JP2848348B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8512—Aligning
- H01L2224/85148—Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
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- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置及びそ
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の技術について、図4及び図5を参
照しながら説明する。図4は従来のボンディングワイヤ
ループ群の断面図、図5はその平面図を示したものであ
る。近年、LSIの高集積化に伴い、そのICチップ3
のボンディングパッド5のピッチは、ますます狭くなっ
ており、その組立ても、さらに難しくなっている。そこ
で、一定の面積のICチップ3において、ボンディング
パッド5のピッチを狭くすることなく、高密度化する方
法として、ボンディングパッド5を千鳥状に複数列に配
列させるものがでてきた。これを組立てる場合、内側パ
ッド列5bと外側パッド列5aにボンディングを行った
ワイヤ間で電気的なショートが起こる可能性が高いの
で、内側パッド列5bにボンディングしたボンディング
ワイヤループ2bの高さを外側パッド列5aにボンディ
ングしたボンディングワイヤループ2aの高さよりも高
くすることにより、これらのワイヤ間での電気的なショ
ートが起こらないようにしていた。また、スプレーを用
いて絶縁材をボンディングワイヤループ2に噴霧する方
法や要被覆部を直接絶縁剤に浸す方法で、ボンディング
ワイヤループ2に絶縁被膜を形成することによって、ボ
ンディングワイヤループ2間の電気的なショートが起こ
らないようにしていた。
照しながら説明する。図4は従来のボンディングワイヤ
ループ群の断面図、図5はその平面図を示したものであ
る。近年、LSIの高集積化に伴い、そのICチップ3
のボンディングパッド5のピッチは、ますます狭くなっ
ており、その組立ても、さらに難しくなっている。そこ
で、一定の面積のICチップ3において、ボンディング
パッド5のピッチを狭くすることなく、高密度化する方
法として、ボンディングパッド5を千鳥状に複数列に配
列させるものがでてきた。これを組立てる場合、内側パ
ッド列5bと外側パッド列5aにボンディングを行った
ワイヤ間で電気的なショートが起こる可能性が高いの
で、内側パッド列5bにボンディングしたボンディング
ワイヤループ2bの高さを外側パッド列5aにボンディ
ングしたボンディングワイヤループ2aの高さよりも高
くすることにより、これらのワイヤ間での電気的なショ
ートが起こらないようにしていた。また、スプレーを用
いて絶縁材をボンディングワイヤループ2に噴霧する方
法や要被覆部を直接絶縁剤に浸す方法で、ボンディング
ワイヤループ2に絶縁被膜を形成することによって、ボ
ンディングワイヤループ2間の電気的なショートが起こ
らないようにしていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】第一の問題点は、従来
の技術においては、パッド列毎にボンディングワイヤル
ープ高さを変更する必要が有り、その条件設定に多大な
工数を必要とする。その理由は、ワイヤ間隔を確保する
ことにより、電気的なショートを防止する必要があるか
らである。
の技術においては、パッド列毎にボンディングワイヤル
ープ高さを変更する必要が有り、その条件設定に多大な
工数を必要とする。その理由は、ワイヤ間隔を確保する
ことにより、電気的なショートを防止する必要があるか
らである。
【0004】第二の問題点は、従来の技術においては、
内側パッド列にボンディングしたワイヤと外側パッドに
ボンディングしたワイヤが次工程(封入)までの取り扱
いや封入時のワイヤ流れにより、ワイヤ変形が生じた場
合、電気的なショートを起こす可能性があるということ
である。その理由は、内側パッド列にボンディングした
ワイヤと外側パッド列にボンディングしたワイヤの間は
中空になっており、また、両者はワイヤ自身の張力によ
りそのワイヤループ形状を保持しているだけなので、次
工程(封入)までの取り扱いや封入時のワイヤ流れなど
により、ワイヤループ形状が変形した場合、電気的なシ
ョートを引き起こことになる、ということである。
内側パッド列にボンディングしたワイヤと外側パッドに
ボンディングしたワイヤが次工程(封入)までの取り扱
いや封入時のワイヤ流れにより、ワイヤ変形が生じた場
合、電気的なショートを起こす可能性があるということ
である。その理由は、内側パッド列にボンディングした
ワイヤと外側パッド列にボンディングしたワイヤの間は
中空になっており、また、両者はワイヤ自身の張力によ
りそのワイヤループ形状を保持しているだけなので、次
工程(封入)までの取り扱いや封入時のワイヤ流れなど
により、ワイヤループ形状が変形した場合、電気的なシ
ョートを引き起こことになる、ということである。
【0005】第三の問題点は、従来の技術においては、
例えば、最内パッド列のボンディング時のワイヤショー
トは防止できないということである。その理由は、最外
パッド列のみボンディング後に絶縁被膜を形成しようと
すると、内側パッド列のボンディングパッド表面にも絶
縁被膜が形成されてしまうので、全てのボンディングパ
ッドのボンディングが完了してからしか、ボンディング
ワイヤに絶縁被膜の形成ができないからである。
例えば、最内パッド列のボンディング時のワイヤショー
トは防止できないということである。その理由は、最外
パッド列のみボンディング後に絶縁被膜を形成しようと
すると、内側パッド列のボンディングパッド表面にも絶
縁被膜が形成されてしまうので、全てのボンディングパ
ッドのボンディングが完了してからしか、ボンディング
ワイヤに絶縁被膜の形成ができないからである。
【0006】本発明は、ボンディングワイヤ同士の電気
的なショートを完全に防止する方法及びワイヤループ形
成条件設定の簡素化を提供することを目的とする。
的なショートを完全に防止する方法及びワイヤループ形
成条件設定の簡素化を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
複数列のボンディングパッドが形成されたICチップの
前記ボンディングパッドとリードフレームとをボンディ
ングワイヤを介して接続する半導体装置において、前記
ICチップの内側に設けられた前記ボンディングパッド
に接続する前記ボンディングワイヤほど高く大きなルー
プを形成し、高いループを形成した複数のボンディング
ワイヤの列と、その下の低いループを形成した複数のボ
ンディングワイヤの列との間には、前記ボンディングパ
ッドおよび前記リードフレームから離間したボンディン
グワイヤの中央部分であって且つ複数のボンディングワ
イヤにわたって、フィルム状の絶縁物を介在させたこと
を特徴とする。
複数列のボンディングパッドが形成されたICチップの
前記ボンディングパッドとリードフレームとをボンディ
ングワイヤを介して接続する半導体装置において、前記
ICチップの内側に設けられた前記ボンディングパッド
に接続する前記ボンディングワイヤほど高く大きなルー
プを形成し、高いループを形成した複数のボンディング
ワイヤの列と、その下の低いループを形成した複数のボ
ンディングワイヤの列との間には、前記ボンディングパ
ッドおよび前記リードフレームから離間したボンディン
グワイヤの中央部分であって且つ複数のボンディングワ
イヤにわたって、フィルム状の絶縁物を介在させたこと
を特徴とする。
【0008】本発明の半導体装置の製造方法は、最も低
いワイヤループ群のそれぞれをボンディング接続した
後、これらのワイヤループ中央部分上に複数のワイヤル
ープにわたって、フィルム状の絶縁物を載置し、順次高
いワイヤループ群のそれぞれをボンディング接続を行
い、これらのワイヤループ間に前記フィルム状の絶縁物
を介在させる工程を少くとも1回行うことを特徴とす
る。
いワイヤループ群のそれぞれをボンディング接続した
後、これらのワイヤループ中央部分上に複数のワイヤル
ープにわたって、フィルム状の絶縁物を載置し、順次高
いワイヤループ群のそれぞれをボンディング接続を行
い、これらのワイヤループ間に前記フィルム状の絶縁物
を介在させる工程を少くとも1回行うことを特徴とす
る。
【0009】本発明によれば、内側パッド列にボンディ
ングしたワイヤループ群と外側パッド列にボンディング
したワイヤループ群の間に絶縁物を介在しているので、
次工程(封入)までの取り扱いや封入時のワイヤ流れな
どにより、ワイヤループ形状が変形しても、電気的なシ
ョートを防止することができる。また、最外パッド列の
ボンディングが完了したところで絶縁物をそのワイヤル
ープ上に載置するので、次パッド列のボンディング時の
ワイヤショートも防止することができる。
ングしたワイヤループ群と外側パッド列にボンディング
したワイヤループ群の間に絶縁物を介在しているので、
次工程(封入)までの取り扱いや封入時のワイヤ流れな
どにより、ワイヤループ形状が変形しても、電気的なシ
ョートを防止することができる。また、最外パッド列の
ボンディングが完了したところで絶縁物をそのワイヤル
ープ上に載置するので、次パッド列のボンディング時の
ワイヤショートも防止することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
【0011】図1は本発明の一実施の形態の半導体装置
の要部断面図、図2は図1の平面図である。本発明の一
実施の形態の半導体装置は、図1及び図2に示すよう
に、ICチップ3とリードフレーム4は、ICチップ3
上の内側にあるパッド5ほど高いボンディングワイヤル
ープ2によって接続されており、高さの異なるボンディ
ングワイヤループ2の間に絶縁物1を介在させている。
の要部断面図、図2は図1の平面図である。本発明の一
実施の形態の半導体装置は、図1及び図2に示すよう
に、ICチップ3とリードフレーム4は、ICチップ3
上の内側にあるパッド5ほど高いボンディングワイヤル
ープ2によって接続されており、高さの異なるボンディ
ングワイヤループ2の間に絶縁物1を介在させている。
【0012】図3(a)〜(c)は本発明の一実施の形
態の半導体装置の製造方法を説明する工程順に示した断
面図である。本発明の一実施の形態の半導体装置の製造
方法は、まず、ICチップ3上の最外パッド列5aのワ
イヤボンディングを行う。次に、ボンディングワイヤル
ープ2a上に絶縁物1aを搭載し、内側のパッド列5b
のワイヤボンディングを行う。図1及び図2の実施の形
態は3列のパッドを有しているので、さらに、絶縁物1
bをボンディングワイヤループ2b上に搭載し、最内パ
ッド列5cのワイヤボンディングを行う。この場合、全
パッド列5にボンディングしたボンディングワイヤルー
プ2の高さは、ICチップ3条から250μm程度で同
一にすればよい。絶縁物1は、例えばフィルム状のポリ
イミド等が上げられ、必要に応じて、接着剤を備えてい
てもよい。接着剤は熱硬化性、熱可塑性、自然硬化性の
いずれでもよいが、熱硬化性、熱可塑性の接着剤を使用
すれば、次のパッド列5のワイヤボンディング時の熱で
絶縁物1は前のパッド列5にボンディング済のボンディ
ングワイヤループ2に固着されることになる。また、絶
縁物1自体が熱可塑性で、加熱後に原形を留めなくても
よく、加熱後はボンディングワイヤループ2の被膜とな
ってもよい。また、複数のパッド列5を有する、ICチ
ップ3の場合に限らず、1列のみのパッド列1しか有し
ていない場合でも、同様の効果を得たい場合には、本発
明は有効な手段となる。なお、図1及び図2の実施の形
態において、絶縁物1はワイヤボンディング工程の途中
で載置する必要があるので、パッド列5の数のワイヤボ
ンダを独立又は接続して使用し、独立して使用する場合
は1列のパッド列5を1台のワイヤボンダでボンディン
グした後に、最位装置を使用するなどして、絶縁物1を
サーチし、次のワイヤボンダで次のパッド列5をボンデ
ィングする。ワイヤボンダを接続して使用する場合は、
ワイヤボンダ間に絶縁物1のサーチ装置を接続してお
く。
態の半導体装置の製造方法を説明する工程順に示した断
面図である。本発明の一実施の形態の半導体装置の製造
方法は、まず、ICチップ3上の最外パッド列5aのワ
イヤボンディングを行う。次に、ボンディングワイヤル
ープ2a上に絶縁物1aを搭載し、内側のパッド列5b
のワイヤボンディングを行う。図1及び図2の実施の形
態は3列のパッドを有しているので、さらに、絶縁物1
bをボンディングワイヤループ2b上に搭載し、最内パ
ッド列5cのワイヤボンディングを行う。この場合、全
パッド列5にボンディングしたボンディングワイヤルー
プ2の高さは、ICチップ3条から250μm程度で同
一にすればよい。絶縁物1は、例えばフィルム状のポリ
イミド等が上げられ、必要に応じて、接着剤を備えてい
てもよい。接着剤は熱硬化性、熱可塑性、自然硬化性の
いずれでもよいが、熱硬化性、熱可塑性の接着剤を使用
すれば、次のパッド列5のワイヤボンディング時の熱で
絶縁物1は前のパッド列5にボンディング済のボンディ
ングワイヤループ2に固着されることになる。また、絶
縁物1自体が熱可塑性で、加熱後に原形を留めなくても
よく、加熱後はボンディングワイヤループ2の被膜とな
ってもよい。また、複数のパッド列5を有する、ICチ
ップ3の場合に限らず、1列のみのパッド列1しか有し
ていない場合でも、同様の効果を得たい場合には、本発
明は有効な手段となる。なお、図1及び図2の実施の形
態において、絶縁物1はワイヤボンディング工程の途中
で載置する必要があるので、パッド列5の数のワイヤボ
ンダを独立又は接続して使用し、独立して使用する場合
は1列のパッド列5を1台のワイヤボンダでボンディン
グした後に、最位装置を使用するなどして、絶縁物1を
サーチし、次のワイヤボンダで次のパッド列5をボンデ
ィングする。ワイヤボンダを接続して使用する場合は、
ワイヤボンダ間に絶縁物1のサーチ装置を接続してお
く。
【0013】
【発明の効果】第一の効果は、内側パッド列にボンディ
ングしたワイヤと外側パッド列にボンディングしたワイ
ヤが、次工程(封入)までの取り扱いや封入時のワイヤ
流れによりワイヤループが変形しても、電気的なショー
トを防止することができることである。その理由は、内
側パッド列にボンディングしたワイヤと外側パッド列に
ボンディングしたワイヤが、絶縁物によって、完全に分
離されており、ワイヤループ形状が変形したとしても、
これらのワイヤが接触する可能性が絶たれてしまってい
るからである。
ングしたワイヤと外側パッド列にボンディングしたワイ
ヤが、次工程(封入)までの取り扱いや封入時のワイヤ
流れによりワイヤループが変形しても、電気的なショー
トを防止することができることである。その理由は、内
側パッド列にボンディングしたワイヤと外側パッド列に
ボンディングしたワイヤが、絶縁物によって、完全に分
離されており、ワイヤループ形状が変形したとしても、
これらのワイヤが接触する可能性が絶たれてしまってい
るからである。
【0014】第二の効果は、次パッド列のボンディング
時からワイヤショートを防止することができ、また、ワ
イヤループ形成条件設定の簡素化が図れることである。
その理由は、最外パッド列のボンディングが完了したと
ころで絶縁物をそのワイヤループ上に載置するので、こ
の時点で次パッド列のボンディングワイヤと接触する可
能性が絶たれてしまっているからであり、このため、全
パッド列のワイヤループ高さを同一にすることができる
からである。
時からワイヤショートを防止することができ、また、ワ
イヤループ形成条件設定の簡素化が図れることである。
その理由は、最外パッド列のボンディングが完了したと
ころで絶縁物をそのワイヤループ上に載置するので、こ
の時点で次パッド列のボンディングワイヤと接触する可
能性が絶たれてしまっているからであり、このため、全
パッド列のワイヤループ高さを同一にすることができる
からである。
【図1】本発明の一実施の形態の半導体装置の要部断面
図である。
図である。
【図2】図1の平面図である。
【図3】(a)〜(c)は本発明の一実施の形態の半導
体装置の製造方法を説明する工程順に示した断面図であ
る。
体装置の製造方法を説明する工程順に示した断面図であ
る。
【図4】従来の半導体装置の一例の要部断面図である。
【図5】図4の平面図である。
1 絶縁物 2 ボンディングワイヤループ 3 ICチップ 4 リードフレーム 5 ボンディングパッド
Claims (2)
- 【請求項1】 複数列のボンディングパッドが形成され
たICチップの前記ボンディングパッドとリードフレー
ムとをボンディングワイヤを介して接続する半導体装置
において、前記ICチップの内側に設けられた前記ボン
ディングパッドに接続する前記ボンディングワイヤほど
高く大きなループを形成し、高いループを形成した複数
のボンディングワイヤの列と、その下の低いループを形
成した複数のボンディングワイヤの列との間には、前記
ボンディングパッドおよび前記リードフレームから離間
したボンディングワイヤの中央部分であって且つ複数の
ボンディングワイヤにわたって、フィルム状の絶縁物を
介在させたことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 最も低いワイヤループ群のそれぞれをボ
ンディング接続した後、これらのワイヤループ中央部分
上に複数のワイヤループにわたって、フィルム状の絶縁
物を載置し、順次高いワイヤループ群のそれぞれをボン
ディング接続を行い、これらのワイヤループ間に前記フ
ィルム状の絶縁物を介在させる工程を少くとも1回行う
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8228930A JP2848348B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 半導体装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8228930A JP2848348B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 半導体装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1074786A JPH1074786A (ja) | 1998-03-17 |
JP2848348B2 true JP2848348B2 (ja) | 1999-01-20 |
Family
ID=16884092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8228930A Expired - Lifetime JP2848348B2 (ja) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2848348B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW517362B (en) * | 2002-01-10 | 2003-01-11 | Advanced Semiconductor Eng | Ball grid array package structure |
KR100476925B1 (ko) * | 2002-06-26 | 2005-03-17 | 삼성전자주식회사 | 본딩 불량과 신호 스큐를 방지하는 패드 배치를 갖는 반도체 칩 |
US6933599B2 (en) * | 2003-10-27 | 2005-08-23 | Freescale Semiconductor, Inc. | Electromagnetic noise shielding in semiconductor packages using caged interconnect structures |
JP5294351B2 (ja) * | 2011-04-01 | 2013-09-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP7548942B2 (ja) * | 2020-03-27 | 2024-09-10 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | 表示パネル及び表示装置 |
-
1996
- 1996-08-29 JP JP8228930A patent/JP2848348B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1074786A (ja) | 1998-03-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19981006 |