JP2840224B2 - 液晶偏光制御素子 - Google Patents
液晶偏光制御素子Info
- Publication number
- JP2840224B2 JP2840224B2 JP19318796A JP19318796A JP2840224B2 JP 2840224 B2 JP2840224 B2 JP 2840224B2 JP 19318796 A JP19318796 A JP 19318796A JP 19318796 A JP19318796 A JP 19318796A JP 2840224 B2 JP2840224 B2 JP 2840224B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- polarization control
- alignment film
- dye
- control element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ光に対し
てそのレーザビーム内で偏光を局所的に回転させて部分
的な位相及び偏光制御を行なうことができる液晶偏光制
御素子に関する。
てそのレーザビーム内で偏光を局所的に回転させて部分
的な位相及び偏光制御を行なうことができる液晶偏光制
御素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】光の偏光制御は、光を応用する各種分野
で活用されており、光の強度、波長、位相などに関連し
て偏光制御が一般に行なわれる。例えば慣性閉じ込め型
の核融合装置に用いられるレーザシステムでは、レーザ
光を集光する位置での近視野領域における空間位相及び
強度の非一様性をランダム位相板（ＲＰＰ）を導入して
補正し、集光照射パターンに与える影響を減じるように
位相制御が行なわれている。
で活用されており、光の強度、波長、位相などに関連し
て偏光制御が一般に行なわれる。例えば慣性閉じ込め型
の核融合装置に用いられるレーザシステムでは、レーザ
光を集光する位置での近視野領域における空間位相及び
強度の非一様性をランダム位相板（ＲＰＰ）を導入して
補正し、集光照射パターンに与える影響を減じるように
位相制御が行なわれている。
【０００３】このようなレーザ光の集光システムでは、
集光照射されるレーザ光の強度分布は一様均一であるこ
とが望ましいが、多数の分割されたビームレット間の干
渉効果により実際には集光照射パターンはランダム干渉
スペックル（斑点文様）分布となり、一様性が必らずし
も高くない。このような問題に対処する方法として偏光
を利用して瞬時スペックルを平滑化する方法が種々試み
られている。
集光照射されるレーザ光の強度分布は一様均一であるこ
とが望ましいが、多数の分割されたビームレット間の干
渉効果により実際には集光照射パターンはランダム干渉
スペックル（斑点文様）分布となり、一様性が必らずし
も高くない。このような問題に対処する方法として偏光
を利用して瞬時スペックルを平滑化する方法が種々試み
られている。
【０００４】かかる偏光を利用しスペックルの平滑化を
図る場合、１つの偏光ビームを偏光方向が直交する２つ
の光束系とすると２つの光束系は互いに干渉しないか
ら、時間を必要とせずに瞬時スペックルの平滑化を可能
にすることができるが、このような直交する２つの光束
系を得るために利用できる偏光制御手段として複屈折性
結晶を用いる方法と液晶材料を用いる方法とがある。
図る場合、１つの偏光ビームを偏光方向が直交する２つ
の光束系とすると２つの光束系は互いに干渉しないか
ら、時間を必要とせずに瞬時スペックルの平滑化を可能
にすることができるが、このような直交する２つの光束
系を得るために利用できる偏光制御手段として複屈折性
結晶を用いる方法と液晶材料を用いる方法とがある。
【０００５】レーザビームの細いビーム領域内で複数の
偏光制御領域を実現するためには、複屈折性結晶を用い
る方法では微小な結晶を多数平面上に配置し、それぞれ
の結晶の光学軸方向を制御する必要があり、結晶配置や
光学軸方向の制御に種々の困難を伴い、現実的でない。
偏光制御領域を実現するためには、複屈折性結晶を用い
る方法では微小な結晶を多数平面上に配置し、それぞれ
の結晶の光学軸方向を制御する必要があり、結晶配置や
光学軸方向の制御に種々の困難を伴い、現実的でない。
【０００６】これに対し、液晶材料を用いる場合は、一
般に液晶セルに透明電極を付加し、電界をかけることに
より液晶分子の配向状態を電気的に制御する方法があ
り、例えば透明電極をマトリクス状に配置した液晶パネ
ルに応用した例が広く知られている。
般に液晶セルに透明電極を付加し、電界をかけることに
より液晶分子の配向状態を電気的に制御する方法があ
り、例えば透明電極をマトリクス状に配置した液晶パネ
ルに応用した例が広く知られている。
【０００７】上記液晶パネル等に利用される液晶セルは
配向膜を設けた２枚の基板を対向して設け、基板間に液
晶分子を密封し、基板に取り付けた透明電極にかける電
圧を変えることにより液晶分子の配列方向を螺旋状にね
じらせたり、一定方向に揃えたりして電気的に制御する
ものである。
配向膜を設けた２枚の基板を対向して設け、基板間に液
晶分子を密封し、基板に取り付けた透明電極にかける電
圧を変えることにより液晶分子の配列方向を螺旋状にね
じらせたり、一定方向に揃えたりして電気的に制御する
ものである。
【０００８】この液晶セルは、透明電極を微小領域に分
割配置しており、各領域に電圧を供給する電気回路が
入、出射面に設けられているため、この電気回路部分は
光が十分透過せず光エネルギの損失となり、高強度のレ
ーザ光を入射させると電極が破壊されるなどから、透過
効率が重要な用途にはそのままでは使用できない。
割配置しており、各領域に電圧を供給する電気回路が
入、出射面に設けられているため、この電気回路部分は
光が十分透過せず光エネルギの損失となり、高強度のレ
ーザ光を入射させると電極が破壊されるなどから、透過
効率が重要な用途にはそのままでは使用できない。
【０００９】そこで、本発明者等は従来の液晶セルから
透明電極を除き、かつ基板の配向膜に部分的にラビング
方向が直交するような多数の溝を設けた配向膜を有する
液晶セルを偏光制御素子として透過効率が問題となる光
学系に使用することを既に発表し提案した。
透明電極を除き、かつ基板の配向膜に部分的にラビング
方向が直交するような多数の溝を設けた配向膜を有する
液晶セルを偏光制御素子として透過効率が問題となる光
学系に使用することを既に発表し提案した。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たラビング法により部分的に方向の異なる多数の溝を設
けた配向膜を製作することは、ラビング方向が異なる溝
毎にマスクを被せて処理する必要があるため、実施でき
ない訳ではないが、処理工程が多過すぎて作業に多くの
手間と時間を要し、効率的ではない。
たラビング法により部分的に方向の異なる多数の溝を設
けた配向膜を製作することは、ラビング方向が異なる溝
毎にマスクを被せて処理する必要があるため、実施でき
ない訳ではないが、処理工程が多過すぎて作業に多くの
手間と時間を要し、効率的ではない。
【００１１】この発明は、上述した従来の液晶セルを偏
光制御素子としたものの上記問題点に留意して、液晶セ
ルの片側の配向膜の高分子に複屈折性を示す光学的処理
を施すことにより液晶分子配列が所望のパターンとなる
ようにして偏光方向が異なるビームレット系を発生し得
るような液晶偏光制御素子を提供することを課題とす
る。
光制御素子としたものの上記問題点に留意して、液晶セ
ルの片側の配向膜の高分子に複屈折性を示す光学的処理
を施すことにより液晶分子配列が所望のパターンとなる
ようにして偏光方向が異なるビームレット系を発生し得
るような液晶偏光制御素子を提供することを課題とす
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記課題を
解決する手段として、配向膜を設けた基板を対向配置
し、その基板間に液晶分子を密封して液晶セルとし、配
向膜の一方に複屈折性高分子を添加して１つのセル内の
複数領域で複屈折軸に沿って液晶分子を配列し螺旋配列
を形成して成る液晶偏光制御素子としたのである。
解決する手段として、配向膜を設けた基板を対向配置
し、その基板間に液晶分子を密封して液晶セルとし、配
向膜の一方に複屈折性高分子を添加して１つのセル内の
複数領域で複屈折軸に沿って液晶分子を配列し螺旋配列
を形成して成る液晶偏光制御素子としたのである。
【００１３】上記の構成としたこの発明の液晶偏光制御
素子は、集光一様性を高める必要がある光学系に利用す
るとその特徴を発揮する。直線偏光のレーザ光を何ら偏
光処理せずに所定位置に集光すると、一般に多重干渉効
果により高コントラストのスペックルが発生し、集光一
様性が低下する。
素子は、集光一様性を高める必要がある光学系に利用す
るとその特徴を発揮する。直線偏光のレーザ光を何ら偏
光処理せずに所定位置に集光すると、一般に多重干渉効
果により高コントラストのスペックルが発生し、集光一
様性が低下する。
【００１４】しかし、この発明の液晶偏光制御素子によ
り予め集光レンズの前段階で偏光制御すると、部分的に
偏光方向が異なるビームレットが出射されることで、集
光位置において干渉効果が抑制され、集光強度のコント
ラストが３０％減少し、ビームの均質性が改善され、集
光一様性が向上するのである。この場合、透明電極は設
けられていない。
り予め集光レンズの前段階で偏光制御すると、部分的に
偏光方向が異なるビームレットが出射されることで、集
光位置において干渉効果が抑制され、集光強度のコント
ラストが３０％減少し、ビームの均質性が改善され、集
光一様性が向上するのである。この場合、透明電極は設
けられていない。
【００１５】上記配向膜の複屈折性高分子はレーザ光の
出射側基板の配向膜に添加する。１つのセル内では設定
方向に対して並行異常光線軸をもつ高分子が複数領域の
それぞれに含まれ、この高分子の分子間力によって液晶
分子は複屈折軸に沿って配列され螺旋配列を形成する。
出射側基板の配向膜に添加する。１つのセル内では設定
方向に対して並行異常光線軸をもつ高分子が複数領域の
それぞれに含まれ、この高分子の分子間力によって液晶
分子は複屈折軸に沿って配列され螺旋配列を形成する。
【００１６】このような配向膜に設定方向に直線偏光し
たレーザ光が入射されると、上記複屈折軸に沿って螺旋
状にねじれて配列された液晶分子を含む複数領域では、
このねじれに沿って直線偏光もねじれて通過し、結局直
線偏光の偏光方向が回転するのである。
たレーザ光が入射されると、上記複屈折軸に沿って螺旋
状にねじれて配列された液晶分子を含む複数領域では、
このねじれに沿って直線偏光もねじれて通過し、結局直
線偏光の偏光方向が回転するのである。
【００１７】したがって設定方向を１つのセル内でいろ
いろな方向にすることにより、直線偏光は各領域ごとに
異なる回転角度で回転し、従って１つのセル内で領域に
よって偏光方向が異なるビームレットが得られることに
なる。
いろな方向にすることにより、直線偏光は各領域ごとに
異なる回転角度で回転し、従って１つのセル内で領域に
よって偏光方向が異なるビームレットが得られることに
なる。
【００１８】上述した液晶偏光制御素子を形成する場
合、前記配向膜が、一方は複屈折性高分子として色素を
添加しその任意の領域毎に設定方向に対して並行な方向
に異常光線軸をもつ色素を含み他の色素は複屈折性を消
失させる処理をした高分子配向膜とし、他方は一様に配
向するように処理した配向膜としたものから成るものと
するのが好ましい。
合、前記配向膜が、一方は複屈折性高分子として色素を
添加しその任意の領域毎に設定方向に対して並行な方向
に異常光線軸をもつ色素を含み他の色素は複屈折性を消
失させる処理をした高分子配向膜とし、他方は一様に配
向するように処理した配向膜としたものから成るものと
するのが好ましい。
【００１９】配向膜に局所的に複屈折性を付与する複屈
折処理として、配向膜高分子に色素を少量添加し、任意
の領域毎に設定方向に異常光線軸をもつ色素分子を残
し、それ以外の色素分子は構造を変化させ複屈折性を消
失するような処理をする。
折処理として、配向膜高分子に色素を少量添加し、任意
の領域毎に設定方向に異常光線軸をもつ色素分子を残
し、それ以外の色素分子は構造を変化させ複屈折性を消
失するような処理をする。
【００２０】配向膜に添加された色素分子は無秩序に配
向されていることが多く、そのままでは液晶分子も無秩
序に配向する。従って、配向膜高分子に上記のような特
定配列をさせる方法として、光異性化反応を利用するこ
とができる。
向されていることが多く、そのままでは液晶分子も無秩
序に配向する。従って、配向膜高分子に上記のような特
定配列をさせる方法として、光異性化反応を利用するこ
とができる。
【００２１】光異性化反応を示す色素は、色素分子が光
を吸収することによって構造が変化し複屈折を示さなく
なる。又、光の偏光方向が色素分子の分子長軸方向に沿
っていると光を吸収し、分子長軸方向と直交するときは
光を吸収しない。従って、上記特定配列をさせようとす
る各領域毎に上記設定方向と異なる方向の偏光を有する
光を照射することによって上記設定方向に並行な方向に
のみ異常光線軸をもつ色素成分を残し、他は複屈折性を
消失させることができる。
を吸収することによって構造が変化し複屈折を示さなく
なる。又、光の偏光方向が色素分子の分子長軸方向に沿
っていると光を吸収し、分子長軸方向と直交するときは
光を吸収しない。従って、上記特定配列をさせようとす
る各領域毎に上記設定方向と異なる方向の偏光を有する
光を照射することによって上記設定方向に並行な方向に
のみ異常光線軸をもつ色素成分を残し、他は複屈折性を
消失させることができる。
【００２２】上記配向膜に添加する色素としては、窒素
の２重結合を有するアゾ系又はジアゾ系の色素とするの
が好ましい。これらの色素は、窒素２重結合によってト
ランス型及びシス型の２つの構造を持つことができる。
トランス型構造のアゾ系色素は、分子が一方向に長い構
造を持つために光学的異方性を有している。
の２重結合を有するアゾ系又はジアゾ系の色素とするの
が好ましい。これらの色素は、窒素２重結合によってト
ランス型及びシス型の２つの構造を持つことができる。
トランス型構造のアゾ系色素は、分子が一方向に長い構
造を持つために光学的異方性を有している。
【００２３】アゾ系色素が図１０に示すようにトランス
型からシス型に変化すると光学的異方性はなくなる。ア
ゾ系色素は光を吸収することで光異性化反応によりトラ
ンス型からシス型へ構造が変化する。このようなアゾで
色素を液晶配向膜に添加し、直線偏光した光を照射する
ことにより液晶分子の配列を制御することができる。
型からシス型に変化すると光学的異方性はなくなる。ア
ゾ系色素は光を吸収することで光異性化反応によりトラ
ンス型からシス型へ構造が変化する。このようなアゾで
色素を液晶配向膜に添加し、直線偏光した光を照射する
ことにより液晶分子の配列を制御することができる。
【００２４】上記アゾ系色素に照射される光は、微小領
域を制御する関係から直線偏光したレーザ光が望まし
く、特に波長４００ｎｍ以下の紫外領域のレーザ光はア
ゾ系色素での吸収が大きいため好ましい。
域を制御する関係から直線偏光したレーザ光が望まし
く、特に波長４００ｎｍ以下の紫外領域のレーザ光はア
ゾ系色素での吸収が大きいため好ましい。
【００２５】
【実施の形態】以下、この発明の液晶偏光制御素子の実
施形態について図１〜図３を参照して説明する。図１〜
図３はそれぞれ第１〜第３実施形態の液晶偏光制御素子
の概略構成図である。
施形態について図１〜図３を参照して説明する。図１〜
図３はそれぞれ第１〜第３実施形態の液晶偏光制御素子
の概略構成図である。
【００２６】図示のように、液晶偏光制御素子１は、２
枚のガラス基板２ａ、２ｂの片面に配向膜３ａ、３ｂを
密着させ、配向膜面を互いに対向配置し、その基板間に
ネマティック液晶５を入れ、スペーサ４により密封した
ものである。上記一方の配向膜３ａは任意の領域毎に異
常光線軸方向が異なった色素を含む高分子配向膜であ
り、他方の配向膜３ｂは一様にラビング処理をした配向
膜である。
枚のガラス基板２ａ、２ｂの片面に配向膜３ａ、３ｂを
密着させ、配向膜面を互いに対向配置し、その基板間に
ネマティック液晶５を入れ、スペーサ４により密封した
ものである。上記一方の配向膜３ａは任意の領域毎に異
常光線軸方向が異なった色素を含む高分子配向膜であ
り、他方の配向膜３ｂは一様にラビング処理をした配向
膜である。
【００２７】実際の基板は、例えば直径数ｃｍ、厚さ数
ｍｍ、スペーサは厚さ数十ミクロン程度の大きさである
が、理解し易くするため、大きさ、厚さなどの寸法を全
て誇張して大きく示している。又、上記一方の配向膜３
ａは、色素の異常光線軸の方向が直交する２種類の領域
を市松模様状に有しており、この配置模様が分るように
（ａ）図に黒と白の市松模様を示しているが、実際にこ
の市松模様が外部から見える訳ではないが、これも分り
易くするため誇張して示している。
ｍｍ、スペーサは厚さ数十ミクロン程度の大きさである
が、理解し易くするため、大きさ、厚さなどの寸法を全
て誇張して大きく示している。又、上記一方の配向膜３
ａは、色素の異常光線軸の方向が直交する２種類の領域
を市松模様状に有しており、この配置模様が分るように
（ａ）図に黒と白の市松模様を示しているが、実際にこ
の市松模様が外部から見える訳ではないが、これも分り
易くするため誇張して示している。
【００２８】図２、図３は基本的な構成が同じである
が、色素の異常光線軸の方向が直交する２つの領域の模
様の他の例を示すものであり、図２はストライプ模様、
図３はランダムパターンの例である。勿論、上記色素領
域の模様は上記以外のどんな複雑なパターンであっても
よい。また、色素の異常光線軸の方向は領域毎に任意の
方向でもよい。
が、色素の異常光線軸の方向が直交する２つの領域の模
様の他の例を示すものであり、図２はストライプ模様、
図３はランダムパターンの例である。勿論、上記色素領
域の模様は上記以外のどんな複雑なパターンであっても
よい。また、色素の異常光線軸の方向は領域毎に任意の
方向でもよい。
【００２９】
【実施例】上記実施形態のうち第１実施形態のものを以
下のように製作し、実験をした。アゾ系色素であるメチ
ルオレンジ（図４に構造式及び吸収スペクトル曲線を示
す）をポリビニールアルコール（ＰＶＡ）の２ｗｔ％水
溶液に、対ＰＶＡ質量比１４：１００で添加した。この
水溶液を直径５０ｍｍ、厚さ３ｍｍのガラス基板上にス
ピンコーターを用いて２０００Ａ（オングストローム）
の厚みに塗布した。その後、１５０℃で１５分間ベーキ
ングして、基板と膜とを密着させた。この基板に図６に
示す装置によりＮｄ：ＹＡＧレーザーの３倍高調波光
（波長３５５ｎｍ）を照射し（図５）、メチルオレンジ
に光異性化反応を起こさせ、配向膜に液晶の配向方向を
記憶させた。上記図６の装置による照射条件は、パワー
２３ｍｗ／１０Ｈｚ、パルス幅１０ｎｓ、スポットサイ
ズ４ｍｍφ、照射時間４分／１エレメントとした。この
ときのレーザー光の全入射エネルギーは、１つの領域に
対して２００ｍＪ以上必要であった。図７に上記光異性
化反応を生じさせたメチルオレンジ分子の変化の概念図
を示す。
下のように製作し、実験をした。アゾ系色素であるメチ
ルオレンジ（図４に構造式及び吸収スペクトル曲線を示
す）をポリビニールアルコール（ＰＶＡ）の２ｗｔ％水
溶液に、対ＰＶＡ質量比１４：１００で添加した。この
水溶液を直径５０ｍｍ、厚さ３ｍｍのガラス基板上にス
ピンコーターを用いて２０００Ａ（オングストローム）
の厚みに塗布した。その後、１５０℃で１５分間ベーキ
ングして、基板と膜とを密着させた。この基板に図６に
示す装置によりＮｄ：ＹＡＧレーザーの３倍高調波光
（波長３５５ｎｍ）を照射し（図５）、メチルオレンジ
に光異性化反応を起こさせ、配向膜に液晶の配向方向を
記憶させた。上記図６の装置による照射条件は、パワー
２３ｍｗ／１０Ｈｚ、パルス幅１０ｎｓ、スポットサイ
ズ４ｍｍφ、照射時間４分／１エレメントとした。この
ときのレーザー光の全入射エネルギーは、１つの領域に
対して２００ｍＪ以上必要であった。図７に上記光異性
化反応を生じさせたメチルオレンジ分子の変化の概念図
を示す。
【００３０】このようにして配向制御を記憶させた配向
膜を有する基板と、色素を添加していないＰＶＡを塗布
し一様にラビングした配向膜を有する基板とを組み合わ
せて偏光制御方向が直交する２種類の制御領域が交互に
現れるような液晶偏光制御素子を製作した。基板間には
スペーサーとして厚さ５０ミクロンのカプトン箔を挿入
した。注入した液晶は、ＺＬＩ−４１１９（メルク・ジ
ャパン）であった。１つの領域の大きさは２ｍｍ×２ｍ
ｍ、全体で２８ｍｍ×２８ｍｍ（１９６エレメント）で
ある。この光学素子のレーザーに対する損傷閾値を計測
した結果、波長５３２ｎｍ、パルス幅０．９ｎｓのレー
ザー光に対して１２（Ｊ／ｃｍ2 ）であった。
膜を有する基板と、色素を添加していないＰＶＡを塗布
し一様にラビングした配向膜を有する基板とを組み合わ
せて偏光制御方向が直交する２種類の制御領域が交互に
現れるような液晶偏光制御素子を製作した。基板間には
スペーサーとして厚さ５０ミクロンのカプトン箔を挿入
した。注入した液晶は、ＺＬＩ−４１１９（メルク・ジ
ャパン）であった。１つの領域の大きさは２ｍｍ×２ｍ
ｍ、全体で２８ｍｍ×２８ｍｍ（１９６エレメント）で
ある。この光学素子のレーザーに対する損傷閾値を計測
した結果、波長５３２ｎｍ、パルス幅０．９ｎｓのレー
ザー光に対して１２（Ｊ／ｃｍ2 ）であった。
【００３１】以上のようにして製作した液晶偏光制御素
子の集光状態を確認するため、図示省略の実験装置によ
り図８のようにランダム位相板（ＲＰＰ）による集光パ
ターンと、液晶偏光制御素子（ＰＣＰ）にＲＰＰを組合
せた場合の集光パターンとを計測したところ、図示のよ
うに後者の組合せでは大きく平滑性が改善されるという
結果が得られた。
子の集光状態を確認するため、図示省略の実験装置によ
り図８のようにランダム位相板（ＲＰＰ）による集光パ
ターンと、液晶偏光制御素子（ＰＣＰ）にＲＰＰを組合
せた場合の集光パターンとを計測したところ、図示のよ
うに後者の組合せでは大きく平滑性が改善されるという
結果が得られた。
【００３２】又、図９のように集光強度分布から計算し
た強度の確率密度分布から標準偏差が約３０％低下する
ことも確認された。
た強度の確率密度分布から標準偏差が約３０％低下する
ことも確認された。
【００３３】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、この発明の
液晶偏光制御素子は片側配向膜に複屈折性高分子を添加
し１つのセル内の複数領域で複屈折軸に沿って液晶分子
を螺旋配列させたものとしたから、複屈折性高分子を処
理することにより透明電極を用いることなく１つのセル
内で部分的に液晶分子の螺旋ピッチを変化させ、直線偏
光を任意の角度で回転させることができるため、いろい
ろな方向の直線偏光をしたビーム束を任意のパターンで
１つのビーム内に生じさせることができるため集光され
たビームの均質性が改善され、集光効率が向上し、ま
た、ビーム強度の分布形状を変えることもできるなど種
々の利点が得られる。
液晶偏光制御素子は片側配向膜に複屈折性高分子を添加
し１つのセル内の複数領域で複屈折軸に沿って液晶分子
を螺旋配列させたものとしたから、複屈折性高分子を処
理することにより透明電極を用いることなく１つのセル
内で部分的に液晶分子の螺旋ピッチを変化させ、直線偏
光を任意の角度で回転させることができるため、いろい
ろな方向の直線偏光をしたビーム束を任意のパターンで
１つのビーム内に生じさせることができるため集光され
たビームの均質性が改善され、集光効率が向上し、ま
た、ビーム強度の分布形状を変えることもできるなど種
々の利点が得られる。
【図１】第１実施形態の液晶偏光制御素子の概略図
【図２】第２実施形態の液晶偏光制御素子の概略図
【図３】第３実施形態の液晶偏光制御素子の概略図
【図４】メチルオレンジの構造式と吸収スペクトル
【図５】配向膜のレーザ照射図
【図６】配向膜のレーザ照射装置の概略図
【図７】メチルオレンジ分子の変化を説明する図
【図８】ランダム位相板と、液晶偏光制御素子及びラン
ダム位相板の組合せとによる集光パターンの比較図
ダム位相板の組合せとによる集光パターンの比較図
【図９】同上の集光強度の確率密度分布図
【図１０】アゾ系色素の光異性化反応の説明図
１ 液晶偏光制御素子 ２ａ、２ｂ ガラス基板 ３ａ、３ｂ 配向膜 ４ スペーサ ５ ネマティック液晶
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02F 1/1337 505
Claims (6)
- 【請求項１】 配向膜を設けた基板を対向配置し、その
基板間に液晶分子を密封して液晶セルとし、配向膜の一
方に複屈折性高分子を添加して１つのセル内の複数領域
で複屈折軸に沿って液晶分子を配列し螺旋配列を形成し
て成る液晶偏光制御素子。 - 【請求項２】 前記配向膜が、一方は複屈折性高分子と
して色素を添加しその任意の領域毎の設定方向に並行方
向に異常光線軸をもつ色素を含み他の色素は複屈折性を
消失させる処理をした高分子配向膜とし、他方は一様に
配向するように処理した配向膜としたものから成ること
を特徴とする請求項１に記載の液晶偏光制御素子。 - 【請求項３】 前記一方の配向膜を他の色素から光異性
化反応により複屈折性を消失させたものとしたことを特
徴とする請求項２に記載の液晶偏光制御素子。 - 【請求項４】 前記高分子配向膜に添加する色素をアゾ
系又はジアゾ系色素としたことを特徴とする請求項２又
は３に記載の液晶偏光制御素子。 - 【請求項５】 前記液晶分子をネマティック液晶分子と
したことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載
の液晶偏光制御素子。 - 【請求項６】 前記光異性化反応のために照射する光を
波長４００ｎｍ以下の紫外光としたことを特徴とする請
求項２乃至５のいずれかに記載の液晶偏光制御素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19318796A JP2840224B2 (ja) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | 液晶偏光制御素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19318796A JP2840224B2 (ja) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | 液晶偏光制御素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1039267A JPH1039267A (ja) | 1998-02-13 |
| JP2840224B2 true JP2840224B2 (ja) | 1998-12-24 |
Family
ID=16303759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19318796A Expired - Fee Related JP2840224B2 (ja) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | 液晶偏光制御素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2840224B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008267877A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Tsubakimoto Chain Co | 創薬用容器内溶液有無判別方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006047421A (ja) | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Canon Inc | 表示光学系および画像投射装置 |
| JP4549833B2 (ja) * | 2004-12-13 | 2010-09-22 | 富士フイルム株式会社 | 配向膜及びその製造技術、並びに液晶装置 |
| WO2008047800A1 (fr) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Asahi Glass Co., Ltd. | Dispositif d'affichage de type à projection |
-
1996
- 1996-07-23 JP JP19318796A patent/JP2840224B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008267877A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Tsubakimoto Chain Co | 創薬用容器内溶液有無判別方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1039267A (ja) | 1998-02-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2708382B2 (ja) | 液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置 | |
| TWI639872B (zh) | 液晶顯示器及其製備方法 | |
| US20030112395A1 (en) | Method for manufacturing a multi-domain liquid crystal cell | |
| JP2996897B2 (ja) | 液晶配向制御方法及び装置及び前記方法により形成された配向膜を有する液晶表示装置 | |
| JPH052194A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JPS6230614B2 (ja) | ||
| JPH08304828A (ja) | 液晶配向構造の製造方法及び液晶表示装置 | |
| JPS6060624A (ja) | 液晶表示パネルおよびその製造方法 | |
| JP2840224B2 (ja) | 液晶偏光制御素子 | |
| JP4057614B2 (ja) | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH11202336A (ja) | 光の照射方法及びその装置、高分子配向膜の製造方法及びその装置 | |
| JPH06342169A (ja) | 光スイッチング素子 | |
| US5991001A (en) | Liquid crystal display and method for manufacturing the same | |
| JP3080122B2 (ja) | 表示・記録媒体、表示・記録方法および表示・記録装置 | |
| JP4606541B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2004163857A (ja) | 液晶素子の製造方法及び液晶高分子フィルム | |
| JP2000227595A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2004029180A (ja) | 紫外線偏光光源装置及びそれを用いた液晶配向膜の製造方法 | |
| JP4549833B2 (ja) | 配向膜及びその製造技術、並びに液晶装置 | |
| JP4400914B2 (ja) | 液晶ディスプレイ及びその製造方法 | |
| Sueda et al. | Speckle suppression of laser light using liquid crystals aligned by photoisomerization of dye molecules | |
| JP3280933B2 (ja) | 液晶素子及びその製造方法 | |
| JPH10161132A (ja) | 液晶配向膜およびその製造方法 | |
| KR0134832Y1 (ko) | 대면적 광경화성 고분자 배향막 제조장치 | |
| JP2004309780A (ja) | 液晶表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |