JP2849369B2 - 導波路型光デバイスの実装構造 - Google Patents

導波路型光デバイスの実装構造

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JP2849369B2
JP2849369B2 JP8280632A JP28063296A JP2849369B2 JP 2849369 B2 JP2849369 B2 JP 2849369B2 JP 8280632 A JP8280632 A JP 8280632A JP 28063296 A JP28063296 A JP 28063296A JP 2849369 B2 JP2849369 B2 JP 2849369B2
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/035Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect in an optical waveguide structure
    • G02F1/0356Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect in an optical waveguide structure controlled by a high-frequency electromagnetic wave component in an electric waveguide structure

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ニオブ酸リチウム等の
電気光学効果を有する材質からなる基板上に光導波路、
接地電極および信号電極が形成されている導波路型光デ
バイスの実装構造に関するものであり、特に、高速長距
離用に適した導波路型光デバイスの実装構造に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】電気光学効果を有する材質からなる基板
上に接地電極、信号電極および光導波路を形成し、信号
電極にマイクロ波信号電圧を印加し、光導波路を伝搬す
る光波を変調する変調器が知られている。図14は、こ
うした変調器の一例を示す平面図である。この導波路型
光デバイス16は、いわゆるマッハツェンダー型の変調
器である。基板2はニオブ酸リチウム等の電気光学単結
晶からなっている。基板2の主面には、例えばチタン拡
散光導波路3が形成されている。この光導波路3は、入
力側の端面2cと出力側の端面2dとの間に延びてお
り、基板2の中央付近で光導波路3aと3bとに分岐し
ている。また、基板2の主面に、特定形状の接地電極4
A、6Aと、信号電極5Aとが設けられている。7、8
は、各接地電極4A、6Aと接地電極5Aとを絶縁して
いる絶縁領域である。この変調器においては、動作速度
を一層向上させる目的で、いわゆるコプレナーウエーブ
ガイド型(CPW)の形態を有する接地電極および信号
電極を使用している。
【0003】こうした導波路型光デバイスは、適切な筺
体に対して機械的に固定し、電気的に接続する必要があ
る。このように導波路型光デバイスを筺体に実装する方
法は幾つか知られている(特開平5−142505号公
報、特開平7−64030号公報参照)。しかし、例え
ば、図15に示す実装構造が一般的である。9は筺体の
壁であり、筺体9の対向面9aに基板2の一方の端面2
aが所定間隔を置いて対向している。2bは他方の端面
である。この対向面9aと端面2aとの間隔は、通常
0.05mm〜0.1mmである。筐体9の壁のうち対
向面9a側の表面は好ましくは金メッキされており、グ
ランドとして機能するように構成されている。外側の接
地電極4Aの端面2a側が金属箔17によって対向面9
aに対して電気的に接続されており、内側の接地電極6
Aの端面2a側の端部が金属箔19によって対向面9a
に対して電気的に接続されている。
【0004】また、従来知られている高周波コネクタの
接続構造を、図16に拡大して示す。図15、図16の
実装構造においては、高周波コネクタの中心導体40が
円柱形状の保持部30によって保持されており、保持部
30が筺体9の内部にほぼ埋設されている。保持部30
の外周面にはシールド導体である外部グランドが設けら
れている。中心導体40の先端部分に保持具18によっ
て平板形状の基板接続用導体11が固定されており、基
板接続用導体11が信号電極5Aの端面2a側の端部に
対して接続されている。
【0005】この変調器16を動作させる際には、図示
しない信号発生器からのマイクロ波信号電圧を高周波コ
ネクタ40を介して信号電極5Aに印加し、図示しない
終端抵抗によって終端処理する。具体的には、信号発生
器からの信号を同軸ケーブルによって取り出し、基板接
続用導体11を介して信号電極5Aに印加する。このマ
イクロ波信号電圧によって、信号電極5Aと接地電極4
A、6Aとの間に電界が発生する。基板2は電気光学効
果を有しているので、信号電極と接地電極との間の電界
によって、光導波路3aと3bとの間に屈折率の差が発
生し、この結果、光導波路3aと3bとをそれぞれ伝搬
する光波の位相にずれが発生する。この位相差が2mπ
ラジアン(mは整数)になった場合には、光導波路3の
合波部で導波モードが励起され、光出力が「ON」状態
になる。一方、光導波路3aと3bとをそれぞれ伝搬す
る光波の位相差が(2mπ−1)ラジアンになった場合
には、光導波路3の合波部で高次モードが励起され、光
出力が「OFF」状態になる。
【0006】こうした導波路型光デバイスにおいては、
コプレナーウエーブガイド型の信号電極5Aおよび接地
電極4A、6Aを、変調用のマイクロ波信号電圧を供給
するための変調電極として構成している。従って、これ
らの導体4A、5A、6Aを伝搬する変調用のマイクロ
波信号電圧と、光導波路3内を伝搬する光との間に速度
差がないものと仮定すると、光変調帯域には制限はない
はずである。しかし、現実には、各電極の内部で伝搬損
失があり、またマイクロ波信号電圧と光との間に速度差
があるために、変調帯域が制限されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】こうした導波路型光デ
バイスにおいては、特定の周波数において、いわゆる
「ロスディップ」と呼ばれる伝送特性が劣化する問題が
あった。例えば、後述するように、インピーダンスを5
0Ωに整合させ、基板2をニオブ酸リチウムによって形
成し、基板の厚さを0.5mmとし、基板の長さを60
mmとし、幅を0.8mmとしたときの伝送特性(S
2 1 )を図17に示す。この場合、周波数が約27GH
z付近で、伝送特性に大きなロスディップが生じている
ことがわかる。こうした変調器の使用可能な周波数帯域
は、このロスディップの生ずる周波数以下に制限され
る。
【0008】こうした従来の導波路型光デバイスにおい
て、変調帯域を一層高周波側に拡大するためには、基板
を薄くし、共振周波数を高くし、ディップが発生する周
波数を高くする必要があった。例えば、特開平6−30
8437号公報に記載されているように、基板の厚さが
0.5mmであって、伝送特性(S2 1 )が約20GH
zである場合に、基板の厚さを0.15mmとすると、
伝送特性(S2 1 )が約60GHz以上となる。しか
し、光変調器の大きさは、光の伝搬方向には40〜60
mm程度の長さが必要であるため、例えば基板の厚さを
0.15mmまで小さくすると、基板が非常に割れやす
くなり、取扱いが困難になる。
【0009】また、特開平7−98442号公報によれ
ば、高周波コネクタのインピーダンスと信号電極のイン
ピーダンスとが異なるために、インピーダンス不整合に
よる変調帯域の劣化が発生していた。このため、高周波
コネクタのインピーダンスと信号電極のインピーダンス
とを整合させるためのインピーダンス整合回路を両者の
間に配置することを提案している。しかし、この方法に
よっても、必ずしも十分に変調帯域を高周波側に拡大で
きないし、また余分な回路部品が必要となる。
【0010】本発明の課題は、光導波路が形成されてい
る基板と、この基板の主面上に形成されている信号電極
と、この信号電極を挟むように形成されている一対の接
地電極とを備えており、信号電極に印加されるマイクロ
波信号電圧と光導波路内を伝搬する光波とが相互作用し
うるように構成されている導波路型光デバイスにおい
て、ロスディップの発生周波数を高周波側に移行させる
ための新規な技術を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、導波路型光デ
バイスとこの導波路型光デバイスを収容する筺体とを備
えている実装構造であって、導波路型光デバイスが、光
導波路が形成されている基板と、この基板の主面上に形
成されている信号電極と、この信号電極を挟むように形
成されている一対の接地電極とを備えており、信号電極
に印加されるマイクロ波信号電圧と光導波路内を伝搬す
る光波とが相互作用しうるように構成されており、筺体
側の高周波コネクタと信号電極とが接続されており、筺
体の基板に対向している対向面との各接地電極とが、対
向面と基板の端面との間に介在している導電材層によっ
てそれぞれ接続されており、各接地電極と各導電材層と
の接続部分において、各接地電極の信号電極側の縁部と
各導電材層の縁部とが実質的に段差無く連続しており、
信号電極と高周波コネクタとの接続部分において、信号
電極の幅が、高周波コネクタの信号電極との接続部分の
幅以下であることを特徴とする。
【0012】また、本発明は、導波路型光デバイスとこ
の導波路型光デバイスを収容する筺体とを備えている実
装構造であって、導波路型光デバイスが、光導波路が形
成されている基板と、この基板の主面上に形成されてい
る信号電極と、信号電極を挟むように形成されている一
対の接地電極とを備えており、信号電極に印加されるマ
イクロ波信号電圧と光導波路内を伝搬する光波とが相互
作用しうるように構成されており、筺体側の高周波コネ
クタと信号電極とが接続されており、筺体の基板に対向
している対向面との各接地電極とがそれぞれ導電体によ
って接続されており、各接地電極との各導電体との接続
部分において、各接地電極の信号電極側の縁部との各導
電体の縁部とが実質的に段差無く連続しており、信号電
極と高周波コネクタとの接続部分において、信号電極の
幅が、高周波コネクタの信号電極との接続部分の幅以下
であることを特徴とする。
【0013】以下、図面を参照しつつ、本発明の内容と
作用効果とについて順次説明する。
【0014】図1は,本発明の一実施形態に係る実装構
造を示す平面図であり、図2は、図1の実装構造の斜視
図であり、図3(a)、(b)はそれぞれ導波路型光デ
バイスの断面構造を模式的に示す図である。図4は、従
来の導波路型光デバイスの実装構造の要部を示す平面図
であり、図5は図4の部分拡大部である。ただし、図
4、図5において、図14に示した構成部分と同じ部分
には同じ符号を付け、その部分の説明は省略する。
【0015】本発明者は、従来、導波路型光デバイスの
ロスディップの周波数を高くする上で、基板の形態等に
ついては検討がなされてきているが、実装構造の改善に
ついてはほとんど検討がなされてきていないことに着目
し、実装構造と伝送特性との関連を検討した。
【0016】例えば、図4、図5においては、通常はイ
ンピーダンスを50Ωに整合させる必要があり、筺体9
の端面9aと基板端面2aとの間隔は0.05〜0.1
mmである。また、外側の接地電極4Aの接続部分にお
ける幅mと、導電体17の幅nとの差tは1〜10mm
であるため、接地電極4Aの縁部と導電体17の縁部と
の間に寸法tの段差部分Bが生ずる。また、内側の接地
電極6Aの接続部分における幅rよりも、導電体19の
幅sの方が通常は相当に小さく、このため接地電極6A
の縁部と導電体19の縁部との間に段差部分Cが生ず
る。段差Cの寸法wは、通常0.5〜5mmである。
【0017】これと同様に、信号電極5Aの接続部分に
おける幅pよりも、基板接続用導体11の幅qの方が通
常は相当に小さく、このため、信号電極5Aの縁部と基
板接続用導体11の縁部との間に段差部分Aが生ずる。
段差Aの寸法uは通常0.05〜0.1mmであり、v
は、通常0.05〜0.1mmである。
【0018】本発明者は、こうした実装構造に着目して
検討した結果、ロスディップの周波数に深く関係してい
ることを、初めて発見した。図6の仮想的な等価回路を
参照しつつ、説明する。13を信号発生器とすると、信
号電極5Aは抵抗線路として作用する。この抵抗をRと
し、インダクタンスをLとする。具体的には、まず接地
電極4A、6Aと筺体9の対向面9aとがそれぞれ金属
箔(導電体の一種)17、19によって電気的に接続さ
れているのであるが、これと同時に、接地電極の末端と
対向面9aとの間隙を絶縁体とするコンデンサーCeが
生成していると考えられる。つまり、図6に示す等価回
路に置き換えて考えると、接地電極の末端と対向面9a
との間では、抵抗R、インダクタンスLとコンデンサー
Ceとが並列に接続されていることになる。マイクロ波
信号電圧の周波数が特定領域まで上昇すると、このコン
デンサーCeと抵抗、インダクタンスとが共振回路を生
成し、この共振回路に電力エネルギーが漏出する。この
結果、特定周波数で大きなロスディップが生じたものと
考えられる。
【0019】このため、本発明者は、筺体9の基板に対
向している対向面9aと各接地電極4A、6Aとを、対
向面9aと基板2の端面2aとの間に介在している導電
材層によってそれぞれ直接に接続することを想到した。
これによって、対向面9aと基板2の端面2aとの間に
生ずる空間はなくなり、両者の間隔は導電材層の厚さ
(即ち50〜100μm)となるので、前記したコンデ
ンサーの寄生容量はほとんど消滅し、これによる電力エ
ネルギーの漏出が最小限となった。
【0020】また、本発明者は、更に検討を進めた結
果、従来着目されていなかった、上記と類似したメカニ
ズムによる寄生容量および共振回路の生成を突き止め
た。即ち、図5において、接地電極と導電体との段差
B、C、および信号電極と基板接続用導体11との段差
Aが、こうした寄生容量の原因となっていた。信号電極
5Aは、接地電極4A、6Aとほぼ平行に延びている
が、この際信号電極5Aの各部分と接地電極4A、6A
の各部分との間に、それぞれ、微小なコンデンサーが生
成している。この微小なコンデンサーを積分し、単純化
して表示すると、図6に示すCdが得られる。
【0021】しかし、これに加えて、導電体17、19
と接地電極4A、6Aの縁部との段差部分B、Cにも寄
生容量が発生する。この寄生容量も、複雑な空間的配置
を有する微小なコンデンサーを積分することによって得
られるものであるが、図6に単純化してCb、Ccと表
示してある。コンデンサーCb、Ccは、信号電極5A
に対して並列に接続される。また、基板接続用導体11
と信号電極5Aの両縁部との段差部分Aにも寄生容量が
発生する。この寄生容量を図6に単純化してCaと表示
する。コンデンサーCaは、信号電極5Aに対して並列
に接続される。
【0022】マイクロ波信号電圧の周波数が特定領域ま
で上昇すると、これらのコンデンサーCa、Cb、Cc
と抵抗RとインダクタンスLとが共振回路を生成し、こ
の共振回路に電力エネルギーが漏出する。この結果、特
定周波数で大きなロスディップが生じたものと考えられ
る。
【0023】本発明者は、この知見を踏まえて、前記の
各発明に想到した。具体的には、図1、図2に示すよう
に、基板2上に一対の接地電極4、6と信号電極5とを
形成し、基板の端面2aを筺体9の対向面9aに対向さ
せた。筺体9と各接地電極4、6とを、それぞれ金属箔
等の導電体10、12によって接続した。
【0024】本発明においては、各接地電極4、6と各
導電体10、12との接続部分において、各接地電極
4、6の信号電極5側の縁部と各導電体10、12の縁
部とが実質的に段差無く連続するようにした。換言する
と、外側の接地電極4の接続部分における幅mと、導電
体10の幅nとの差がなくなり、内側の接地電極6の接
続部分における幅rと、導電体12の幅sとの差がなく
なるようにし、段差をなくした。
【0025】これによって、図6に示した抵抗R、イン
ダクタンスLと並列な寄生容量Cb、Ccを消滅させ、
これらの寄生容量と抵抗、インダクタンスとの共振によ
る電力エネルギーの漏出を防止できる。
【0026】また、本発明においては、筺体9側の高周
波コネクタ40と信号電極5とを接続するのに際して、
信号電極5と高周波コネクタ40との接続部分におい
て、信号電極5の幅pが、高周波コネクタ40の信号電
極5との接続部分11の幅q以下となるようにした。こ
れによって、図6に示した抵抗R、インダクタンスLと
並列な寄生容量Caを消滅させ、これらの寄生容量と抵
抗、インダクタンスとの共振による電力エネルギーの漏
出を防止できる。
【0027】ただし、現実の電極の形成時の位置精度、
および各接地電極4、6と各導電体10、12との位置
合わせの精度には限界があるために、25μm以下の誤
差は許容されるものとする。
【0028】次に、本発明の具体的な実施形態につい
て、更に詳細に説明していく。光変調器においては、好
ましくは、信号電極5の一方に信号発生器13を接続
し、他方に抵抗14およびアース15を接続する。
【0029】基板の材質としては、ニオブ酸リチウム、
タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム−タンタル酸リ
チウム固溶体等の電気光学結晶が特に好ましい。また、
基板を構成する電気光学結晶の結晶方位は、zカットま
たはxカットが好ましい。例えば、図3(a)に示す導
波路型光デバイス1においては、zカットされた基板2
の中にチタン拡散光導波路3a、3bが形成されてお
り、この上に必要に応じてバッファ層36を形成し、バ
ッファ層36上に接地電極4、6、信号電極5を形成し
ている。各光導波路3a、3bは、それぞれ各電極4、
5の真下にある。
【0030】図3(b)に示す導波路型光デバイス1A
においては、xカットされた基板2の中にチタン拡散光
導波路3a、3bが形成されており、この上に必要に応
じてバッファ層36を形成し、バッファ層36上に接地
電極4、6、信号電極5を形成している。各光導波路3
a、3bは、それぞれ各電極4と5との間、電極5と6
との間にある。
【0031】光導波路の形成方法としては、チタン拡散
法等の内拡散法やプロトン交換法を利用できる。また、
本発明の導波路型光デバイスは、前記した光変調器の他
に、光位相変調器、偏波スクランブラ、光スイッチング
素子、光コンピューター用の光論理素子等として好適に
使用できる。
【0032】筺体の対向面と各接地電極とを、筺体の対
向面と基板の端面との間に介在している導電材層によっ
てそれぞれ接続した場合には、導電材層として種々の材
質を使用できるが、特に導電性ペースト層の硬化物を使
用することによって、基板の筺体への機械的固定も行う
ことができるので、好ましい。
【0033】こうした導電性ペーストとしては、金ペー
スト、銀ペースト、白金ペースト等の貴金属ペーストが
特に好ましい。ただし、半田を使用することもできる。
【0034】また、各接地電極と各導電材層との接続部
分において、各接地電極の信号電極側の縁部と各導電材
層の縁部とを実質的に段差無く連続させることが特に好
ましく、これによって前記した作用効果を奏することが
できる。この場合には、更に、各接地電極と各導電材層
との接続部分において、各接地電極の両端の縁部と各導
電材層の両端の縁部とをそれぞれ実質的に段差無く連続
させることが好ましい。
【0035】図7は、本発明の好適な実施形態に係る実
装構造を示す平面図であり、図8は図7の実装構造の斜
視図であり、図9は筺体と導波路型光デバイス1とを接
合する前の状態を示す平面図である。好ましい製造手順
としては、図9に示すように、筺体9と基板2とをでき
る限り接近させ、高周波コネクタ40の基板接続用導体
11を信号電極5の末端に対して位置決めし、基板と筺
体とを仮止めする。次いで、高周波コネクタの基板接続
用導体11を信号電極5の末端に対して接続する。次い
で、筺体9の対向面9a上のうち、接地電極4、6に対
応する位置に導電性ペースト層20A、21Aを形成
し、導電性ペースト層を各接地電極4、6に対して接触
させ、この状態で導電性ペーストを熱処理し、図7、図
8に示すような導電性ペーストの硬化層20、21を形
成する。
【0036】本実施形態においては、各接地電極4、6
と各導電材層20、21との接続部分において、各接地
電極4、6の両端の縁部と各導電材層20、21の両端
の縁部とが、それぞれ実質的に段差無く連続している。
【0037】導波路型光デバイス1の長さは40〜60
mmと長く、現在の工作機械の精度では、基板2の端面
2aに反りが生ずることがある。この反りによる基板の
端面2aと筺体の対向面9aとの空間の寸法は、通常は
50〜100μmである。この不可避的な空隙の残存に
よって、特に20GHz以上の高周波数領域では、前記
したような寄生容量が発生するおそれがある。しかし、
本実施形態では、この空隙をほぼ導電材層で充填するこ
とができるので、工作機械の精度の限界によって生ずる
不可避的な寄生容量をも最小限に抑制できる。
【0038】一般に、前記したような型の光変調器にお
いては、例えば50Ωでインピーダンスの整合を考慮す
る必要がある。このインピーダンスの整合によって、マ
イクロ波信号電圧を信号電極に印加したときのマイクロ
波の放射を削減でき、伝送特性(S2 1 )を一層改善で
きる。しかし、ニオブ酸リチウムのように誘電率の高い
電気光学結晶を使用した場合には、信号電極の幅が狭く
なる傾向がある。この場合には、信号電極と高周波コネ
クタとの接続部分において、信号電極の幅を、高周波コ
ネクタの信号電極との接続部分の幅よりも小さくするこ
とによって、信号電極の幅の減少に対して対応できる。
【0039】図10は、この実施形態に係る導波路型光
デバイス1Bと筺体9との実装構造を示す平面図であ
る。ただし、図7に示した構成部分には同じ符号を付
け、その説明は省略する。高周波コネクタ40の基板接
続用導体11が信号電極5Bに対して接続されている。
この接続部分における信号電極5Bの幅pは、基板接続
用導体11の幅qよりも小さくなっている。このように
信号電極5Bの幅を小さくすることによって、信号電極
中の抵抗値を上昇させ、インピーダンスの整合を実現で
きる。
【0040】ニオブ酸リチウム基板において50Ωのイ
ンピーダンス整合を実現するためには、信号電極5Bの
幅pを100〜200μmとすることが好ましい。この
一方、基板接続用導体11の幅qは、導体11と信号電
極5Bとを顕微鏡下で互いに接続する作業を効率良く遂
行するためには、100〜150μmであることが好ま
しい。
【0041】本実施形態においては、信号電極の幅を、
高周波コネクタの信号電極との接続部分の幅の2倍以下
とすることが好ましい。ただし、信号電極の幅が高周波
コネクタの信号電極との接続部分の幅よりも小さくなり
すぎると、この接続部分に寄生容量が生ずる可能性があ
るので、信号電極の幅を、高周波コネクタの信号電極と
の接続部分の幅の0.5倍以上とすることが好ましい。
【0042】前記した各実施形態においては、導電材層
の幅と接地電極との幅を等しくした。これによって、接
地電極の基板端面2a側の全領域を筺体のグランドに対
して電気的に接続し、アースすることができるので、特
に好ましい。一方、他の好ましい実施形態においては、
基板の端面に、各接地電極に連続する金属メッキ層を形
成し、この金属メッキ層と筺体の対向面とを導電材層に
よって接続することができる。この場合にも、接地電極
の基板端面2a側の全領域を筺体のグランドに対して電
気的に接続し、アースすることができる。
【0043】図12は、この実施形態に係る実装構造を
示す平面図であり、図11は、図12の実装構造を作成
する前の組み立て体を示すものである。本導波路型光デ
バイス1Cにおいては、基板2の端面2aのうち、接地
電極4、6の領域に金属メッキ層25、26が形成され
ており、各金属メッキ層25、26が、それぞれ接地電
極4、6と電気的に接続されている。基板2の端面2a
と筺体9の対向面9aとを対向させる。
【0044】次いで、図12に示すように、金属メッキ
層25と対向面9aとの間に導電材層27を形成し、金
属メッキ層26と対向面9aとの間に2箇所に導電材層
28を形成する。この際、各導電材層27の信号電極5
B側の縁部と接地電極4の信号電極側の縁部とが実質的
に段差なく連続するようにする。また、各導電材層28
の信号電極5B側の縁部と接地電極6の信号電極側の縁
部とが実質的に段差なく連続するようにする。
【0045】この導電材層を形成するためには、導電性
ペーストを各導電材層27、28に対応する位置に落と
し込み、これを硬化させることが好ましい。このように
各接地電極4、6の基板端面2a側のアースを金属メッ
キ層によって代用することによって、基板の実装工程が
一層容易になる。
【0046】
【実施例】
〔実施例〕 (導波路型光デバイス1の製造)図7〜図9に示す実装
構造を製造し、その伝送特性の周波数依存性を試験し
た。まずZカットニオブ酸リチウムウエハーを準備し
た。フォトリソグラフィー法でパターニングを行い、ウ
エハーの主面に、厚さ800オングストローム、幅7μ
mのマッハツェンダー形状の金属チタン膜を形成した。
前記膜を、熱拡散法によって基板に拡散させ、チタン拡
散光導波路3を形成した。この上に厚さ1〜2μmのS
iO2 バッファ層を形成し、バッファ層の上に変調用電
極4、5、6を形成し、各電極の上に厚さ15μmのメ
ッキを行った。このウエハーを切断し、厚さ0.5m
m、幅0.8mm、長さ60mmの導波路型光デバイス
1を製造した。この端面2c、2dを光学研磨した。
【0047】(実装)基板2の端面2aを筺体の対向面
9aに対してできる限り接近させ、高周波コネクタ40
の基板接続用導体11を信号電極5に対して50μm以
下の精度で位置決めし、基板2と筺体9とを仮止めし
た。次いで、高周波コネクタ40の基板接続用導体11
を信号電極5に対して、金の圧着によって接続した。次
いで、図9に示すように筺体と基板との間に、導電性ペ
ーストとして銀ペーストを充填した。これを120℃で
30分間以上加熱し、硬化させ、導電材層20、21を
形成した。次いで、所定の電気配線を施し、紫外線硬化
型樹脂を使用して、光導波路と光ファイバーとの接続
(図示せず)を行い、測定用のデバイスを得た。
【0048】(高周波電極特性の測定)実施例のデバイ
スと測定器との間を高周波ケーブルで接続した。測定器
から、周波数が徐々に変わるスイープ信号を出力し、各
周波数における伝送特性(S2 1 )を測定した。この測
定結果を図13に示す。この結果から判るように、35
GHz以下の範囲内において、ロスディップを除去する
ことに成功した。
【0049】〔比較例〕図14〜図16に示す実装構造
を製造した。導波路型光デバイス16は、実施例の項目
で述べたようにして製造した。ただし、各接地電極、信
号電極の形状は、実施例の電極形状とは異なっている。
【0050】高周波コネクタ40の基板接続用導体11
を信号電極5に対して50μm以下の精度で位置決め
し、基板2と筺体9とを仮止めした。次いで、高周波コ
ネクタの基板接続用導体11を信号電極5に対して、金
の圧着によって接続した。また、各金箔17、19によ
って各接地電極を筺体9に対して接続した。次いで、所
定の電気配線を施し、紫外線硬化型樹脂を使用して、光
導波路と光ファイバーとの接続(図示せず)を行い、測
定用のデバイスを得た。
【0051】このデバイスについて、実施例と同様にし
て伝送特性を測定した。この測定結果を図17に示す。
この結果から判るように、約27GHzでロスディップ
が生じている。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、光導波路が形成されて
いる基板と、この基板の主面上に形成されている信号電
極と、この信号電極を挟むように形成されている一対の
接地電極とを備えており、信号電極に印加されるマイク
ロ波信号電圧と光導波路内を伝搬する光波とが相互作用
しうるように構成されている導波路型光デバイスにおい
て、ロスディップの発生周波数を高周波側に移行させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る実装構造の平面図であ
る。
【図2】図1の実装構造の斜視図である。
【図3】(a)は、zカットされた電気光学結晶を使用
した場合の導波路型光デバイスの構成例であり、(b)
は、xカットされた電気光学結晶を使用した場合の導波
路型光デバイスの構成例である。
【図4】従来の導波路型光デバイス16の実装構造の平
面図である。
【図5】図6の部分拡大図である。
【図6】図5の実装構造についての等価回路図である。
【図7】本発明の他の実施形態に係る実装構造の平面図
である。
【図8】図7の実装構造の斜視図である。
【図9】図7、図8の実装構造を作成する前の状態を示
す平面図である。
【図10】本発明の更に他の実施形態に係る実装構造を
示す平面図である。
【図11】図12の実装構造を製造する前の状態を示す
平面図である。
【図12】本発明の更に他の実施形態に係る実装構造を
示す平面図である。
【図13】本発明の実施例に係る実装構造の伝送特性の
周波数依存性を示すグラフである。
【図14】導波路型光デバイス16を示す平面図であ
る。
【図15】従来の実装構造の一例を示す斜視図である。
【図16】図15の部分拡大図である。
【図17】比較例に係る実装構造の伝送特性の周波数依
存性を示すグラフである。
【符号の説明】
1、1A、1B、1C 導波路型光デバイス 2 基板 2a 基板2の端面 3、3a、3b 光導波路 4、4A、6、6A 接地電極 5、5A、5B 信号電極 9 筺体 9a 筺体9の端面 10、12、17、19 導電体 11 基板接続用導体(高周波コネクタの接続部分) 20A、21A 導電性ペースト層 20、21 導電性ペーストの硬化層(導電材層) 25、26 金属メッキ層 40 高周波コネクタ(中心導体) A 信号電極と高周波コネクタとの接続部分における段
差 B、C 接地電極と導電体との接続部分における段差
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 脇浜 秀人 千葉県船橋市豊富町585番地 住友大阪 セメント株式会社 光電子事業部内 (56)参考文献 特開 平5−142505(JP,A) 実開 昭58−66701(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02F 1/035

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導波路型光デバイスとこの導波路型光デ
    バイスを収容する筺体とを備えている実装構造であっ
    て、 前記導波路型光デバイスが、光導波路が形成されている
    基板と、この基板の主面上に形成されている信号電極
    と、この信号電極を挟むように形成されている一対の接
    地電極とを備えており、前記信号電極に印加されるマイ
    クロ波信号電圧と前記光導波路内を伝搬する光波とが相
    互作用しうるように構成されており、 前記筺体側の高周波コネクタと前記信号電極とが接続さ
    れており、前記筺体の前記基板に対向している対向面と
    前記の各接地電極とが、前記対向面と前記基板の端面と
    の間に介在している導電材層によってそれぞれ接続され
    ており、各接地電極と各導電材層との接続部分におい
    て、各接地電極の信号電極側の縁部と各導電材層の縁部
    とが実質的に段差無く連続しており、前記信号電極と前
    記高周波コネクタとの接続部分において、前記信号電極
    の幅が、前記高周波コネクタの前記信号電極との接続部
    分の幅以下であることを特徴とする、導波路型光デバイ
    スの実装構造。
  2. 【請求項2】 前記導電材層が導電性ペースト層の硬化
    物からなることを特徴とする、請求項1記載の導波路型
    光デバイスの実装構造。
  3. 【請求項3】 前記の各接地電極と前記の各導電材層と
    の接続部分において、前記の各接地電極の両端の縁部と
    前記の各導電材層の両端の縁部とがそれぞれ実質的に段
    差無く連続していることを特徴とする、請求項1または
    2記載の導波路型光デバイスの実装構造。
  4. 【請求項4】 前記基板の前記端面に前記各接地電極に
    連続する金属メッキ層が形成されており、この金属メッ
    キ層と前記筺体の前記対向面とが前記導電材層によって
    接続されていることを特徴とする、請求項1〜3のいず
    れか一つの請求項に記載の導波路型光デバイスの実装構
    造。
  5. 【請求項5】 導波路型光デバイスとこの導波路型光デ
    バイスを収容する筺体とを備えている実装構造であっ
    て、 前記導波路型光デバイスが、光導波路が形成されている
    基板と、この基板の主面上に形成されている信号電極
    と、この信号電極を挟むように形成されている一対の接
    地電極とを備えており、前記信号電極に印加されるマイ
    クロ波信号電圧と前記光導波路内を伝搬する光波とが相
    互作用しうるように構成されており、 前記筺体側の高周波コネクタと前記信号電極とが接続さ
    れており、前記筺体の前記基板に対向している対向面と
    前記の各接地電極とがそれぞれ導電体によって接続され
    ており、前記の各接地電極と前記の各導電体との接続部
    分において、前記の各接地電極の前記信号電極側の縁部
    と前記の各導電体の縁部とが実質的に段差無く連続して
    おり、前記信号電極と前記高周波コネクタとの接続部分
    において、前記信号電極の幅が、前記高周波コネクタの
    前記信号電極との接続部分の幅以下であることを特徴と
    する、導波路型光デバイスの実装構造。
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