器（ＲＴＤ）と１つのコールドレッ
グ用の温度依存抵抗デバイス（ＲＴＤ）が用いられる。
因に４つのループを有するプラントにおいては、例え
ば、４つの保護装置が設けられ、同様に、３つのループ
からなるプラントにおいては３つの保護装置が設けられ
ている。しかし、現在の保護装置の設計上課せられる要
件の下では、２つのループを有するプラントにおいて２
つの保護装置では、十分な保護論理は実現されない。従
って、４つの保護装置、即ち、各ループ毎に２つの保護
装置が望まれている。
Ｓ）の１つのループのための保護装置に、１つの平均ホ
ットレッグ温度を得るのに用いられる３個のホットレッ
グ用の温度依存抵抗器（ＲＴＤ）と１つのコールドレッ
グ用の温度依存抵抗デバイス（ＲＴＤ）が用いられる。
因に４つのループを有するプラントにおいては、例え
ば、４つの保護装置が設けられ、同様に、３つのループ
からなるプラントにおいては３つの保護装置が設けられ
ている。しかし、現在の保護装置の設計上課せられる要
件の下では、２つのループを有するプラントにおいて２
つの保護装置では、十分な保護論理は実現されない。従
って、４つの保護装置、即ち、各ループ毎に２つの保護
装置が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】現存の保護装置の構造
で、２つのループを有するプラントに４つの個別の保護
装置を設けるためには、新たに３つの貫入部を各ホット
レッグに形成しなければならない。従って、現存の２つ
のループを有するプラントの保護装置においては、計装
の量及び相応の計器設置作業に要求されるコスト及び時
間の点で改良する余地がある。
で、２つのループを有するプラントに４つの個別の保護
装置を設けるためには、新たに３つの貫入部を各ホット
レッグに形成しなければならない。従って、現存の２つ
のループを有するプラントの保護装置においては、計装
の量及び相応の計器設置作業に要求されるコスト及び時
間の点で改良する余地がある。
【０００５】従って、測定系に対し所要の計装量を倍加
しないような原子力蒸気供給系のための改善された温度
測定システム及び方法に対する必要性が存在する。
しないような原子力蒸気供給系のための改善された温度
測定システム及び方法に対する必要性が存在する。
【０００６】また、原子力蒸気供給系において、計装及
び設置費用を軽減する改善された温度測定システム及び
方法に対する必要性が存在する。
び設置費用を軽減する改善された温度測定システム及び
方法に対する必要性が存在する。
【０００７】更に具体的には、原子力蒸気供給系にいて
レッグに設けられる貫入部の数を最小にする温度測定シ
ステム及び方法に対する必要性が存在する。
レッグに設けられる貫入部の数を最小にする温度測定シ
ステム及び方法に対する必要性が存在する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の必要性及び他の必
要性は、本発明によれば、２つの原子力蒸気供給系のル
ープのそれぞれに対し、ループのレッグを流れる原子炉
冷却材の温度値をそれぞれ検知する４個の温度センサ
と、レッグに対し、第１対の温度センサと関連する第１
のバイアス値及び第２対の温度センサと関連する第２の
バイアス値を、各温度センサから得られる原子炉冷却材
の温度値から求める手段と、第１のバイアス値及び第１
対の温度センサから得られる値を平均して第１の平均温
度を求める手段と、第２のバイアス値及び第２対の温度
センサから得られる値を平均し、第２の平均温度を求め
る手段とを含み、上記２つのループの各々について、原
子炉冷却材の温度の２つの別個の平均温度を求める原子
力蒸気供給系の温度測定システムを提供することにより
満たされる。
要性は、本発明によれば、２つの原子力蒸気供給系のル
ープのそれぞれに対し、ループのレッグを流れる原子炉
冷却材の温度値をそれぞれ検知する４個の温度センサ
と、レッグに対し、第１対の温度センサと関連する第１
のバイアス値及び第２対の温度センサと関連する第２の
バイアス値を、各温度センサから得られる原子炉冷却材
の温度値から求める手段と、第１のバイアス値及び第１
対の温度センサから得られる値を平均して第１の平均温
度を求める手段と、第２のバイアス値及び第２対の温度
センサから得られる値を平均し、第２の平均温度を求め
る手段とを含み、上記２つのループの各々について、原
子炉冷却材の温度の２つの別個の平均温度を求める原子
力蒸気供給系の温度測定システムを提供することにより
満たされる。
【０００９】本発明の他の側面によれば、原子力蒸気供
給系の温度測定システムにおいて、２つの蒸気供給ルー
プの各々について、ループの対応するレッグ内を流れる
原子炉冷却材の温度値をそれぞれ発生するための４個の
温度検知手段と、レッグに対して上記温度検知手段の各
々の温度の値の平均値を求める手段と、（ａ）上記温度
検知手段の各々の温度の値の平均値の第１の関数及び
（ｂ）第１対の温度検知手段の値を平均し、第１の平均
温度を求める第１の手段と、（ｃ）上記温度検知手段の
各々の温度の値の平均値の第２の関数及び（ｄ）第２対
の上記温度検知手段の値を平均し、第２の平均温度を求
める第２の手段とを含み、上記原子炉冷却材の温度の２
つの個別の平均温度を上記２つのループの各々について
求める原子力蒸気供給系の温度測定システムが提案され
る。
給系の温度測定システムにおいて、２つの蒸気供給ルー
プの各々について、ループの対応するレッグ内を流れる
原子炉冷却材の温度値をそれぞれ発生するための４個の
温度検知手段と、レッグに対して上記温度検知手段の各
々の温度の値の平均値を求める手段と、（ａ）上記温度
検知手段の各々の温度の値の平均値の第１の関数及び
（ｂ）第１対の温度検知手段の値を平均し、第１の平均
温度を求める第１の手段と、（ｃ）上記温度検知手段の
各々の温度の値の平均値の第２の関数及び（ｄ）第２対
の上記温度検知手段の値を平均し、第２の平均温度を求
める第２の手段とを含み、上記原子炉冷却材の温度の２
つの個別の平均温度を上記２つのループの各々について
求める原子力蒸気供給系の温度測定システムが提案され
る。
【００１０】本発明の更に他の側面によれば、原子力蒸
気供給系の温度測定システムにおいて、それぞれが、原
子力蒸気供給系の原子炉冷却材の温度の値を出力する複
数の温度検知手段と、第１の複数の温度検知手段と関連
する第１のバイアス値及び第２の複数の温度検知手段と
関連する第２のバイアス値を発生する手段と、上記第１
のバイアス値及び上記第１の複数の温度検知手段の値を
平均し第１の平均温度を求める手段と、上記第２のバイ
アス値及び上記第２の複数の温度検知手段の値を平均し
第２の平均温度を求める手段とを含み、ループに対し、
原子炉冷却材の温度の２つの別個の平均温度を求める温
度測定システムが提案される。
気供給系の温度測定システムにおいて、それぞれが、原
子力蒸気供給系の原子炉冷却材の温度の値を出力する複
数の温度検知手段と、第１の複数の温度検知手段と関連
する第１のバイアス値及び第２の複数の温度検知手段と
関連する第２のバイアス値を発生する手段と、上記第１
のバイアス値及び上記第１の複数の温度検知手段の値を
平均し第１の平均温度を求める手段と、上記第２のバイ
アス値及び上記第２の複数の温度検知手段の値を平均し
第２の平均温度を求める手段とを含み、ループに対し、
原子炉冷却材の温度の２つの別個の平均温度を求める温
度測定システムが提案される。
【００１１】本発明の更に他の側面によれば、原子力蒸
気供給系の温度測定方法において、原子炉冷却材の温度
を検知するために複数のセンサを用い、上記個々のセン
サにより上記原子炉冷却材の温度の複数の値を検知し、
第１の複数のセンサと関連する第１のバイアス値及び第
２の複数のセンサと関連する第２のバイアス値を求め、
上記各センサにより原子炉冷却材の温度の値を検知し、
上記第１のバイアス値及び上記第１の複数のセンサから
得られる原子炉冷却材の温度の値を平均して第１の平均
温度を求め、上記第２のバイアス値及び上記第２の複数
のセンサから得られる原子炉冷却材の温度の値を平均し
て第２の平均温度を求めるステップを含み、上記ループ
に対し、上記原子炉冷却材の温度の２つの別個の平均温
度を求める原子力蒸気供給系のための温度測定方法が提
案される。
気供給系の温度測定方法において、原子炉冷却材の温度
を検知するために複数のセンサを用い、上記個々のセン
サにより上記原子炉冷却材の温度の複数の値を検知し、
第１の複数のセンサと関連する第１のバイアス値及び第
２の複数のセンサと関連する第２のバイアス値を求め、
上記各センサにより原子炉冷却材の温度の値を検知し、
上記第１のバイアス値及び上記第１の複数のセンサから
得られる原子炉冷却材の温度の値を平均して第１の平均
温度を求め、上記第２のバイアス値及び上記第２の複数
のセンサから得られる原子炉冷却材の温度の値を平均し
て第２の平均温度を求めるステップを含み、上記ループ
に対し、上記原子炉冷却材の温度の２つの別個の平均温
度を求める原子力蒸気供給系のための温度測定方法が提
案される。
【００１２】本発明の充分な理解は、添付図面を参照し
ての好適な実施形態に関する以下の説明から得られるで
あろう。
ての好適な実施形態に関する以下の説明から得られるで
あろう。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１を参照すると、２つのループ
を有する加圧水形原子炉（ＰＷＲ）を用いた原子力蒸気
供給系（ＮＳＳＳ）４のための温度測定システム２が示
してある。原子炉６は、“コールドレッグ（低温側）”
管（レッグ）８及び１０を介して冷却水のような原子炉
冷却材を受ける。該冷却材は、対応の“ホットレッグ
（高温側）”（レッグ）管１２及び１４を介して原子炉
６から流出する。尚、明瞭を期する意図から、図には、
各ホットレッグ１２，１４の一部分を展開して簡略に示
してある。図から明らかなように、原子炉冷却材１８の
流れに対して垂直な円形面もしくは円周面１６上に４個
の温度センサ（温度検知手段）Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが離間
して設けられている。この例示した実施形態において
は、各ホットレッグ１２，１４は、合計４個のサーモウ
エル取付けＲＴＤ、即ち、温度の関数として変化する抵
抗を有するデバイス（温度依存抵抗と称する）を収容す
るための４つのスクープ状貫入部を有している。尚、本
発明は、上記のような特定の型式の温度センサに限定さ
れるものではなく、任意の型式の温度センサを用いても
実施可能であることを述べておく。
を有する加圧水形原子炉（ＰＷＲ）を用いた原子力蒸気
供給系（ＮＳＳＳ）４のための温度測定システム２が示
してある。原子炉６は、“コールドレッグ（低温側）”
管（レッグ）８及び１０を介して冷却水のような原子炉
冷却材を受ける。該冷却材は、対応の“ホットレッグ
（高温側）”（レッグ）管１２及び１４を介して原子炉
６から流出する。尚、明瞭を期する意図から、図には、
各ホットレッグ１２，１４の一部分を展開して簡略に示
してある。図から明らかなように、原子炉冷却材１８の
流れに対して垂直な円形面もしくは円周面１６上に４個
の温度センサ（温度検知手段）Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤが離間
して設けられている。この例示した実施形態において
は、各ホットレッグ１２，１４は、合計４個のサーモウ
エル取付けＲＴＤ、即ち、温度の関数として変化する抵
抗を有するデバイス（温度依存抵抗と称する）を収容す
るための４つのスクープ状貫入部を有している。尚、本
発明は、上記のような特定の型式の温度センサに限定さ
れるものではなく、任意の型式の温度センサを用いても
実施可能であることを述べておく。
【００１４】温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，、Ｄは、各ホット
レッグ１２，１４の円形面１６の周囲に円周方向に離間
して配設される。センサＡ及びＣは約１２０°互いに離
間し、他方、センサＢ及びＤは約６０°互いに離間して
設けられる。また、センサＤは、センサＡ及びＣの各々
から約１２０°離間して位置する。別法として、図２に
示すように、ホットレッグ１２’のセンサＡ，Ｃ及びＤ
が互いに約１２０°離間し、センサＢ’及びＤは互いに
約１８０°離間するように設けても良い。その場合、セ
ンサＢ’はセンサＡ及びＣの各々から約６０°離れて位
置する。
レッグ１２，１４の円形面１６の周囲に円周方向に離間
して配設される。センサＡ及びＣは約１２０°互いに離
間し、他方、センサＢ及びＤは約６０°互いに離間して
設けられる。また、センサＤは、センサＡ及びＣの各々
から約１２０°離間して位置する。別法として、図２に
示すように、ホットレッグ１２’のセンサＡ，Ｃ及びＤ
が互いに約１２０°離間し、センサＢ’及びＤは互いに
約１８０°離間するように設けても良い。その場合、セ
ンサＢ’はセンサＡ及びＣの各々から約６０°離れて位
置する。
【００１５】更に続けて図１を参照するに、４つの温度
センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄは、ホットレッグ１２及び１４の
各々に対して２組の別個の保護装置２０及び２２をそれ
ぞれ形成する。具体的には、センサＡ及びＣが保護装置
２０を形成し、センサＢ及びＤが保護装置２２を形成す
る。温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ用のホットレッグ内収容
構造の一例が米国特許第５,２５３,１９０号明細書に開
示されている。尚、この米国特許明細書の内容は参考の
ために本明細書に援用する。ホットレッグ１２，１４を
流れる原子炉冷却材１８は、蒸気発生器２４，２６に流
入し、冷状態（コールド状態）で該蒸気発生器から流出
する。
センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄは、ホットレッグ１２及び１４の
各々に対して２組の別個の保護装置２０及び２２をそれ
ぞれ形成する。具体的には、センサＡ及びＣが保護装置
２０を形成し、センサＢ及びＤが保護装置２２を形成す
る。温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ用のホットレッグ内収容
構造の一例が米国特許第５,２５３,１９０号明細書に開
示されている。尚、この米国特許明細書の内容は参考の
ために本明細書に援用する。ホットレッグ１２，１４を
流れる原子炉冷却材１８は、蒸気発生器２４，２６に流
入し、冷状態（コールド状態）で該蒸気発生器から流出
する。
【００１６】温度測定システム２は、ホットレッグ１２
及び１４用の２組の温度センサＡ，Ｃ及びＢ，Ｄとディ
ジタルコンピュータのようなプロセッサ（処理装置）２
８を含む。各ループ４Ａ及び４Ｂの２組の温度センサ
Ａ，Ｃ及びＢ，Ｄから入力信号３０及び３２としてプロ
セッサ２８に供給される検出温度値に基づいて、該プロ
セッサ２８は、ホットレッグ１２及び１４における原子
炉冷却材の温度の値を求めてメモリ３４に格納する。こ
れ等の温度値は参照数字３６で示すように表示もしくは
指示用に出力される。ここに例示したプロセッサ２８及
びメモリ３４は、ディジタル方式でで動作するものであ
るが、本発明は、アナログ或るいはディジタル・プロセ
ッサを用いる温度測定系にも適用可能である。更に、本
発明は、原子炉６の制御及び／又は保護システムで用い
る目的で、原子炉冷却材１８の温度値を測定するのにも
適用可能である。
及び１４用の２組の温度センサＡ，Ｃ及びＢ，Ｄとディ
ジタルコンピュータのようなプロセッサ（処理装置）２
８を含む。各ループ４Ａ及び４Ｂの２組の温度センサ
Ａ，Ｃ及びＢ，Ｄから入力信号３０及び３２としてプロ
セッサ２８に供給される検出温度値に基づいて、該プロ
セッサ２８は、ホットレッグ１２及び１４における原子
炉冷却材の温度の値を求めてメモリ３４に格納する。こ
れ等の温度値は参照数字３６で示すように表示もしくは
指示用に出力される。ここに例示したプロセッサ２８及
びメモリ３４は、ディジタル方式でで動作するものであ
るが、本発明は、アナログ或るいはディジタル・プロセ
ッサを用いる温度測定系にも適用可能である。更に、本
発明は、原子炉６の制御及び／又は保護システムで用い
る目的で、原子炉冷却材１８の温度値を測定するのにも
適用可能である。
【００１７】図３は、図１のホットレッグ１２の保護装
置２０のための別の温度測定サブシステム３８及びホッ
トレッグ１２の保護装置２２のための上記サブシステム
３８に類似の温度測定サブシステム３９を示す。また、
図１からも理解されるように、温度測定サブシステム３
８及び３９は、保護機構４２並びにホットレッグ１４の
保護装置２０及び２２用の２つのサブシステム（図示せ
ず）を含む保護システム４０の一部を形成する。更に、
保護システム４０は、コールドレッグ８用の温度センサ
４４並びにコールドレッグ１０用の類似の温度センサ
（図示せず）を具備する。温度測定サブシステム３８
は、ホットレッグ１２の保護装置２０のための温度セン
サ４６及び４８を備える。
置２０のための別の温度測定サブシステム３８及びホッ
トレッグ１２の保護装置２２のための上記サブシステム
３８に類似の温度測定サブシステム３９を示す。また、
図１からも理解されるように、温度測定サブシステム３
８及び３９は、保護機構４２並びにホットレッグ１４の
保護装置２０及び２２用の２つのサブシステム（図示せ
ず）を含む保護システム４０の一部を形成する。更に、
保護システム４０は、コールドレッグ８用の温度センサ
４４並びにコールドレッグ１０用の類似の温度センサ
（図示せず）を具備する。温度測定サブシステム３８
は、ホットレッグ１２の保護装置２０のための温度セン
サ４６及び４８を備える。
【００１８】例示した温度センサ４４は、コールドレッ
グ８用のＲＴＤ（温度依存抵抗デバイス）Ｅと、試験入
力部５２を有する試験スイッチ５０と、抵抗−電圧（Ｒ
／Ｅ）変換器５４とを備えている。尚、本発明の実施に
当たっては、温度をアナログ又はディジタル温度値に変
換し得るセンサであれば任意の温度センサを使用するこ
とができる。温度依存抵抗デバイス（ＲＴＤ）Ｅは、コ
ールドレッグ８内の原子炉冷却材の温度に依存する抵抗
値を表す信号を回路点５６に発生する。通常、試験スイ
ッチ５０により回路点５６は、抵抗−電圧変換器５４に
接続されており、該抵抗−電圧変換器（Ｒ／Ｅ）５４
は、回路点５８に、コールドレッグ８における温度値Ｔ
C1を表す信号、例えば、電圧信号を発生する。他方、試
験条件下では、試験スイッチ５０は、温度依存抵抗デバ
イス（ＲＴＤ）の出力５６をバイパスし、試験入力部５
２から出力される抵抗値を表す信号を抵抗−電圧変換器
（Ｒ／Ｅ）５４に接続する。
グ８用のＲＴＤ（温度依存抵抗デバイス）Ｅと、試験入
力部５２を有する試験スイッチ５０と、抵抗−電圧（Ｒ
／Ｅ）変換器５４とを備えている。尚、本発明の実施に
当たっては、温度をアナログ又はディジタル温度値に変
換し得るセンサであれば任意の温度センサを使用するこ
とができる。温度依存抵抗デバイス（ＲＴＤ）Ｅは、コ
ールドレッグ８内の原子炉冷却材の温度に依存する抵抗
値を表す信号を回路点５６に発生する。通常、試験スイ
ッチ５０により回路点５６は、抵抗−電圧変換器５４に
接続されており、該抵抗−電圧変換器（Ｒ／Ｅ）５４
は、回路点５８に、コールドレッグ８における温度値Ｔ
C1を表す信号、例えば、電圧信号を発生する。他方、試
験条件下では、試験スイッチ５０は、温度依存抵抗デバ
イス（ＲＴＤ）の出力５６をバイパスし、試験入力部５
２から出力される抵抗値を表す信号を抵抗−電圧変換器
（Ｒ／Ｅ）５４に接続する。
【００１９】温度センサ４６及び４８は、ホットレッグ
１２の保護装置２０と関連し、温度依存抵抗デバイス
（ＲＴＤ）Ａ及びＣを備え、それぞれ、回路点６０及び
６２に温度値Ｔ1，Ｔ3を表す信号、例えば電圧信号を発
生する。電源に接続されたポテンショメータのような設
定点（Ｓ／Ｐ）デバイス６４は、回路点６６に、例えば
電圧として表すことができる較正可能なバイアス値Ｂ13
を出力する。回路点６０，６２，６６には、平均化デバ
イス（Σ／３）６８が接続されており、このデバイスは
バイアス値Ｂ13並びに温度値Ｔ1及びＴ3を平均し、回路
点７０に、ホットレッグ１２の保護装置２０のための平
均温度値Ｔ13を発生する。
１２の保護装置２０と関連し、温度依存抵抗デバイス
（ＲＴＤ）Ａ及びＣを備え、それぞれ、回路点６０及び
６２に温度値Ｔ1，Ｔ3を表す信号、例えば電圧信号を発
生する。電源に接続されたポテンショメータのような設
定点（Ｓ／Ｐ）デバイス６４は、回路点６６に、例えば
電圧として表すことができる較正可能なバイアス値Ｂ13
を出力する。回路点６０，６２，６６には、平均化デバ
イス（Σ／３）６８が接続されており、このデバイスは
バイアス値Ｂ13並びに温度値Ｔ1及びＴ3を平均し、回路
点７０に、ホットレッグ１２の保護装置２０のための平
均温度値Ｔ13を発生する。
【００２０】平均値演算デバイス（平均値算出手段）７
２は、回路点７０において平均温度値Ｔ13と回路点５８
におけるコールドレッグ８の温度値ＴC1との平均値を求
め、回路点７４に平均温度値ＴA1を供給する。差演算デ
バイス（ＤＥＬＴＡ）７６は、ホットレッグの平均温度
値Ｔ13と、コールドレッグの温度値ＴC1との間の差を求
めて、回路点７８に差温度ＴD1を発生する。一方、デバ
イス７２，７６は、平均温度値ＴA1及び差温度値ＴD1を
保護機構４２に供給する。
２は、回路点７０において平均温度値Ｔ13と回路点５８
におけるコールドレッグ８の温度値ＴC1との平均値を求
め、回路点７４に平均温度値ＴA1を供給する。差演算デ
バイス（ＤＥＬＴＡ）７６は、ホットレッグの平均温度
値Ｔ13と、コールドレッグの温度値ＴC1との間の差を求
めて、回路点７８に差温度ＴD1を発生する。一方、デバ
イス７２，７６は、平均温度値ＴA1及び差温度値ＴD1を
保護機構４２に供給する。
【００２１】例示した温度測定サブシステム３８は、追
って図４を参照し詳細に説明するように、バイアス値Ｂ
13を設定するための設定点デバイス６４を備えている
が、本発明は、バイアス値Ｂ13を演算により求める温度
測定方式にも適用可能である。バイアス値Ｂ13の設定
は、下記のように行われる。先ず、複数（Ｎ）個のセン
サ温度値Ｔ1（ｉ），Ｔ2（ｉ），Ｔ3（ｉ），Ｔ4（ｉ）
(但し、"ｉ”は１〜Ｎの範囲内の整数）を個々の温度セ
ンサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄからそれぞれ収集する。例えば、定
期的に、或る期間に亙って各温度センサＡ，Ｂ，Ｃ及び
ＤからのＮ個のセンサ温度値を収集する。次いで、下式
（１）〜（４）に従って、温度センサＡ、Ｂ、Ｃ及びＤ
それぞれのセンサ温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4を求め
る。
って図４を参照し詳細に説明するように、バイアス値Ｂ
13を設定するための設定点デバイス６４を備えている
が、本発明は、バイアス値Ｂ13を演算により求める温度
測定方式にも適用可能である。バイアス値Ｂ13の設定
は、下記のように行われる。先ず、複数（Ｎ）個のセン
サ温度値Ｔ1（ｉ），Ｔ2（ｉ），Ｔ3（ｉ），Ｔ4（ｉ）
(但し、"ｉ”は１〜Ｎの範囲内の整数）を個々の温度セ
ンサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄからそれぞれ収集する。例えば、定
期的に、或る期間に亙って各温度センサＡ，Ｂ，Ｃ及び
ＤからのＮ個のセンサ温度値を収集する。次いで、下式
（１）〜（４）に従って、温度センサＡ、Ｂ、Ｃ及びＤ
それぞれのセンサ温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4を求め
る。
【００２２】 ＴH1＝Σ（Ｔ1（ｉ））／Ｎ 式（１） ＴH2＝Σ（Ｔ2（ｉ））／Ｎ 式（２） ＴH3＝Σ（Ｔ3（ｉ））／Ｎ 式（３） ＴH4＝Σ（Ｔ4（ｉ））／Ｎ 式（４）
【００２３】上式中、Ｔ1（ｉ），Ｔ2（ｉ），Ｔ
3（ｉ），Ｔ4（ｉ）は、それぞれ温度センサＡ，Ｂ，Ｃ
及びＤから得られる複数のセンサ温度値を表し、Ｎは、
センサＡ，Ｂ，Ｃ及びＤ各々から得られるセンサ温度値
の数を表す。
3（ｉ），Ｔ4（ｉ）は、それぞれ温度センサＡ，Ｂ，Ｃ
及びＤから得られる複数のセンサ温度値を表し、Ｎは、
センサＡ，Ｂ，Ｃ及びＤ各々から得られるセンサ温度値
の数を表す。
【００２４】次いで、センサ平均温度値ＴH1，ＴH2，Ｔ
H3，ＴH4を平均することにより、ループ平均温度値Ｔ
HAVEを下式（５）に従って求める。
H3，ＴH4を平均することにより、ループ平均温度値Ｔ
HAVEを下式（５）に従って求める。
【００２５】 ＴHAVE＝（ＴH1＋ＴH2＋ＴH3＋ＴH4）／４ 式（５）
【００２６】次ぎに、下式（６）に基づき、よって定義
される保護装置２０の温度センサＡ，Ｃに対するバイア
ス値Ｂ13を下式（７）に従って求める。尚、ここで述べ
ているのは単なる例であり、本発明の実施に当たって
は、バイアス値及び平均温度値を求めるのに、他の方法
もしくはメカニズムも適用可能である。
される保護装置２０の温度センサＡ，Ｃに対するバイア
ス値Ｂ13を下式（７）に従って求める。尚、ここで述べ
ているのは単なる例であり、本発明の実施に当たって
は、バイアス値及び平均温度値を求めるのに、他の方法
もしくはメカニズムも適用可能である。
【００２７】 ＴHAVE＝（ＴH1＋ＴH3＋Ｂ13）／３ 式（６） Ｂ13＝３ＴHAVE−（ＴH1＋ＴH3） 式（７）
【００２８】最後に、設定点デバイス６４を適当に調節
することにより回路点６６にバイアス値Ｂ13を設定す
る。
することにより回路点６６にバイアス値Ｂ13を設定す
る。
【００２９】平均演算デバイス６８は、式（５）及び
（７）に示すように、センサ平均温度値ＴH1，ＴH2，Ｔ
H3，ＴH4の関数であるバイアス値及び温度センサＡ，Ｃ
の温度値Ｔ1，Ｔ3を平均し、平均温度値Ｔ13を求める。
ホットレッグ１２の保護装置２０の温度測定サブシステ
ム３８と関連して上に述べたのと類似の仕方で、ループ
４Ａ及び４Ｂの各保護装置２０及び２２においては、２
つのホットレッグ・センサ温度値と１つのバイアス値が
用いられる。
（７）に示すように、センサ平均温度値ＴH1，ＴH2，Ｔ
H3，ＴH4の関数であるバイアス値及び温度センサＡ，Ｃ
の温度値Ｔ1，Ｔ3を平均し、平均温度値Ｔ13を求める。
ホットレッグ１２の保護装置２０の温度測定サブシステ
ム３８と関連して上に述べたのと類似の仕方で、ループ
４Ａ及び４Ｂの各保護装置２０及び２２においては、２
つのホットレッグ・センサ温度値と１つのバイアス値が
用いられる。
【００３０】サブシステム３８と同様に、温度測定サブ
システム３９は、ホットレッグ１２の保護装置２２に対
し、それぞれ温度値Ｔ2，Ｔ4を発生する温度依存抵抗デ
バイス（ＲＴＤ）Ｂ及びＤと、コールドレッグ８に対す
る温度値ＴC2を発生する温度依存抵抗デバイス（ＲＴ
Ｄ）Ｆとを備えている。サブシステム３９はまた、較正
可能なバイアス値Ｂ24を出力する電源に接続されたポテ
ンショメータのような設定点（Ｓ／Ｐ）デバイス７９並
びに、ホットレッグ１２の保護装置２０に対し平均温度
値Ｔ24を発生する平均演算デバイス（Σ／３）８０を備
えている。平均温度値Ｔ24は、平均センサ温度値ＴH1，
ＴH2，ＴH3，ＴH4の関数であるバイアス値Ｂ24と温度セ
ンサＢ及びＤそれぞれの温度値Ｔ2及びＴ4の平均値とか
ら、平均温度値Ｔ24を求める。上述のように、バイアス
値Ｂ13，Ｂ24は、ループ平均温度値ＴHAVEの関数であ
り、一方、該ループ平均温度値ＴHAVEは、対応のループ
４Ａ，４Ｂの関連の温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄのセンサ
平均温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4から求められる。
システム３９は、ホットレッグ１２の保護装置２２に対
し、それぞれ温度値Ｔ2，Ｔ4を発生する温度依存抵抗デ
バイス（ＲＴＤ）Ｂ及びＤと、コールドレッグ８に対す
る温度値ＴC2を発生する温度依存抵抗デバイス（ＲＴ
Ｄ）Ｆとを備えている。サブシステム３９はまた、較正
可能なバイアス値Ｂ24を出力する電源に接続されたポテ
ンショメータのような設定点（Ｓ／Ｐ）デバイス７９並
びに、ホットレッグ１２の保護装置２０に対し平均温度
値Ｔ24を発生する平均演算デバイス（Σ／３）８０を備
えている。平均温度値Ｔ24は、平均センサ温度値ＴH1，
ＴH2，ＴH3，ＴH4の関数であるバイアス値Ｂ24と温度セ
ンサＢ及びＤそれぞれの温度値Ｔ2及びＴ4の平均値とか
ら、平均温度値Ｔ24を求める。上述のように、バイアス
値Ｂ13，Ｂ24は、ループ平均温度値ＴHAVEの関数であ
り、一方、該ループ平均温度値ＴHAVEは、対応のループ
４Ａ，４Ｂの関連の温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄのセンサ
平均温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4から求められる。
【００３１】複数のアイソレータ（ＩＳＯＬ）８１を介
して回路点５８，６０，６２，６６のそれぞれにおける
信号ＴC1，Ｔ1，Ｔ3，Ｂ13は、演算処理のために（例え
ば、バイアス値Ｂ13及び温度値Ｔ1，Ｔ3を平均し、平均
温度値Ｔ13を算出もしくは確認するために）プラントコ
ンピュータ８２に供給される。また、複数のアイソレー
タ（ＩＳＯＬ）８４により、回路点７４及び７８それぞ
れにおける信号ＴA1及びＴD1が制御装置６８に供給され
る。また、他のアイソレータ（図示せず）を介して、信
号ＴC2，Ｔ2，Ｔ4，Ｂ24は、プラントコンピュータ８２
に供給され、更に他のアイソレータ（図示せず）を介し
て信号ＴA2，ＴD2は制御系８６に供給される。
して回路点５８，６０，６２，６６のそれぞれにおける
信号ＴC1，Ｔ1，Ｔ3，Ｂ13は、演算処理のために（例え
ば、バイアス値Ｂ13及び温度値Ｔ1，Ｔ3を平均し、平均
温度値Ｔ13を算出もしくは確認するために）プラントコ
ンピュータ８２に供給される。また、複数のアイソレー
タ（ＩＳＯＬ）８４により、回路点７４及び７８それぞ
れにおける信号ＴA1及びＴD1が制御装置６８に供給され
る。また、他のアイソレータ（図示せず）を介して、信
号ＴC2，Ｔ2，Ｔ4，Ｂ24は、プラントコンピュータ８２
に供給され、更に他のアイソレータ（図示せず）を介し
て信号ＴA2，ＴD2は制御系８６に供給される。
【００３２】図４を参照すると、図１に示したループ４
Ａ及び４Ｂのうちの一方についてプロセッサ２８によっ
て実行されるフローチャートが例示してある。図１と共
に図４を参照するに、ステップ８８において、複数
（Ｎ）個のセンサ温度値Ｔ1(ｉ），Ｔ2（ｉ），Ｔ
3（ｉ），Ｔ4(ｉ）を、個々の温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，
Ｄからそれぞれ収集する。例えば、原子炉６の燃料交換
作業後に、約１時間の期間に亙って約５分毎に、各温度
センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄから１３個の代表的なセンサ温度
値を収集する。尚、本発明はこの例に限定されるもので
はなく、一般に、任意数のセンサ温度値を任意期間に亙
って収集することが可能である。次いで、ステップ９０
で、センサ平均温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4を、先に
述べたように式（１）〜（４）のそれぞれに従って温度
センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ毎にそれぞれ求める。次いで、ス
テップ９２において、既述の式（５）に従い、センサ平
均温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4を平均することにより
ループ平均温度値ＴHAVEを求める。次ぎに、ステップ９
４で、保護装置２０の温度センサＡ及びＣに対するバイ
アス値Ｂ13を既述の式（７）に従って求める。
Ａ及び４Ｂのうちの一方についてプロセッサ２８によっ
て実行されるフローチャートが例示してある。図１と共
に図４を参照するに、ステップ８８において、複数
（Ｎ）個のセンサ温度値Ｔ1(ｉ），Ｔ2（ｉ），Ｔ
3（ｉ），Ｔ4(ｉ）を、個々の温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，
Ｄからそれぞれ収集する。例えば、原子炉６の燃料交換
作業後に、約１時間の期間に亙って約５分毎に、各温度
センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄから１３個の代表的なセンサ温度
値を収集する。尚、本発明はこの例に限定されるもので
はなく、一般に、任意数のセンサ温度値を任意期間に亙
って収集することが可能である。次いで、ステップ９０
で、センサ平均温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4を、先に
述べたように式（１）〜（４）のそれぞれに従って温度
センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ毎にそれぞれ求める。次いで、ス
テップ９２において、既述の式（５）に従い、センサ平
均温度値ＴH1，ＴH2，ＴH3，ＴH4を平均することにより
ループ平均温度値ＴHAVEを求める。次ぎに、ステップ９
４で、保護装置２０の温度センサＡ及びＣに対するバイ
アス値Ｂ13を既述の式（７）に従って求める。
【００３３】既述の式（６）に示すように、バイアス値
Ｂ13は、バイアス値Ｂ13と、各温度センサＡ，Ｃのセン
サ平均温度値ＴH1，ＴH3の平均値が、ステップ９２で求
められるループ平均温度値ＴHAVEと等しくなるように設
定される。また、既述の式（７）に示すように、バイア
ス値Ｂ13は、ループ平均温度値ＴHAVE及び各温度センサ
Ａ，Ｃのセンサ平均温度値ＴH1，ＴH3の関数として求め
られる。
Ｂ13は、バイアス値Ｂ13と、各温度センサＡ，Ｃのセン
サ平均温度値ＴH1，ＴH3の平均値が、ステップ９２で求
められるループ平均温度値ＴHAVEと等しくなるように設
定される。また、既述の式（７）に示すように、バイア
ス値Ｂ13は、ループ平均温度値ＴHAVE及び各温度センサ
Ａ，Ｃのセンサ平均温度値ＴH1，ＴH3の関数として求め
られる。
【００３４】次に、ステップ９４と同様に、ステップ９
６で、保護装置２２の温度センサＢ，Ｄに対し、下式
（８）に基づきバイアス値Ｂ24を下式（９）に従って求
める。
６で、保護装置２２の温度センサＢ，Ｄに対し、下式
（８）に基づきバイアス値Ｂ24を下式（９）に従って求
める。
【００３５】 ＴHAVE＝（ＴH2＋ＴH4＋Ｂ24）／３ 式（８） Ｂ24＝３ＴHAVE−（ＴH2＋ＴH4） 式（９）
【００３６】上の説明において、ステップ８８〜９６
は、典型例として、原子炉６の燃料交換後に行われるも
のと述べたが、本発明は、他の時点で（例えば、毎月１
回のように定期的間隔或るいは不定期で）、バイアス値
Ｂ13，Ｂ24の再計算を行うのに適用することが可能であ
る。ステップ９８において、センサ温度値Ｔ1，Ｔ2，Ｔ
3、Ｔ4をそれぞれ、温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄから収集
する。次いで、ステップ１００において、保護装置２０
に対する平均温度値Ｔ13を下式（１０）に従って求め
る。
は、典型例として、原子炉６の燃料交換後に行われるも
のと述べたが、本発明は、他の時点で（例えば、毎月１
回のように定期的間隔或るいは不定期で）、バイアス値
Ｂ13，Ｂ24の再計算を行うのに適用することが可能であ
る。ステップ９８において、センサ温度値Ｔ1，Ｔ2，Ｔ
3、Ｔ4をそれぞれ、温度センサＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄから収集
する。次いで、ステップ１００において、保護装置２０
に対する平均温度値Ｔ13を下式（１０）に従って求め
る。
【００３７】 Ｔ13＝（Ｔ1＋Ｔ3＋Ｂ13）／３ 式（１０）
【００３８】ステップ１０２で、ステップ１００と同様
にして、保護装置２２に対する置平均温度値Ｔ24を適当
な時間遅延後に、ステップ９８を繰返す前に下式（１
１）に従って求める。
にして、保護装置２２に対する置平均温度値Ｔ24を適当
な時間遅延後に、ステップ９８を繰返す前に下式（１
１）に従って求める。
【００３９】 Ｔ24＝（Ｔ2＋Ｔ4＋Ｂ24）／３ 式（１１）
【００４０】保護装置２２のための装置平均温度値
Ｔ13，Ｔ24は、先に述べた保護装置２０の場合と同様の
仕方で求められる。
Ｔ13，Ｔ24は、先に述べた保護装置２０の場合と同様の
仕方で求められる。
【００４１】図１に例示した温度測定システム２並びに
図３に示したサブシステム３８，３９は、現在課せられ
ている保護システム設計要件を満足しつつ、保護装置２
０，２２に要求されるセンサの設置を簡略化する。例示
した実施形態においては、保護装置毎に２個のホットレ
ッグ温度センサが用いられて、ホットレッグ毎に２個の
保護装置が採用されている。
図３に示したサブシステム３８，３９は、現在課せられ
ている保護システム設計要件を満足しつつ、保護装置２
０，２２に要求されるセンサの設置を簡略化する。例示
した実施形態においては、保護装置毎に２個のホットレ
ッグ温度センサが用いられて、ホットレッグ毎に２個の
保護装置が採用されている。
【００４２】以上、本発明の特定の実施の形態に関して
詳細に説明したが、当業者には明らかなように、ここに
開示した本発明の教示の全趣旨に徴し数多の変更並びに
細部に関する代替設計が可能である。従って、ここに開
示した特定の構成は単なる例示として解されるべきであ
って、本発明の範囲を制限する意味に解されてはならな
い。
詳細に説明したが、当業者には明らかなように、ここに
開示した本発明の教示の全趣旨に徴し数多の変更並びに
細部に関する代替設計が可能である。従って、ここに開
示した特定の構成は単なる例示として解されるべきであ
って、本発明の範囲を制限する意味に解されてはならな
い。
【００４３】また、本発明の好適な実施形態について説
明したが、本発明は、特許請求の範囲に記載した以外に
も様々な形態で実施可能であり、それ等について以下に
列挙する。 （ａ） 前記温度検知手段が前記レッグの対応する１つ
の周りに円周方向に離間して設けられる請求項１に記載
の温度測定システム。 （ｂ） 前記第１対の温度検知手段は、約１２０°離間
して配設され、前記第２対の温度検知手段は、約１８０
°離間して配設される上記（ａ）に記載の温度測定シス
テム。 （ｃ） 前記第２対の温度検知手段のうちの１つが、前
記第１対の前記温度検知手段のうちの各検知手段から約
６０度離間して配設される請求項３に記載の温度測定シ
ステム。 （ｄ） 前記第１対の温度検知手段は、約１２０°離間
して配設され、前記第２対の温度検知手段は約６０°離
間して配設される上記（ａ）に記載の温度測定システ
ム。 （ｅ） 前記第２対の前記温度検知手段のうちの１つ
が、前記第１対の温度検知手段のうちの各１つから約１
２０°離間して配設される上記（ｄ）に記載の温度測定
システム。 （ｆ） 前記バイアス値決定手段が、前記温度検知手段
の各々から複数の値を収集するための収集手段と、前記
温度検知手段の各々から得られる前記複数の値を平均
し、前記温度検知手段の各々に対し平均温度を求めるた
めの手段と、前記平均温度から前記第１及び第２のバイ
アス値を求めるための手段と、を含む請求項１に記載の
温度測定システム。 （ｇ） 前記バイアス値決定手段が、前記温度検知手段
の各々から得られる複数の値を平均して、対応するレッ
グに対し平均温度を求めるための手段と、前記対応する
レッグに対し前記平均温度の関数として前記第１及び第
２のバイアス値の各々を求めると共に、前記温度検知手
段のうちの２つの温度検知手段について平均温度を求め
る手段と、を含む請求項１に記載の温度測定システム。 （ｈ） 前記第１及び第２のバイアス値の各々を求める
ための前記手段が、前記対応するレッグについて平均温
度を３倍した積を求める手段と、前記第１対の温度検知
手段について前記平均温度の第１の和を求めるための手
段と、前記第１のバイアス値を、前記積から前記第１の
和を減じた値として求めるための手段と、前記第２対の
温度検知手段について前記平均温度の第２の和を求める
ための手段と、前記第２のバイアス値を、前記積から前
記第２の和を減じた値として求めるための手段と、を含
む上記（ｇ）に記載の温度測定システム。 （ｉ） 前記温度検知手段が、前記レッグの周りに円周
方向に離間して配設される請求項２に記載の温度測定シ
ステム。 （ｊ） 前記第１対の温度検知手段は約１２０°離間し
て配設され、前記第２対の温度検知手段は約１８０°離
間して配設される上記（ｉ）に記載の温度測定システ
ム。 （ｋ） 前記第２対の温度検知手段のうちの１つが、前
記第１対の温度検知手段の各々から約６０°離間して配
設される上記（ｊ）に記載の温度測定システム。 （ｌ） 前記第１対の温度検知手段は約１２０°離間し
て配設され、前記第２対の温度検知手段は約６０°離間
して配設される上記（ｉ）に記載の温度測定システム。 （ｍ） 前記第２対の温度検知手段のうちの１つが、前
記第１対の温度検知手段のうちの各々から約１２０°離
間して配設される上記（ｌ）に記載の温度測定システ
ム。 （ｎ） 前記平均値算出手段が、前記温度検知手段の各
々から複数の値を収集するための収集手段と、前記温度
検知手段の各々から得られる前記複数の値を平均し、前
記温度検知手段の各々について温度の前記平均値を求め
るための手段と、を含む請求項２に記載の温度測定シス
テム。 （ｏ） 前記第１の平均温度を求める前記第１の手段
が、 ｉ） 対応するレッグと関連する前記温度検知手段の各
々から前記複数の値の平均温度、及び ii） 前記第１対の温度検知手段に対する平均値を関数
として、第１のバイアス値を求める手段を含み、前記第
２の平均温度を求める第２の手段が、 iii) 対応レッグと関連する前記温度検知手段の各々か
ら前記複数の値の前記平均温度、及び iv） 前記第２対の温度検知手段に対する平均値を関数
として、第２のバイアス値を求める手段とを含む上記
（ｎ）に記載の温度測定システム。 （ｐ） 前記第１のバイアス値を求める前記手段が、そ
れぞれ前記温度検知手段から得られる前記複数の値の前
記平均温度を３倍し、その積を求める手段と、前記第１
対の温度検知手段に対する平均値の和を求める手段と、
前記積から前記和を減じてその差を前記第１のバイアス
値として求める手段と、を含み、前記第２のバイアス値
を求める前記手段が、前記第２対の温度検知手段の平均
値の和を求める手段と、前記第２対の温度検知手段の平
均値の和を前記積から減じてその差を第２のバイアス値
として求める手段と、を含む上記（ｏ）に記載の測定シ
ステム。 （ｑ） 前記ループが、円周面を有するホットレッグを
含み、前記温度検知手段が前記ホットレッグの円周面の
周囲に離間して配設され、前記温度検知手段のうち、第
１対の温度検知手段が第１の角度で離間して配設され、
第２対の温度検知手段が、前記第１対の温度検知手段の
角度とは異なる第２の角度で離間して配設される請求項
３に記載の温度測定システム。
明したが、本発明は、特許請求の範囲に記載した以外に
も様々な形態で実施可能であり、それ等について以下に
列挙する。 （ａ） 前記温度検知手段が前記レッグの対応する１つ
の周りに円周方向に離間して設けられる請求項１に記載
の温度測定システム。 （ｂ） 前記第１対の温度検知手段は、約１２０°離間
して配設され、前記第２対の温度検知手段は、約１８０
°離間して配設される上記（ａ）に記載の温度測定シス
テム。 （ｃ） 前記第２対の温度検知手段のうちの１つが、前
記第１対の前記温度検知手段のうちの各検知手段から約
６０度離間して配設される請求項３に記載の温度測定シ
ステム。 （ｄ） 前記第１対の温度検知手段は、約１２０°離間
して配設され、前記第２対の温度検知手段は約６０°離
間して配設される上記（ａ）に記載の温度測定システ
ム。 （ｅ） 前記第２対の前記温度検知手段のうちの１つ
が、前記第１対の温度検知手段のうちの各１つから約１
２０°離間して配設される上記（ｄ）に記載の温度測定
システム。 （ｆ） 前記バイアス値決定手段が、前記温度検知手段
の各々から複数の値を収集するための収集手段と、前記
温度検知手段の各々から得られる前記複数の値を平均
し、前記温度検知手段の各々に対し平均温度を求めるた
めの手段と、前記平均温度から前記第１及び第２のバイ
アス値を求めるための手段と、を含む請求項１に記載の
温度測定システム。 （ｇ） 前記バイアス値決定手段が、前記温度検知手段
の各々から得られる複数の値を平均して、対応するレッ
グに対し平均温度を求めるための手段と、前記対応する
レッグに対し前記平均温度の関数として前記第１及び第
２のバイアス値の各々を求めると共に、前記温度検知手
段のうちの２つの温度検知手段について平均温度を求め
る手段と、を含む請求項１に記載の温度測定システム。 （ｈ） 前記第１及び第２のバイアス値の各々を求める
ための前記手段が、前記対応するレッグについて平均温
度を３倍した積を求める手段と、前記第１対の温度検知
手段について前記平均温度の第１の和を求めるための手
段と、前記第１のバイアス値を、前記積から前記第１の
和を減じた値として求めるための手段と、前記第２対の
温度検知手段について前記平均温度の第２の和を求める
ための手段と、前記第２のバイアス値を、前記積から前
記第２の和を減じた値として求めるための手段と、を含
む上記（ｇ）に記載の温度測定システム。 （ｉ） 前記温度検知手段が、前記レッグの周りに円周
方向に離間して配設される請求項２に記載の温度測定シ
ステム。 （ｊ） 前記第１対の温度検知手段は約１２０°離間し
て配設され、前記第２対の温度検知手段は約１８０°離
間して配設される上記（ｉ）に記載の温度測定システ
ム。 （ｋ） 前記第２対の温度検知手段のうちの１つが、前
記第１対の温度検知手段の各々から約６０°離間して配
設される上記（ｊ）に記載の温度測定システム。 （ｌ） 前記第１対の温度検知手段は約１２０°離間し
て配設され、前記第２対の温度検知手段は約６０°離間
して配設される上記（ｉ）に記載の温度測定システム。 （ｍ） 前記第２対の温度検知手段のうちの１つが、前
記第１対の温度検知手段のうちの各々から約１２０°離
間して配設される上記（ｌ）に記載の温度測定システ
ム。 （ｎ） 前記平均値算出手段が、前記温度検知手段の各
々から複数の値を収集するための収集手段と、前記温度
検知手段の各々から得られる前記複数の値を平均し、前
記温度検知手段の各々について温度の前記平均値を求め
るための手段と、を含む請求項２に記載の温度測定シス
テム。 （ｏ） 前記第１の平均温度を求める前記第１の手段
が、 ｉ） 対応するレッグと関連する前記温度検知手段の各
々から前記複数の値の平均温度、及び ii） 前記第１対の温度検知手段に対する平均値を関数
として、第１のバイアス値を求める手段を含み、前記第
２の平均温度を求める第２の手段が、 iii) 対応レッグと関連する前記温度検知手段の各々か
ら前記複数の値の前記平均温度、及び iv） 前記第２対の温度検知手段に対する平均値を関数
として、第２のバイアス値を求める手段とを含む上記
（ｎ）に記載の温度測定システム。 （ｐ） 前記第１のバイアス値を求める前記手段が、そ
れぞれ前記温度検知手段から得られる前記複数の値の前
記平均温度を３倍し、その積を求める手段と、前記第１
対の温度検知手段に対する平均値の和を求める手段と、
前記積から前記和を減じてその差を前記第１のバイアス
値として求める手段と、を含み、前記第２のバイアス値
を求める前記手段が、前記第２対の温度検知手段の平均
値の和を求める手段と、前記第２対の温度検知手段の平
均値の和を前記積から減じてその差を第２のバイアス値
として求める手段と、を含む上記（ｏ）に記載の測定シ
ステム。 （ｑ） 前記ループが、円周面を有するホットレッグを
含み、前記温度検知手段が前記ホットレッグの円周面の
周囲に離間して配設され、前記温度検知手段のうち、第
１対の温度検知手段が第１の角度で離間して配設され、
第２対の温度検知手段が、前記第１対の温度検知手段の
角度とは異なる第２の角度で離間して配設される請求項
３に記載の温度測定システム。
【図１】 本発明による加圧水形原子炉（ＰＷＲ）によ
る２ループの原子力蒸気供給系（ＮＳＳＳ）のための、
プロセッサを備えた温度測定システムの概要を示すブロ
ック図である。
る２ループの原子力蒸気供給系（ＮＳＳＳ）のための、
プロセッサを備えた温度測定システムの概要を示すブロ
ック図である。
【図２】 本発明の別の実施形態において、配設される
センサを有するホットレッグの断面図である。
センサを有するホットレッグの断面図である。
【図３】 本発明の別の実施の形態における温度測定サ
ブシステムを有するＰＷＲ保護システムの概略的構成を
示すブロック図である。
ブシステムを有するＰＷＲ保護システムの概略的構成を
示すブロック図である。
【図４】 図１のプロセッサによって実行される処理を
示すフローチャートである。
示すフローチャートである。
２…温度測定システム、４…原子力蒸気供給系、４Ａ，
４Ｂ…ループ、６…原子炉、８，１０…コールドレッグ
管（レッグ）、１２，１２’，１４…ホットレッグ管
（レッグ）、１６…円形面、１８…原子炉冷却材、２
０，２２…保護装置、２４，２６…蒸気発生器、２８…
プロセッサ、３４…メモリ、３８，３９…温度測定サブ
システム、４０…保護システム、４２…保護機構、４
４，４６，４８…温度センサ、５０…試験スイッチ、５
２…試験入力部、５４…抵抗−電圧（Ｒ／Ｅ）変換器、
５８，６０，６２，６６，７０，７４，７８…回路点、
６４，７９…設定点（Ｓ／Ｐ）デバイス、６８，７２，
８０…平均演算デバイス、７６…差演算デバイス、８
１，８４…アイソレータ、８２…プラントコンピュー
タ、８６…制御装置、Ａ，Ｂ，Ｂ’Ｃ，Ｄ…温度センサ
（温度検知手段）。
４Ｂ…ループ、６…原子炉、８，１０…コールドレッグ
管（レッグ）、１２，１２’，１４…ホットレッグ管
（レッグ）、１６…円形面、１８…原子炉冷却材、２
０，２２…保護装置、２４，２６…蒸気発生器、２８…
プロセッサ、３４…メモリ、３８，３９…温度測定サブ
システム、４０…保護システム、４２…保護機構、４
４，４６，４８…温度センサ、５０…試験スイッチ、５
２…試験入力部、５４…抵抗−電圧（Ｒ／Ｅ）変換器、
５８，６０，６２，６６，７０，７４，７８…回路点、
６４，７９…設定点（Ｓ／Ｐ）デバイス、６８，７２，
８０…平均演算デバイス、７６…差演算デバイス、８
１，８４…アイソレータ、８２…プラントコンピュー
タ、８６…制御装置、Ａ，Ｂ，Ｂ’Ｃ，Ｄ…温度センサ
（温度検知手段）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チャールズ・レイモンド・スターレット アメリカ合衆国、ペンシルベニア州、オ ハラ、コーンウォール・ドライブ 205 (72)発明者 ジャガナサン・シーヌ・スリニバサン アメリカ合衆国、ペンシルベニア州、マ リースビル、アイビー・レーン 3481 (56)参考文献 特開 平７−260597（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−212026（ＪＰ，Ａ) 特公 平５−23631（ＪＰ，Ｂ２) 米国特許5253190（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G21C 17/02 GDP G01K 3/02 GDP G21D 3/08 GDP ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)
Claims (4)
- 【請求項１】 ２つのループを有し、各ループにおい
て、温度を有する原子炉冷却材がレッグ内を流れる原子
力蒸気供給系の温度測定システムであって、前記２つの
ループの各々に対し、 対応するレッグ内の原子炉冷却材の温度値をそれぞれ発
生するための４個の温度検知手段と、 該温度検知手段の各々から得られる前記原子炉冷却材の
温度値から、第１対の温度検知手段と関連する第１のバ
イアス値と、第２対の温度検知手段と関連する第２のバ
イアス値とを対応するレッグ毎に決定するためのバイア
ス値決定手段と、 前記第１のバイアス値及び前記第１対の前記温度検知手
段の値を平均し、第１の平均温度を求める第１平均値算
出手段と、 前記第２のバイアス値及び前記第２対の前記温度検知手
段の値を平均し、第２の平均温度を求めるための第２平
均値算出手段と、 を備え、前記原子炉冷却材の温度の２つの別個の平均温
度を前記２つのループの各々に対して求める原子力蒸気
供給系の温度測定システム。 - 【請求項２】 ２つのループを有し、各ループにおい
て、温度を有する原子炉冷却材がレッグ内を流れる原子
力蒸気供給系のための温度測定システムであって、前記
２つのループの各々に対し、 前記レッグの対応する１つのレッグ内にある原子炉冷却
材の温度値をそれぞれ発生するための４個の温度検知手
段と、 対応するレッグに対して前記温度検知手段の各々の温度
の値の平均値を求める平均値算出手段と、 第１の手段であって、 （ａ） 前記温度検知手段の各々の温度の値の平均値の
第１の関数と（ｂ） 第１対の温度検知手段の値とを平
均し、第１の平均温度を求める前記第１の手段と、 第２の手段であって、 （ｃ） 前記温度検知手段の各々の温度の値の平均値の
第２の関数と（ｄ） 第２対の温度検知手段の値とを平
均し、第２の平均温度を求める前記第２の手段と、を含
み、前記原子炉冷却材の温度の２つの個別の平均温度を
前記２つのループの各々に対して求める原子力蒸気供給
系の温度測定システム。 - 【請求項３】 温度を有する原子炉冷却材が流れるルー
プを含む原子力蒸気供給系の温度測定システムであっ
て、 それぞれが前記原子炉冷却材の温度の値を出力する複数
の温度検知手段と、 前記温度検知手段のうちの第１の複数のものと関連する
第１のバイアス値及び前記温度検知手段のうちの第２の
複数のものと関連する第２のバイアス値を発生する手段
と、 前記第１のバイアス値及び前記第１の複数の温度検知手
段の値を平均し、第１の平均温度を求める手段と、 前記第２のバイアス値及び前記第２の複数の温度検知手
段の値を平均し、第２の平均温度を求める手段と、を含
み、前記ループについて、前記原子炉冷却材の温度の２
つの別個の平均温度を求める温度測定システム。 - 【請求項４】 温度を有する原子炉冷却材を収容するル
ープを含む原子力蒸気供給系の温度測定方法であって、 前記原子炉冷却材の温度を検知するために複数のセンサ
を用い、 該センサの各々により前記原子炉冷却材の温度の複数の
値を検知し、 第１の複数のセンサと関連する第１のバイアス値及び第
２の複数のセンサと関連する第２のバイアス値を求め、 前記各センサより原子炉冷却材の温度の値を検知し、 前記第１のバイアス値及び前記第１の複数のセンサから
得られる原子炉冷却材の温度の値を平均して、第１の平
均温度を求め、 前記第２のバイアス値及び前記第２の複数のセンサから
得られる前記原子炉冷却材の温度の値を平均して第２の
平均温度を求めるステップを含み、 前記ループについて、前記原子炉冷却材の温度の２つの
別個の平均温度を求める原子力蒸気供給系の温度測定方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/617144 | 1996-03-18 | ||
| US08/617,144 US6061413A (en) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | Nuclear steam supply temperature measurement system and method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1068792A JPH1068792A (ja) | 1998-03-10 |
| JP2885314B2 true JP2885314B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=24472441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9063026A Expired - Lifetime JP2885314B2 (ja) | 1996-03-18 | 1997-03-17 | 原子力蒸気供給系の温度測定システム及び温度測定方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6061413A (ja) |
| JP (1) | JP2885314B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7150559B1 (en) * | 2002-09-25 | 2006-12-19 | Illinois Tool Works Inc. | Hot melt adhesive detection methods and systems |
| JP3720802B2 (ja) * | 2002-11-06 | 2005-11-30 | キヤノン株式会社 | プロセスカートリッジの再生産方法 |
| JP4585527B2 (ja) * | 2006-03-02 | 2010-11-24 | ウエスチングハウス・エレクトリック・カンパニー・エルエルシー | 原子炉システムのトリップ制御方法及び原子炉システム |
| JP5106819B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2012-12-26 | 三菱重工業株式会社 | 熱源機および熱源システムならびに熱源機の制御方法 |
| CN114496319B (zh) * | 2021-12-08 | 2023-05-16 | 华能核能技术研究院有限公司 | 高温气冷堆机组的运行状态的确定方法及装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5253190A (en) | 1992-07-01 | 1993-10-12 | Westinghouse Electric Corp. | Weighted temperature measurement using multiple sensors |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR493142A (fr) * | 1917-11-21 | 1919-07-31 | The British Westinghouse Electric And Manufacturin | Appareil destiné à conserver la chaleur |
| US3998693A (en) * | 1970-11-23 | 1976-12-21 | Combustion Engineering, Inc. | Thermal margin control |
| DE3113697A1 (de) * | 1981-04-04 | 1982-12-02 | Brown Boveri Reaktor GmbH, 6800 Mannheim | Verfahren und einrichtung zur ueberwachung des primaerkuehlmittels einer wassergekuehlten kernreaktoranlage bezueglich saettigung, unterkuehlung oder dampfbildung |
| US4801421A (en) * | 1985-06-04 | 1989-01-31 | Westinghouse Electric Corp. | On-line monitoring and analysis of reactor vessel integrity |
| US4901061A (en) * | 1987-06-05 | 1990-02-13 | Westinghouse Electric Corp. | Instrumentation and monitoring systems employing differential temperature sensors |
| US4778538A (en) * | 1987-07-15 | 1988-10-18 | Westinghouse Electric Corp. | Dual temperature sensing device having twin well thermowell for dual resistance temperature detectors |
| US4926364A (en) * | 1988-07-25 | 1990-05-15 | Westinghouse Electric Corp. | Method and apparatus for determining weighted average of process variable |
| US5271045A (en) * | 1989-11-02 | 1993-12-14 | Combustion Engineering, Inc. | Advanced nuclear plant control complex |
| US5024802A (en) * | 1990-10-22 | 1991-06-18 | Westinghouse Electric Corp. | Method for steam generator water level measurement |
| US5586156A (en) * | 1995-07-14 | 1996-12-17 | General Electric Company | Reactor protection system with automatic self-testing and diagnostic |
-
1996
- 1996-03-18 US US08/617,144 patent/US6061413A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-03-17 JP JP9063026A patent/JP2885314B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5253190A (en) | 1992-07-01 | 1993-10-12 | Westinghouse Electric Corp. | Weighted temperature measurement using multiple sensors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6061413A (en) | 2000-05-09 |
| JPH1068792A (ja) | 1998-03-10 |
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