JP2879007B2 - 処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はワ−クを洗浄処理
もしくは洗浄液が付着したワ−クを乾燥処理する場合な
どに用いられる処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置などの製造工
程においては、ワ−クとしての半導体ウエハやガラス基
板に回路パタ−ンを形成するリソグラフィプロセスがあ
る。リソグラフィプロセスは、周知のように上記半導体
ウエハにレジストを塗布し、このレジストに回路パタ−
ンが形成されたマスクを介して光を照射し、ついでレジ
ストの光が照射されない部分（あるいは光が照射された
部分）を除去し、除去された部分を処理するという一連
の工程を数十回繰り返すことで回路パタ−ンが形成され
る。

【０００３】各工程において、上記半導体ウエハが汚染
されていると回路パタ−ンを精密に形成することができ
なくなり、不良品の発生原因となる。したがって、それ
ぞれの工程で回路パタ−ンを形成する際には、レジスト
や塵埃が残留しない清浄な状態に上記半導体ウエハを洗
浄するということが行われている。

【０００４】上記ワ−クを洗浄する装置としては、複数
枚の半導体ウエハを洗浄液が収容された洗浄タンク内に
漬けて洗浄するバッチ式と、１枚の被洗浄物を回転さ
せ、その被洗浄物に対して洗浄液を噴射させて洗浄する
枚葉式とがあり、ワ−クの大型化にともない洗浄効果の
高い枚葉式が用いられる傾向にある。

【０００５】枚葉式の洗浄処理装置にはブラシ洗浄とス
ピン洗浄があり、上記ワ−クの洗浄効果をより一層高め
るためには、ブラシ洗浄とスピン洗浄を順次行うととも
に、処理液（洗浄液）として、純水に酸やアルカリ性の
薬液を混合したものが用いられている。上記各洗浄処理
装置は、通常、箱型に形成された液密構造の処理槽を有
し、この処理槽の内部に洗浄機構が収容されている。

【０００６】上記洗浄処理装置を所定期間使用したり、
使用中に故障が生じた場合、その内部を点検する必要が
あるから、上記処理槽の一側には内部を十分に点検修理
できる大きさの開口部を設け、この開口部を蓋板によっ
て開閉できるようにしている。

【０００７】ところで、処理槽の内部を点検する際、そ
の一側に設けられた蓋板を取り外すことで行うのだが、
その際、蓋板内面には上記処理液が付着している。ワ−
クを処理した処理液は汚れており、しかも有害な薬液が
用いられていることがある。そのため、その処理液が蓋
板から床面に滴下して周囲を汚染したり、作業者に付着
するなどのことがあった。とくに、半導体装置や液晶表
示装置などの製造はクリ−ンル−ムで行われるから、蓋
板から汚れた処理液が滴下して床面を汚染することは好
ましくなく、しかも処理液が有害な場合には作業者に付
着することも好ましくない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように、処理槽の
内部を点検するために蓋板を外すと、その内面に付着し
た処理液が滴下して周囲の汚染を招いたり、作業者に付
着するなどのことがあった。

【０００９】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、蓋板を外す場合に、汚れ
ていたり、害のある処理液が滴下したり、作業者に付着
するのを防止できるようにした処理装置を提供すること
にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、ワ−
クを洗浄処理もしくは処理液が付着したワ−クを処理す
るための処理装置において、内部に上記ワ−クが供給さ
れる処理槽と、この処理槽の一側に形成された第１の開
口部に着脱自在もしくは開閉自在に設けられた蓋板と、
この蓋板の一部に形成された第２の開口部に上記蓋板の
内方向にだけ開放可能に設けられた清掃窓とを具備した
ことを特徴とする。

【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記清掃窓は上端を支点として上記蓋板に開閉自在
に設けられていることを特徴とする。請求項１の発明に
よれば、蓋板に清掃窓を設けたことで、この清掃窓を開
放し、そこから内部に水道水などの洗浄液をシャワ−し
て処理槽の内面、とくに蓋板の内面を洗浄してから上記
蓋板を取り外すことで、上記蓋板から汚れていたり害の
ある処理液が滴下したり、作業者に付着するのを防止で
きる。

【００１２】請求項２の発明によれば、清掃窓は上端を
支点として内方へ開放されるため、開放時に蓋板の内面
の清掃窓よりも上方の部分から下方へ滴下する処理液が
上記清掃窓を開放操作する作業者の手に付着したり、処
理槽の外部に滴下するのを防止できる。

【００１３】

【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図４はこの発明の処理装置が用い
られた洗浄処理装置Ａで、この洗浄処理装置Ａは第１の
処理装置１、第２の処理装置２、第３の処理装置３およ
び第４の理装置４が順次並設されてなる。

【００１４】第１乃至第４の処理装置１〜４は、それぞ
れ箱型状に形成された処理槽１１を有する。第１の処理
装置１の処理槽１１内には図示しないブラシ洗浄機構と
第１の受け渡しロボットが収容されていて、その内部で
ブラシ洗浄した半導体ウエハや液晶基板などのワ−クを
第１の受け渡しロボットによって第２の処理装置２の処
理槽１１に受け渡すようになっている。

【００１５】上記第２の処理装置２の処理槽１１内には
図示しない第１のスピン処理機構が設けられ、この第１
のスピン処理機構に上記第１の受け渡しロボットから受
け渡されたワ−クをスピン洗浄するようになっている。

【００１６】上記第３の処理装置３の処理槽１１の内部
には図示しない第２の受け渡しロボットが設けられ、上
記第４の処理装置４の処理槽１１の内部にはワ−クをス
ピン洗浄およびスピン乾燥させる第２のスピン処理機構
が設けられている。

【００１７】上記第２の受け渡しロボットは上記第１の
スピン処理機構で洗浄処理されたワ−クを第２のスピン
処理機構へ受け渡す。それによって、そのワ−クは第２
のスピン処理機構で洗浄された後、乾燥されるようにな
っている。

【００１８】上記各処理装置１〜４の処理槽１１はその
前面板１１ａに矩形状の第１の開口部１２が形成されて
いる。上記前面板１１ａの上部は後方に向かって傾斜し
た傾斜面１１ｂに形成されている。上記第１の開口部１
２は上記前面板１１ａのほぼ全体にわたる大きさに設定
されていて、ＰＶＣなどの透明または半透明で、耐薬品
性を備えた合成樹脂からなる蓋板１３によって液密な状
態で開閉自在に閉塞される。

【００１９】つまり、上記前面板１１ａの内面の上記第
１の開口部１２の下辺を除く周辺部には図５に示すよう
に溝部１４ａが形成された断面ほぼコ字状の帯状板１４
がその溝部１４ａを第１の開口部１２に露出させて設け
られている。また、上記下辺には図６に示すように断面
Ｌ字状の係止板１５が全長にわたって設けられ、この係
止板１５によって形成された段部１５ａには上記蓋板１
３の内面下端部の幅方向ほぼ全長にわたって設けられた
帯状の係合片１３ａが係合するようになっている。

【００２０】図１に示すように上記前面板１１ａの外面
の第１の開口部１２の上部には溝部１６ａが形成された
断面ほぼＬ字状のフック１６が取着されている。さら
に、蓋板１３の内面の下辺を除く周辺部には上記帯状板
１４の溝部１４ａに入り込む桟１７が取着され、また蓋
板１３の外面の上部には一端部を係合部１８ａとした係
合レバ−１８が回転自在に取り付けられている。

【００２１】そして、上記蓋板１３は、下端の係合板１
３ａを上記係止板１５と上記蓋板１３の内面がなす段部
１５ａに挿入係止させるとともに、その内面の下辺を除
く周辺部に設けられた桟１７を上記帯状板１４の溝部１
４ａ内に位置させたのち、上記係合レバ−１８を回転さ
せてその一端部の係合部１８ａを上記フック１５の溝部
１５ａに係合させることで、上記第１の開口部１２に着
脱自在に設けられている。

【００２２】上記蓋板１３は、内面の周辺部の下辺を除
く三辺に設けられた桟１７が帯状板１４の溝部１４ａに
係合し、しかも下端部は係止板１５によって形成された
段部１５ａに係合片１３ａが係合しているから、処理槽
１１内で使用される処理液が外部に漏れ出ることのない
液密状態で取り付けることができる。

【００２３】上記蓋板１３の上部の傾斜部１１ｂには上
記第１の開口部１２に比べて十分に小さい、つまりハン
ドシャワ−を挿入できる大きさの第２の開口部２１が矩
形状に形成されている。この第２の開口部２１には清掃
窓２２が開閉自在に設けられている。

【００２４】つまり、清掃窓２２は耐薬品性を備えた透
明な合成樹脂によって矩形板状に形成されていて、その
内面には清掃窓２２と同じ材料からなる内面板２３が接
合固定されている。この内面板２３は両側部および下端
部が上記清掃窓２２の周辺部から突出する大きさに設定
されている。

【００２５】上記清掃窓２２の内面の上辺部には図１と
図２に示すように角柱状の第１のヒンジブロック２４が
取り付けられている。この第１のヒンジブロック２４の
両端部にはその端面に開口する支持孔２５が形成されて
いる。

【００２６】上記蓋板１３の内面の、上記第２の開口部
２１の上部両側にはそれぞれ第２のヒンジブロック２６
が取着されている。この第２のヒンジブロック２６に
は、一端部を第２の開口部２１の幅方向内方に向けて突
出させた支軸２７が設けられている。一対の支軸２７の
突出端は上記第１のヒンジブロック２４の支持孔２５に
挿入され、それによって清掃窓２２は上記支軸２７を支
点として回動自在に設けられている。

【００２７】上記清掃窓２２の内面に設けられた内面板
２３は、両側部および下端部を清掃窓２２の周辺部から
突出させているから、これらの部分は上記蓋板１３の内
面の上記第２の開口部２１の周辺部に係合する。したが
って、清掃窓２２は上記支軸２７が支持された上端を支
点として処理槽１１の内部へ押し込む方向にだけ回動さ
せることがきるようになっている。つまり、処理槽１１
の外部へ開く方向には回動させることができない構造と
なっている。

【００２８】上記清掃窓２２の下端部には回転軸３１が
一端部を清掃窓２２の外面に突出させて回転自在に設け
られている。この回転軸３１の突出部分には矩形状の係
止部材３２が取着固定されている。この係止部材３２は
その内面が蓋板１３の外面とほぼ面一になるよう設けら
れている。したがって、清掃窓２２が第２の開口部２１
を閉じた状態で上記係止部材３２を図１に示すように回
転させると、その一部が蓋板１３の第２の開口部２１の
下辺部外面に係合するから、清掃窓２２は第２の開口部
２１を閉塞した状態で回動不能に保持される。

【００２９】なお、上記回転軸３１と清掃窓２２との間
には、図１に示すように清掃窓２２に対して回転軸３１
を液密かつ回転自在に保持するためのカラ−３３とワッ
シャ３４とが設けられている。

【００３０】つぎに、上記構成の洗浄処理装置Ａの各処
理装置１〜４を点検修理する場合について説明する。上
記各処理装置１〜４においては、処理液を用いてワ−ク
が処理されたり、処理液が付着したワ−クが受け渡しロ
ボットによって受け渡し処理されることで、処理槽１１
の内面に処理液が付着することが避けられない。

【００３１】一方、各処理装置１〜４を定期的あるいは
故障の発生などによって点検修理する場合には、処理液
が床面に滴下したり、作業者に付着しないように蓋板１
３を取り外さなければならない。

【００３２】そこで、まず、蓋板１３を取り外す前に、
清掃窓２２に設けられた係止部材３２を回転させてその
一部と蓋板１３の外面との係合を外す。ついで、上記清
掃窓２２の下部を処理槽１１の内部へ押し込むことで、
上記清掃窓２２を上端を支点として処理槽１１内部へ回
動させる。つまり、清掃窓２２によって閉塞されていた
第２の開口部２１を開放する。

【００３３】つぎに、開放された第２の開口部２１から
処理槽１１の内部へ図示しないハンドシャワ−を差し込
み、このハンドシャワ−から水道水などの洗浄液を噴射
させて上記処理槽１１の内面を洗浄する。つまり、処理
槽１１の内面に付着した処理液を洗い流す。

【００３４】このように、処理槽１１の内部を洗浄した
ならば、一対の係合レバ−１８を回転させてその係合部
１８ａをフック１５の溝部１５ａから外し、これら係合
レバ−１８を持って蓋板１３を処理槽１１の前面板１１
ａの第１の開口部１２から外す。それによって、第１の
開口部１２が開放されるから、処理槽１１の内部に設置
された各種の機構を点検修理することができる。

【００３５】上記蓋板１３は、予めハンドシャワ−を用
いて洗浄液で洗浄されているため、その内面には清浄な
洗浄液が付着しているだけで、汚れたり害のある処理液
は付着していない。

【００３６】そのため、蓋板１３を処理槽１１から外し
ても、清浄な洗浄液が滴下するだけで、汚れたり害のあ
る処理液が床面に滴下したり、作業者に付着するなどの
ことをなくすことができる。

【００３７】しかも、処理槽１１の内面を洗浄する際、
清掃窓２２によって閉塞された、第２の開口部２１から
ハンドシャワ−を差し込むようにした。上記第２の開口
部２１は、蓋体１３に形成された第１の開口部１２に比
べて十分に小さく設定され、しかも清掃窓２２は上端を
支点として内方へ回動する構造となっている。

【００３８】そのため、ハンドシャワ−から噴射される
洗浄液によって洗浄除去される処理液が上記第２の開口
部２１から処理槽１１の外部に飛散するということがほ
とんどない。しかも、清掃窓２２が上端を支点として内
方へ回動されることで、清掃窓２２の内面に付着した処
理液や処理槽１１の清掃窓２２の上部内面に付着した処
理液が滴下して作業者の手に付着したり、上記第２の開
口部２１から処理槽１１の外部に滴下するということも
ない。

【００３９】なお、この発明は上記一実施形態に限定さ
れず、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能であ
る。たとえば、上記一実施形態では蓋体を処理槽の前面
板に対して着脱自在に設けたが、上記蓋板をヒンジを用
いて開閉自在に設けるようにしてもなんら差支えない。

【００４０】

【発明の効果】以上述べたように請求項１の発明によれ
ば、処理槽の内部を開放する蓋板に清掃窓を設けたか
ら、この清掃窓を開放して内部を洗浄液でシャワ−洗浄
してから上記蓋板を外して、処理槽の内部を点検修理す
ることができる。

【００４１】そのため、上記清掃窓はハンドシャワ−を
挿入できる大きさにすればよく、十分に小さくすること
が可能であるから、処理槽を洗浄液で洗浄する際に、洗
浄液によって洗い流される処理液が上記清掃窓から処理
槽の外部に飛散して床面を汚したり、作業者に付着する
などのことがほとんどない。しかも、蓋板内面もこの蓋
板を開放する前に洗浄されるから、上記蓋板を開放する
ことでその内面から汚れたり害のある処理液が滴下する
ということもない。

【００４２】請求項２の発明によれば、清掃窓は上端を
支点として内方へ開放されるため、開放時に蓋板の内面
の清掃窓よりも上方の部分から下方へ滴下する処理液が
上記清掃窓を開放操作する作業者の手に付着したり、清
掃窓によって開放された開口部分から処理槽の外部に滴
下するのを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施形態を示す蓋板の清掃窓が設
けられた部分の拡大断面図。

【図２】同じく図１のＡ−Ａ線に沿う断面図。

【図３】同じく洗浄処理装置の１つの処理装置の処理槽
の一部断面した側面図。

【図４】同じく洗浄処理装置の全体構成を示す正面図。

【図５】同じく処理槽の前面板の高さ方向中途部の横断
面図。

【図６】同じく蓋板の下端部分の断面図。

【符号の説明】

１１…処理槽、 １２…第１の開口部、 １３…蓋板、 ２１…第２の開口部、 ２２…清掃窓。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ワ−クを洗浄処理もしくは処理液が付着
   したワ−クを処理するための処理装置において、 内部に上記ワ−クが供給される処理槽と、 この処理槽の一側に形成された第１の開口部に着脱自在
   もしくは開閉自在に設けられた蓋板と、 この蓋板の一部に形成された第２の開口部に上記蓋板の
   内方向にだけ開放可能に設けられた清掃窓とを具備した
   ことを特徴とする処理装置。
2. 【請求項２】 上記清掃窓は上端を支点として上記蓋板
   に開閉自在に設けられていることを特徴とする請求項１
   記載の処理装置。