JP2869239B2 - 捺印方法 - Google Patents
捺印方法Info
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- JP2869239B2 JP2869239B2 JP2524292A JP2524292A JP2869239B2 JP 2869239 B2 JP2869239 B2 JP 2869239B2 JP 2524292 A JP2524292 A JP 2524292A JP 2524292 A JP2524292 A JP 2524292A JP 2869239 B2 JP2869239 B2 JP 2869239B2
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- Japan
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品等への捺印方
法に関し、特にＩＣへの捺印における光硬化インキによ
る印刷方法に関するものである。
法に関し、特にＩＣへの捺印における光硬化インキによ
る印刷方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種ＩＣ等の電子部品への捺印
方法としては、平板上に薄く引き延ばした捺印用インキ
を、文字が浮き彫りにされているゴム版に移し取って、
ＩＣの所定位置に捺印するゴム版捺印方法が一般的であ
った。
方法としては、平板上に薄く引き延ばした捺印用インキ
を、文字が浮き彫りにされているゴム版に移し取って、
ＩＣの所定位置に捺印するゴム版捺印方法が一般的であ
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなゴム版による捺印方法では、被捺印体である多数
のＩＣに繰り返し捺印を行っている間に、ゴム版の文字
等が目づまりして、印刷された文字が滲んでくるため、
連続して鮮明な文字等の印刷ができないという印刷品質
上の問題があり、一方、鮮明な文字印刷を行うために
は、定期的にゴム版の洗浄が必要になるというように、
作業性の面にも問題点があった。
ようなゴム版による捺印方法では、被捺印体である多数
のＩＣに繰り返し捺印を行っている間に、ゴム版の文字
等が目づまりして、印刷された文字が滲んでくるため、
連続して鮮明な文字等の印刷ができないという印刷品質
上の問題があり、一方、鮮明な文字印刷を行うために
は、定期的にゴム版の洗浄が必要になるというように、
作業性の面にも問題点があった。
【０００４】そこで、本発明は、このような従来技術の
有していた問題点を解決するために、光照射による露光
技術の採用により、精緻な文字等を形成し、これを転写
法によって被捺印体に印刷するという、常に精緻な文字
等を均一な品質で印刷が可能でかつ、作業性の向上が図
れるＩＣ等の被捺印体への捺印方法を提供することを目
的としている。
有していた問題点を解決するために、光照射による露光
技術の採用により、精緻な文字等を形成し、これを転写
法によって被捺印体に印刷するという、常に精緻な文字
等を均一な品質で印刷が可能でかつ、作業性の向上が図
れるＩＣ等の被捺印体への捺印方法を提供することを目
的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明の捺印方法を、実施例に対応する図１，２を用
いて説明すると、第１の発明では、図１に示すように、
被捺印体としてのＩＣへの捺印方法であって、インキ支
持基体１上に光硬化インキを塗布して光硬化インキ薄層
３ａを形成する工程と、この光硬化インキ薄層３ａ上に
近接して配設した露光マスク５を通して光源ランプ７に
より光を照射し、未硬化の捺印インキ部分３ｂを形成す
る工程と、この未硬化の捺印インキ部分３ｂをＩＣ９の
被捺印面９ａに転写する工程と、この転写された未硬化
捺印インキ３ｃを光照射により硬化する工程とから構成
される。
の本発明の捺印方法を、実施例に対応する図１，２を用
いて説明すると、第１の発明では、図１に示すように、
被捺印体としてのＩＣへの捺印方法であって、インキ支
持基体１上に光硬化インキを塗布して光硬化インキ薄層
３ａを形成する工程と、この光硬化インキ薄層３ａ上に
近接して配設した露光マスク５を通して光源ランプ７に
より光を照射し、未硬化の捺印インキ部分３ｂを形成す
る工程と、この未硬化の捺印インキ部分３ｂをＩＣ９の
被捺印面９ａに転写する工程と、この転写された未硬化
捺印インキ３ｃを光照射により硬化する工程とから構成
される。
【０００６】また、第２の発明では、図１，２に示すよ
うに、前記第１の発明において、未硬化の捺印インキ部
分３ｂをＩＣ９の被捺印面９ａに転写する工程に代え
て、未硬化の捺印インキ部分３ｂを弾性支持体のゴム板
１１に転写した後、この転写されたゴム板１１の未硬化
捺印インキ部分３ｂをＩＣ９の被捺印面９ａに転写する
工程とから成っている。
うに、前記第１の発明において、未硬化の捺印インキ部
分３ｂをＩＣ９の被捺印面９ａに転写する工程に代え
て、未硬化の捺印インキ部分３ｂを弾性支持体のゴム板
１１に転写した後、この転写されたゴム板１１の未硬化
捺印インキ部分３ｂをＩＣ９の被捺印面９ａに転写する
工程とから成っている。
【０００７】そして、前両発明において、光硬化インキ
３として紫外線硬化インキをインキ支持基体１としての
ポリエステルフィルムに塗布し、光源ランプ７から紫外
線を照射することによって、容易にＩＣ９への精緻な捺
印３ｃが可能なＩＣへの捺印方法が得られる。
３として紫外線硬化インキをインキ支持基体１としての
ポリエステルフィルムに塗布し、光源ランプ７から紫外
線を照射することによって、容易にＩＣ９への精緻な捺
印３ｃが可能なＩＣへの捺印方法が得られる。
【０００８】
【作用】本発明によれば、以上のような捺印方法によっ
てＩＣへの捺印を施したので、外周面４ａに多数の微細
な幅の平行溝４ｂが設けられたロール４により、ポリエ
ステルフィルム１上に均一な厚さの紫外線硬化インキ３
ａが塗布できる。そして、第１の発明の場合は、この紫
外線硬化インキ３ａに露光マスク５を通して光源ランプ
７から紫外線を照射すれば、未硬化の文字部インキ（捺
印インキ部分）３ｂが得られ、この文字部インキ３ｂが
押し台８によりＩＣ９の被捺印面９ａに転写され、精緻
な文字が捺印されるから、これに紫外線照射をすれば、
硬化した文字捺印３ｃが得られる。したがって、ポリエ
ステルフィルム１を矢印２方向にシフトすることによ
り、多数のＩＣへの自動捺印が実現できる。なお、第２
の発明の場合は、未硬化の文字インキ３ｂが押し台８に
よって、ゴム板１１の捺印面１１ａに転写され、さら
に、これをＩＣ９に転写した後、紫外線照射７ａにより
硬化した精緻な文字部インキ３ｃがＩＣ９に捺印され
る。したがって、前記問題点を除去することができる。
てＩＣへの捺印を施したので、外周面４ａに多数の微細
な幅の平行溝４ｂが設けられたロール４により、ポリエ
ステルフィルム１上に均一な厚さの紫外線硬化インキ３
ａが塗布できる。そして、第１の発明の場合は、この紫
外線硬化インキ３ａに露光マスク５を通して光源ランプ
７から紫外線を照射すれば、未硬化の文字部インキ（捺
印インキ部分）３ｂが得られ、この文字部インキ３ｂが
押し台８によりＩＣ９の被捺印面９ａに転写され、精緻
な文字が捺印されるから、これに紫外線照射をすれば、
硬化した文字捺印３ｃが得られる。したがって、ポリエ
ステルフィルム１を矢印２方向にシフトすることによ
り、多数のＩＣへの自動捺印が実現できる。なお、第２
の発明の場合は、未硬化の文字インキ３ｂが押し台８に
よって、ゴム板１１の捺印面１１ａに転写され、さら
に、これをＩＣ９に転写した後、紫外線照射７ａにより
硬化した精緻な文字部インキ３ｃがＩＣ９に捺印され
る。したがって、前記問題点を除去することができる。
【０００９】
（１）図１は第１の発明の一実施例を示す印刷工程の概
念斜視図である。この図において、まず、第１の工程
は、巻回されたポリエステル材のフィルム（インキ支持
基体）１を矢印２の方向に給送中、一般的な紫外線硬化
型のインキ３をロールコート法によってロール４にて一
定の厚さに塗布する（第１工程）。このロール４には外
周面４ａに多数本の微細幅の平行溝４ａが設けられてい
る。 （２）次に、この塗布されたインキ層３ａは、露光マス
ク５を通して、光源ランプ７により紫外線照射され、マ
スク文字６で遮断された文字部インキ３ｂ以外は硬化す
る。この時、露光マスク５は塗布されたインキ層３ａに
接触しない程度に近接して配設される（第２工程）。 （３）押台８の位置に移動した文字部インキ３ｂは、押
し台８に対向する位置に置かれたＩＣ９の底面９ａに、
押し台８によって矢印１０の方向に押し付けられて、底
面９ａに転写される（第３工程）。押し台８の上面には
クッションゴム８ａが貼着されていて、文字部インキ３
ｂの転写を確実ならしめている。 （４）次いで、ＩＣ９に転写された印刷文字３ｃに光源
ランプ７ａで紫外線を照射して印刷文字３ｃを硬化する
（第４工程）。これによって、捺印作業が完了する。
念斜視図である。この図において、まず、第１の工程
は、巻回されたポリエステル材のフィルム（インキ支持
基体）１を矢印２の方向に給送中、一般的な紫外線硬化
型のインキ３をロールコート法によってロール４にて一
定の厚さに塗布する（第１工程）。このロール４には外
周面４ａに多数本の微細幅の平行溝４ａが設けられてい
る。 （２）次に、この塗布されたインキ層３ａは、露光マス
ク５を通して、光源ランプ７により紫外線照射され、マ
スク文字６で遮断された文字部インキ３ｂ以外は硬化す
る。この時、露光マスク５は塗布されたインキ層３ａに
接触しない程度に近接して配設される（第２工程）。 （３）押台８の位置に移動した文字部インキ３ｂは、押
し台８に対向する位置に置かれたＩＣ９の底面９ａに、
押し台８によって矢印１０の方向に押し付けられて、底
面９ａに転写される（第３工程）。押し台８の上面には
クッションゴム８ａが貼着されていて、文字部インキ３
ｂの転写を確実ならしめている。 （４）次いで、ＩＣ９に転写された印刷文字３ｃに光源
ランプ７ａで紫外線を照射して印刷文字３ｃを硬化する
（第４工程）。これによって、捺印作業が完了する。
【００１０】〔実施例２〕図２に示した第２の発明の実
施例について述べる。図２において図１と同一部分には
同一符号を付してあり、また、ポリエステルフィルム１
の巻ロールからロール４までは省略してある。そして、
実施例１の場合は、ポリエステルフィルム１を上部１０
方向に押し上げて文字部インキ３ｂをＩＣ９に転写する
方法を採用しているが、実施例２の場合は図２に示すよ
うに、文字部インキ３ｂを一旦ゴム板１１に移し取った
後、これをＩＣ９の上面９ａに捺印し、その後は実施例
１と同様に紫外線照射により硬化して印刷する方法を採
用している。尚、実施例２は実施例１よりも、インキ転
写工程が１工程増えるので、露光マスク５ａは実施例１
の文字パターンを反転複写した状態にしている。また、
図中の矢印は工程の流れを示している。
施例について述べる。図２において図１と同一部分には
同一符号を付してあり、また、ポリエステルフィルム１
の巻ロールからロール４までは省略してある。そして、
実施例１の場合は、ポリエステルフィルム１を上部１０
方向に押し上げて文字部インキ３ｂをＩＣ９に転写する
方法を採用しているが、実施例２の場合は図２に示すよ
うに、文字部インキ３ｂを一旦ゴム板１１に移し取った
後、これをＩＣ９の上面９ａに捺印し、その後は実施例
１と同様に紫外線照射により硬化して印刷する方法を採
用している。尚、実施例２は実施例１よりも、インキ転
写工程が１工程増えるので、露光マスク５ａは実施例１
の文字パターンを反転複写した状態にしている。また、
図中の矢印は工程の流れを示している。
【００１１】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、以下に記載するような効果を奏する。紫外線硬化
インキ薄層を設け、これに露光マスクを介して紫外線等
の光線照射を行う露光技術を採用しているため、精緻な
文字印刷が可能になり、常に精緻な文字を均一な品質で
印刷が可能になる。また、従来のゴム版による版の目ず
まりを起すという問題点が除去され、作業性も向上す
る。さらには、被捺印体としては、ＩＣのみならず、他
の電子部品等への捺印にも適用可能である。
れば、以下に記載するような効果を奏する。紫外線硬化
インキ薄層を設け、これに露光マスクを介して紫外線等
の光線照射を行う露光技術を採用しているため、精緻な
文字印刷が可能になり、常に精緻な文字を均一な品質で
印刷が可能になる。また、従来のゴム版による版の目ず
まりを起すという問題点が除去され、作業性も向上す
る。さらには、被捺印体としては、ＩＣのみならず、他
の電子部品等への捺印にも適用可能である。
【図１】本発明に係る第１の発明の印刷工程を示す概念
斜視図。
斜視図。
【図２】本発明に係る第２の発明の印刷工程を示す概念
斜視図。
斜視図。
１ ポリエステルフィルム ３ 紫外線硬化インキ ３ａ 塗布されたインキ ３ｂ 文字部インキ ３ｃ 転写されたインキ ４ ロール ５ 露光マスク ６ マスク文字 ７ 紫外線ランプ ８ 押し台 ９ ＩＣ １１ ゴム板
フロントページの続き (72)発明者 本田 学 東京都港区虎ノ門１丁目７番12号 沖電 気工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−137780（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−106064（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−35980（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B41M 1/30 H01L 23/00
Claims (4)
- 【請求項１】 被捺印体への捺印方法であって、インキ
支持基体上に光硬化インキを塗布して光硬化インキ薄層
を形成する工程と、この光硬化インキ薄層上に近接して
配設された露光マスクを通して光を照射し、未硬化の捺
印インキ部分を形成する工程と、この未硬化の捺印イン
キ部分を被捺印面に転写する工程と、この転写された未
硬化捺印インキ部分を光照射により硬化する工程とから
成る捺印方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の捺印方法において、未硬
化の捺印インキ部分を被捺印面に転写する工程に代え
て、未硬化の捺印インキ部分を弾性支持体に転写した
後、この転写された弾性支持体の未硬化捺印インキ部分
を被捺印面に転写する工程を備えた捺印方法。 - 【請求項３】 光硬化インキが紫外線硬化インキから成
る請求項１又は２記載の捺印方法。 - 【請求項４】 インキ支持基体がポリエステルフィルム
から成る請求項１，２又は３記載の捺印方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2524292A JP2869239B2 (ja) | 1992-02-12 | 1992-02-12 | 捺印方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2524292A JP2869239B2 (ja) | 1992-02-12 | 1992-02-12 | 捺印方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05226484A JPH05226484A (ja) | 1993-09-03 |
| JP2869239B2 true JP2869239B2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=12160519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2524292A Expired - Lifetime JP2869239B2 (ja) | 1992-02-12 | 1992-02-12 | 捺印方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2869239B2 (ja) |
-
1992
- 1992-02-12 JP JP2524292A patent/JP2869239B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05226484A (ja) | 1993-09-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19981208 |