JP2842840B2 - Semiconductor device burn-in test equipment - Google Patents

Semiconductor device burn-in test equipment

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JP2842840B2
JP2842840B2 JP8137166A JP13716696A JP2842840B2 JP 2842840 B2 JP2842840 B2 JP 2842840B2 JP 8137166 A JP8137166 A JP 8137166A JP 13716696 A JP13716696 A JP 13716696A JP 2842840 B2 JP2842840 B2 JP 2842840B2
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幸治 黒瀬
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置のバーン
イン試験(以下、BTと称す)装置に係わり、特に被試
験半導体装置が搭載されたBT試験基板の接触不良等に
よって、外部から供給される試験信号が被試験半導体装
置に供給されず初期不良が除去されていないにもかから
ず、正常な試験が行なわれたものと判断してしまう状態
を防止した半導体装置のBT装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a burn-in test (hereinafter referred to as "BT") for a semiconductor device, and more particularly to a test supplied externally due to a contact failure of a BT test board on which a semiconductor device under test is mounted. The present invention relates to a BT device of a semiconductor device which prevents a state in which a signal is not supplied to a semiconductor device under test and an initial failure is not removed, and a normal test is determined to have been performed.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体装置の初期不良を製造工
程で除去するためにBT装置が使用されている。このB
T装置は、被試験半導体装置を複数個BT試験基板に搭
載し、これらの試験基板群を恒温試験槽に収容するとと
もに、この恒温試験槽内の半導体装置の信号入力端子は
全て試験基板内で電源電位に接続された状態で、高温試
験槽内を所定の高温度に維持した雰囲気中で所定時間連
続動作させることによって不良状態を加速した後で電気
的特性試験を実施し、被試験半導体装置の初期不良を除
去する装置である。
2. Description of the Related Art Generally, a BT device is used to remove an initial failure of a semiconductor device in a manufacturing process. This B
The T device mounts a plurality of semiconductor devices under test on a BT test board, accommodates these test board groups in a constant temperature test chamber, and all the signal input terminals of the semiconductor devices in the constant temperature test chamber are within the test board. The semiconductor device under test is subjected to an electrical characteristic test after accelerating a defective state by being continuously operated for a predetermined time in an atmosphere in which a high temperature test chamber is maintained at a predetermined high temperature in a state where the semiconductor device is connected to a power supply potential. This is an apparatus for removing initial failures.

【0003】このとき、被試験半導体装置の入力端子が
電源電位に固定されているから、半導体装置の内部回路
はある一定の動作に固定されたままの静的状態における
BT試験である。これに対し、被試験半導体装置の入力
端子に特定の試験信号を繰返し供給することによって被
試験半導体装置を動作状態にして試験することをダイナ
ミックBTと称している。
At this time, since the input terminal of the semiconductor device under test is fixed at the power supply potential, the internal circuit of the semiconductor device is a BT test in a static state in which the operation is fixed at a certain operation. On the other hand, performing a test with the semiconductor device under test operating by repeatedly supplying a specific test signal to the input terminal of the semiconductor device under test is called dynamic BT.

【0004】この種のダイナミックBT装置の一例の構
成をブロック図で示した図4を参照すると、このダイナ
ミックBT装置は、恒温試験槽外に用意されるBT試験
装置1に内蔵されたドライバ回路部2と恒温試験槽内に
セットされるBT試験基板3とを備え、このBT試験基
板3には被試験半導体装置4が複数個搭載され、これら
の被試験半導体装置4の信号入力端子にはドライバ回路
部2から出力される試験信号Aが信号線101によって
試験基板3内の各半導体装置4のそれぞれの入力端子に
分配される。このように配線された試験基板3を恒温試
験槽内にセットし、試験基板3に通電するとともに試験
信号Aも供給する。さらに恒温試験槽内の温度を試験温
度に上昇させ、その温度を維持した状態で試験に定めら
れた期間放置する。この試験期間を経過した後に、恒温
試験槽から試験基板3を取り出し、さらに試験基板3の
ソケットから半導体装置4を取り出して、短時間内にL
SIテスタ等により電気的特性試験が行なわれる。
FIG. 4 is a block diagram showing an example of the configuration of a dynamic BT device of this type. Referring to FIG. 4, this dynamic BT device has a driver circuit unit built in a BT test device 1 prepared outside a constant temperature test tank. 2 and a BT test board 3 set in a constant temperature test tank. A plurality of semiconductor devices 4 to be tested are mounted on the BT test board 3, and a signal input terminal of these semiconductor devices 4 to be tested has a driver. The test signal A output from the circuit unit 2 is distributed to each input terminal of each semiconductor device 4 in the test board 3 by the signal line 101. The test board 3 wired in this way is set in a constant temperature test tank, and the test board 3 is energized and a test signal A is supplied. Further, the temperature in the constant temperature test chamber is raised to the test temperature, and the temperature is maintained, and the apparatus is left for a period specified for the test. After this test period has elapsed, the test substrate 3 is taken out of the constant temperature test tank, the semiconductor device 4 is taken out of the socket of the test substrate 3 and the L
An electrical characteristic test is performed using an SI tester or the like.

【0005】上述したダイナミックBT装置の構成で
は、ドライバ回路部2は試験信号Aを被試験半導体装置
4に供給するだけであるから、信号の流れはドライバー
回路2から試験基板3の一方向の流れのみである。した
がって、試験信号Aが確実に伝達されたかどうかは確認
してはいないので、例えば、試験基板3の配線101が
切断されている場合、あるいは試験基板3の挿入ミス等
により、被試験半導体装置4に供給したはずの試験信号
Aが実際には入力されないままの状態で、BTが終了し
て初期不良の加速が実行さないことがある。
In the above-described configuration of the dynamic BT device, since the driver circuit section 2 only supplies the test signal A to the semiconductor device 4 under test, the signal flows from the driver circuit 2 to the test substrate 3 in one direction. Only. Therefore, it is not confirmed whether or not the test signal A has been reliably transmitted. For example, when the wiring 101 of the test board 3 is cut, or when the test board 3 is inserted incorrectly, etc. In a state where the test signal A that should have been supplied to the BT is not actually input, the BT may end and the acceleration of the initial failure may not be performed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述したよう
に従来のダイナミックBT装置では、ドライバ回路部2
は試験信号Aを被試験半導体装置4に供給するだけであ
るから、BT試験基板3に試験信号Aを供給する信号線
101が断線したり、試験基板3の挿入ミスがあって半
導体装置4の信号入力端子が論理レベルのロウレベルに
固定されている場合であっても、その異常状態を発見出
来る機能を備えていない。そのため、実際にはダイナミ
ックBTによる初期不良の加速が行なわれていないにも
かかわらず、ダイナミックBTが正常に終了したものと
してBT後の電気的特性試験が行われるので、この特性
試験で良品と判定された半導体装置は初期不良の可能性
を含んだまま出荷されることがあった。
However, as described above, in the conventional dynamic BT device, the driver circuit unit 2
Only supplies the test signal A to the semiconductor device 4 under test, the signal line 101 for supplying the test signal A to the BT test substrate 3 is disconnected, or the test device 3 Even if the signal input terminal is fixed to the low level of the logic level, it does not have a function to detect the abnormal state. Therefore, even though the initial failure is not actually accelerated by the dynamic BT, the electrical characteristic test after the BT is performed assuming that the dynamic BT is normally completed. In some cases, the manufactured semiconductor device is shipped with a possibility of initial failure.

【0007】上述したBT装置の本体内には試験基板に
供給するクロックの異常を検出する検知回路をもってい
るが、試験基板内には存在しない。
Although the above-mentioned BT device has a detection circuit for detecting an abnormality of a clock supplied to the test board, it does not exist in the test board.

【0008】本発明の目的は、上述した従来の欠点に鑑
みなされたものであり、ダイナミックBT装置におい
て、被試験半導体装置に供給される試験信号が正常に供
給されているか否かを検出する手段を試験基板内に有
し、正常に供給されていなければ試験を中断するための
信号を出力して試験信号の出力を遮断することで、初期
不良の加速されない半導体装置が出荷されるのを防止
し、信頼性の向上を図ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a dynamic BT device for detecting whether or not a test signal supplied to a semiconductor device under test is normally supplied. In the test board, if it is not supplied normally, it outputs a signal to interrupt the test and shuts off the output of the test signal, thereby preventing the shipment of semiconductor devices that do not accelerate with initial failure And to improve reliability.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置のバ
ーンイン試験装置の特徴は、半導体装置の初期不良を検
出するために前記半導体装置を複数個搭載した試験基板
群を恒温試験槽に収容し、この恒温試験槽内の前記半導
体装置に所定の試験信号を供給し所定の高温度雰囲気中
で所定時間連続動作させることによって不良状態を加速
する半導体装置のバーンイン試験装置において、前記試
験信号とこの試験信号よりもあらかじめ定める所定時間
だけ位相を遅らせた制御信号とを発生するとともにこれ
らの信号を前記試験基板群に供給するドライバ回路部
と、このドライバ回路部から出力された前記制御信号と
前記試験基板群内の前記半導体装置の信号入力端子にそ
れぞれ配線された試験信号配線の終端部の前記試験信号
とを入力し、この試験信号の論理レベルのハイレベル期
間を前記制御信号のロウレベルからハイレベルへの立ち
上りのタイミングで比較し、前記試験信号のロウレベル
期間を前記制御信号のハイレベルからロウレベルへの立
ち下りのタイミングで比較し、この比較結果が不一致で
あれば前記試験信号がハイレベルまたはロウレベルに固
定された異常状態のアラーム信号を発生する異常検知手
段を有するクロック異常検知回路部と、前記異常検知手
段に応答して異常を通知する異常通知手段とを備え、前
記試験基板内に前記クロック異常検知回路部および前記
異常通知手段がそれぞれ内蔵されることにある。
A feature of the semiconductor device burn-in test apparatus according to the present invention is that a test board group on which a plurality of the semiconductor devices are mounted is housed in a constant temperature test tank in order to detect an initial failure of the semiconductor device. A burn-in test apparatus for a semiconductor device, in which a predetermined test signal is supplied to the semiconductor device in the constant temperature test chamber and continuously operated in a predetermined high temperature atmosphere for a predetermined time to accelerate a failure state, A driver circuit for generating a control signal whose phase is delayed by a predetermined time longer than a test signal and supplying these signals to the test board group; the control signal output from the driver circuit and the test signal; The test signal at the end of the test signal wiring wired to the signal input terminal of the semiconductor device in the substrate group is input, and the test The high-level period of the logical level of the signal is compared at the rising timing of the control signal from a low level to a high level, and the low-level period of the test signal is compared at the falling timing of the control signal from a high level to a low level. If the comparison results in a mismatch, the test signal is fixed at a high level or a low level. The clock abnormality detection circuit unit and the abnormality notification unit are respectively built in the test board.

【0010】また、前記異常検知手段は、前記制御信号
のロウレベルからハイレベルへの立ち上りタイミングに
同期した第1のパルスと前記制御信号のハイレベルから
ロウレベルへの立ち下りタイミングに同期した第2のパ
ルスを生成し、これら第1および第2のパルスの連続パ
ルスに同期して前記試験信号をラッチすることによって
第1の試験信号を生成し、この第1の試験信号を前記第
1および前記第2の制御パルスの反転パルスに同期して
さらにラッチすることによって第2の試験信号を生成
し、これら第1および第2の試験信号を比較して出力さ
れる一致不一致信号を、前記第1および第2のパルスの
連続パルスに同期してラッチし、このラッチ出力は前記
一致不一致信号が不一致信号であればロウレベルで一定
となり、一致信号であればハイレベル一定の前記アラー
ム信号となるように構成する。
Further, the abnormality detecting means includes a first pulse synchronized with a rising timing of the control signal from a low level to a high level and a second pulse synchronized with a falling timing of the control signal from a high level to a low level. Generating a first test signal by generating a pulse and latching the test signal in synchronization with successive pulses of the first and second pulses; A second test signal is generated by further latching in synchronization with the inverted pulse of the second control pulse, and the first and second test signals are compared to output a match / mismatch signal output from the first and second test signals. The latch is latched in synchronization with the continuous pulse of the second pulse, and the latch output becomes constant at a low level if the match / mismatch signal is a mismatch signal. Configured to be a high level constant of said alarm signal if Re.

【0011】さらに、前記異常通知手段は、ゲート電極
に前記アラーム信号を入力し、かつドレイン電極を電源
電位にソース電極を接地電位にそれぞれ接続し、駆動能
力を大きくしたnチャネル型MOSトランジスタからな
り、前記アラーム信号がハイレベルのときに導通して電
源電位および接地電位間を短絡する。
Further, the abnormality notifying means includes an n-channel MOS transistor having the driving capability increased by inputting the alarm signal to the gate electrode, connecting the drain electrode to the power supply potential and the source electrode to the ground potential. When the alarm signal is at the high level, it conducts to short-circuit the power supply potential and the ground potential.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】まず本発明の実施の形態を図面を
参照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described first with reference to the drawings.

【0013】図1は本発明の一実施の形態の構成を示す
ブロック図である。図1を参照すると、ダイナミックB
Tを行なうための恒温試験槽の外部に設置されるダイナ
ミックBT試験装置1とこのBT試験装置1に内蔵され
試験信号Aおよび制御信号Bを発生するドライバ回路部
2と、被試験半導体装置4が複数個搭載されたBT試験
基板3と、このドライバ回路部2から出力された制御信
号Bと試験基板3群にそれぞれ配線された試験信号配線
101の終端部の試験信号Aとを比較するとともにこの
比較結果の不一致信号を用いてアラーム信号を発生する
異常検知手段を有するクロック異常検知回路部5と、こ
の異常検知回路5から供給されるアラーム信号に応答し
て異常を通知する異常通知手段のnチャネル型MOSト
ランジスタ6とを備え、ドライバ回路部2の出力端OU
T1は試験基板3内を周回するように配線された試験信
号Aの信号線101によって半導体装置4のそれぞれの
信号入力端子に接続される。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, dynamic B
A dynamic BT test apparatus 1 installed outside a constant temperature test tank for performing T, a driver circuit unit 2 built in the BT test apparatus 1 for generating a test signal A and a control signal B, and a semiconductor device 4 to be tested The control signal B output from the driver circuit unit 2 and the test signal A at the terminal end of the test signal wiring 101 respectively wired to the group of test substrates 3 are compared with each other, and A clock abnormality detection circuit section 5 having abnormality detection means for generating an alarm signal using the mismatch signal of the comparison result, and n of abnormality notification means for notifying abnormality in response to the alarm signal supplied from the abnormality detection circuit 5 An output terminal OU of the driver circuit unit 2.
T1 is connected to each signal input terminal of the semiconductor device 4 by a signal line 101 of a test signal A wired so as to go around in the test substrate 3.

【0014】信号線101は、BT試験基板3の内部を
周回して各半導体装置4の信号入力端子に接続された
後、その終端はクロック異常検知回路部5の入力端IN
3に接続される。
After the signal line 101 goes around the inside of the BT test board 3 and is connected to the signal input terminal of each semiconductor device 4, the terminal thereof is terminated at the input terminal IN of the clock abnormality detection circuit section 5.
3 is connected.

【0015】クロック異常検知回路部5の入力端IN4
にはドライバ回路部2から供給される制御信号Bの信号
線102が入力端IN2を介して接続され、その出力端
OUT3は信号線103によってアラーム信号Cがnチ
ャネル型MOSトランジスタ6のゲート電極に接続され
て構成されている。
The input terminal IN4 of the clock abnormality detection circuit 5
Is connected to a signal line 102 of a control signal B supplied from the driver circuit unit 2 through an input terminal IN2, and an output terminal OUT3 of the signal line 103 is connected to a gate electrode of an n-channel MOS transistor 6 by an alarm signal C. Connected and configured.

【0016】クロック異常検知回路部5の回路図の一例
を示した図2を参照すると、試験信号Aがセット端子付
ラッチ回路51のデータ入力端子Dに入力され、このラ
ッチ回路51の出力端子Qが次段のラッチ回路52のデ
ータ入力端子DとEX−NOR回路56の一方の入力端
に接続され、このEX−NOR回路の他方の入力端には
ラッチ回路52の出力端Qが接続される。EX−NOR
回路の出力端はラッチ回路57のデータ入力端Dに接続
される。これらのラッチ回路51および57のクロック
入力端Gには、EX−OR回路54の出力端子が直接接
続されラッチ回路52にはインバータ55を介して接続
され、EX−OR回路54の入力端には制御信号Bおよ
びこの信号を遅延回路53を介した信号がそれぞれ入力
される。
Referring to FIG. 2 showing an example of a circuit diagram of the clock abnormality detection circuit section 5, a test signal A is input to a data input terminal D of a latch circuit 51 having a set terminal, and an output terminal Q of the latch circuit 51 is provided. Is connected to the data input terminal D of the next-stage latch circuit 52 and one input terminal of the EX-NOR circuit 56, and the other input terminal of the EX-NOR circuit is connected to the output terminal Q of the latch circuit 52. . EX-NOR
The output terminal of the circuit is connected to the data input terminal D of the latch circuit 57. The output terminals of the EX-OR circuit 54 are directly connected to the clock input terminals G of these latch circuits 51 and 57, connected to the latch circuit 52 via an inverter 55, and the input terminals of the EX-OR circuit 54 are A control signal B and a signal obtained by passing this signal through a delay circuit 53 are input.

【0017】さらにラッチ回路51、52および57の
セット端子にはパワーオンリセット信号P−ONが入力
され、ラッチ路57の出力端Qからアラーム信号Cが出
力される構成からなる。
Further, a power-on reset signal P-ON is inputted to set terminals of the latch circuits 51, 52 and 57, and an alarm signal C is outputted from an output terminal Q of the latch path 57.

【0018】ラッチ回路の回路図の一例を示した図2
(b)を参照すると、データ入力端Dはpチャネル型M
OSトランジスタ511およびnチャネル型MOSトラ
ンジスタ512からなるトランスファゲートを介してイ
ンバータ513の入力端に接続され、その出力端はNO
R回路514の一方の入力端に接続され、他方の入力端
にはセット端子Sが接続される。NOR回路514の出
力端は出力端Qに接続されるとともにpチャネル型MO
Sトランジスタ515およびnチャネル型MOSトラン
ジスタ516からなるトランスファゲートを介してイン
バータ513の入力端に接続される。制御信号入力端G
はpチャネル型MOSトランジスタ515およびnチャ
ネル型MOSトランジスタ516のゲート端子に直接接
続され、インバータ517を介してpチャネル型MOS
トランジスタ511およびnチャネル型MOSトランジ
スタ516のゲート電極に接続されて構成され、制御信
号がハイレベルのときにデータを入力しラッチする。
FIG. 2 shows an example of a circuit diagram of a latch circuit.
Referring to (b), the data input terminal D is a p-channel type M
The input terminal of the inverter 513 is connected to the input terminal of the inverter 513 via the transfer gate including the OS transistor 511 and the n-channel type MOS transistor 512, and the output terminal is NO.
The set terminal S is connected to one input terminal of the R circuit 514 and the other input terminal. An output terminal of the NOR circuit 514 is connected to the output terminal Q and a p-channel type MO.
It is connected to the input terminal of inverter 513 via a transfer gate composed of S transistor 515 and n-channel MOS transistor 516. Control signal input terminal G
Is directly connected to the gate terminals of a p-channel MOS transistor 515 and an n-channel MOS transistor 516,
It is connected to the gate electrodes of the transistor 511 and the n-channel MOS transistor 516, and inputs and latches data when the control signal is at a high level.

【0019】遅延回路の回路図の一例を示した図2
(c)を参照すると、インバータ531を複数段従属接
続し、それぞれの出力端および接地電位間には容量素子
532を接続してなる。
FIG. 2 shows an example of a circuit diagram of the delay circuit.
Referring to (c), a plurality of inverters 531 are connected in cascade, and a capacitor 532 is connected between each output terminal and the ground potential.

【0020】上述した構成からなるBT装置において、
ドライバ回路部2から出力された試験信号Aは、試験基
板3内を周回して各半導体装置4の入力端子に供給され
ることによって、これらの半導体装置をダイナミック動
作させながら試験を実施する。
In the BT device having the above configuration,
The test signal A output from the driver circuit section 2 circulates in the test substrate 3 and is supplied to the input terminal of each semiconductor device 4, thereby performing a test while dynamically operating these semiconductor devices.

【0021】すなわち前述したように試験基板3を恒温
試験槽内にセットし、試験基板3に通電するとともに試
験信号Aも供給する。さらに恒温試験槽内の温度を試験
温度に上昇させ、その温度を維持した状態で試験に定め
られた期間放置する。この試験期間を経過した後に、恒
温試験槽から試験基板3を取り出し、さらに試験基板3
のソケットから半導体装置4を取り出して、短時間内に
LSIテスタ等により電気的特性試験が行なわれる。
That is, as described above, the test substrate 3 is set in the constant temperature test tank, and the test substrate 3 is energized and the test signal A is also supplied. Further, the temperature in the constant temperature test chamber is raised to the test temperature, and the temperature is maintained, and the apparatus is left for a period specified for the test. After this test period has elapsed, the test substrate 3 is taken out of the constant temperature test tank, and
The semiconductor device 4 is taken out of the socket and an electrical characteristic test is performed by an LSI tester or the like within a short time.

【0022】図2および正常動作時の動作説明用タイミ
ングチャートを示した図3を併せて参照すると、クロッ
ク異常検知回路5に供給される制御信号Bは試験信号A
と同等の繰り返し周波数をもち、そのロウレベルからハ
イレベルへの立ち上りのタイミングは試験信号Aよりも
所定時間位相の遅れた信号であり、必ずハイレベルおよ
びロウレベル期間がそれぞれ重なる期間を有するように
設定されている。
Referring to FIG. 2 and FIG. 3 showing a timing chart for explaining the operation during normal operation, the control signal B supplied to the clock abnormality detection circuit 5 is a test signal A.
The rising timing from the low level to the high level is a signal delayed by a predetermined time phase from the test signal A, and is set to have a period in which the high level and the low level periods always overlap each other. ing.

【0023】制御信号Bは遅延回路53によって遅延さ
れた信号B0とをEX−OR回路54で比較することに
よって、制御信号Bの立ち上りのタイミングに同期した
パルスB11と制御信号Bの立ち下りのタイミングに同
期したパルスB12とからなる制御信号B1となり、こ
の制御信号B1によってまず試験信号Aがラッチ回路5
1にラッチされる。すなわち、パルスB11によって試
験信号Aのハイレベルが検知され、パルスB12によっ
て試験信号Aのロウレベルが検知されて、制御信号Bで
同期化された信号A1がラッチ回路51の出力端Qから
出力される。
The control signal B is compared with the signal B0 delayed by the delay circuit 53 by the EX-OR circuit 54, and the pulse B11 synchronized with the rising timing of the control signal B and the falling timing of the control signal B are compared. The control signal B1 is composed of a pulse B12 synchronized with the control signal B1.
Latched to 1. That is, the high level of the test signal A is detected by the pulse B11, the low level of the test signal A is detected by the pulse B12, and the signal A1 synchronized with the control signal B is output from the output terminal Q of the latch circuit 51. .

【0024】この信号A1をさらにラッチ回路52にお
いて制御信号B1の反転信号でラッチすることにより、
パルスB11およびB12のパルス幅だけそれぞれ位相
が遅れた状態で制御信号Bに同期化された信号A2がラ
ッチ回路52の出力端Qから出力される。
The signal A1 is further latched by the latch circuit 52 with an inverted signal of the control signal B1, whereby
The signal A2 synchronized with the control signal B is output from the output terminal Q of the latch circuit 52 with the phases delayed by the pulse widths of the pulses B11 and B12.

【0025】これらの同期化された信号A1およびA2
をEX−NOR回路56により比較して、信号A1の立
ち上りのタイミングに同期したパルスC01と制御信号
A1の立ち下りのタイミングに同期したパルスC02と
からなる検出信号C0となる。つまり、このC0は試験
信号Aのハイレベル期間を検出したパルスC01とロウ
レベル期間を検出したパルスC02からなる。
These synchronized signals A1 and A2
Is compared by the EX-NOR circuit 56 to obtain a detection signal C0 including a pulse C01 synchronized with the rising timing of the signal A1 and a pulse C02 synchronized with the falling timing of the control signal A1. That is, C0 is composed of a pulse C01 that detects the high level period of the test signal A and a pulse C02 that detects the low level period.

【0026】この検出信号C0を再び制御信号B1によ
ってラッチする。このとき、検出信号C0のパルスC0
1およびC02は制御信号B1に対してインバータ3
5、ラッチ回路52およびEX−NOR回路56の回路
素子のディレーにより確実に位相が遅れているので、制
御信号BのパルスB11のハイレベル期間の間は検知信
号C01はまだロウレベル期間であり、同様に制御信号
BのパルスB12のハイレベル期間の間は検知信号C0
2もまだロウレベル期間であるから、これらのロウレベ
ルをラッチ回路57がラッチしロウレベルをを出力し続
ける。
The detection signal C0 is latched again by the control signal B1. At this time, the pulse C0 of the detection signal C0
1 and C02 correspond to the inverter 3 with respect to the control signal B1.
5, the detection signal C01 is still at the low level during the high level period of the pulse B11 of the control signal B because the phase is reliably delayed by the delay of the circuit elements of the latch circuit 52 and the EX-NOR circuit 56. During the high level period of the pulse B12 of the control signal B, the detection signal C0
Since 2 is still in the low level period, the low level is latched by the latch circuit 57 and the low level is continuously output.

【0027】すなわち、試験信号Aが正常に各半導体装
置4に供給されていればラッチ回路57から出力される
アラーム信号Cはロウレベルを維持することになり、n
チャネル型MOSトランジスタ6は導通することがな
い。
That is, if the test signal A is normally supplied to each semiconductor device 4, the alarm signal C output from the latch circuit 57 is maintained at a low level, and n
The channel type MOS transistor 6 does not conduct.

【0028】図2および試験信号Aの供給が異常の場合
の動作説明用のタイミングチャートを示した図4を併せ
て参照すると、もしも、試験基板3内で信号線101が
断線しているか、基板の挿入ミス等によりドライバ回路
部2から出力された試験信号Aの電位がロウレベル固定
になっていると、試験信号Aのロウレベルからハイレベ
ルへの立ち上りのタイミングは、前述したように試験信
号Aよりも所定時間位相の遅れた信号であり、必ずハイ
レベルおよびロウレベル期間がそれぞれ重なる期間を有
するように設定されている。
Referring to FIG. 2 and FIG. 4 showing a timing chart for explaining the operation when the supply of the test signal A is abnormal, if the signal line 101 is disconnected in the test board 3, When the potential of the test signal A output from the driver circuit unit 2 is fixed at the low level due to the insertion error of the test signal A, the rising timing of the test signal A from the low level to the high level is higher than the test signal A as described above. Is also a signal delayed in phase by a predetermined time, and is set to have a period in which the high-level period and the low-level period always overlap each other.

【0029】しかし、断線等の異常により電位がロウレ
ベル固定になっていると、制御信号Bは試験信号Aの異
常とは関係なく上述した正常時同様に、遅延回路53に
よって遅延された信号B0とをEX−OR回路54で比
較することによって、制御信号Bの立ち上りのタイミン
グに同期したパルスB11と制御信号Bの立ち下りのタ
イミングに同期したパルスB12とからなる制御信号B
1となり、この制御信号B1によってまず試験信号Aが
ラッチ回路51にラッチされる。
However, if the potential is fixed at a low level due to an abnormality such as a disconnection, the control signal B is equal to the signal B0 delayed by the delay circuit 53 similarly to the above-described normal state regardless of the abnormality of the test signal A. Is compared by the EX-OR circuit 54 to obtain a control signal B composed of a pulse B11 synchronized with the rising timing of the control signal B and a pulse B12 synchronized with the falling timing of the control signal B.
The test signal A is first latched in the latch circuit 51 by the control signal B1.

【0030】すなわち、パルスB11によって試験信号
Aのハイレベルが検知され、パルスB12によって試験
信号Aのロウレベルが検知されて、制御信号Bで同期化
された信号A1がラッチ回路51の出力端Qから出力さ
れる。このとき、図中の試験信号Aは2番目のハイレベ
ル以降はロウレベルに固定された状態になっているの
で、ラッチ回路51の出力信号A1は試験信号Aの2番
目以降に相当する期間がロウレベルの出力となる。
That is, the high level of the test signal A is detected by the pulse B11, the low level of the test signal A is detected by the pulse B12, and the signal A1 synchronized with the control signal B is output from the output terminal Q of the latch circuit 51. Is output. At this time, since the test signal A in the drawing is fixed at the low level after the second high level, the output signal A1 of the latch circuit 51 is at the low level during the period corresponding to the second and subsequent test signals A. Output.

【0031】この信号A1をさらにラッチ回路52にお
いて、制御信号B1の反転信号でラッチすることによ
り、パルスB11およびB12のパルス幅だけそれぞれ
位相が遅れた状態で制御信号Bに同期化され試験信号A
の1番目に相当するA11のみがハイレベル、それ以降
は制御信号B13およびB14でロウレベルがラッチさ
れた検知信号A2がラッチ回路52の出力端Qから出力
される。
The signal A1 is further latched in the latch circuit 52 by an inverted signal of the control signal B1, so that the test signal A is synchronized with the control signal B in a state where the phases are delayed by the pulse widths of the pulses B11 and B12.
, The detection signal A2 latched at the low level by the control signals B13 and B14 is output from the output terminal Q of the latch circuit 52.

【0032】これらの同期化された信号A1およびA2
をEX−NOR回路56により比較して、信号A11の
立ち上りのタイミングに同期したパルスC01と制御信
号A11の立ち下りのタイミングに同期したパルスC0
2とこのC02以降の期間はハイレベルとなる検出信号
C0となる。
These synchronized signals A1 and A2
Are compared by the EX-NOR circuit 56, and the pulse C01 synchronized with the rising timing of the signal A11 and the pulse C0 synchronized with the falling timing of the control signal A11 are compared.
2 and the period after C02 is a high-level detection signal C0.

【0033】つまり、この信号C0は、試験信号Aのハ
イレベル期間を制御信号B11の立ち上りのタイミング
で検出し試験信号Aのロウレベルを制御信号B12の立
ち上りのタイミングで検出した検出信号A1と、検出信
号A1のハイレベル期間を制御信号B11の立ち下りの
タイミングで検出し検出信号A1のロウレベルを制御信
号B12の立ち下りのタイミングで検出した検出信号A
2とを比較して出力しているので、ロウレベル固定とな
った期間はC01およびC02に相当するパルスは現わ
れない。
That is, the signal C0 includes a detection signal A1 in which the high level period of the test signal A is detected at the rising timing of the control signal B11 and the low level of the test signal A is detected at the rising timing of the control signal B12. The detection signal A, which detects the high level period of the signal A1 at the falling timing of the control signal B11 and detects the low level of the detection signal A1 at the falling timing of the control signal B12.
Since the output is compared with 2, the pulses corresponding to C01 and C02 do not appear during the period when the low level is fixed.

【0034】この検出信号C0を再び制御信号B1によ
ってラッチするが、試験信号Aが異常でロウレベル固定
となっている期間は、検出信号C0はハイレベルである
から、ラッチ回路57の出力は制御信号B13の立ち上
りのタイミングでハイレベルをラッチしハイレベルを出
力する。
The detection signal C0 is latched again by the control signal B1, but during the period when the test signal A is abnormal and fixed at the low level, the output of the latch circuit 57 is the control signal because the detection signal C0 is at the high level. At the rising timing of B13, the high level is latched and the high level is output.

【0035】すなわち、試験信号Aが各半導体装置4に
供給されない異常状態では、ラッチ回路57から出力さ
れるアラーム信号Cはハイレベルを維持することにな
り、nチャネル型MOSトランジスタ6は導通し、電源
電位から接地電位に大きな貫通電流が流れる。したがっ
てこのトランジスタはこの貫通電流によって破壊されな
いように駆動能力を大きく設定しておく必要がある。
That is, in an abnormal state where the test signal A is not supplied to each semiconductor device 4, the alarm signal C output from the latch circuit 57 is maintained at a high level, the n-channel MOS transistor 6 is turned on, A large through current flows from the power supply potential to the ground potential. Therefore, it is necessary to set a large driving capability of this transistor so as not to be destroyed by this through current.

【0036】上述した異常状態によって生じる大電流を
恒温試験槽の外部に配置されたBT試験装置1に内蔵さ
れている過電流検知回路で検知し、試験基板3への電源
供給を停止する。
A large current caused by the above-mentioned abnormal condition is detected by an overcurrent detection circuit built in the BT test apparatus 1 arranged outside the constant temperature test tank, and the power supply to the test board 3 is stopped.

【0037】試験信号Aが何等かのミスにより試験基板
3内でハイレベル固定になった場合についても説明して
おく。図2およびハイレベル固定の動作説明用タイミン
グチャートを示した図5を併せて参照すると、異常によ
り試験信号Aの電位がハイレベル固定になっていると、
制御信号Bは制御信号Bの立ち上りのタイミングに同期
したパルスB11と制御信号Bの立ち下りのタイミング
に同期したパルスB12とからなる制御信号B1とな
り、この制御信号B1によってまず試験信号Aがラッチ
回路51にラッチされ、パルスB11によって試験信号
Aのハイレベルが検知され、パルスB12によって試験
信号Aのロウレベルが検知されて、信号A1がラッチ回
路51の出力端Qから出力される。
The case where the test signal A is fixed at a high level in the test board 3 due to some mistake will be described. With reference to FIG. 2 and FIG. 5 showing a timing chart for explaining the operation of fixing the high level, if the potential of the test signal A is fixed to the high level due to the abnormality,
The control signal B becomes a control signal B1 including a pulse B11 synchronized with the rising timing of the control signal B and a pulse B12 synchronized with the falling timing of the control signal B. 51, the high level of the test signal A is detected by the pulse B11, the low level of the test signal A is detected by the pulse B12, and the signal A1 is output from the output terminal Q of the latch circuit 51.

【0038】このとき、例えば試験信号Aは初期化され
た後の2番目のハイレベル以降もハイレベルに固定され
た状態とすると、ラッチ回路51の出力信号A1も試験
信号Aの2番目以降に相当する期間がハイレベルの出力
となる。この信号A1をさらにラッチ回路52におい
て、制御信号B1の反転信号でラッチすることにより、
制御信号Bに同期化され試験信号Aの2番目以降は制御
信号B13およびB14でハイレベルがラッチされた検
知信号A2がラッチ回路52の出力端Qから出力され
る。
At this time, for example, if the test signal A is fixed at the high level after the second high level after the initialization, the output signal A1 of the latch circuit 51 also becomes the second or higher level of the test signal A. The corresponding period is a high level output. The signal A1 is further latched by the latch circuit 52 with an inverted signal of the control signal B1, whereby
From the second end of the test signal A synchronized with the control signal B, the detection signal A2 whose high level is latched by the control signals B13 and B14 is output from the output terminal Q of the latch circuit 52.

【0039】これらの同期化された信号A1およびA2
をEX−NOR回路56により比較して、信号A12お
よびA21の立ち上りのタイミングに同期したパルスC
01およびC03と制御信号A12およびA21の立ち
下りのタイミングに同期したパルスC02とC03以降
の期間はハイレベルとなる検出信号C0となる。つま
り、ハイレベル固定となった期間はC01、C02およ
びC03に相当するパルスは現われない。
These synchronized signals A1 and A2
Are compared by the EX-NOR circuit 56, and the pulse C synchronized with the rising timing of the signals A12 and A21 is
The period after the pulses C02 and C03 synchronized with the falling timings of the control signals A12 and A21 and the control signals A12 and A21 becomes the detection signal C0 which becomes the high level. That is, no pulses corresponding to C01, C02 and C03 appear during the period in which the high level is fixed.

【0040】この検出信号C0を再び制御信号B1によ
ってラッチするが、試験信号Aが異常でハイレベル固定
となっている期間は、検出信号C0はハイレベルである
から、ラッチ回路57の出力は制御信号B14の立ち上
りのタイミングでハイレベルをラッチしハイレベルを出
力する。
The detection signal C0 is latched again by the control signal B1, but during the period when the test signal A is abnormal and fixed at the high level, the output of the latch circuit 57 is controlled because the detection signal C0 is at the high level. At the rising timing of the signal B14, the high level is latched and the high level is output.

【0041】すなわち、試験信号Aがハイレベル固定と
なる期間でも、ラッチ回路57から出力されるアラーム
信号Cはハイレベルを維持することになり、nチャネル
型MOSトランジスタ6は導通し、電源電位から接地電
位に大きな貫通電流が流れる。
That is, even during the period when the test signal A is fixed at the high level, the alarm signal C output from the latch circuit 57 is maintained at the high level, the n-channel MOS transistor 6 is turned on, and the power supply potential is changed. A large through current flows to the ground potential.

【0042】以上述べた本実施の形態の説明からも明ら
かなように、試験基板内において試験信号の配線が断線
した場合、基板の挿入ミスにより試験信号がロウレベル
に固定された場合、あるいはそ他の理由で試験信号がハ
イレベルに固定された場合のような異常状態が発生する
と、その異常を試験基板内で検出し、試験基板への電源
供給を停止するので、正常なBT試験が実施されない状
態で半導体装置が出荷されること防止することが出来
る。
As is apparent from the above description of the present embodiment, when the wiring of the test signal is broken in the test board, when the test signal is fixed to the low level due to the board insertion error, If an abnormal state occurs, such as when the test signal is fixed at the high level, the abnormal state is detected in the test board and the power supply to the test board is stopped, so that the normal BT test is not performed. The semiconductor device can be prevented from being shipped in the state.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置のBT装置は、試験信号とこの試験信号よりもあらか
じめ定める所定時間だけ位相を遅らせた制御信号とを発
生するとともにこれらの信号を試験基板群に供給するド
ライバ回路部と、このドライバ回路部から出力された制
御信号と試験基板群内の半導体装置の信号入力端子にそ
れぞれ配線された試験信号配線の終端部の試験信号とを
入力し、この試験信号の論理レベルのハイレベル期間を
制御信号のロウレベルからハイレベルへの立ち上りのタ
イミングで比較し、試験信号のロウレベル期間を制御信
号のハイレベルからロウレベルへの立ち下りのタイミン
グで比較し、この比較結果が不一致であれば試験信号が
ハイレベルまたはロウレベルに固定された異常状態のア
ラーム信号を発生する異常検知手段を有するクロック異
常検知回路部と、異常検知手段に応答して異常を通知す
る異常通知手段とを備え、試験基板内に前記クロック異
常検知回路部および異常通知手段がそれぞれ内蔵される
ように構成するので、正常なBTを実施することが出
来、したがって初期不良の加速されない半導体装置が出
荷されるのを防止し、信頼性の向上を図ることができ
る。
As described above, the BT device of the semiconductor device according to the present invention generates a test signal and a control signal whose phase is delayed by a predetermined time from the test signal, and tests these signals. A driver circuit section to be supplied to the board group, a control signal output from the driver circuit section, and a test signal at a terminal end of a test signal wiring wired to a signal input terminal of a semiconductor device in the test board group are input. The high level period of the logic level of the test signal is compared at the rising timing of the control signal from the low level to the high level, and the low level period of the test signal is compared at the timing of the falling of the control signal from the high level to the low level. If the comparison result does not match, an alarm signal indicating an abnormal state in which the test signal is fixed at high level or low level is generated. A clock abnormality detection circuit unit having an abnormality detection unit, and an abnormality notification unit for notifying an abnormality in response to the abnormality detection unit, wherein the clock abnormality detection circuit unit and the abnormality notification unit are respectively incorporated in a test board. With such a configuration, normal BT can be performed, and therefore, a semiconductor device whose initial failure is not accelerated can be prevented from being shipped, and reliability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の構成を示すブロック図
である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるクロック異常検知回路部の一例を
示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of a clock abnormality detection circuit unit in FIG. 1;

【図3】試験信号が正常に分配された場合の動作説明用
のタイミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart for explaining an operation when a test signal is normally distributed.

【図4】試験信号がロウレベルに固定された場合の動作
説明用のタイミングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart for explaining an operation when a test signal is fixed at a low level.

【図5】試験信号がロウレベルに固定された場合の動作
説明用のタイミングチャートである。
FIG. 5 is a timing chart for explaining the operation when the test signal is fixed at a low level.

【図6】従来のバーンイン装置の一例の構成を示すブロ
ック図である。
FIG. 6 is a block diagram illustrating a configuration of an example of a conventional burn-in device.

【符号の説明】 1 BT試験装置 2 ドライバ回路 3 試験基板 4 半導体装置 5 クロック異常検知回路部 6 nチャネル型MOSトランジスタ 51,52,57 ラッチ回路 53 遅延回路 511,515 pチャネル型MOSトランジスタ 512,516 nチャネル型MOSトランジスタ 513,517,531 インバータ 514 NOR回路 532 容量素子 A 試験信号 B 制御信号 C アラーム信号 IN1 試験基板の試験信号Aの入力端子 IN2 試験基板の制御信号Bの入力端 IN3 クロック異常検知回路部の試験信号Aの入力
端 IN4 クロック異常検知回路部の制御信号Bの入力
端 OUT1 ドライバ回路部の試験信号Aの出力端 OUT2 ドライバ回路部の制御信号Bの出力端 OUT3 クロック異常検知回路部のアラーム信号C
の出力端
[Description of Signs] 1 BT test apparatus 2 driver circuit 3 test board 4 semiconductor device 5 clock abnormality detection circuit unit 6 n-channel MOS transistor 51, 52, 57 latch circuit 53 delay circuit 511, 515 p-channel MOS transistor 512, 516 n-channel MOS transistor 513, 517, 531 inverter 514 NOR circuit 532 capacitance element A test signal B control signal C alarm signal IN1 input terminal of test signal A of test board IN2 input terminal of control signal B of test board IN3 clock abnormality Input terminal of test signal A of detection circuit unit IN4 Input terminal of control signal B of clock abnormality detection circuit unit OUT1 Output terminal of test signal A of driver circuit unit OUT2 Output terminal of control signal B of driver circuit unit OUT3 Clock abnormality detection circuit Alarm signal C
Output end of

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体装置の初期不良を検出するために
前記半導体装置を複数個搭載した試験基板群を恒温試験
槽に収容し、この恒温試験槽内の前記半導体装置に所定
の試験信号を供給し所定の高温度雰囲気中で所定時間連
続動作させることによって不良状態を加速する半導体装
置のバーンイン試験装置において、前記試験信号とこの
試験信号よりもあらかじめ定める所定時間だけ位相を遅
らせた制御信号とを発生するとともにこれらの信号を前
記試験基板群に供給するドライバ回路部と、このドライ
バ回路部から出力された前記制御信号と前記試験基板群
内の前記半導体装置の信号入力端子にそれぞれ配線され
た試験信号配線の終端部の前記試験信号とを入力し、こ
の試験信号の論理レベルのハイレベル期間を前記制御信
号のロウレベルからハイレベルへの立ち上りのタイミン
グで比較し、前記試験信号のロウレベル期間を前記制御
信号のハイレベルからロウレベルへの立ち下りのタイミ
ングで比較し、この比較結果が不一致であれば前記試験
信号がハイレベルまたはロウレベルに固定された異常状
態のアラーム信号を発生する異常検知手段を有するクロ
ック異常検知回路部と、前記異常検知手段に応答して異
常を通知する異常通知手段とを備え、前記試験基板内に
前記クロック異常検知回路部および前記異常通知手段が
それぞれ内蔵されることを特徴とする半導体装置のバー
ンイン試験装置。
1. A test board group on which a plurality of semiconductor devices are mounted is housed in a constant temperature test tank for detecting an initial failure of the semiconductor device, and a predetermined test signal is supplied to the semiconductor device in the constant temperature test tank. In a burn-in test apparatus for a semiconductor device in which a defective state is accelerated by continuously operating in a predetermined high temperature atmosphere for a predetermined time, the test signal and a control signal whose phase is delayed by a predetermined time from the test signal are compared. A driver circuit unit that generates and supplies these signals to the test board group; a test signal that is output from the driver circuit unit; and a test that is wired to a signal input terminal of the semiconductor device in the test board group. The test signal at the end of the signal wiring is input, and a high level period of the logic level of the test signal is changed from a low level of the control signal to a low level. The control signal is compared at the rising timing to the high level, and the low level period of the test signal is compared at the falling timing from the high level to the low level of the control signal. If the comparison result is inconsistent, the test signal is at the high level. Or a clock abnormality detection circuit unit having abnormality detection means for generating an alarm signal of an abnormal state fixed to a low level, and abnormality notification means for notifying an abnormality in response to the abnormality detection means, A burn-in test apparatus for a semiconductor device, wherein the clock abnormality detection circuit unit and the abnormality notification unit are respectively incorporated.
【請求項2】 前記異常検知手段は、前記制御信号のロ
ウレベルからハイレベルへの立ち上りタイミングに同期
した第1のパルスと前記制御信号のハイレベルからロウ
レベルへの立ち下りタイミングに同期した第2のパルス
を生成し、これら第1および第2のパルスの連続パルス
に同期して前記試験信号をラッチすることによって第1
の試験信号を生成し、この第1の試験信号を前記第1お
よび前記第2の制御パルスの反転パルスに同期してさら
にラッチすることによって第2の試験信号を生成し、こ
れら第1および第2の試験信号を比較して出力される一
致不一致信号を、前記第1および第2のパルスの連続パ
ルスに同期してラッチし、このラッチ出力は前記一致不
一致信号が不一致信号であればロウレベルで一定とな
り、一致信号であればハイレベル一定の前記アラーム信
号となるように構成する請求項1記載の半導体のバーン
イン試験装置。
2. The abnormality detecting means includes: a first pulse synchronized with a rise timing of the control signal from a low level to a high level; and a second pulse synchronized with a fall timing of the control signal from a high level to a low level. Generating a first pulse and latching the test signal in synchronization with a continuous pulse of the first and second pulses.
The second test signal is generated by further latching the first test signal in synchronization with the inverted pulse of the first and second control pulses, thereby generating the first and second test signals. 2 is latched in synchronization with the continuous pulse of the first and second pulses, and the latch output is at a low level if the match / mismatch signal is a mismatch signal. 2. The semiconductor burn-in test apparatus according to claim 1, wherein the alarm signal is constant, and if it is a coincidence signal, the alarm signal is constant at a high level.
【請求項3】 前記異常通知手段は、ゲート電極に前記
アラーム信号を入力し、かつドレイン電極を電源電位に
ソース電極を接地電位にそれぞれ接続し、駆動能力を大
きくしたnチャネル型MOSトランジスタからなり、前
記アラーム信号がハイレベルのときに導通して電源電位
および接地電位間を短絡する請求項1記載の半導体装置
のバーンイン試験装置。
3. The abnormality notification means comprises an n-channel MOS transistor having a driving capability increased by inputting the alarm signal to a gate electrode, connecting a drain electrode to a power supply potential and a source electrode to a ground potential. 2. The burn-in test apparatus for a semiconductor device according to claim 1, wherein said alarm signal is turned on when said alarm signal is at a high level to short-circuit between a power supply potential and a ground potential.
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