JP2857272B2 - ウエハ上の不要レジスト露光装置 - Google Patents
ウエハ上の不要レジスト露光装置Info
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- JP2857272B2 JP2857272B2 JP3331626A JP33162691A JP2857272B2 JP 2857272 B2 JP2857272 B2 JP 2857272B2 JP 3331626 A JP3331626 A JP 3331626A JP 33162691 A JP33162691 A JP 33162691A JP 2857272 B2 JP2857272 B2 JP 2857272B2
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- wafer
- resist
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- peripheral portion
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ウエハに塗布してい
るレジストを露光するための装置に関して、特にレジス
トのうちで、回路パターンを作るうえで、不要な部分を
現像工程で取り除くための露光に関する。
るレジストを露光するための装置に関して、特にレジス
トのうちで、回路パターンを作るうえで、不要な部分を
現像工程で取り除くための露光に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばＩＣやＬＳＩの製造工程では、シ
リコンウエハの表面にレジストを塗布して、次に回路パ
ターンを露光して、その次に現像してレジストパターン
を作っている。
リコンウエハの表面にレジストを塗布して、次に回路パ
ターンを露光して、その次に現像してレジストパターン
を作っている。
【０００３】一方、レジストの塗布は、ウエハを回転さ
せながら、その中心にレジストを注いでいる。そして、
遠心力によって全表面を塗布する、いわゆる「スピンコ
ート法」を使っている。
せながら、その中心にレジストを注いでいる。そして、
遠心力によって全表面を塗布する、いわゆる「スピンコ
ート法」を使っている。
【０００４】このようにして、ウエハの周辺部にわたる
全表面にレジストを塗布するわけであるが、ウエハの周
辺部は、回路パターンを作るだけの大きさがないので、
あまり使うことはない。このため周辺部は、回路パター
ンの露光を行わない。
全表面にレジストを塗布するわけであるが、ウエハの周
辺部は、回路パターンを作るだけの大きさがないので、
あまり使うことはない。このため周辺部は、回路パター
ンの露光を行わない。
【０００５】そして、レジストが、例えばポジ型の場合
は、露光されないため現像後も残ってしまう。このよう
にして残ったレジストは、ウエハを運んだり、保持した
りするときに、回路パターンを作る重要な領域にごみと
して入ったり、あるいは周辺の機器を汚染することがあ
る。
は、露光されないため現像後も残ってしまう。このよう
にして残ったレジストは、ウエハを運んだり、保持した
りするときに、回路パターンを作る重要な領域にごみと
して入ったり、あるいは周辺の機器を汚染することがあ
る。
【０００６】そこで、最近は、ウエハに塗布したレジス
トのうち、回路パターンを作らない周辺部の不要なレジ
ストだけ、現像工程で取り除いてしまうことが行われて
いる。具体的には回路パターンの露光とは別に、周辺部
の不要なレジストだけを露光する、いわゆる「周辺露
光」を行っている。この周辺露光は、レジストが塗布し
ているウエハを回転させながら、光ファイバーで導かれ
た光を周辺部の不要なレジストだけスポット的に露光し
ている。
トのうち、回路パターンを作らない周辺部の不要なレジ
ストだけ、現像工程で取り除いてしまうことが行われて
いる。具体的には回路パターンの露光とは別に、周辺部
の不要なレジストだけを露光する、いわゆる「周辺露
光」を行っている。この周辺露光は、レジストが塗布し
ているウエハを回転させながら、光ファイバーで導かれ
た光を周辺部の不要なレジストだけスポット的に露光し
ている。
【０００７】次に、従来の露光装置を図４を用いて説明
する。
する。
【０００８】ウエハ１は全表面にレジストを塗布してい
る。このウエハ１は、回転ステージ２の上に載ってい
る。そして、光照射機構である光ファイバ３から、レジ
ストが感光する波長の光（紫外線）を放射して、ウエハ
１の周辺部に塗布しているレジストを、ステージ２の回
転に伴って周状に露光している。回転ステージ２の中に
は、加熱機構としてヒータ４がある。このヒータ４によ
ってウエハ１を温めることができる。このような装置
は、例えば特開昭６１−７９２２７号や特開平２−１４
８８３９号に記載している。
る。このウエハ１は、回転ステージ２の上に載ってい
る。そして、光照射機構である光ファイバ３から、レジ
ストが感光する波長の光（紫外線）を放射して、ウエハ
１の周辺部に塗布しているレジストを、ステージ２の回
転に伴って周状に露光している。回転ステージ２の中に
は、加熱機構としてヒータ４がある。このヒータ４によ
ってウエハ１を温めることができる。このような装置
は、例えば特開昭６１−７９２２７号や特開平２−１４
８８３９号に記載している。
【０００９】このようにして、ウエハ周辺部に塗布して
いるレジストを露光するわけであるが、現像工程で除去
するための露光をするためには、それなりの照射量が必
要になる。この照射量とは、照度と照射時間の積であっ
て、一般には照度を強くすることによって、照射時間を
短くして、生産性を高めている。
いるレジストを露光するわけであるが、現像工程で除去
するための露光をするためには、それなりの照射量が必
要になる。この照射量とは、照度と照射時間の積であっ
て、一般には照度を強くすることによって、照射時間を
短くして、生産性を高めている。
【００１０】しかし一方、照度を強くしてある一定以上
の照射量を得ようとすると以下のような問題を生じる。
の照射量を得ようとすると以下のような問題を生じる。
【００１１】すなわち、強い照度で照射すると、レジス
ト中の溶剤や添加剤の分解、あるいはレジスト自体の光
化学反応によって、ガスが急激に発生する。そして、こ
の発生したガスがすみやかに外部に放出されることな
く、レジスト内部で泡となることがある。このように泡
ができると、その部分よりレジストがごみとなって、回
路パターンを作る領域に付着することがある。
ト中の溶剤や添加剤の分解、あるいはレジスト自体の光
化学反応によって、ガスが急激に発生する。そして、こ
の発生したガスがすみやかに外部に放出されることな
く、レジスト内部で泡となることがある。このように泡
ができると、その部分よりレジストがごみとなって、回
路パターンを作る領域に付着することがある。
【００１２】そこで、このような問題を解決するための
方法として、初めにウエハを１周させて、泡ができない
程度の弱い照度で露光をする。このときガスを外部にす
みやかに放出することができる。次にウエハをもう１周
露光する。このときは比較的強い照度で露光をすること
ができる。このような方法は、例えば特開平２−８７５
１８号に記載している。
方法として、初めにウエハを１周させて、泡ができない
程度の弱い照度で露光をする。このときガスを外部にす
みやかに放出することができる。次にウエハをもう１周
露光する。このときは比較的強い照度で露光をすること
ができる。このような方法は、例えば特開平２−８７５
１８号に記載している。
【００１３】一方、紫外線の放射により発生するガス
を、レジストの中で泡となる前に、すみやかに放出する
ためには、ウエハを加熱することが効果的である。図４
において、加熱機構としてヒータ４があるのはこのため
である。
を、レジストの中で泡となる前に、すみやかに放出する
ためには、ウエハを加熱することが効果的である。図４
において、加熱機構としてヒータ４があるのはこのため
である。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のウ
エハ上の不要レジストの露光装置は、レジストの中で発
生するガスをすみやかに放出するために加熱機構が、回
転ステージの中に埋設している。
エハ上の不要レジストの露光装置は、レジストの中で発
生するガスをすみやかに放出するために加熱機構が、回
転ステージの中に埋設している。
【００１５】ところが、ウエハを回転ステージに直接接
触させて置くと、ステージに載っているゴミがウエハの
裏面に付着してしまう。このゴミは１０μ以上の大きな
ものもある。そして周辺部の露光が終わった後のウエハ
は、搬送用のアームなどによってステージから離して、
次の工程に送る。ところが、このときウエハの裏面にゴ
ミが付着していると、他のウエハに飛び散って汚染した
り、あるいは他の処理装置を汚染することになる。この
ようなことは、生産性を低下させてしまう。
触させて置くと、ステージに載っているゴミがウエハの
裏面に付着してしまう。このゴミは１０μ以上の大きな
ものもある。そして周辺部の露光が終わった後のウエハ
は、搬送用のアームなどによってステージから離して、
次の工程に送る。ところが、このときウエハの裏面にゴ
ミが付着していると、他のウエハに飛び散って汚染した
り、あるいは他の処理装置を汚染することになる。この
ようなことは、生産性を低下させてしまう。
【００１６】そこで、この発明が解決しようとする課題
は、ウエハの裏面にゴミが付着することなく、周辺部の
レジストを効率よく露光できるウエハ上の不要レジスト
の露光装置を提供することにある。
は、ウエハの裏面にゴミが付着することなく、周辺部の
レジストを効率よく露光できるウエハ上の不要レジスト
の露光装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】この発明によるウエハ上
の不要レジストの露光装置は、以上のような課題を解決
するものであって、次のようなものである。レジストを
塗布しているウエハを載せる回転ステージと、この回転
ステージの中にあって、ウエハを加熱する加熱機構と、
周辺部のレジストを露光する光照射機構と、ウエハを回
転ステージに吸着する真空吸着機構とよりなるウエハ上
の不要レジスト露光装置において、前記回転ステージ
は、周辺部に段部を構成していて、この段部にウエハを
接触させて載置していることを特徴とする。
の不要レジストの露光装置は、以上のような課題を解決
するものであって、次のようなものである。レジストを
塗布しているウエハを載せる回転ステージと、この回転
ステージの中にあって、ウエハを加熱する加熱機構と、
周辺部のレジストを露光する光照射機構と、ウエハを回
転ステージに吸着する真空吸着機構とよりなるウエハ上
の不要レジスト露光装置において、前記回転ステージ
は、周辺部に段部を構成していて、この段部にウエハを
接触させて載置していることを特徴とする。
【００１８】
【作用】このような構成によって、回転ステージに載る
ウエハは、露光するべき周辺部もしくは、周辺部に近い
ところでのみ接触している。すなわち、ウエハの中央部
分はステージとは接触していない。このためウエハの裏
面に付着するゴミの量を大きく減らすことができる。
ウエハは、露光するべき周辺部もしくは、周辺部に近い
ところでのみ接触している。すなわち、ウエハの中央部
分はステージとは接触していない。このためウエハの裏
面に付着するゴミの量を大きく減らすことができる。
【００１９】
【実施例】図に示す実施例によって、この発明を具体的
に説明する。図１は、この発明の第１の実施例であっ
て、回転ステージ１０を示している。この回転ステージ
１０は、周辺部１１が中央部１２よりも高い段状の形に
なっている。また回転ステージ１０は、加熱機構として
ヒータ１３を埋設している。回転ステージ１０は、アル
ミニウムなどの熱伝導の高い素材でできている。ウエハ
は図では省略しているが、周辺部１１の上で接触して置
かれ、中央部１２では接触することなく置かれている。
に説明する。図１は、この発明の第１の実施例であっ
て、回転ステージ１０を示している。この回転ステージ
１０は、周辺部１１が中央部１２よりも高い段状の形に
なっている。また回転ステージ１０は、加熱機構として
ヒータ１３を埋設している。回転ステージ１０は、アル
ミニウムなどの熱伝導の高い素材でできている。ウエハ
は図では省略しているが、周辺部１１の上で接触して置
かれ、中央部１２では接触することなく置かれている。
【００２０】すなわち、レジストを露光する位置、もし
くはそこに近い位置のみ、ウエハを回転ステージを接触
させて加熱している。
くはそこに近い位置のみ、ウエハを回転ステージを接触
させて加熱している。
【００２１】ウエハが接触しない、回転ステージ１０の
中央部１２にはウエハの位置を固定させるために真空吸
着孔１４がある。この真空吸着孔１４は、真空ポンプな
どに接続していて、ウエハを真空吸着することによって
露光中に位置がずれないようにすることができる。また
真空吸着によってウエハが、弓型に曲がらないように突
起１４がある。
中央部１２にはウエハの位置を固定させるために真空吸
着孔１４がある。この真空吸着孔１４は、真空ポンプな
どに接続していて、ウエハを真空吸着することによって
露光中に位置がずれないようにすることができる。また
真空吸着によってウエハが、弓型に曲がらないように突
起１４がある。
【００２２】このように、図１に示す回転ステージ１０
によって、ウエハの裏面にはゴミが付着することなく、
周辺部のレジストを良好に露光することができる。
によって、ウエハの裏面にはゴミが付着することなく、
周辺部のレジストを良好に露光することができる。
【００２３】周辺部１１と中央部１２によってできる段
は、例えば０．０５ｍｍである。また回転ステージ１０
の直径は、例えば１６５ｍｍであって、周辺部１１の幅
は１０ｍｍである。図４にも示したように、ウエハの直
径が、回転ステージ１０の直径より大きい場合は、ウエ
ハは、その周辺部に近い部分で回転ステージ１０に接触
して置いている。
は、例えば０．０５ｍｍである。また回転ステージ１０
の直径は、例えば１６５ｍｍであって、周辺部１１の幅
は１０ｍｍである。図４にも示したように、ウエハの直
径が、回転ステージ１０の直径より大きい場合は、ウエ
ハは、その周辺部に近い部分で回転ステージ１０に接触
して置いている。
【００２４】次に、図２によって、この発明の第２の実
施例を示す。回転ステージ２０には、図１と同じように
周辺部２１が中央部２２よりも高い段状の形になってい
る。そして同じように、回転ステージ２０には、ヒータ
２３が埋設している。この第２実施例では、ウエハの位
置を固定するための真空吸着孔２４は、周辺部２１にあ
る。そして周辺部２１には、この真空吸着孔２４と繋が
った溝２５が環状に作ってある。この構造では、ウエハ
を周辺で固定しているために、弓型に曲がることを防ぐ
ための突起は必要がない。すなわち、回転ステージ２０
を作ることが簡単である。
施例を示す。回転ステージ２０には、図１と同じように
周辺部２１が中央部２２よりも高い段状の形になってい
る。そして同じように、回転ステージ２０には、ヒータ
２３が埋設している。この第２実施例では、ウエハの位
置を固定するための真空吸着孔２４は、周辺部２１にあ
る。そして周辺部２１には、この真空吸着孔２４と繋が
った溝２５が環状に作ってある。この構造では、ウエハ
を周辺で固定しているために、弓型に曲がることを防ぐ
ための突起は必要がない。すなわち、回転ステージ２０
を作ることが簡単である。
【００２５】次に、図３によって、この発明の第３の実
施例を示す。回転ステージ３０には、図１と同じように
周辺部３１が中央部３２より高い段状の形になってい
る。そして同じように、回転ステージ３０には、ヒータ
３３が埋設している。また中央部３２には、真空吸着孔
３４や突起３５がある。この回転ステージ３０の周辺部
３１には、ウエハを回転ステージ３０に載せるためのア
ームが入る部分３６がある。
施例を示す。回転ステージ３０には、図１と同じように
周辺部３１が中央部３２より高い段状の形になってい
る。そして同じように、回転ステージ３０には、ヒータ
３３が埋設している。また中央部３２には、真空吸着孔
３４や突起３５がある。この回転ステージ３０の周辺部
３１には、ウエハを回転ステージ３０に載せるためのア
ームが入る部分３６がある。
【００２６】なお、この発明では、回転ステージが従来
と異なるが、光照射機構や加熱機構や真空吸着機構は、
従来の装置と同じである。
と異なるが、光照射機構や加熱機構や真空吸着機構は、
従来の装置と同じである。
【００２７】
【発明の効果】この発明によるウエハ上の不要レジスト
を露光する装置では、回転ステージに載るウエハは、露
光するべき周辺部もしくは、周辺部に近いところでのみ
直接接触している。すなわち、レジストを加熱するべき
部分または、それに近い部分だけで接触していることに
なる。このため、ウエハの中央部分はステージとは接触
していない。すなわち裏面に付着するゴミを大きく減ら
すことができるという効果がある。
を露光する装置では、回転ステージに載るウエハは、露
光するべき周辺部もしくは、周辺部に近いところでのみ
直接接触している。すなわち、レジストを加熱するべき
部分または、それに近い部分だけで接触していることに
なる。このため、ウエハの中央部分はステージとは接触
していない。すなわち裏面に付着するゴミを大きく減ら
すことができるという効果がある。
【図１】この発明によるウエハ上の不要レジストを露光
する装置の回転ステージを示す斜視図である。
する装置の回転ステージを示す斜視図である。
【図２】この発明によるウエハ上の不要レジストを露光
する装置の回転ステージを示す斜視図である。
する装置の回転ステージを示す斜視図である。
【図３】この発明によるウエハ上の不要レジストを露光
する装置の回転ステージを示す斜視図である。
する装置の回転ステージを示す斜視図である。
【図４】この発明及び従来のウエハ上の不要レジストを
露光する装置の概略を示す図である。
露光する装置の概略を示す図である。
１ ウエハ ２ 回転ステージ ３ 光照射機構 ４ 加熱機構 １０ 回転ステージ １１ 周辺部 １２ 中央部 １３ 加熱機構 １４ 真空吸着孔 ２０ 回転ステージ ２１ 周辺部 ２２ 中央部 ２３ 加熱機構 ２４ 真空吸着孔 ３０ 回転ステージ ３１ 周辺部 ３２ 中央部 ３４ 真空吸着孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−218619（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−177421（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−177420（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−148830（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−139916（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−87518（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−194619（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−12811（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−199811（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−21336（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−263817（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (1)
- 【請求項１】 レジストを塗布しているウエハを載せる
回転ステージと、 この回転ステージの中にあって、ウエハを加熱する加熱
機構と、 周辺部のレジストを露光する光照射機構と、 ウエハを回転ステージに吸着する真空吸着機構とよりな
るウエハ上の不要レジスト露光装置において、 前記回転ステージは、周辺部に段部を構成していて、こ
の段部にウエハを接触させて載置していることを特徴と
するウエハ上の不要レジスト露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3331626A JP2857272B2 (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | ウエハ上の不要レジスト露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3331626A JP2857272B2 (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | ウエハ上の不要レジスト露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05144726A JPH05144726A (ja) | 1993-06-11 |
| JP2857272B2 true JP2857272B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=18245764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3331626A Expired - Fee Related JP2857272B2 (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | ウエハ上の不要レジスト露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2857272B2 (ja) |
-
1991
- 1991-11-21 JP JP3331626A patent/JP2857272B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05144726A (ja) | 1993-06-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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