JPH0765425A - Production of magneto-optical recording medium - Google Patents

Production of magneto-optical recording medium

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JPH0765425A
JPH0765425A JP21127393A JP21127393A JPH0765425A JP H0765425 A JPH0765425 A JP H0765425A JP 21127393 A JP21127393 A JP 21127393A JP 21127393 A JP21127393 A JP 21127393A JP H0765425 A JPH0765425 A JP H0765425A
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magneto
optical recording
recording medium
magnetic field
film
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Hiroo Karube
博夫 軽部
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Abstract

PURPOSE:To provide a production method for a magneto-optical recording medium excellent in sensitivity for a recording magnetic field. CONSTITUTION:An amorphous recording film is formed by co-sputtering by using pure Kr as sputtering gas, a target essentially comprising Tb or Dy element, and a target essentially comprising transition metal elements to alternately deposit Tb or Dy element and the transition metal elements. By this method, the obtd. magneto-optical recording medium shows saturation in the noise level 2 with a smaller magnetic field applied and has improved sensitivity for a recording magnetic field compared to a medium produced by the conventional method using Ar as sputtering gas.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスクの製造方
法に関し、特に記録磁界感度に優れた光磁気記録媒体の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magneto-optical disk, and more particularly to a method for manufacturing a magneto-optical recording medium having excellent recording magnetic field sensitivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁界変調オーバーライト方式において、
光磁気記録媒体の記録磁界感度の向上は記録密度を高
め、記録消去に必要な磁界を低下させることによりドラ
イブの負担を軽減する上で重要である。記録感度の向上
のために、TbFeCo膜にキャッピングレイヤーを付
加したり(Y.Yamada,M.Yoshihir
o,N.Ohta,H.Sukeda,T.Nihar
a and H.Fujiwara;J.Magn.S
oc.Jpn.,15,Suppl.Sl,417(1
991))、膜厚10nmのGdFeCo膜と膜厚20
nmのTbFeCo膜を交換結合させた2層膜を記録膜
とした5層光磁気記録媒体(市谷克美、綱島滋、内山
晋;第15回日本応用磁気学会学術講演概要集、31p
B−2、307頁)が提案されている。これら2つの光
磁気記録媒体は、従来知られている光磁気記録媒体に新
たに磁性層を付け加え、5層の媒体構成とすることで記
録磁界感度の向上を計っているので、媒体構造が従来媒
体よりも複雑になっている。
2. Description of the Related Art In a magnetic field modulation overwrite system,
The improvement of the recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium is important for increasing the recording density and reducing the magnetic field required for recording and erasing to reduce the load on the drive. To improve recording sensitivity, a capping layer may be added to the TbFeCo film (Y. Yamada, M. Yoshihir).
o, N.N. Ohta, H .; Sukeda, T .; Nihar
a and H.A. Fujiwara; J. Magn. S
oc. Jpn. , 15, Suppl. Sl, 417 (1
991)), a GdFeCo film having a thickness of 10 nm and a thickness of 20
5-layer magneto-optical recording medium using a 2-layer film exchange-coupled with a TbFeCo film of 30 nm (Katsumi Ichiya, Shigeru Tsunashima, Shin Uchiyama; 15th Annual Meeting of the Japan Society for Applied Magnetics, 31p)
B-2, page 307) has been proposed. In these two magneto-optical recording media, a magnetic layer is newly added to a conventionally known magneto-optical recording medium so that the recording magnetic field sensitivity is improved by making a medium structure of 5 layers. It is more complex than the medium.

【0003】Co/PtあるいはCo/Pd多層膜をス
パッタ法で作製する際に、スパッタガスとして純Krを
用いることは、文献(P.F.Carcia,S.I.
Shah and W.B.Zeper;Appl.P
hys.Lett.56,2345(1990))や
(特開平5−6589号公報)により知られている。純
Arガスを用いたスパッタ法で作製されたCo/Ptあ
るいはCo/Pd多層膜は、たかだか数百Oe程度と希
土類−遷都金属非晶質膜の保磁両に比べ非常に小さな保
磁力しか持っておらず、さらに垂直磁気異方性エネルギ
ーも希土類−遷移金属非晶質膜の十分の一以下であり、
加えてカーループの角形比が1にほど遠いので、光磁気
記録媒体の記録膜として適していない。そこで、保磁力
や垂直磁気異方性エネルギーを大きくしたり、角形比を
1に近づける必要があった。この問題を解決するため
に、KrガスあるいはXeガスによるスパッタ法を用い
ている。 光磁気記録媒体において、希土類−遷移金属
合金を含む記録膜をKrやXeを含むガスを用いてスパ
ッタ法で作製することは、特開平4−298835号公
報および特開平4−366441号公報にて示されてい
る。
When pure Co is used as a sputtering gas when a Co / Pt or Co / Pd multilayer film is formed by a sputtering method, it is disclosed in the literature (PF Carcia, SI.
Shah and W. B. Zeper; Appl. P
hys. Lett. 56, 2345 (1990)) and (JP-A-5-6589). The Co / Pt or Co / Pd multilayer film produced by the sputtering method using pure Ar gas has a coercive force of about several hundreds Oe, which is very small as compared with the coercive force of the rare earth-transitive metal amorphous film. Moreover, the perpendicular magnetic anisotropy energy is also one tenth or less of the rare earth-transition metal amorphous film,
In addition, since the squareness ratio of the Kerr loop is far from 1, it is not suitable as a recording film for a magneto-optical recording medium. Therefore, it is necessary to increase the coercive force and the perpendicular magnetic anisotropy energy, or to bring the squareness ratio close to 1. In order to solve this problem, a sputtering method using Kr gas or Xe gas is used. In a magneto-optical recording medium, a recording film containing a rare earth-transition metal alloy is prepared by a sputtering method using a gas containing Kr or Xe, as disclosed in JP-A-4-298835 and JP-A-4-366441. It is shown.

【0004】特開平4−298835号公報において
は、磁性膜に軽希土類元素を含むので保持力が小さく、
そのため保持力を大きくし再生信号特性を高めるために
KrやXeを含むガスを用いてスパッタ法で作製してい
る。
In Japanese Patent Laid-Open No. 4-298835, the magnetic film contains a light rare earth element, so that the coercive force is small,
Therefore, in order to increase the coercive force and enhance the reproduction signal characteristics, the sputtering method is used using a gas containing Kr or Xe.

【0005】また、記録膜を作製するときに、合金ター
ゲットを用いたのか、複合ターゲットを用いたのか等の
ターゲットに関する記載はない。特開平4−36644
1号公報においては、スパッタガスとしてArを必ず含
んだ混合ガスを用いており、また、記録膜にはPt、P
dおよびAuから選ばれる少なくとも一種の元素を含ん
でいる。一般に、TbあるいはDyと遷移金属との非晶
質膜に非磁性元素を添加するとカーループの角形比が悪
くなる。逆に言えば、非磁性元素を添加しない場合は、
角形比を懸念する必要はない。また、特開平4−366
441号公報において、カーヒーステリシスが良好な角
形ループを示すとは、最大外部磁場におけるカー回転角
(θK 1 )と、外部磁場ゼロにおけるカー回転角である
残留カー回転角(θK 2 )との非θK 2/θK 1 が0.
9以上であることを意味すると明記してあるが、実施例
と比較例を見る限りどちらもθK 2/θK 1 が0.9以
上であり、カーループ角形比の改善は確認されず、やは
りこの効果は顕著とは言いがたい。
Further, there is no description about a target such as whether an alloy target or a composite target was used when producing a recording film. JP-A-4-36644
In JP-A-1 No. 1, a mixed gas that always contains Ar is used as the sputtering gas, and Pt and P are used for the recording film.
It contains at least one element selected from d and Au. Generally, when a nonmagnetic element is added to an amorphous film of Tb or Dy and a transition metal, the squareness ratio of the Kerr loop is deteriorated. Conversely, if no non-magnetic element is added,
There is no need to worry about squareness. In addition, Japanese Patent Laid-Open No. 4-366
In Japanese Patent Publication No. 441, a Kerr rotation angle at a maximum external magnetic field (θ K 1 ) and a residual Kerr rotation angle (θ K 2 ) at a zero external magnetic field are referred to as showing a rectangular loop with good Kerr sterilysis. Non-θ K 2 / θ K 1 of 0.
Although it is specified that it means 9 or more, both the examples and the comparative examples show that θ K 2 / θ K 1 is 0.9 or more, and no improvement in the Kerr loop squareness ratio is confirmed. This effect is hard to say.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前記の5層光磁気記録
媒体では、記録磁界感度を向上させるために媒体構造が
複雑となるいう課題がある。
The above-mentioned five-layer magneto-optical recording medium has a problem that the medium structure becomes complicated in order to improve the recording magnetic field sensitivity.

【0007】Co/PtあるいはCo/Pd多層膜を純
Krガスあるいは純Xeガスを使って作製することは、
特開平5−6589号公報で示されている。この中で、
保磁力の増大、角形比を1付近にする、記録ノイズレベ
ルが低くなること等は示されているが、記録磁界感度に
関する知見を得ることはできない。
Producing a Co / Pt or Co / Pd multilayer film using pure Kr gas or pure Xe gas
It is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-6589. In this,
Although it has been shown that the coercive force is increased, the squareness ratio is set to around 1, and the recording noise level is lowered, it is not possible to obtain knowledge on the recording magnetic field sensitivity.

【0008】特開平4−298835号公報において
は、記録レーザーパワー感度についての記載はあるが、
記録磁界感度についての記載あるいは記録磁界感度に関
して知見を得るための記載はない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-298835 discloses a recording laser power sensitivity.
There is no description about the recording magnetic field sensitivity or for obtaining knowledge about the recording magnetic field sensitivity.

【0009】特開平4−366441号公報において
も、磁気静特性としてのカーループに関する記載はある
が、実際のリード・ライト特性に関する記載、特に記録
磁界感度に関する記載はない。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 4-366441 also discloses a Kerr loop as a magnetic static characteristic, but does not describe actual read / write characteristics, particularly recording magnetic field sensitivity.

【0010】本発明の目的は、上述した課題を解決し、
媒体構造を複雑にすることなく、記録磁界感度に優れた
光磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems,
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magneto-optical recording medium having excellent recording magnetic field sensitivity without complicating the medium structure.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】スパッタガスとして純K
rを用い、主成分がTbあるいはDy元素からなるター
ゲットと主成分が遷移金属元素からなるターゲットを用
い、コスパッタ法によりTbあるいはDy元素と遷移金
属寝素とを交互に積層し非晶質膜を成膜する。
[Means for Solving the Problems] Pure K as a sputtering gas
Using r, a target whose main component is Tb or Dy element and a target whose main component is transition metal element are used, and an amorphous film is formed by alternately stacking Tb or Dy element and transition metal oxide by a co-sputtering method. Form a film.

【0012】[0012]

【作用】Arよりも重い元素であるKrを使ってTbあ
るいはDyとFeCoターゲットをコスパッタすること
により、スパッタ原子(Tb、Dy、Fe、Co)のエ
ネルギー分布が高エネルギー側にシフトする。その結果
として非晶質膜の短距離秩序に変化が生じ、磁性膜の異
方性分散が変化することにより記録磁界感度が向上す
る。この現象は、実験的に新たに発見されたものであ
る。
By co-sputtering the FeCo target with Tb or Dy using Kr, which is an element heavier than Ar, the energy distribution of sputtered atoms (Tb, Dy, Fe, Co) shifts to the high energy side. As a result, the short-range order of the amorphous film is changed, and the anisotropic dispersion of the magnetic film is changed to improve the recording magnetic field sensitivity. This phenomenon has been newly discovered experimentally.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明について図面を参照しながら説
明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】(実施例1)実施例1における光磁気記録
媒体は、ポリカーボネイト基板上に、順次、SiN膜を
1000オングストローム、Tb/FeCo周期多層膜
を200オングストローム、SiN膜を400オングス
トローム、Al反射膜を400オングストローム成膜し
た。この時のTb/FeCo周期多層膜におけるTb層
厚は4オングストロームであり、FeCo層厚は6オン
グストロームである。SiN膜はArとN2 の混合ガス
を用いて、スパッタ時の真空度2.0×10- 1 Paに
おいて反応性RFマグネトロ・スパッタ法で作製した。
Al反射膜はArガスを用いたRFスパッタ法で成膜し
た。実施例1におけるTb/FeCo周期多層膜はTb
ターゲットとFe9 0 Co1 0 ターゲットを用い、基板
回転数は20rpmに固定し、純Krガスを用いてスパ
ッタ時真空度8.0×10- 2 PaにおいてDCマグネ
トロン・コスパッタ法で作製した。
Example 1 The magneto-optical recording medium in Example 1 is a SiN film having a thickness of 1000 Å, a Tb / FeCo periodic multilayer film having a thickness of 200 Å, a SiN film having a thickness of 400 Å, and an Al reflection film on a polycarbonate substrate. Was formed into a 400 angstrom film. At this time, the Tb layer thickness of the Tb / FeCo periodic multilayer film is 4 Å and the FeCo layer thickness is 6 Å. The SiN film was formed by a reactive RF magnetro sputtering method using a mixed gas of Ar and N 2 at a vacuum degree of 2.0 × 10 −1 Pa during sputtering.
The Al reflection film was formed by the RF sputtering method using Ar gas. The Tb / FeCo periodic multilayer film in Example 1 is Tb
Using a target and Fe 9 0 Co 1 0 target, substrate rotation speed was fixed at 20 rpm, sputtering time of vacuum degree 8.0 × 10 using pure Kr gas - was produced by DC magnetron co-sputtering method in 2 Pa.

【0015】(比較例1)さらに、比較例1としての光
磁気記録媒体を作製した。比較例1における光磁気記録
媒体は、ポリカーボネイト基板上に、順次、SiN膜を
1000オングストローム、Tb/FeCo周期多層膜
を200オングストローム、SiN膜を400オングス
トローム、Al反射膜を400オングストローム成膜し
た。この時のTb/FeCo周期多層膜におけるTb層
厚は4オングストロームであり、FeCo層厚は6オン
グストロームである。SiN膜はArとN2 の混合ガス
を用いて、スパッタ時の真空度2.0×10- 1 Paに
おいて反応性RFマグネトロン・スパッタ法で作製し
た。Al反射膜はArガスを用いたRFスパッタ法で成
膜した。比較例1におけるTb/FeCo周期多層膜は
TbターゲットとFe90 Co1 0 ターゲットを用い、
基板回転数は20rpmに固定し、純Arガスを用いて
スパッタ時真空度8.0×10- 2 PaにおいてDCマ
グネトロン・コスパッタ法で作製した。すなわち、Tb
/FeCo周期多層膜の成膜時にKrではなくArを用
いた以外は、各層の膜厚や作製条件などでは実施例1に
おける光磁気記録媒体と全く同じである。
Comparative Example 1 Further, a magneto-optical recording medium as Comparative Example 1 was manufactured. In the magneto-optical recording medium of Comparative Example 1, a SiN film having a thickness of 1000 Å, a Tb / FeCo periodic multilayer film having a thickness of 200 Å, a SiN film having a thickness of 400 Å, and an Al reflection film having a thickness of 400 Å were sequentially formed on a polycarbonate substrate. At this time, the Tb layer thickness of the Tb / FeCo periodic multilayer film is 4 Å and the FeCo layer thickness is 6 Å. The SiN film was formed by a reactive RF magnetron sputtering method using a mixed gas of Ar and N 2 at a vacuum degree of 2.0 × 10 −1 Pa during sputtering. The Al reflection film was formed by the RF sputtering method using Ar gas. The Tb / FeCo periodic multilayer film in Comparative Example 1 uses a Tb target and a Fe 90 Co 10 target,
Substrate rotation speed was fixed at 20 rpm, sputtering time of vacuum degree 8.0 × 10 using pure Ar gas - was produced by DC magnetron co-sputtering method in 2 Pa. That is, Tb
The film thickness and manufacturing conditions of each layer are exactly the same as those of the magneto-optical recording medium of Example 1 except that Ar was used instead of Kr when the / FeCo periodic multilayer film was formed.

【0016】図1は本発明による方法で作製した実施例
1の光磁気記録媒体のキャリアレベル1とノイズレベル
2、及び比較例1の光磁気記録媒体のキャリアレベル3
とノイズレベル4の記録磁界依存性を示したものであ
る。記録再生条件は、線速11m/s、記録周波数3.
7MHz、再生レーザパワー1.0mWである。比較例
1の光磁気記録媒体では、350(Oe)以上の磁界を
印加しないとノイズレベル4は飽和しない。しかし、本
発明による製造方法で作製した実施例1の光磁気記録媒
体では250(Oe)以上の磁界を印加すればノイズレ
ベル2は飽和する。つまり、本発明の製造方法により、
光磁気記録媒体の記録磁界感度が向上した。
FIG. 1 shows a carrier level 1 and a noise level 2 of the magneto-optical recording medium of Example 1 manufactured by the method according to the present invention, and a carrier level 3 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 1.
And the recording magnetic field dependency of the noise level 4. Recording / reproducing conditions are a linear velocity of 11 m / s and a recording frequency of 3.
It is 7 MHz and the reproduction laser power is 1.0 mW. In the magneto-optical recording medium of Comparative Example 1, the noise level 4 is not saturated unless a magnetic field of 350 (Oe) or more is applied. However, in the magneto-optical recording medium of Example 1 manufactured by the manufacturing method according to the present invention, the noise level 2 is saturated when a magnetic field of 250 (Oe) or more is applied. That is, according to the manufacturing method of the present invention,
The recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium is improved.

【0017】(実施例2)実施例2における光磁気記録
媒体は、上記実施例1の光磁気記録媒体と同様の方法で
作製した。実施例1と異なる点は、Tb/FeCo周期
多層膜におけるTb層厚とFeCo層厚である。実施例
2のTb/FeCo周期多層膜におけるTb層厚は6.
4オングストロームであり、FeCo層厚は9.6オン
グストロームである。
(Example 2) The magneto-optical recording medium in Example 2 was manufactured by the same method as the magneto-optical recording medium in Example 1 above. The difference from Example 1 is the Tb layer thickness and the FeCo layer thickness in the Tb / FeCo periodic multilayer film. The Tb layer thickness of the Tb / FeCo periodic multilayer film of Example 2 was 6.
It is 4 angstroms and the FeCo layer thickness is 9.6 angstroms.

【0018】(比較例2)さらに、比較例2として光磁
気記録媒体を作製した。上記比較例1の光磁気記録媒体
と同様の方法で作製した。比較例1と異なる点は、Tb
/FeCo周期多層膜におけるTb層厚とFeCo層厚
である。比較例2のTb/FeCo周期多層膜における
Tb層厚は6.4オングストロームであり、FeCo層
厚は9.6オングストロームである。すなわち、Tb/
FeCo周期多層膜の成膜時にKrではなくArを用い
た以外は、各層の膜厚や作製条件などは本発明による実
施例2の光磁気記録媒体と全く同じである。
Comparative Example 2 Further, as Comparative Example 2, a magneto-optical recording medium was manufactured. It was manufactured by the same method as the magneto-optical recording medium of Comparative Example 1 above. The difference from Comparative Example 1 is that Tb
/ FeCo layer thickness in the FeCo periodic multilayer film. The Tb / FeCo periodic multilayer film of Comparative Example 2 has a Tb layer thickness of 6.4 Å and a FeCo layer thickness of 9.6 Å. That is, Tb /
The film thickness of each layer and the manufacturing conditions are exactly the same as those of the magneto-optical recording medium of Example 2 of the present invention except that Ar was used instead of Kr when the FeCo periodic multilayer film was formed.

【0019】図2は本発明による方法で作製した実施例
2の光磁気記録媒体のキャリアレベル5とノイズレベル
6と、比較例2の光磁気記録媒体のキャリアレベル7と
ノイズレベル8の記録磁界依存性を示したものである。
記録再生条件は実施例1と同様である。比較例2の光磁
気記録媒体では、200(Oe)以上の磁界を印加しな
いとノイズレベル8は飽和しない。しかし、本発明によ
る製造方法で作製した実施例2の光磁気記録媒体では1
00(Oe)以上の磁界を印加すればノイズレベル6は
飽和する。つまり、本発明の製造方法により、光磁気記
録媒体の記録磁界感度が向上した。
FIG. 2 shows a recording magnetic field of carrier level 5 and noise level 6 of the magneto-optical recording medium of Example 2 manufactured by the method according to the present invention, and carrier level 7 and noise level 8 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 2. It shows the dependence.
The recording / reproducing conditions are the same as in the first embodiment. In the magneto-optical recording medium of Comparative Example 2, the noise level 8 is not saturated unless a magnetic field of 200 (Oe) or more is applied. However, in the magneto-optical recording medium of Example 2 manufactured by the manufacturing method according to the present invention,
When a magnetic field of 00 (Oe) or more is applied, the noise level 6 is saturated. That is, the manufacturing method of the present invention improves the recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium.

【0020】(比較例3)比較例3における光磁気記録
媒体は、ポリカーボネイト基板上に順次、SiN膜を1
000オングストローム、TbFeCo合金膜を200
オングストローム、SiN膜を400オングストロー
ム、Al反射膜を400オングストローム成膜した。比
較例3の記録膜は、TbFeCo周期多層膜ではなく、
TbFeCo合金膜であり、Fe9 0 Co1 0 ターゲッ
トの上にTbチップを配置した複合ターゲットを用いて
DCマグネトロンスパッタ法で、純Krガスを使ってス
パッタ時真空度8.0×10- 2 PaにおいてDCマグ
ネトロン・スパッタ法で作製した。SiN膜はArとN
2 の混合ガスを用いて、スパッタ時の真空度2.0×1
- 1 Paにおいて反応性RFマグネトロン・スパッタ
法で作製した。Al反射膜はArガスを用いたRFスパ
ッタ法で成膜した。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 The magneto-optical recording medium in Comparative Example 3 has a SiN film formed by sequentially depositing 1 SiN film on a polycarbonate substrate.
000 angstrom, TbFeCo alloy film 200
An Angstrom and a SiN film were formed to 400 angstroms, and an Al reflection film was formed to 400 angstroms. The recording film of Comparative Example 3 is not a TbFeCo periodic multilayer film,
TbFeCo an alloy film, Fe 9 0 Co 1 0 a DC magnetron sputtering method using a composite target of arranging the Tb chip onto a target, sputtering during vacuum with pure Kr gas 8.0 × 10 - 2 Pa In DC magnetron sputtering method. SiN film has Ar and N
Using a mixed gas of 2, the degree of vacuum during sputtering is 2.0 × 1.
0 - was prepared by reactive RF magnetron sputtering at 1 Pa. The Al reflection film was formed by the RF sputtering method using Ar gas.

【0021】(比較例4)比較例4における光磁気記録
媒体は、ポリカーボネイト基板上に、順次、SiN膜を
1000オングストローム、TbFeCo合金膜を20
0オングストローム、SiN膜を400オングストロー
ム、Al反射膜を400オングストローム成膜した。比
較例4の記録膜は、Fe9 0 Co1 0 ターゲットび上に
Tbチップを配置した複合ターゲットを用いてDCマグ
ネトロンスパッタ法で、純Arガスを使ってスパッタ時
真空度8.0×10- 2 PaにおいてDCマグネトロン
・スパッタ法で作製した。SiN膜はArとN2 の混合
ガスを用いて、スパッタ時の真空度2.0×10- 1 P
aにおいて反応性RFマグネトロン・スパッタ法で作製
した。Al反射膜はArガスを用いたRFスパッタ法で
成膜した。また、比較例3と比較例4の記録膜の組成が
同じになるように、Fe9 0 Co1 0 ターゲットの上に
配置したTbチップの数を調整した。
COMPARATIVE EXAMPLE 4 The magneto-optical recording medium in Comparative Example 4 has a SiN film of 1000 Å and a TbFeCo alloy film of 20 in sequence on a polycarbonate substrate.
0 Å, SiN film was 400 Å, and Al reflection film was 400 Å. The recording film of Comparative Example 4 was a DC magnetron sputtering method using a composite target in which a Tb chip was placed on a Fe 90 Co 10 target and a vacuum degree at the time of sputtering 8.0 × 10 with pure Ar gas. It was prepared by a DC magnetron sputtering method at 2 Pa. The SiN film uses a mixed gas of Ar and N 2 and has a vacuum degree of 2.0 × 10 −1 P during sputtering.
In a, it was prepared by the reactive RF magnetron sputtering method. The Al reflection film was formed by the RF sputtering method using Ar gas. Further, the number of Tb chips arranged on the Fe 90 Co 10 target was adjusted so that the recording films of Comparative Example 3 and Comparative Example 4 had the same composition.

【0022】図3は比較例3の光磁気記録媒体のキャリ
アレベル9とノイズレベル10と、比較例4の光磁気記
録媒体のキャリアレベル11とノイズレベル12の記録
磁界依存性を示したものである。記録再生条件は実施例
1と同様である。比較例3および比較例4の光磁気記録
媒体では、250(Oe)以上の磁界を印加しないとノ
イズレベルは飽和せず、しかも両者でノイズレベルが飽
和するために必要な記録磁界の大きさはほぼ同じであ
る。つまり、複合ターゲットを用いたスパッタ法で作製
した光磁気記録媒体の記録磁界感度は純Krガスを用い
ても向上せず、TbターゲットとFe9 0 Co1 0 ター
ゲットを用いて純Krガスを使ってDCマグネトロン・
コスパッタ法で作製する場合に記録磁界感度は向上す
る。
FIG. 3 shows the recording magnetic field dependence of the carrier level 9 and noise level 10 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 3 and the carrier level 11 and noise level 12 of the magneto-optical recording medium of Comparative Example 4. is there. The recording / reproducing conditions are the same as in the first embodiment. In the magneto-optical recording media of Comparative Example 3 and Comparative Example 4, the noise level is not saturated unless a magnetic field of 250 (Oe) or more is applied, and the magnitude of the recording magnetic field required for the noise level to be saturated in both is It is almost the same. That is, the recording magnetic field sensitivity of the magneto-optical recording medium manufactured by the sputtering method using the composite target is not improved even by using the pure Kr gas, and the pure Kr gas is used by using the Tb target and the Fe 90 Co 10 target. DC magnetron
The recording magnetic field sensitivity is improved when manufactured by the co-sputtering method.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光磁気記
録媒体の製造方法においては、光磁気記録媒体の記録磁
界感度を向上でき、記録消去に必要な磁界を低下させる
ことによりドライブの負担を軽減させ、また、磁界変調
オーバーライト媒体として適している。さらに、4層の
媒体構成であるので、従来媒体と比較して複雑になって
いない。
As described above, in the method of manufacturing a magneto-optical recording medium of the present invention, the sensitivity of the recording magnetic field of the magneto-optical recording medium can be improved, and the magnetic field required for recording and erasing can be reduced to reduce the load on the drive. It is also suitable as a magnetic field modulation overwrite medium. Furthermore, since it has a four-layer medium structure, it is not complicated as compared with the conventional medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による実施例1の光磁気記録媒体と、比
較例1の光磁気記録媒体におけるキャリアレベルとノイ
ズレベルの記録磁界依存性を示した図。
FIG. 1 is a diagram showing the recording magnetic field dependence of a carrier level and a noise level in a magneto-optical recording medium of Example 1 according to the present invention and a magneto-optical recording medium of Comparative Example 1.

【図2】本発明による実施例2の光磁気記録媒体と、比
較例2の光磁気記録媒体におけるキャリアレベルとノイ
ズレベルの記録磁界依存性を示した図。
FIG. 2 is a diagram showing the recording magnetic field dependence of the carrier level and the noise level in the magneto-optical recording medium of Example 2 and the magneto-optical recording medium of Comparative Example 2 according to the present invention.

【図3】比較例3および比較例4の光磁気記録媒体にお
けるキャリアレベルとノイズレベルの記録磁界依存性を
示した図。
FIG. 3 is a diagram showing the recording magnetic field dependence of the carrier level and the noise level in the magneto-optical recording media of Comparative Example 3 and Comparative Example 4.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 実施例1におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 2 実施例1におけるノイズレベルの記録磁界依存性 3 比較例1におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 4 比較例1におけるノイズレベルの記録磁界依存性 5 実施例2におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 6 実施例2におけるノイズレベルの記録磁界依存性 7 比較例2におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 8 比較例2におけるノイズレベルの記録磁界依存性 9 比較例3におけるキャリアレベルの記録磁界依存性 10 比較例3におけるノイズレベルの記録磁界依存性 11 比較例4におけるキャリアレベルの記録磁界依存
性 12 比較例4におけるノイズレベルの記録磁界依存性
1 Dependence of carrier level on recording magnetic field in Example 1 2 Dependence of noise level on recording magnetic field in Example 3 3 Dependence of carrier level on recording magnetic field in Comparative Example 4 4 Dependence of noise level in Comparative Example 1 on recording magnetic field 5 Recording Level Dependence of Carrier Level in Example 2 6 Recording Level Dependence of Noise Level in Example 2 7 Recording Level Dependence of Carrier Level in Comparative Example 2 8 Recording Level Dependence of Noise Level in Comparative Example 2 9 Comparative Example 3 Recording Level Dependence of Carrier Level on Comparative Example 10 Noise Level Dependence of Recording Field on Comparative Example 3 11 Recording Level Dependence of Carrier Level on Comparative Example 4 12 Recording Field Dependence of Noise Level on Comparative Example 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記録膜としてTbあるいはDy元素と遷
移金属元素の非晶質膜を用い、記録膜をスッタ法で成膜
する光磁気記録媒体の製造方法において、スパッタガス
として純Krを用い、主成分がTbあるいはDy元素か
らなるターゲットと主成分が遷移金属元素からなるター
ゲットを用い、コスパッタ法によりTbあるいはDyを
主成分とする金属と遷移金属元素を主成分とする金属を
交互に積層し非晶質膜を成膜することを特徴とする光磁
気記録媒体の製造方法。
1. A method of manufacturing a magneto-optical recording medium in which an amorphous film of a Tb or Dy element and a transition metal element is used as a recording film and the recording film is formed by a sutter method, and pure Kr is used as a sputtering gas. A target containing a Tb or Dy element as a main component and a target containing a transition metal element as a main component are used, and a metal containing Tb or Dy as a main component and a metal containing a transition metal element as a main component are alternately laminated by a co-sputtering method. A method of manufacturing a magneto-optical recording medium, which comprises forming an amorphous film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0256755A (en) * 1988-08-22 1990-02-26 Fuji Photo Film Co Ltd Magneto-optical recording medium and production thereof
JPH03266239A (en) * 1990-03-14 1991-11-27 Fujitsu Ltd Sputtering method for magneto-optical disk

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