JP2852830B2 - 処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、載置台上に被処理体を
載置してその上にカバー部材を被せて処理を行う処理装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図６に、半導体デバイス製造のフォトリ
ソグラフィー工程に使用される処理システムの一例を示
す。この処理システムでは、被処理体としての半導体ウ
エハＷを搬入・搬出するローダ部１００、ウエハＷをブ
ラシ洗浄するブラシ洗浄装置１０２、ウエハＷを高圧ジ
ェット水で洗浄するジェット水洗浄装置１０４、ウエハ
Ｗの表面を疏水化処理するアドヒージョン処理装置１０
６、ウエハＷを所定温度に冷却する冷却処理装置１０
８、ウエハＷの表面にレジストを塗布するレジスト塗布
装置１１０、レジスト塗布の前後でウエハＷを加熱して
プリベークまたはポストベークを行う加熱処理装置１１
２、ウエハＷの周縁部のレジストを除去するレジスト除
去装置１１４等を一体的に集合化して作業効率の向上を
図っている。

【０００３】システムの中央部には、長手方向に廊下状
のウエハ搬送路１１６が設けられ、各装置１００〜１１
２はウエハ搬送路１１６に各々の正面を向けて配設さ
れ、ウエハ搬送体１１８が各装置１００〜１１２とウエ
ハＷの受け渡しを行うためにウエハ搬送路１１６上を移
動するようになっている。

【０００４】加熱処理装置１１２は、多数の加熱処理装
置１１２が多段に積み重なった１つのブロック体として
設けられ、かつ複数のブロック体が並設されている。図
７に示すように、各加熱処理装置１１２の処理室におい
ては、ヒータ等の発熱体を内蔵した熱板（載置台）１２
０が中央部に設けられ、この熱板１２０上にウエハＷが
配置され加熱処理を受ける。ウエハＷは、各加熱処理装
置１１２の正面側の開口部１１２Ａ（図６に図示）を通
してウエハ搬送体１１８により処理室内に搬入・搬出さ
れる。

【０００５】熱板１２０の上にはウエハＷに被さるよう
にカバー体１２２が配置される。各加熱処理装置１１２
の側壁１２４の内部には排気孔１２４ａが上下方向に貫
通して形成されており、多数の各加熱処理装置１１２を
上下方向に積み重ねると、隣接し合う排気孔１２４ａが
上下に連通して１ブロック内の全ての加熱処理装置１１
２の排気孔１２４ａが最下段の排気口に連通するように
なっている。カバー体１２２の相対抗する側面には一対
の通気孔１２２ａが設けられ、これらの通気孔１２２ａ
が両側壁１２４の内側面に形成された通気孔１２４ｂと
それぞれ対向するようにカバー体１２２が配置される。
これにより、各加熱処理装置１１２の処理室で加熱処理
時にウエハＷより発生したガスは、通気孔１２２ａ，１
２４ｂおよび排気孔１２４ａを通って最下段の排気口か
ら外部へ排出される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な従来の加熱処理装置１１２において、カバー体１２２
は、一般にステンレスまたはアルミニウム製で、ウエハ
Ｗの直径が８インチ程度になると１０ｋｇ程度の重量が
ある。作業員は、メンテナンス等に際し、このような重
いカバー体１２２を装置背面側の狭い開口部１１２Ｂを
通して自身の手または特殊な治具で処理室の奥へ入れた
り処理室から外へ出したりしなければならず、相当の体
力と細心の注意を要する面倒な作業であった。特に図６
に示す処理システムのように多数の加熱処理装置１１２
を積み重ねた場合には、加熱処理装置１１２の台数分上
記のような重作業を繰り返さなければならず作業時間が
非常に長くなり、また上段や下段の加熱処理装置１１２
に対してカバー体１２２の出し入れを行う際には台に載
ったり腰を屈めながら重作業を行わなくてはならず、作
業員にとっては大きな負担となっていた。

【０００７】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、処理室内へのカバー手段の出し入れを簡単かつ
迅速に行うことが可能な処理装置を提供することを目的
とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の処理装置は、カバー部材を出し入れする
ための開口部を有する処理室内の載置台上に被処理体を
載置してその上に前記カバー部材を被せた状態で所定の
処理を行うようにした処理装置において、前記開口部と
前記載置台の上の所定位置との間で前記カバー部材を案
内するための案内手段を設けてなる構成とした。

【０００９】

【作用】カバー部材を処理室内に装填するときは、開口
部にてカバー部材の案内部を処理室側の案内手段に係止
させ、カバー部材を押せばよく、そうするとカバー部材
は案内手段に沿って奥の所定位置まで案内される。カバ
ー部材を取り出すときは開口部を介してカバー部材を引
き寄せればよく、カバー部材は案内手段に案内されて外
へ出てくる。このように、案内手段を用いてカバー部材
の出し入れを行うので、従来のようなカバー部材を手ま
たは治具で持って出し入れするのと比較して、作業を格
段に簡単かつ迅速に行うことができる。

【００１０】

【実施例】以下、図１〜図５を参照して本発明の実施例
を説明する。図１は本発明の一実施例による加熱処理装
置の構成を示す斜視図、図２は実施例の加熱処理装置に
おけるカバー体の装填状態を示す一部断面上面図、図３
は図２のＡ−Ａ線についての横断面図、図４は実施例の
加熱処理装置における機械室の内部の構造を示す一部断
面上面図、および図５は実施例の加熱処理装置における
機械室の内部の構造を示す一部断面側面図である。

【００１１】図１において、この実施例による加熱処理
装置の処理室１０は両側壁１２と遮蔽板１４とで形成さ
れ、処理室１０の正面側および背面側はそれぞれ開口部
１０Ａ，１０Ｂとなっている。遮蔽板１４の中心部には
円形の開口１６が形成され、この開口１６内にヒータ等
の発熱体を内蔵した円板状の熱板１８が設けられる。

【００１２】熱板１８にはたとえば３つの孔２０が設け
られ、各孔２０内には支持ピン２１が遊嵌状態で挿通さ
れており、ウエハＷのローティング・アンローディング
時には各支持ピン２１が熱板１８の表面より上に突出し
てウエハＷを担持するようになっている。また、熱板１
８の外周囲には、円周方向にたとえば２゜間隔で多数の
通気孔２３を設けたリング状の帯板からなるシャッタ２
２が設けられている。このシャッタ２２は、加熱処理を
行わない時は図３に示すように遮蔽板１４の下方に退避
しているが、加熱処理時には図１および図５に示すよう
に熱板１８の上面よりも高い位置まで上昇して、熱板１
８と後述するカバー体２６との間に側壁を形成し、装置
正面側より流入するダウンフローの空気を通気孔２３よ
り周方向で均等に流入させるようになっている。

【００１３】両側壁１２の内側面の上部には、装置背面
側の開口部１０Ｂから熱板１８付近にかけて所定の高さ
に断面Ｌ形の一対の水平ガイドレール２４がネジ等（図
示せず）によって固着されている。これらのガイドレー
ル２４は、本実施例による案内手段を構成するものであ
って、カバー体２６の出し入れに使われる。

【００１４】カバー体２６は、たとえば樹脂からなる円
板状の蓋体であって、その上面の周縁部には一対の把手
２８が相対向して（１８０゜の間隔をおいて）固着され
るとともにそれら把手２８と直交する方向に一対のガイ
ド片３０が相対向して（１８０゜の間隔をおいて）固着
されている。各ガイド片３０は、ネジ３２によってカバ
ー体２６に固定される基底部３０ａと、この規定部３０
ａから外側へ突出する断面Ｌ形のガイド部３０ｂとを有
する。

【００１５】このカバー体２６を処理室１０内に装填す
るためには、両把手２８を把時して両ガイド片３０のガ
イド部３０ｂを両側壁１２のガイドレール２４上に掛け
（乗せ）、奥の把手２８から手を離し手前の把手２８だ
けでカバー体２６を奥へ押せばよい。そうすると、カバ
ー体２６はガイドレール２４上をスライドして処理室１
０の奥へ入っていく。

【００１６】カバー体２６の中心部には加熱処理時にウ
エハ表面から発生するガスを排出するための排気口２６
ａが設けられ（図３）、この排気口２６ａに円形の蓋３
４が取付され、この蓋３４の両側面に一対のＬ形の配管
３６が接続され、各配管３６の先端部３６ａはガイド片
３０の近くでガイド片３０と同じ方向に延びている。一
方、ガイドレール２４の終端付近の両側壁１２の内側面
にはＬ形の配管３８が先端部３８ａを背面側開口部１０
Ｂに向けて取付され、この配管３８の基端は両側壁１２
の通気孔１２ｂを介して側壁内部の排気孔１２ａに連通
している。

【００１７】したがって、上記のようにカバー体２６が
スライドして処理室１０の奥へ入っていくと、遂には図
２に示すようにカバー体２６側の配管３６が両側壁１２
側の配管３８に嵌入し、この状態（装填状態）でカバー
体２６は熱板１８の真上に位置する。なお、ガイドレー
ル２４の終端付近にカバー体２６を位置決めするための
ストッパ部材を設けてもよい。各側壁１２内の排気孔１
２ａは側壁１２の断面のほぼ全域にわたって貫通して形
成されており、複数の本加熱処理装置を上下方向に段積
みしたときに各装置の排気孔１２ａが上下方向に連通す
るようになっている。したがって、処理室１０内で加熱
処理時にウエハＷより発生したガスは、シャッタ２２の
通気孔２１から流入した空気と一緒にカバー体２６の排
気口２６ａ、配管３６および側壁１２の配管３８、通気
孔１２ｂを通って側壁１２内の排気孔１２ａに送られ、
そこから下方の排気装置（図示せず）へ送られるように
なっている。なお、両側壁１２の四隅の上下端には複数
の本加熱処理装置を上下方向に脱着可能に段積みするた
めの係合部材１３，１５および係合穴１７，１９が設け
られている。

【００１８】上記のように、本実施例による加熱処理装
置においては、処理室１０を形成する両側壁１２の内側
面に装置背面側の開口部１０Ｂから熱板１８付近の所定
位置まで所定の高さで相対向する一対の水平ガイドレー
ル２４を設けるとともに、カバー体２６の上面周縁部に
相対向する一対のガイド部３０を設けたので、カバー体
２６を処理室１０内に装填するときは、両ガイドレール
２４に両ガイド部３０を掛けてカバー体２６を奥へスラ
イドさせればよく、簡単・迅速・安全に装填作業が行え
る。また、カバー体２６を処理室１０から取り出すとき
は、装置背面側の開口部１０Ｂから手前の把手２８を掴
んで引き寄せればよく、そうするとカバー体２６はガイ
ドレール２４に沿ってスライドして出てくるので、簡単
・迅速・安全に外へ運び出すことができる。したがっ
て、本実施例による加熱処理装置をたとえば図６に示す
ような処理システムにおいて多段に積み重ねた場合、多
数の加熱処理装置についてカバー体２６の出し入れ作業
を繰り返しても重労働にはならず、上段や下段の加熱処
理装置にも簡単に出し入れすることができる。

【００１９】次に、本実施例による加熱処理装置の第２
の特徴部分について説明する。図１に示すように、本実
施例の加熱処理装置の背面パネル４０には多数の通気孔
４２が設けられており、これらの通気孔４２を通って外
部の清浄な空気が内部の機械室４４内に流入するように
なっている。

【００２０】図４および図５に示すように、機械室４４
は、遮蔽板１４、両側壁１２および底板４６によって形
成される室で、室内には熱板支持板４８、シャッタアー
ム５０、支持ピンアーム５２、シャッタアーム昇降駆動
用シリンダ５４、支持ピンアーム昇降駆動用シリンダ５
６が設けられている。また、図示していないが、シャッ
タアーム５０、支持ピンアーム５２の昇降位置を検出す
るための位置センサ等も機械室４４内に設けられてい
る。両アーム５０，５２と両シリンダ５４，５６との間
に仕切板５８が設けられ、この仕切板５８にも多数の通
気孔６０が穿孔されている。また、正面パネル６０に多
数の通気孔６２が穿孔されるとともに、正面パネル６０
の裏側に多数の通気孔６４を有した内壁板６６が設けら
れ、正面パネル６０と内壁板６６との間に両側壁１２内
の排気孔１２ａと連通する排気室６８が形成されてい
る。

【００２１】かかる構成によれば、装置背面側より周囲
の清浄空気が背面パネル４０の通気孔４２を通って機械
室４４内に流入し、流入した空気は機械室４４内を通っ
て正面側の仕切板６６の通気孔６２より排気室６８に入
り、排気室６８から両側壁１２の排気孔１２ａへ流れ
る。一方、装置正面側では、ダウンフローの清浄空気が
正面パネル６０の通気孔６２を通って排気室６８に入
り、そこから両側壁１２の排気孔１２ａへ流れる。

【００２２】このように、機械室４４内を清浄空気が常
時流れるため、両シリンダ５４，５６やセンサ等が冷却
されるとともに、パーティクルが室外へ排出され、清浄
空間が得られる。この点、従来装置においては、機械室
内への空気の流通が行われないため、駆動機構やセンサ
類で熱がこもったり、熱板１８と遮蔽板１４との間の隙
間から機械室内に落ちたパーティクルが何かの拍子で舞
い上がってウエハＷに付着する等の不具合があった。本
実施例の加熱処理装置は、そのような問題を解消してい
る。なお、内壁板６６と排気室６８を装置背面側つまり
背面パネル４０側に設けることも可能である。

【００２３】以上、好適な実施例について説明したが、
種々の変形、変更が可能である。たとえば、上記実施例
では断面Ｌ形のガイドレール２４にカバー体２６の板状
ガイド片３０を乗せて摺動させる機構であったが、これ
に限るものではなく、たとえばローラ等を用いて滑動さ
せる機構等であってもよい。また、ガイド片３０を使わ
ないで、カバー体２６の周縁部を案内部に形成して直接
ガイドレール上をスライドさせることも可能である。ま
た、上記実施例では、カバー体２６の形状が円板状の蓋
体のものについて説明したが、このカバー体２６部分を
備えた箱状体（図示せず）で構成してもよい。この箱状
体のカバー体の場合、ガイド部３０は、長尺物を左右両
側に取付したものでもよく、あるいは、少なくとも左右
の前後部分に部分的に取付したものでもよい。また、本
発明は上記したような加熱処理装置に限るものではな
く、載置台上に被処理体を載置してその上にカバー部材
を被せて処理を行う任意の処理装置に適用可能である。

【００２４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理装置
によれば、処理室の開口部と処理室内の載置台上の所定
位置との間に案内手段を設け、この案内手段を用いてカ
バー部材を出し入れするようにしたので、作業を簡単か
つ迅速に行うことが可能であり作業員の労を大幅に軽減
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による加熱処理装置の構成を
示す斜視図である。

【図２】実施例の加熱処理装置におけるカバー体の装填
状態を示す一部断面上面図である。

【図３】図２のＡ−Ａ線についての横断面図である。

【図４】実施例の加熱処理装置における機械室の内部の
構造を示す一部断面上面図である。

【図５】実施例の加熱処理装置における機械室の内部の
構造を示す一部断面側面図である。

【図６】加熱処理装置を組み込む処理システムの一例を
示す斜視図である。

【図７】従来の加熱処理装置の構成を示す一部断面略側
面図である。

【符号の説明】

１０ 処理室 １２ 側壁 １４ 遮蔽板 １８ 熱板 ２４ ガイドレール ２６ カバー体 ２８ 把手 ３０ カイド部 ４０ 背面パネル ４２ 通気孔 ６６ 内壁板 ６８ 排気室

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 カバー部材を出し入れするための開口部
   を有する処理室内の載置台上に被処理体を載置してその
   上に前記カバー部材を被せた状態で所定の処理を行うよ
   うにした処理装置において、 前記開口部と前記載置台の上の所定位置との間で前記カ
   バー部材を案内するための案内手段を設けてなることを
   特徴とする処理装置。