JP2856588B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2856588B2
JP2856588B2 JP4009247A JP924792A JP2856588B2 JP 2856588 B2 JP2856588 B2 JP 2856588B2 JP 4009247 A JP4009247 A JP 4009247A JP 924792 A JP924792 A JP 924792A JP 2856588 B2 JP2856588 B2 JP 2856588B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体メモリ装置に関
し、特にスタティック型読出回路を備えたROM,RA
M等の半導体メモリ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a ROM, RA having a static read circuit.
M and other semiconductor memory devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体メモリ装置は、その一例が
図2に示されるように、SRAMセル群1を有し、その
1つのセルの一対の列線D,D′(Dの反転信号線)の
片端にはプリチャージ用のPチャネルMOSトランジス
タ6,7のドレインが接続されている。PチャネルMO
Sトランジスタ6,7のゲートにはプリチャージ信号端
子10が接続され、ソースには第1の電源8が接続され
ている。SRAMセル群1の列線の他端には列セレクタ
2の入力端が接続されている。列セレクタ2の出力端に
はスタティック型読出回路3の入力端が接続されてい
る。SRAMセル群1の行線Cには、行デコーダ4が接
続され、列セレクタ2にはその選択線として作用する列
デコーダ5が接続されている。なお、SRAMセルは1
個のみが図示されており、SRAMセル群1の1列当た
りのセル数に対応して一対のPチャネルMOSトランジ
スタ6,7、一対の列線D、D´の数が決められ、行デ
コーダ4の行線Cの数はSRAMセル群1の1行当たり
のセル数に対応して決められる。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 2, a conventional semiconductor memory device has an SRAM cell group 1, and a pair of column lines D and D '(an inverted signal line of D) of one cell. The drains of P-channel MOS transistors 6 and 7 for precharging are connected to one end of (). P channel MO
The precharge signal terminal 10 is connected to the gates of the S transistors 6 and 7, and the first power supply 8 is connected to the source. The other end of the column line of the SRAM cell group 1 is connected to the input terminal of the column selector 2. The output terminal of the column selector 2 is connected to the input terminal of the static read circuit 3. A row decoder 4 is connected to a row line C of the SRAM cell group 1, and a column decoder 5 acting as a selection line is connected to the column selector 2. The SRAM cell is 1
Only the number is shown, and the number of the pair of P-channel MOS transistors 6 and 7 and the number of the pair of column lines D and D 'are determined corresponding to the number of cells per column of the SRAM cell group 1, and the row decoder 4 Is determined in accordance with the number of cells per row of the SRAM cell group 1.

【0003】この半導体メモリ装置は、プリチャージ期
間においてプリチャージ信号端子10にプリチャージ信
号(Low)が入力されると、PチャネルMOSトラン
ジスタ6,7がオンとなり、SRAMセル群1の列線対
D,D′が電源端子8に印加される電圧VDDまでチャー
ジアップされる。更に、プリチャージ期間中に、列デコ
ーダ5の出力が決まって一対の列セレクタ2が選択さ
れ、SRAMセル群1の列線D,D′とスタティック型
読出回路3の入力端とがショートされる。
In this semiconductor memory device, when a precharge signal (Low) is input to a precharge signal terminal 10 during a precharge period, P-channel MOS transistors 6 and 7 are turned on, and a column line pair of the SRAM cell group 1 is turned on. D and D ′ are charged up to the voltage V DD applied to the power supply terminal 8. Further, during the precharge period, the output of the column decoder 5 is determined and a pair of column selectors 2 are selected, and the column lines D and D 'of the SRAM cell group 1 and the input terminal of the static read circuit 3 are short-circuited. .

【0004】次に、読出期間においてはプリチャージ信
号端子10は電圧VDDとなり、この場合PチャネルMO
Sトランジスタ6,7はオフ状態で列線対は電圧VDD
ある。行デコーダ4の出力が決まって1行のSRAMセ
ルが選択されると、SRAMセル群1のデータによって
列線対のどちらか一方が、GNDへディスチャージされ
る。
Next, in the read period, the precharge signal terminal 10 is at the voltage V DD , and in this case, the P-channel MO
The S transistors 6 and 7 are off, and the column line pair is at the voltage V DD . When the output of the row decoder 4 is determined and one row of SRAM cells is selected, one of the column line pairs is discharged to GND by the data of the SRAM cell group 1.

【0005】このようにして、列セレクタ2によって選
択された一対の列線と、行デコーダ4によって選択され
た行線の交点のSRAMセルの列線のデータが、スタテ
ィック型読出回路3に入力される。そして、列線がVDD
からGNDへディスチャージされる途中、スタティック
型読出回路3の入力論理閾値VTHR に達した時点でデー
タをラッチする。
In this manner, the data of the column line of the SRAM cell at the intersection of the pair of column lines selected by the column selector 2 and the row line selected by the row decoder 4 is input to the static read circuit 3. You. And the column line is V DD
During the discharge to the ground, the data is latched when the input logical threshold value V THR of the static read circuit 3 is reached.

【0006】この場合、読出時間の大半は列線がVDD
らVTHR にディスチャージされるまでの時間tR が占め
ている。この時間tR は、列線1本分の総容量をCd
SRAMセル内のインバータのNチャネルMOSトラン
ジスタの電流能力をIN としたとき、 tR =Cd ・(VDD−VTHR )/IN で示される。
In this case, most of the read time is occupied by the time t R until the column line is discharged from V DD to V THR . This time t R is the total capacity of one column line, C d ,
When the current capacity of the N-channel MOS transistor of the inverter in the SRAM cell was I N, represented by t R = C d · (V DD -V THR) / I N.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
メモリ装置においては、読出期間において、列線をVDD
までチャージアップし、そこからスタティック型読出回
路3の入力論理閾値VTHR まで、SRAMセルのインバ
ータのNチャネルMOSトランジスタでディスチャージ
せねばならない。この場合、SRAMセル群1の記憶容
量の増加に伴い列線容量Cd が増え、SRAMセル群面
積を集積化しようとすると、SRAMセル内のインバー
タのNチャネルMOSトランジスタの電流能力IN が減
少するので、膨大な読出時間を費し、出力データが確定
する前に、誤データを読取り、ひいてはシステム全般に
亘る誤動作を招来するという欠点がある。
In the conventional semiconductor memory device described above, the column line is connected to V DD during the read period.
, And from there to the input logic threshold value V THR of the static read circuit 3, the N-channel MOS transistor of the inverter of the SRAM cell must discharge. In this case, the column line capacitance C d increases with an increase in the storage capacity of the SRAM cell group 1, and the current capacity I N of the N-channel MOS transistor of the inverter in the SRAM cell decreases when the area of the SRAM cell group is integrated. Therefore, there is a drawback that enormous reading time is consumed, erroneous data is read before output data is determined, and a malfunction occurs in the entire system.

【0008】このような欠点に鑑み、本発明の課題は、
スタティック型読出回路をもつ半導体メモリ装置におい
て列線のディスチャージ時間を短縮して読出しの高速化
を図れるようにすることにある。
In view of these drawbacks, the object of the present invention is to
It is an object of the present invention to shorten the discharge time of a column line in a semiconductor memory device having a static read circuit so that reading can be speeded up.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、SRAMセル群における各セルの一対の列線の片
端に第1及び第2の第1導電型MOSトランジスタのド
レインを接続し、ソースを第1の電源に接続し、前記S
RAMセル群における各セルの列線の他端には列セレク
タの一対の入力端を接続し、前記列セレクタの出力端に
はスタティック型読出回路の入力端を接続し、前記SR
AMセル群の行線に接続した行デコーダと、前記列セレ
クタの選択線に接続された列デコーダとを有する半導体
メモリ装置において、前記列セレクタの一対の出力端に
第1及び第2の第2導電型MOSトランジスタのドレイ
ン及びゲートを接続し、前記第1及び第2の第2導電型
MOSトランジスタのソースには第1及び第2の2入力
OR回路の第1の入力を接続し、前記第1及び第2の2
入力OR回路の第2の入力にはプリチャージ信号端子を
接続し、前記第1の2入力OR回路の出力を前記第1の
第1導電型MOSトランジスタのゲートへ接続し、前記
第2の2入力OR回路の出力を前記第2の第1導電型M
OSトランジスタのゲートへ接続した回路を備えること
を特徴とする。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the drains of the first and second first conductivity type MOS transistors are connected to one end of a pair of column lines of each cell in the SRAM cell group, and the source is connected. To the first power supply,
The other end of the column line of each cell in the RAM cell group is connected to a pair of input terminals of a column selector, and the output terminal of the column selector is connected to the input terminal of a static read circuit.
In a semiconductor memory device having a row decoder connected to a row line of an AM cell group and a column decoder connected to a selection line of the column selector, first and second second terminals are connected to a pair of output terminals of the column selector. A drain and a gate of a conductivity type MOS transistor are connected, and a first input of a first and second two-input OR circuit is connected to a source of the first and second second conductivity type MOS transistors. 1 and 2
The second input of the input OR circuit is connected to a precharge signal terminal, the output of the first two-input OR circuit is connected to the gate of the first first conductivity type MOS transistor, and the second The output of the input OR circuit is connected to the second first conductivity type M
A circuit connected to the gate of the OS transistor is provided.

【0010】[0010]

【実施例】次に、本発明について、図面を参照して説明
する。図1は、本発明の一実施例を示す回路図であり、
SRAMセル群1,列セレクタ2,スタティック型読出
回路3,行デコーダ4,及び列デコーダ5を備えてい
る。更に、PチャネルMOSトランジスタ6,7,電源
端子8,データ出力端子9,及びプリチャージ信号端子
10を有する。本発明は、以上のような構成に加えて、
スタティック型読出回路3の閾値VTHR と同じ閾値をも
つ2入力OR回路11,12及びNチャネルMOSトラ
ンジスタ13,14を列セレクタ2の出力側に備えてい
る。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the present invention.
An SRAM cell group 1, a column selector 2, a static read circuit 3, a row decoder 4, and a column decoder 5 are provided. Further, it has P-channel MOS transistors 6 and 7, a power supply terminal 8, a data output terminal 9, and a precharge signal terminal 10. The present invention, in addition to the above configuration,
Two-input OR circuits 11 and 12 and N-channel MOS transistors 13 and 14 having the same threshold value as the threshold value V THR of the static read circuit 3 are provided on the output side of the column selector 2.

【0011】具体的に言えば、列セレクタ2の出力端に
NチャネルMOSトランジスタ13,14のドレイン及
びゲートを接続し、これらのMOSトランジスタ13,
14のソースには2入力OR回路11,12の一方の入
力を接続し、2入力OR回路11,12の他方の入力に
はプリチャージ信号端子10を接続している。そして、
2入力OR回路12の出力をPチャネルMOSトランジ
スタ6のゲートに接続し、2入力OR回路11の出力は
PチャネルMOSトランジスタ7のゲートに接続してい
る。なお、従来同様、SRAMセル群1ではセル1個の
みを図示し、列線もD、D´で代表される一対のみを図
示している。
Specifically, the drains and gates of the N-channel MOS transistors 13 and 14 are connected to the output terminal of the column selector 2, and these MOS transistors 13 and 14 are connected.
The source 14 is connected to one input of the two-input OR circuits 11 and 12, and the other input of the two-input OR circuits 11 and 12 is connected to the precharge signal terminal 10. And
The output of the two-input OR circuit 12 is connected to the gate of the P-channel MOS transistor 6, and the output of the two-input OR circuit 11 is connected to the gate of the P-channel MOS transistor 7. As in the conventional case, only one cell is shown in the SRAM cell group 1, and only a pair of column lines represented by D and D 'are shown.

【0012】図1において、1サイクル目のプリチャー
ジ期間中はプリチャージ信号端子10にLowレベル
(GND)が入力され、初期状態において、2入力OR
回路11,12の出力はLowとなり、プリチャージ用
のPチャネルMOSトランジスタ6,7はオン状態で、
GNDから電源端子8に印加される電源電圧VDD方向
に、SRAMセル群1の列線対をチャージアップする。
プリチャージ期間開始と同時に、列デコーダ5の出力が
確定し、列セレクタ2のいずれか一対が選択されると、
SRAMセル群1側のいずれか一対の列線D,D′がス
タティック型読出回路3の入力端とショートし、列セレ
クタ2の出力側の列線も同時にGNDからVDD方向へと
チャージアップされる。
In FIG. 1, a low level (GND) is input to a precharge signal terminal 10 during a precharge period of a first cycle.
The outputs of the circuits 11 and 12 are Low, and the P-channel MOS transistors 6 and 7 for precharging are in the ON state.
The column line pair of the SRAM cell group 1 is charged up in the direction of the power supply voltage V DD applied from the GND to the power supply terminal 8.
At the same time as the start of the precharge period, the output of the column decoder 5 is determined, and when one pair of the column selectors 2 is selected,
One of the pair of column lines D and D 'on the SRAM cell group 1 side is short-circuited to the input terminal of the static read circuit 3, and the column line on the output side of the column selector 2 is simultaneously charged up from GND to VDD. You.

【0013】列線のチャージレベルは、列セレクタ2を
境にSRAMセル群1側の列線レベルをVdL1 、スタテ
ィック型読出回路3側をVdL2 とすると、列セレクタ2
の抵抗成分によりVdL1 >VdL2 となる。NチャネルM
OSトランジスタ13,14のソース側のレベルは、ド
レイン側に比べて閾値電圧VTN分だけ低くなる。それゆ
え、スタティック型読出回路3の入力論理閾値をVTHR
とすると、VdL2 ≧VTHR +VTNとなった時点で、2入
力OR回路11,12の入力論理閾値VTHR ′をVTHR
=VTHR ′としておけばその出力はHigh(VDD)と
なり、PチャネルMOSトランジスタ6,7はオフとな
り、列線D,D′のチャージアップを停止する。VdL2
はVdL2 =VTHR +VTNであるので、スタティック型読
出回路3は安定状態でラッチされる。
Assuming that the column line level on the SRAM cell group 1 side is V dL1 and the static read circuit 3 side is V dL2 , the charge level of the column line is
VdL1 > VdL2 . N channel M
The level on the source side of the OS transistors 13 and 14 is lower than that on the drain side by the threshold voltage V TN . Therefore, the input logical threshold value of the static read circuit 3 is set to V THR
When V dL2 ≧ V THR + V TN , the input logical threshold value V THR ′ of the two-input OR circuits 11 and 12 is set to V THR.
If V THR 'is set, the output becomes High (V DD ), the P-channel MOS transistors 6 and 7 are turned off, and the charge-up of the column lines D and D' is stopped. V dL2
Since V dL2 = V THR + V TN , the static readout circuit 3 is latched in a stable state.

【0014】次に、読出期間において、行デコーダ4の
出力が確定し、SRAMセル群1のいずれか1本の行線
Cがアクティブ状態となり、SRAMセル群1の1行分
のデータにより列線D,D′がディスチャージされる
が、列セレクタ2により選択されている一対の列線のデ
ータをスタティック型読出回路3に入力し、ディスチャ
ージされる列線がVdL2 ≦VTHR となった時点でスタテ
ィック型読出回路3はデータをラッチする。
Next, in the read period, the output of the row decoder 4 is determined, and any one of the row lines C of the SRAM cell group 1 becomes active. D and D 'are discharged. When the data of the pair of column lines selected by the column selector 2 is input to the static read circuit 3, and the discharged column lines satisfy V dL2 ≤ V THR. The static read circuit 3 latches data.

【0015】次に、nサイクル目のプリチャージ期間を
考えた場合、スタティック型読出回路3の入力側列線の
一方がチャージ状態(VTHR +VTN)にあると、プリチ
ャージ信号が入っても、チャージ状態にある列線側の2
入力OR回路12又は13の出力はHigh(=VDD
である。この場合、SRAMセル群1側の各列線の一方
は、GNDレベルでもチャージアップされない。しか
し、列セレクタ2が選択されて読出す列線がLowであ
ると、一般的に、SRAMセル群1側の列線容量Cd
比べてスタティック型読出回路3側の列線容量CR は、
d に比べて十分小さいという関係にあるので、チャー
ジシェアによりそれぞれの列線電荷量Qd ,QR は、平
行化される。その結果、スタティック型読出回路3側の
列線レベルVdL2 は実質上VdL1 と等しくなる。すなわ
ち、VdL2 は実質上Lowレベルとなる為、2入力OR
回路12の出力は、Lowとなって、VdL2 =VTHR
TNとなるまでチャージアップされる。読出し期間にお
いては、1サイクル目と同様となる。
Next, considering the precharge period of the nth cycle, if one of the input-side column lines of the static readout circuit 3 is in the charged state (V THR + V TN ), the precharge signal is input. , The column line side 2 in the charged state
The output of the input OR circuit 12 or 13 is High (= V DD )
It is. In this case, one of the column lines on the SRAM cell group 1 side is not charged up even at the GND level. However, when the column line to be read by the selection of the column selector 2 is low, the column line capacitance C R of the static read circuit 3 is generally smaller than the column line capacitance C d of the SRAM cell group 1. ,
Because the relationship that sufficiently smaller than C d, the amount each of the column lines charged by charge sharing Q d, Q R is collimated. As a result, the column line level VdL2 on the static readout circuit 3 side becomes substantially equal to VdL1 . That is, since V dL2 is substantially at a low level, a two-input OR
The output of the circuit 12 becomes Low, and V dL2 = V THR +
Charged up to VTN. In the reading period, the operation is the same as in the first cycle.

【0016】なお、本実施例においてはプリチャージ用
MOSトランジスタにPチャネル型を用いたが、Nチャ
ネル型MOSトランジスタを用いても同様な効果が得ら
れることは言うまでも無い。
In this embodiment, a P-channel type MOS transistor is used for the precharge MOS transistor. However, it goes without saying that a similar effect can be obtained by using an N-channel type MOS transistor.

【0017】なお、読出し時間の短縮分は以下の数式1
で表わされる。
The read time can be reduced by the following equation (1).
Is represented by

【0018】[0018]

【数1】 (Equation 1)

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、SRAM
プリチャージにおいて列線をチャージアップする電圧レ
ベルを、スタティック型読出回路の入力論理閾値:V
THR +VTNまでにおさえることによって、読出し時間を
DD−(VTHR +VTN)分だけ短縮することができ、か
つ、安定した読出データを得ることができ、大幅な読出
し時間の短縮により、誤データの読出し防止ひいては、
システムの安定動作を計ることができる。
As described above, the present invention provides an SRAM
The voltage level at which the column line is charged up in the precharge is changed to the input logical threshold value: V
By keeping THR + V TN , the read time can be shortened by V DD − (V THR + V TN ), and stable read data can be obtained. Data read prevention and, consequently,
The stable operation of the system can be measured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の回路図。FIG. 1 is a circuit diagram of one embodiment of the present invention.

【図2】従来例の回路図。FIG. 2 is a circuit diagram of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 SRAMセル群 2 列セレクタ 3 スタティック型読出回路 4 行デコーダ 5 列デコーダ 6,7 PチャネルMOSトランジスタ 8 電源端子 9 データ出力端子 10 プリチャージ信号端子 11,12 2入力OR回路 13,14 NチャネルMOSトランジスタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 SRAM cell group 2 Column selector 3 Static readout circuit 4 Row decoder 5 Column decoder 6,7 P channel MOS transistor 8 Power supply terminal 9 Data output terminal 10 Precharge signal terminal 11,12 Two-input OR circuit 13,14 N channel MOS Transistor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 11/41──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11C 11/41

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 SRAMセル群における各セルの一対の
列線の片端に第1及び第2の第1導電型MOSトランジ
スタのドレインを接続し、ソースを第1の電源に接続
し、前記SRAMセル群における各セルの列線の他端に
は列セレクタの一対の入力端を接続し、前記列セレクタ
の出力端にはスタティック型読出回路の入力端を接続
し、前記SRAMセル群の行線に接続した行デコーダ
と、前記列セレクタの選択線に接続された列デコーダと
を有する半導体メモリ装置において、前記列セレクタの
一対の出力端に第1及び第2の第2導電型MOSトラン
ジスタのドレイン及びゲートを接続し、前記第1及び第
2の第2導電型MOSトランジスタのソースには第1及
び第2の2入力OR回路の第1の入力を接続し、前記第
1及び第2の2入力OR回路の第2の入力にはプリチャ
ージ信号端子を接続し、前記第1の2入力OR回路の出
力を前記第1の第1導電型MOSトランジスタのゲート
へ接続し、前記第2の2入力OR回路の出力を前記第2
の第1導電型MOSトランジスタのゲートへ接続した回
路を備えることを特徴とする半導体メモリ装置。
1. The SRAM cell according to claim 1, wherein drains of first and second first conductivity type MOS transistors are connected to one ends of a pair of column lines of each cell in the SRAM cell group, and a source is connected to a first power supply. The other end of the column line of each cell in the group is connected to a pair of input terminals of a column selector, the output terminal of the column selector is connected to the input terminal of a static readout circuit, and the column line is connected to the row line of the SRAM cell group. In a semiconductor memory device having a connected row decoder and a column decoder connected to a selection line of the column selector, drains of first and second second conductivity type MOS transistors are connected to a pair of output terminals of the column selector. A first input of a first and second two-input OR circuit connected to a source of the first and second second conductivity type MOS transistors, and a first and second two input; OR times The second input of the path is connected to a precharge signal terminal, the output of the first two-input OR circuit is connected to the gate of the first first conductivity type MOS transistor, and the second two-input OR The output of the circuit
And a circuit connected to the gate of the first conductivity type MOS transistor.
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