JP2864957B2 - Method for manufacturing magneto-optical recording medium - Google Patents

Method for manufacturing magneto-optical recording medium

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JP2864957B2
JP2864957B2 JP5211273A JP21127393A JP2864957B2 JP 2864957 B2 JP2864957 B2 JP 2864957B2 JP 5211273 A JP5211273 A JP 5211273A JP 21127393 A JP21127393 A JP 21127393A JP 2864957 B2 JP2864957 B2 JP 2864957B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスクの製造方
法に関し、特に記録磁界感度に優れた光磁気記録媒体の
製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a magneto-optical disk, and more particularly to a method for manufacturing a magneto-optical recording medium having excellent recording magnetic field sensitivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁界変調オーバーライト方式において、
光磁気記録媒体の記録磁界感度の向上は記録密度を高
め、記録消去に必要な磁界を低下させることによりドラ
イブの負担を軽減する上で重要である。記録感度の向上
のために、TbFeCo膜にキャッピングレイヤーを付
加したり(Y.Yamada,M.Yoshihir
o,N.Ohta,H.Sukeda,T.Nihar
a and H.Fujiwara;J.Magn.S
oc.Jpn.,15,Suppl.Sl,417(1
991))、膜厚10nmのGdFeCo膜と膜厚20
nmのTbFeCo膜を交換結合させた2層膜を記録膜
とした5層光磁気記録媒体(市谷克美、綱島滋、内山
晋;第15回日本応用磁気学会学術講演概要集、31p
B−2、307頁)が提案されている。これら2つの光
磁気記録媒体は、従来知られている光磁気記録媒体に新
たに磁性層を付け加え、5層の媒体構成とすることで記
録磁界感度の向上を計っているので、媒体構造が従来媒
体よりも複雑になっている。
2. Description of the Related Art In a magnetic field modulation overwrite method,
Improving the recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium is important for increasing the recording density and reducing the magnetic field required for recording / erasing to reduce the load on the drive. In order to improve the recording sensitivity, a capping layer may be added to the TbFeCo film (Y. Yamada, M. Yoshihira).
o, N. Ohta, H .; Sukeda, T .; Nihar
a and H.A. Fujiwara; Magn. S
oc. Jpn. , 15, Suppl. Sl, 417 (1
991)), a GdFeCo film having a thickness of 10 nm and a thickness of 20
-layered magneto-optical recording medium with a two-layer exchange-coupled two-layer TbFeCo film (Katsumi Ichitani, Shigeru Tsunashima, Susumu Uchiyama; 15th Annual Meeting of the Japan Society of Applied Magnetics, 31p
B-2, p. 307). In these two magneto-optical recording media, a magnetic layer is newly added to a conventionally known magneto-optical recording medium to improve the recording magnetic field sensitivity by adopting a five-layer medium configuration. It is more complicated than the medium.

【0003】Co/PtあるいはCo/Pd多層膜をス
パッタ法で作製する際に、スパッタガスとして純Krを
用いることは、文献(P.F.Carcia,S.I.
Shah and W.B.Zeper;Appl.P
hys.Lett.56,2345(1990))や
(特開平5−6589号公報)により知られている。純
Arガスを用いたスパッタ法で作製されたCo/Ptあ
るいはCo/Pd多層膜は、たかだか数百Oe程度と希
土類−遷都金属非晶質膜の保磁力に比べ非常に小さな保
磁力しか持っておらず、さらに垂直磁気異方性エネルギ
ーも希土類−遷移金属非晶質膜の十分の一以下であり、
加えてカーループの角形比が1にほど遠いので、光磁気
記録媒体の記録膜として適していない。そこで、保磁力
や垂直磁気異方性エネルギーを大きくしたり、角形比を
1に近づける必要があった。この問題を解決するため
に、KrガスあるいはXeガスによるスパッタ法を用い
ている。 光磁気記録媒体において、希土類−遷移金属
合金を含む記録膜をKrやXeを含むガスを用いてスパ
ッタ法で作製することは、特開平4−298835号公
報および特開平4−366441号公報にて示されてい
る。
[0003] The use of pure Kr as a sputtering gas when producing a Co / Pt or Co / Pd multilayer film by a sputtering method is described in a literature (PF Carcia, SI).
Shah and W.S. B. Zeper; Appl. P
hys. Lett. 56, 2345 (1990)) and JP-A-5-6589. A Co / Pt or Co / Pd multilayer film produced by a sputtering method using pure Ar gas has a coercive force of only several hundreds Oe at most, which is much smaller than the coercive force of a rare earth-transient metal amorphous film. And the perpendicular magnetic anisotropy energy is less than one tenth of the rare earth-transition metal amorphous film,
In addition, since the square ratio of the Kerr loop is as far as 1, it is not suitable as a recording film of a magneto-optical recording medium. Therefore, it was necessary to increase the coercive force and the perpendicular magnetic anisotropy energy and to make the squareness ratio close to 1. To solve this problem, a sputtering method using Kr gas or Xe gas is used. In a magneto-optical recording medium, a method of producing a recording film containing a rare earth-transition metal alloy by a sputtering method using a gas containing Kr or Xe is disclosed in JP-A-4-298835 and JP-A-4-366441. It is shown.

【0004】特開平4−298835号公報において
は、磁性膜に軽希土類元素を含むので保持力が小さく、
そのため保持力を大きくし再生信号特性を高めるために
KrやXeを含むガスを用いてスパッタ法で作製してい
る。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-298835, the coercive force is small because the magnetic film contains a light rare earth element.
Therefore, in order to increase the holding power and to improve the reproduction signal characteristics, it is manufactured by a sputtering method using a gas containing Kr or Xe.

【0005】また、記録膜を作製するときに、合金ター
ゲットを用いたのか、複合ターゲットを用いたのか等の
ターゲットに関する記載はない。特開平4−36644
1号公報においては、スパッタガスとしてArを必ず含
んだ混合ガスを用いており、また、記録膜にはPt、P
dおよびAuから選ばれる少なくとも一種の元素を含ん
でいる。一般に、TbあるいはDyと遷移金属との非晶
質膜に非磁性元素を添加するとカーループの角形比が悪
くなる。逆に言えば、非磁性元素を添加しない場合は、
角形比を懸念する必要はない。また、特開平4−366
441号公報において、カーヒーステリシスが良好な角
形ループを示すとは、最大外部磁場におけるカー回転角
(θK 1 )と、外部磁場ゼロにおけるカー回転角である
残留カー回転角(θK 2 )との非θK 2/θK 1 が0.
9以上であることを意味すると明記してあるが、実施例
と比較例を見る限りどちらもθK 2/θK 1 が0.9以
上であり、カーループ角形比の改善は確認されず、やは
りこの効果は顕著とは言いがたい。
[0005] Further, there is no description about a target such as whether an alloy target or a composite target is used when producing a recording film. JP-A-4-36644
In Japanese Patent Publication No. 1 (1993), a mixed gas always containing Ar is used as a sputtering gas, and Pt, P
It contains at least one element selected from d and Au. Generally, when a nonmagnetic element is added to an amorphous film of Tb or Dy and a transition metal, the squareness ratio of the Kerr loop deteriorates. Conversely, if no non-magnetic element is added,
There is no need to worry about squareness. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-366
In Japanese Patent No. 441, indicating that a square loop exhibiting good Kerr hysteresis indicates a Kerr rotation angle (θ K 1 ) at the maximum external magnetic field and a residual Kerr rotation angle (θ K 2 ) which is a Kerr rotation angle at zero external magnetic field. Has a non-θ K 2 / θ K 1 of 0.
Although it is specified to mean 9 or more, as far as the examples and comparative examples are concerned, both θ K 2 / θ K 1 are 0.9 or more, and no improvement in the Kerr loop squareness ratio was confirmed. This effect is hardly remarkable.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前記の5層光磁気記録
媒体では、記録磁界感度を向上させるために媒体構造が
複雑となるいう課題がある。
The five-layer magneto-optical recording medium has a problem that the medium structure is complicated in order to improve the recording magnetic field sensitivity.

【0007】Co/PtあるいはCo/Pd多層膜を純
Krガスあるいは純Xeガスを使って作製することは、
特開平5−6589号公報で示されている。この中で、
保磁力の増大、角形比を1付近にする、記録ノイズレベ
ルが低くなること等は示されているが、記録磁界感度に
関する知見を得ることはできない。
The production of a Co / Pt or Co / Pd multilayer film using pure Kr gas or pure Xe gas is as follows.
This is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-6589. In this,
Although it has been shown that the coercive force is increased, the squareness ratio is set to near 1, and the recording noise level is lowered, it is not possible to obtain knowledge on the recording magnetic field sensitivity.

【0008】特開平4−298835号公報において
は、記録レーザーパワー感度についての記載はあるが、
記録磁界感度についての記載あるいは記録磁界感度に関
して知見を得るための記載はない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-298835 describes a recording laser power sensitivity.
There is no description about the recording magnetic field sensitivity or any description for obtaining knowledge regarding the recording magnetic field sensitivity.

【0009】特開平4−366441号公報において
も、磁気静特性としてのカーループに関する記載はある
が、実際のリード・ライト特性に関する記載、特に記録
磁界感度に関する記載はない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-366441 also discloses a car loop as a magnetostatic characteristic, but does not describe an actual read / write characteristic, particularly a recording magnetic field sensitivity.

【0010】本発明の目的は、上述した課題を解決し、
媒体構造を複雑にすることなく、記録磁界感度に優れた
光磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magneto-optical recording medium having excellent recording magnetic field sensitivity without complicating the medium structure.

【0011】[0011]

【問題を解決するための手段】スパッタガスとして純K
rを用い、主成分がTbあるいはDy元素からなるター
ゲットと主成分が遷移金属元素からなるターゲットを用
い、2つのターゲットを同時にスパッタしてTbあるい
はDyを主成分とする金属と遷移金属元素を主成分とす
る金属を交互に積層し非晶質膜を成膜する。
[Means for solving the problem] Pure K as a sputtering gas
r, a target composed mainly of a Tb or Dy element and a target composed mainly of a transition metal element, and two targets are simultaneously sputtered to produce a metal composed mainly of Tb or Dy and a transition metal element. An amorphous film is formed by alternately stacking metals as components.

【0012】[0012]

【作用】Arよりも重い元素であるKrを使ってTbあ
るいはDyターゲットとFeCoターゲットを、同時に
スパッタすることにより、スパッタ原子(Tb、Dy、
Fe、Co)のエネルギー分布が高エネルギー側にシフ
トする。その結果として非晶質膜の短距離秩序に変化が
生じ、磁性膜の異方性分散が変化することにより記録磁
界感度が向上する。この現象は、実験的に新たに発見さ
れたものである。
The Tb or Dy target and the FeCo target are simultaneously sputtered using Kr, an element heavier than Ar, so that sputtered atoms (Tb, Dy,
The energy distribution of Fe, Co) shifts to the higher energy side. As a result, the short-range order of the amorphous film changes, and the anisotropic dispersion of the magnetic film changes, thereby improving the recording magnetic field sensitivity. This phenomenon is newly discovered experimentally.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明について図面を参照しながら説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】(実施例1) 実施例1における光磁気記録媒体は、ポリカーボネイト
基板上に、順次、SiN膜を1000オングストロー
ム、Tb/FeCo周期多層膜を200オングストロー
ム、SiN膜を400オングストローム、Al反射膜を
400オングストローム成膜した。この時のTb/Fe
Co周期多層膜におけるTb層厚は4オングストローム
であり、FeCo層厚は6オングストロームである。S
iN膜はArとN2の混合ガスを用いて、スパッタ時の
真空度2.0×10−1Paにおいて反応性RFマグネ
トロン・スパッタ法で作製した。Al反射膜はArガス
を用いたRFスパッタ法で成膜した。実施例1における
Tb/FeCo周期多層膜はTbターゲットとFe90
Co10ターゲットを用い、基板回転数は20rpmに
固定し、純Krガスを用いてスパッタ時の真空度8.0
×10−2Paにおいて、2つのターゲットを同時にD
Cマグネトロン・スパッタ法でスパッタして作製した。
(Embodiment 1) The magneto-optical recording medium according to Embodiment 1 is such that a SiN film, a Tb / FeCo periodic multilayer film is 200 Å, a SiN film is 400 Å, and an Al reflective film are sequentially formed on a polycarbonate substrate. Was formed into a film of 400 Å. Tb / Fe at this time
The Tb layer thickness in the Co periodic multilayer film is 4 Å, and the FeCo layer thickness is 6 Å. S
The iN film was formed by a reactive RF magnetron sputtering method using a mixed gas of Ar and N2 at a degree of vacuum of 2.0 × 10 -1 Pa during sputtering. The Al reflection film was formed by an RF sputtering method using Ar gas. In the first embodiment, the Tb / FeCo periodic multilayer film is composed of a Tb target and Fe90.
The substrate rotation speed was fixed at 20 rpm using a Co10 target, and the degree of vacuum during sputtering was 8.0 using pure Kr gas.
At 10 × 10-2 Pa, two targets are simultaneously D
It was produced by sputtering with a C magnetron sputtering method.

【0015】(比較例1) さらに、比較例1としての光磁気記録媒体を作製した。
比較例1における光磁気記録媒体は、ポリカーボネイ
ト基板上に、順次、SiN膜を1000オングストロー
ム、Tb/FeCo周期多層膜を200オングストロー
ム、SiN膜を400オングストローム、Al反射膜を
400オングストローム成膜した。この時のTb/Fe
Co周期多層膜におけるTb層厚は4オングストローム
であり、FeCo層厚は6オングストロームである。S
iN膜はArとN2の混合ガスを用いて、スパッタ時の
真空度2.0×10−1Paにおいて反応性RFマグネ
トロン・スパッタ法で作製した。Al反射膜はArガス
を用いたRFスパッタ法で成膜した。実施例1における
Tb/FeCo周期多層膜はTbターゲットとFe90
Co10ターゲットを用い、基板回転数は20rpmに
固定し、純Arガスを用いてスパッタ時の真空度8.0
×10−2Paにおいて、2つのターゲットを同時にD
Cマグネトロン・スパッタ法でスパッタして作製した。
すなわち、Tb/FeCo周期多層膜の成膜時にKrで
はなくArを用いた以外は、各層の膜厚や作製条件など
では実施例1における光磁気記録媒体と全く同じであ
る。
Comparative Example 1 Further, a magneto-optical recording medium as Comparative Example 1 was manufactured.
In the magneto-optical recording medium of Comparative Example 1, a SiN film, a Tb / FeCo periodic multilayer film were 200 Å, a SiN film was 400 Å, and an Al reflective film was 400 Å on a polycarbonate substrate. Tb / Fe at this time
The Tb layer thickness in the Co periodic multilayer film is 4 Å, and the FeCo layer thickness is 6 Å. S
The iN film was formed by a reactive RF magnetron sputtering method using a mixed gas of Ar and N2 at a degree of vacuum of 2.0 × 10 -1 Pa during sputtering. The Al reflection film was formed by an RF sputtering method using Ar gas. In the first embodiment, the Tb / FeCo periodic multilayer film is composed of a Tb target and Fe90.
The substrate rotation speed was fixed at 20 rpm using a Co10 target, and the degree of vacuum during sputtering was 8.0 using pure Ar gas.
At 10 × 10-2 Pa, two targets are simultaneously D
It was produced by sputtering with a C magnetron sputtering method.
That is, except for using Ar instead of Kr when forming the Tb / FeCo periodic multilayer film, the film thickness of each layer and the manufacturing conditions are exactly the same as those of the magneto-optical recording medium of the first embodiment.

【0016】図1は本発明による方法で作製した実施例
1の光磁気記録媒体のキャリアレベル1とノイズレベル
2、及び比較例1の光磁気記録媒体のキャリアレベル3
とノイズレベル4の記録磁界依存性を示したものであ
る。記録再生条件は、線速11m/s、記録周波数3.
7MHz、再生レーザパワー1.0mWである。比較例
1の光磁気記録媒体では、350(Oe)以上の磁界を
印加しないとノイズレベル4は飽和しない。しかし、本
発明による製造方法で作製した実施例1の光磁気記録媒
体では250(Oe)以上の磁界を印加すればノイズレ
ベル2は飽和する。つまり、本発明の製造方法により、
光磁気記録媒体の記録磁界感度が向上した。
FIG. 1 shows a carrier level 1 and a noise level 2 of the magneto-optical recording medium of Example 1 manufactured by the method according to the present invention, and a carrier level 3 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 1.
4 shows the recording magnetic field dependence of the noise level 4. The recording and reproduction conditions were a linear velocity of 11 m / s, a recording frequency of 3.
7 MHz, and the reproduction laser power was 1.0 mW. In the magneto-optical recording medium of Comparative Example 1, the noise level 4 does not saturate unless a magnetic field of 350 (Oe) or more is applied. However, in the magneto-optical recording medium of Example 1 manufactured by the manufacturing method according to the present invention, the noise level 2 is saturated when a magnetic field of 250 (Oe) or more is applied. That is, according to the production method of the present invention,
The recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium is improved.

【0017】(実施例2)実施例2における光磁気記録
媒体は、上記実施例1の光磁気記録媒体と同様の方法で
作製した。実施例1と異なる点は、Tb/FeCo周期
多層膜におけるTb層厚とFeCo層厚である。実施例
2のTb/FeCo周期多層膜におけるTb層厚は6.
4オングストロームであり、FeCo層厚は9.6オン
グストロームである。
(Embodiment 2) The magneto-optical recording medium of Embodiment 2 was manufactured in the same manner as the magneto-optical recording medium of Embodiment 1 described above. The difference from the first embodiment lies in the Tb layer thickness and the FeCo layer thickness in the Tb / FeCo periodic multilayer film. The Tb layer thickness in the Tb / FeCo periodic multilayer film of Example 2 was 6.
4 Å and the FeCo layer thickness is 9.6 Å.

【0018】(比較例2)さらに、比較例2として光磁
気記録媒体を作製した。上記比較例1の光磁気記録媒体
と同様の方法で作製した。比較例1と異なる点は、Tb
/FeCo周期多層膜におけるTb層厚とFeCo層厚
である。比較例2のTb/FeCo周期多層膜における
Tb層厚は6.4オングストロームであり、FeCo層
厚は9.6オングストロームである。すなわち、Tb/
FeCo周期多層膜の成膜時にKrではなくArを用い
た以外は、各層の膜厚や作製条件などは本発明による実
施例2の光磁気記録媒体と全く同じである。
Comparative Example 2 Further, as Comparative Example 2, a magneto-optical recording medium was manufactured. The magneto-optical recording medium of Comparative Example 1 was produced in the same manner as described above. The difference from Comparative Example 1 is that Tb
/ The thickness of the Tb layer and the thickness of the FeCo layer in the FeCo periodic multilayer film. The Tb layer thickness of the Tb / FeCo periodic multilayer film of Comparative Example 2 was 6.4 angstroms, and the FeCo layer thickness was 9.6 angstroms. That is, Tb /
Except for using Ar instead of Kr when forming the FeCo periodic multilayer film, the thickness of each layer and the manufacturing conditions are exactly the same as those of the magneto-optical recording medium of Example 2 according to the present invention.

【0019】図2は本発明による方法で作製した実施例
2の光磁気記録媒体のキャリアレベル5とノイズレベル
6と、比較例2の光磁気記録媒体のキャリアレベル7と
ノイズレベル8の記録磁界依存性を示したものである。
記録再生条件は実施例1と同様である。比較例2の光磁
気記録媒体では、200(Oe)以上の磁界を印加しな
いとノイズレベル8は飽和しない。しかし、本発明によ
る製造方法で作製した実施例2の光磁気記録媒体では1
00(Oe)以上の磁界を印加すればノイズレベル6は
飽和する。つまり、本発明の製造方法により、光磁気記
録媒体の記録磁界感度が向上した。
FIG. 2 shows a recording magnetic field of the carrier level 5 and the noise level 6 of the magneto-optical recording medium of Example 2 manufactured by the method according to the present invention, and the carrier level 7 and the noise level 8 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 2. It shows the dependency.
The recording and reproducing conditions are the same as in the first embodiment. In the magneto-optical recording medium of Comparative Example 2, the noise level 8 does not saturate unless a magnetic field of 200 (Oe) or more is applied. However, in the magneto-optical recording medium of Example 2 manufactured by the manufacturing method according to the present invention, 1
When a magnetic field of 00 (Oe) or more is applied, the noise level 6 is saturated. That is, the recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium was improved by the manufacturing method of the present invention.

【0020】(比較例3)比較例3における光磁気記録
媒体は、ポリカーボネイト基板上に順次、SiN膜を1
000オングストローム、TbFeCo合金膜を200
オングストローム、SiN膜を400オングストロー
ム、Al反射膜を400オングストローム成膜した。比
較例3の記録膜は、TbFeCo周期多層膜ではなく、
TbFeCo合金膜であり、Fe9 0 Co1 0 ターゲッ
トの上にTbチップを配置した複合ターゲットを用いて
DCマグネトロンスパッタ法で、純Krガスを使ってス
パッタ時真空度8.0×10- 2 PaにおいてDCマグ
ネトロン・スパッタ法で作製した。SiN膜はArとN
2 の混合ガスを用いて、スパッタ時の真空度2.0×1
- 1 Paにおいて反応性RFマグネトロン・スパッタ
法で作製した。Al反射膜はArガスを用いたRFスパ
ッタ法で成膜した。
Comparative Example 3 In the magneto-optical recording medium of Comparative Example 3, one SiN film was sequentially formed on a polycarbonate substrate.
2,000 angstroms, TbFeCo alloy film 200
An Angstrom, SiN film was formed to 400 Å, and an Al reflective film was formed to 400 Å. The recording film of Comparative Example 3 was not a TbFeCo periodic multilayer film,
TbFeCo an alloy film, Fe 9 0 Co 1 0 a DC magnetron sputtering method using a composite target of arranging the Tb chip onto a target, sputtering during vacuum with pure Kr gas 8.0 × 10 - 2 Pa Was manufactured by a DC magnetron sputtering method. The SiN film is composed of Ar and N
The degree of vacuum at the time of sputtering 2.0 × 1
0 - was prepared by reactive RF magnetron sputtering at 1 Pa. The Al reflection film was formed by an RF sputtering method using Ar gas.

【0021】(比較例4)比較例4における光磁気記録
媒体は、ポリカーボネイト基板上に、順次、SiN膜を
1000オングストローム、TbFeCo合金膜を20
0オングストローム、SiN膜を400オングストロー
ム、Al反射膜を400オングストローム成膜した。比
較例4の記録膜は、Fe9 0 Co1 0 ターゲットび上に
Tbチップを配置した複合ターゲットを用いてDCマグ
ネトロンスパッタ法で、純Arガスを使ってスパッタ時
真空度8.0×10- 2 PaにおいてDCマグネトロン
・スパッタ法で作製した。SiN膜はArとN2 の混合
ガスを用いて、スパッタ時の真空度2.0×10- 1 P
aにおいて反応性RFマグネトロン・スパッタ法で作製
した。Al反射膜はArガスを用いたRFスパッタ法で
成膜した。また、比較例3と比較例4の記録膜の組成が
同じになるように、Fe9 0 Co1 0 ターゲットの上に
配置したTbチップの数を調整した。
(Comparative Example 4) The magneto-optical recording medium of Comparative Example 4 was such that a SiN film and a TbFeCo alloy film were sequentially formed on a polycarbonate substrate in a thickness of 1000 angstroms and a TbFeCo alloy film.
0 angstrom, 400 angstrom of SiN film, and 400 angstrom of Al reflective film. Recording film of Comparative Example 4, Fe 9 0 Co 1 0 a DC magnetron sputtering method using a composite target of arranging the Tb chip on the target beauty, sputtering during vacuum using pure Ar gas 8.0 × 10 - It was produced at 2 Pa by DC magnetron sputtering. The SiN film is formed by using a mixed gas of Ar and N 2 , and has a degree of vacuum of 2.0 × 10 -1 P during sputtering.
In a, it was prepared by a reactive RF magnetron sputtering method. The Al reflection film was formed by an RF sputtering method using Ar gas. Moreover, as the composition of the recording film of Comparative Example 4 and Comparative Example 3 is the same, to adjust the number of Tb chips was placed on the Fe 9 0 Co 1 0 target.

【0022】図3は比較例3の光磁気記録媒体のキャリ
アレベル9とノイズレベル10と、比較例4の光磁気記
録媒体のキャリアレベル11とノイズレベル12の記録
磁界依存性を示したものである。記録再生条件は実施例
1と同様である。比較例3および比較例4の光磁気記録
媒体では、250(Oe)以上の磁界を印加しないとノ
イズレベルは飽和せず、しかも両者でノイズレベルが飽
和するために必要な記録磁界の大きさはほぼ同じであ
る。つまり、複合ターゲットを用いたスパッタ法で作製
した光磁気記録媒体の記録磁界感度は純Krガスを用い
ても向上せず、TbターゲットとFe90Co10ター
ゲットを用いて純Krガスを使って、2つのターゲット
を同時にDCマグネトロン・スパッタ法でスパッタして
作製する場合に記録磁界感度は向上する。
FIG. 3 shows the recording magnetic field dependence of the carrier level 9 and the noise level 10 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 3, and the carrier level 11 and the noise level 12 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 4. is there. The recording and reproducing conditions are the same as in the first embodiment. In the magneto-optical recording media of Comparative Example 3 and Comparative Example 4, the noise level does not saturate unless a magnetic field of 250 (Oe) or more is applied. Almost the same. That is, the recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium manufactured by the sputtering method using the composite target does not improve even when pure Kr gas is used, and the two targets are formed using pure Kr gas using a Tb target and an Fe90Co10 target. Is simultaneously produced by sputtering with a DC magnetron sputtering method, the recording magnetic field sensitivity is improved.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光磁気記
録媒体の製造方法においては、光磁気記録媒体の記録磁
界感度を向上でき、記録消去に必要な磁界を低下させる
ことによりドライブの負担を軽減させ、また、磁界変調
オーバーライト媒体として適している。さらに、4層の
媒体構成であるので、従来媒体と比較して複雑になって
いない。
As described above, in the method for manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention, the recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium can be improved, and the magnetic field required for recording and erasing can be reduced to reduce the load on the drive. And is suitable as a magnetic field modulation overwrite medium. Further, since the medium has a four-layer structure, the structure is not complicated as compared with the conventional medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による実施例1の光磁気記録媒体と、比
較例1の光磁気記録媒体におけるキャリアレベルとノイ
ズレベルの記録磁界依存性を示した図。
FIG. 1 is a diagram showing a recording magnetic field dependency of a carrier level and a noise level in a magneto-optical recording medium of Example 1 according to the present invention and a magneto-optical recording medium of Comparative Example 1.

【図2】本発明による実施例2の光磁気記録媒体と、比
較例2の光磁気記録媒体におけるキャリアレベルとノイ
ズレベルの記録磁界依存性を示した図。
FIG. 2 is a diagram showing a recording magnetic field dependence of a carrier level and a noise level in a magneto-optical recording medium of Example 2 according to the present invention and a magneto-optical recording medium of Comparative Example 2.

【図3】比較例3および比較例4の光磁気記録媒体にお
けるキャリアレベルとノイズレベルの記録磁界依存性を
示した図。
FIG. 3 is a diagram showing a recording magnetic field dependency of a carrier level and a noise level in the magneto-optical recording media of Comparative Examples 3 and 4.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 実施例1におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 2 実施例1におけるノイズレベルの記録磁界依存性 3 比較例1におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 4 比較例1におけるノイズレベルの記録磁界依存性 5 実施例2におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 6 実施例2におけるノイズレベルの記録磁界依存性 7 比較例2におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 8 比較例2におけるノイズレベルの記録磁界依存性 9 比較例3におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 10 比較例3におけるノイズレベルの記録磁界依存性 11 比較例4におけるキャリアレベルの記録磁界依存
性 12 比較例4におけるノイズレベルの記録磁界依存性
1 Dependency of carrier level on recording magnetic field in Example 1 2 Dependence of noise level on recording magnetic field in Example 1 3 Dependence of carrier level on recording magnetic field in Comparative Example 1 4 Dependence of noise level on recording magnetic field in Comparative Example 1 5 Dependence of carrier level on recording magnetic field in Example 2 6 Dependence of noise level on recording magnetic field in Example 2 7 Dependence of carrier level on recording magnetic field in Comparative Example 8 8 Dependence of noise level on recording magnetic field in Comparative Example 9 9 Comparative Example 3 10 Dependence of Carrier Level on Recording Magnetic Field in Comparative Example 3 11 Dependence of Carrier Level on Recording Magnetic Field in Comparative Example 4 12 Dependence of Noise Level on Recording Magnetic Field in Comparative Example 4

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】記録膜としてTbあるいはDy元素と遷移
金属元素の非晶質膜を用い、記録膜をスパッタ法で成膜
する光磁気記録媒体の製造方法において、スパッタガス
として純Krを用い、主成分がTbあるいはDy元素か
らなるターゲットと主成分が遷移金属元素からなるター
ゲットを用い、2つのターゲットを同時にスパッタして
TbあるいはDyを主成分とする金属と遷移金属元素を
主成分とする金属を交互に積層し非晶質膜を成膜するこ
とを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
In a method for manufacturing a magneto-optical recording medium, wherein an amorphous film of a Tb or Dy element and a transition metal element is used as a recording film and the recording film is formed by a sputtering method, pure Kr is used as a sputtering gas. Using a target whose main component is Tb or Dy and a target whose main component is a transition metal element, two targets are simultaneously sputtered and a metal whose main component is Tb or Dy and a metal whose main component is a transition metal element Are alternately stacked to form an amorphous film.
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