JP2829003B2 - 透明導電性積層体 - Google Patents
透明導電性積層体Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はフイルム基材の一方の面に透明な導電性薄
膜を設けるとともに、他方の面に透明基体を貼り合わせ
てなる透明導電性積層体に関する。
膜を設けるとともに、他方の面に透明基体を貼り合わせ
てなる透明導電性積層体に関する。
一般に、可視光線領域で透明であり、かつ導電性を有
する薄膜は、液晶デイスプレイ、エレクトロルミネツセ
ンスデイスプレイなどの新しいデイスプレイ方式やタツ
チパネルなどにおける透明電極のほか、透明物品の帯電
防止や電磁波遮断などのために用いられている。
する薄膜は、液晶デイスプレイ、エレクトロルミネツセ
ンスデイスプレイなどの新しいデイスプレイ方式やタツ
チパネルなどにおける透明電極のほか、透明物品の帯電
防止や電磁波遮断などのために用いられている。
従来、このような透明導電性薄膜として、ガラス上に
酸化インジウム薄膜を形成した、いわゆる導電性ガラス
がよく知られているが、基材がガラスであるために、可
撓性，加工性に劣り、用途によつては好ましくない場合
がある。
酸化インジウム薄膜を形成した、いわゆる導電性ガラス
がよく知られているが、基材がガラスであるために、可
撓性，加工性に劣り、用途によつては好ましくない場合
がある。
このため、近年では、可撓性，加工性に加えて、耐衝
撃性にすぐれ、軽量であるなどの利点から、ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムをはじめとする各種のプラス
チツクフイルムを基材とした透明導電性薄膜が賞用され
ている。
撃性にすぐれ、軽量であるなどの利点から、ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムをはじめとする各種のプラス
チツクフイルムを基材とした透明導電性薄膜が賞用され
ている。
しかるに、このようなフイルム基材を用いた従来の透
明導電性薄膜は、薄膜表面の耐擦傷性に劣り、使用中に
傷がついて電気抵抗が増大したり、断線を生じるといつ
た問題があつた。
明導電性薄膜は、薄膜表面の耐擦傷性に劣り、使用中に
傷がついて電気抵抗が増大したり、断線を生じるといつ
た問題があつた。
また、特にタツチパネル用の導電性薄膜では、スペー
サを介して対向させた一対の薄膜同志がその一方の基材
側からの押圧打点で強く接触するものであるため、これ
に抗しうる良好な耐久特性つまり打点特性を有している
ことが望まれるが、上記従来の透明導電性薄膜ではかか
る特性に劣り、そのぶんタツチパネルとしての寿命が短
くなるという問題があつた。
サを介して対向させた一対の薄膜同志がその一方の基材
側からの押圧打点で強く接触するものであるため、これ
に抗しうる良好な耐久特性つまり打点特性を有している
ことが望まれるが、上記従来の透明導電性薄膜ではかか
る特性に劣り、そのぶんタツチパネルとしての寿命が短
くなるという問題があつた。
さらに、従来のこの種の透明導電性薄膜は、導電性薄
膜を形成した面とは反対側のフイルム基材面が裸の状態
にあるために、まぶしさを感じたり、使用中に表面傷が
生じやすく、これらのことが原因で薄膜製品全体として
の視認性に劣るという難点があつた。
膜を形成した面とは反対側のフイルム基材面が裸の状態
にあるために、まぶしさを感じたり、使用中に表面傷が
生じやすく、これらのことが原因で薄膜製品全体として
の視認性に劣るという難点があつた。
この発明は、上記従来の問題点に鑑み、ポリエチレン
テレフタレートフイルムなどのフイルム基材を用いた透
明導電性薄膜の耐擦傷性、打点特性および視認性を改良
することを目的としている。
テレフタレートフイルムなどのフイルム基材を用いた透
明導電性薄膜の耐擦傷性、打点特性および視認性を改良
することを目的としている。
この発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検
討した結果、フイルム基材として特定膜厚のものを用い
てその一方の面に透明な導電性薄膜を形成する一方、他
方の面に透明な粘着剤層を介して特定処理が施された別
の透明基体を貼り合わせることにより、薄膜表面の耐擦
傷性および打点特性とともに視認性を大きく改良できる
ものであることを知り、この発明を完成するに至つた。
討した結果、フイルム基材として特定膜厚のものを用い
てその一方の面に透明な導電性薄膜を形成する一方、他
方の面に透明な粘着剤層を介して特定処理が施された別
の透明基体を貼り合わせることにより、薄膜表面の耐擦
傷性および打点特性とともに視認性を大きく改良できる
ものであることを知り、この発明を完成するに至つた。
すなわち、この発明は、厚さが２〜120μｍの透明な
フイルム基材の一方の面に膜厚が50Å以上の透明な導電
性薄膜を形成し、他方の面に弾性係数が１×105〜１×1
07dyn／cm2、厚みが１μｍ以上である透明な粘着剤層を
介して外表面に防眩処理層を有する透明基体を貼り合わ
せてなる透明導電性積層体に係るものである。
フイルム基材の一方の面に膜厚が50Å以上の透明な導電
性薄膜を形成し、他方の面に弾性係数が１×105〜１×1
07dyn／cm2、厚みが１μｍ以上である透明な粘着剤層を
介して外表面に防眩処理層を有する透明基体を貼り合わ
せてなる透明導電性積層体に係るものである。
この発明において使用するフイルム基材としては、透
明性を有する各種のプラスチツクフイルムを使用でき、
具体的にはポリエチレンテレフタレート（PET）、ポリ
イミド（PI）、ポリエーテルサルフオン（PES）、ポリ
エーテルエーテルケトン（PEEK）、ポリカーボネート
（PC）、ポリプロピレン（PP）、ポリアミド（PA）、ポ
リアクリル（PAC）、セルロースプロピオネート（CP）
などが挙げられる。
明性を有する各種のプラスチツクフイルムを使用でき、
具体的にはポリエチレンテレフタレート（PET）、ポリ
イミド（PI）、ポリエーテルサルフオン（PES）、ポリ
エーテルエーテルケトン（PEEK）、ポリカーボネート
（PC）、ポリプロピレン（PP）、ポリアミド（PA）、ポ
リアクリル（PAC）、セルロースプロピオネート（CP）
などが挙げられる。
これらフイルム基材の厚みは、２〜120μｍの範囲に
あることが必要で、特に好適には６〜100μｍの範囲に
あるのがよい。２μｍ未満では基材としての機械的強度
が不足し、この基材をロール状にして導電性薄膜や粘着
剤層を連続的に形成する操作が難しくなる。一方、120
μｍを超えると、後述する粘着剤層のクツシヨン効果に
基づく導電性薄膜の耐擦傷性や打点特性の向上を図れな
くなる。
あることが必要で、特に好適には６〜100μｍの範囲に
あるのがよい。２μｍ未満では基材としての機械的強度
が不足し、この基材をロール状にして導電性薄膜や粘着
剤層を連続的に形成する操作が難しくなる。一方、120
μｍを超えると、後述する粘着剤層のクツシヨン効果に
基づく導電性薄膜の耐擦傷性や打点特性の向上を図れな
くなる。
このフイルム基材はその表面に予めスパツタリング、
コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸
化などのエツチング処理や下塗り処理を施して、この上
に設けられる導電性薄膜の上記基材に対する密着性を向
上させるようにしてもよい。また、導電性薄膜を設ける
前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除
塵，清浄化してもよい。
コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸
化などのエツチング処理や下塗り処理を施して、この上
に設けられる導電性薄膜の上記基材に対する密着性を向
上させるようにしてもよい。また、導電性薄膜を設ける
前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除
塵，清浄化してもよい。
この発明においては、このようなフイルム基材の一方
の面に透明な導電性薄膜を形成する。導電性薄膜の形成
方法としては、真空蒸着法、スパツタリング法、イオン
プレーテイング法などの従来公知の技術をいずれも採用
できる。また、用いる薄膜材料も特に制限されるもので
はなく、たとえば酸化スズを含有する酸化インジウム、
アンチモンを含有する酸化スズなどの金属酸化物のほ
か、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニ
ツケル、クロム、チタン、コバルト、スズまたはこれら
の合金などが好ましく用いられる。
の面に透明な導電性薄膜を形成する。導電性薄膜の形成
方法としては、真空蒸着法、スパツタリング法、イオン
プレーテイング法などの従来公知の技術をいずれも採用
できる。また、用いる薄膜材料も特に制限されるもので
はなく、たとえば酸化スズを含有する酸化インジウム、
アンチモンを含有する酸化スズなどの金属酸化物のほ
か、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニ
ツケル、クロム、チタン、コバルト、スズまたはこれら
の合金などが好ましく用いられる。
この導電性薄膜の厚さとしては、50Å以上とすること
が必要で、これより薄いと表面抵抗が103Ω／□以下と
なる良好な導電性を有する連続被膜となりにくい。一
方、あまり厚くしすぎると透明性の低下などをきたすた
め、特に好適な厚さとしては、100〜2,000Å程度とする
のがよい。
が必要で、これより薄いと表面抵抗が103Ω／□以下と
なる良好な導電性を有する連続被膜となりにくい。一
方、あまり厚くしすぎると透明性の低下などをきたすた
め、特に好適な厚さとしては、100〜2,000Å程度とする
のがよい。
なお、この発明においては、上記の如き透明な導電性
薄膜の表面に、MgF2、SiO2、Al2O3、TiO、TiO2、ZrO2な
どの誘電体薄膜層を形成して、可視光線透過率の向上を
図つたり、酸化などによる導電性薄膜の性能劣化を防ぐ
ようにしてもよい。
薄膜の表面に、MgF2、SiO2、Al2O3、TiO、TiO2、ZrO2な
どの誘電体薄膜層を形成して、可視光線透過率の向上を
図つたり、酸化などによる導電性薄膜の性能劣化を防ぐ
ようにしてもよい。
このような透明な導電性薄膜が形成されたフイルム基
材の他方の面には、透明な粘着剤層を介して外表面に防
眩処理層を有する透明基体が貼り合わされる。この貼り
合わせは、透明基体の内表面、つまり透明基体における
防眩処理層を設けた面とは反対側の面に上記の粘着剤層
を設けておき、これに上記のフイルム基材を貼り合わせ
るようにしてもよいし、逆にフイルム基材の方に上記の
粘着剤層を設けておき、これに外表面に防眩処理層を有
する透明基体を貼り合わせるようにしてもよい。後者の
方法は、粘着剤層の形成をフイルム基材をロール状にし
て連続的に行うことができるから、生産性の面でより有
利である。
材の他方の面には、透明な粘着剤層を介して外表面に防
眩処理層を有する透明基体が貼り合わされる。この貼り
合わせは、透明基体の内表面、つまり透明基体における
防眩処理層を設けた面とは反対側の面に上記の粘着剤層
を設けておき、これに上記のフイルム基材を貼り合わせ
るようにしてもよいし、逆にフイルム基材の方に上記の
粘着剤層を設けておき、これに外表面に防眩処理層を有
する透明基体を貼り合わせるようにしてもよい。後者の
方法は、粘着剤層の形成をフイルム基材をロール状にし
て連続的に行うことができるから、生産性の面でより有
利である。
粘着剤層としては、透明性を有するものであれば特に
制限なく使用でき、たとえばアクリル系粘着剤、シリコ
ーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが用いられる。この粘
着剤層は、透明基体の接着後そのクツシヨン効果により
フイルム基材の一方の面に設けられた導電性薄膜の耐擦
傷性および打点特性を向上させる機能を有するものであ
り、主としてこの機能をより良く発揮させる観点から、
その弾性係数を１×105〜１×107dyn／cm2の範囲、厚さ
を１μｍ以上、通常５〜100μｍの範囲に設定するのが
望ましい。
制限なく使用でき、たとえばアクリル系粘着剤、シリコ
ーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが用いられる。この粘
着剤層は、透明基体の接着後そのクツシヨン効果により
フイルム基材の一方の面に設けられた導電性薄膜の耐擦
傷性および打点特性を向上させる機能を有するものであ
り、主としてこの機能をより良く発揮させる観点から、
その弾性係数を１×105〜１×107dyn／cm2の範囲、厚さ
を１μｍ以上、通常５〜100μｍの範囲に設定するのが
望ましい。
上記の弾性係数が１×105dyn／cm2未満となると、粘
着剤層は非弾性となるため、加圧により容易に変形して
フイルム基材ひいては導電性薄膜に凹凸を生じさせ、ま
た加工切断面からの粘着剤のはみ出しなどが生じやすく
なり、そのうえ耐擦傷性および打点特性の向上効果が低
減する。一方、弾性係数が１×107dyn／cm2を超える
と、粘着剤層が硬くなり、そのクツシヨン効果を期待で
きなくなるため、耐擦傷性および打点特性を向上できな
い。
着剤層は非弾性となるため、加圧により容易に変形して
フイルム基材ひいては導電性薄膜に凹凸を生じさせ、ま
た加工切断面からの粘着剤のはみ出しなどが生じやすく
なり、そのうえ耐擦傷性および打点特性の向上効果が低
減する。一方、弾性係数が１×107dyn／cm2を超える
と、粘着剤層が硬くなり、そのクツシヨン効果を期待で
きなくなるため、耐擦傷性および打点特性を向上できな
い。
また、粘着剤層の厚さが１μｍ未満となると、そのク
ツシヨン効果をやはり期待できないため、耐擦傷性およ
び打点特性の向上を望めなくなる。なお、厚くしすぎる
と、透明性を損なつたり、粘着剤層の形成や透明基体の
貼り合わせ作業性さらにコストの面で好結果を得にく
い。
ツシヨン効果をやはり期待できないため、耐擦傷性およ
び打点特性の向上を望めなくなる。なお、厚くしすぎる
と、透明性を損なつたり、粘着剤層の形成や透明基体の
貼り合わせ作業性さらにコストの面で好結果を得にく
い。
このような粘着剤層を介して貼り合わされる透明基体
は、フイルム基材に対して良好な機械的強度を付与し、
特にカールなどの発生防止に寄与するものであり、これ
を貼り合わせたのちにおいても可撓性であることが要求
される場合は、通常６〜300μｍ程度のプラスチツクフ
イルムが、可撓性が特に要求されない場合は、通常0.05
〜10mm程度のガラス板やフイルム状ないし板状のプラス
チツクが、それぞれ用いられる。プラスチツクの材質と
しては、前記したフイルム基材と同様のものが挙げられ
る。
は、フイルム基材に対して良好な機械的強度を付与し、
特にカールなどの発生防止に寄与するものであり、これ
を貼り合わせたのちにおいても可撓性であることが要求
される場合は、通常６〜300μｍ程度のプラスチツクフ
イルムが、可撓性が特に要求されない場合は、通常0.05
〜10mm程度のガラス板やフイルム状ないし板状のプラス
チツクが、それぞれ用いられる。プラスチツクの材質と
しては、前記したフイルム基材と同様のものが挙げられ
る。
この発明において、上記の透明基体の外表面に設けら
れる防眩処理層としては、メラニン系樹脂、ウレタン系
樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹
脂などの硬化型樹脂にシリカ粒子を分散結着させてなる
硬化膜が好ましく用いられる。
れる防眩処理層としては、メラニン系樹脂、ウレタン系
樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹
脂などの硬化型樹脂にシリカ粒子を分散結着させてなる
硬化膜が好ましく用いられる。
この硬化被膜の形成に際しては、まず上述の硬化型樹
脂にシリカ粒子を配合し、必要に応じて帯電防止剤、重
合開始剤などの各種の添加剤を加えてなる組成物を、通
常溶剤で希釈して固型分が約20〜80重量％となる処理剤
を調製する。
脂にシリカ粒子を配合し、必要に応じて帯電防止剤、重
合開始剤などの各種の添加剤を加えてなる組成物を、通
常溶剤で希釈して固型分が約20〜80重量％となる処理剤
を調製する。
ここで用いるシリカ粒子は、非晶質で多孔性のもので
あり、代表例としてシリカゲルを挙げることができる。
平均粒子径としては、通常30μｍ以下、好ましくは２〜
15μｍ程度であるのがよい。また配合割合は、樹脂100
重量部に対してシリカ粒子が0.1〜10重量部となるよう
にするのが好ましい。少なすぎると防眩効果に乏しくな
り、また多くなりすぎると可視光線透過率や被膜強度を
失することになる。
あり、代表例としてシリカゲルを挙げることができる。
平均粒子径としては、通常30μｍ以下、好ましくは２〜
15μｍ程度であるのがよい。また配合割合は、樹脂100
重量部に対してシリカ粒子が0.1〜10重量部となるよう
にするのが好ましい。少なすぎると防眩効果に乏しくな
り、また多くなりすぎると可視光線透過率や被膜強度を
失することになる。
つぎに、上記の処理剤を透明基体の一面に適当な手段
たとえば一般的な溶液塗工手段であるグラビヤコータ、
リバースコータ、スプレーコータ、スロツトオリフイス
コータまたはスクリーン印刷などの手段により、乾燥硬
化後の膜厚が通常５〜30μｍ程度となるように塗布した
のち、加熱乾燥後紫外線照射、電子線照射あるいは加熱
により硬化させる。
たとえば一般的な溶液塗工手段であるグラビヤコータ、
リバースコータ、スプレーコータ、スロツトオリフイス
コータまたはスクリーン印刷などの手段により、乾燥硬
化後の膜厚が通常５〜30μｍ程度となるように塗布した
のち、加熱乾燥後紫外線照射、電子線照射あるいは加熱
により硬化させる。
このようにして得られるシリカ粒子含有の硬化被膜か
らなる防眩処理層は、この処理層を有する透明基体をこ
の処理層が外表面側となるようにフイルム基材に貼り合
わせたとき、このフイルム基材に対して良好な防眩性を
付与し、かつ硬化被膜の硬度が高くて耐スクラツチ性に
すぐれているため、フイルム基材の耐擦傷性の向上にも
大きく寄与することになる。
らなる防眩処理層は、この処理層を有する透明基体をこ
の処理層が外表面側となるようにフイルム基材に貼り合
わせたとき、このフイルム基材に対して良好な防眩性を
付与し、かつ硬化被膜の硬度が高くて耐スクラツチ性に
すぐれているため、フイルム基材の耐擦傷性の向上にも
大きく寄与することになる。
なお、このような防眩処理層の形成に先立つて、被着
面、すなわち透明基体の表面に対し、前処理としてコロ
ナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、スパツタ
エツチング処理、プライマ処理、易接着処理を施しても
よく、これにより透明基体と防眩処理層との密着性を高
めることができる。
面、すなわち透明基体の表面に対し、前処理としてコロ
ナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、スパツタ
エツチング処理、プライマ処理、易接着処理を施しても
よく、これにより透明基体と防眩処理層との密着性を高
めることができる。
以上のように、この発明においては、フイルム基材と
して特定厚みのものを用いて、その一方の面に透明な導
電性薄膜を形成する一方、他方の面に透明な粘着剤層を
介して外表面に防眩処理層を有する透明基体を貼り合わ
せる構成としたことにより、上記粘着剤層のクツシヨン
効果に基づいて耐擦傷性および打点特性にすぐれるうえ
に、上記防眩処理層によつて視認性の改良された透明導
電性積層体を提供できるという格別の効果が奏し得られ
るものである。
して特定厚みのものを用いて、その一方の面に透明な導
電性薄膜を形成する一方、他方の面に透明な粘着剤層を
介して外表面に防眩処理層を有する透明基体を貼り合わ
せる構成としたことにより、上記粘着剤層のクツシヨン
効果に基づいて耐擦傷性および打点特性にすぐれるうえ
に、上記防眩処理層によつて視認性の改良された透明導
電性積層体を提供できるという格別の効果が奏し得られ
るものである。
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説
明する。
明する。
実施例１ 厚さが12μｍの透明なPET（ポリエチレンテレフタレ
ート）フイルムからなるフイルム基材の一方の面に、ア
ルゴンガス80％と酸素ガス20％とからなる４×10-3Torr
の雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性ス
パツタリング法により、厚さ400Åの酸化インジウムと
酸化スズとの複合酸化物からなる透明な導電性薄膜（以
下、ITO薄膜という）を形成した。
ート）フイルムからなるフイルム基材の一方の面に、ア
ルゴンガス80％と酸素ガス20％とからなる４×10-3Torr
の雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性ス
パツタリング法により、厚さ400Åの酸化インジウムと
酸化スズとの複合酸化物からなる透明な導電性薄膜（以
下、ITO薄膜という）を形成した。
つぎに、上記PETフイルムの他方の面に、弾性係数が
１×106dyn／cm2に調製されたアクリル系の透明な粘着
剤層（アクリル酸ブチルとアクリル酸と酢酸ビニルとの
重量比100:2:5のアクリル系共重合体100重量部にイソシ
アネート系架橋剤を１重量部配合させてなるもの）を約
20μｍの厚さに形成して、導電処理フイルムとした。
１×106dyn／cm2に調製されたアクリル系の透明な粘着
剤層（アクリル酸ブチルとアクリル酸と酢酸ビニルとの
重量比100:2:5のアクリル系共重合体100重量部にイソシ
アネート系架橋剤を１重量部配合させてなるもの）を約
20μｍの厚さに形成して、導電処理フイルムとした。
一方、防眩処理フイルムとして、日東電工株式会社製
のアンチグレアシートAG-30（厚さ50μｍのポリエステ
ルフイルムからなる透明基体の一面に、アクリル樹脂中
にシリカ粒子を分散結着させた厚さ７μｍの硬化被膜か
らなる防眩処理層が形成されてなる処理フイルム）を使
用し、このフイルムの防眩処理層とは反対側の面を上記
の導電処理フイルムにその透明な粘着剤層を介して貼り
合わせて、図面に示す構造のこの発明の透明導電性積層
フイルムを作製した。
のアンチグレアシートAG-30（厚さ50μｍのポリエステ
ルフイルムからなる透明基体の一面に、アクリル樹脂中
にシリカ粒子を分散結着させた厚さ７μｍの硬化被膜か
らなる防眩処理層が形成されてなる処理フイルム）を使
用し、このフイルムの防眩処理層とは反対側の面を上記
の導電処理フイルムにその透明な粘着剤層を介して貼り
合わせて、図面に示す構造のこの発明の透明導電性積層
フイルムを作製した。
なお、図中、１は厚さが12μｍのPETフイルムからな
る透明なフイルム基材、２はITO薄膜からなる透明な導
電性薄膜、３はアクリル系の透明な粘着剤層、４は厚さ
が50μｍのPETフイルムからなる透明基体、５は防眩処
理層である。
る透明なフイルム基材、２はITO薄膜からなる透明な導
電性薄膜、３はアクリル系の透明な粘着剤層、４は厚さ
が50μｍのPETフイルムからなる透明基体、５は防眩処
理層である。
実施例２〜４ フイルム基材として、厚さが25μｍの透明なPES（ポ
リエーテルサルフオン）フイルム（実施例２）、厚さが
12.5μｍの透明なPI（ポリイミド）フイルム（実施例
３）、厚さが80μｍの透明なPC（ポリカーボネート）フ
イルム（実施例４）を、それぞれ使用した以外は、実施
例１と同様にして図面に示す構造のこの発明の３種の透
明導電性積層フイルムを作製した。
リエーテルサルフオン）フイルム（実施例２）、厚さが
12.5μｍの透明なPI（ポリイミド）フイルム（実施例
３）、厚さが80μｍの透明なPC（ポリカーボネート）フ
イルム（実施例４）を、それぞれ使用した以外は、実施
例１と同様にして図面に示す構造のこの発明の３種の透
明導電性積層フイルムを作製した。
実施例５ 12μｍ厚の透明なPETフイルムからなるフイルム基材
の一方の面に、（１〜２）×10-4Torrの雰囲気中で、Ag
を真空蒸着法により、厚さ120Åに形成して、透明な導
電性薄膜とし、以下実施例１と全く同様にして図面に示
す構造のこの発明の透明導電性積層フイルムを作製し
た。
の一方の面に、（１〜２）×10-4Torrの雰囲気中で、Ag
を真空蒸着法により、厚さ120Åに形成して、透明な導
電性薄膜とし、以下実施例１と全く同様にして図面に示
す構造のこの発明の透明導電性積層フイルムを作製し
た。
比較例１ 粘着剤層の形成と防眩処理層を有する透明基体の貼り
合わせを行わなかつた以外は、実施例１と同様にして透
明導電性フイルムを作製した。
合わせを行わなかつた以外は、実施例１と同様にして透
明導電性フイルムを作製した。
比較例２ 透明基体として、防眩処理層を有さない厚さ50μｍの
PETフイルムを用いた以外は、実施例１と同様にして透
明導電性積層フイルムを作製した。
PETフイルムを用いた以外は、実施例１と同様にして透
明導電性積層フイルムを作製した。
比較例３ フイルム基材として、厚さが125μｍのPETフイルムを
使用した以外は、実施例１と同様にして透明導電性積層
フイルムを作製した。
使用した以外は、実施例１と同様にして透明導電性積層
フイルムを作製した。
つぎに、上記の実施例１〜５および比較例2,3で作製
した各透明導電性積層フイルム並びに比較例１で作製し
た透明導電性フイルムにつき、その表面抵抗、光線透過
率、耐擦傷性、打点特性および視認性を、下記の要領で
調べた。その結果は後記の表に示されるとおりであつ
た。
した各透明導電性積層フイルム並びに比較例１で作製し
た透明導電性フイルムにつき、その表面抵抗、光線透過
率、耐擦傷性、打点特性および視認性を、下記の要領で
調べた。その結果は後記の表に示されるとおりであつ
た。
〈表面抵抗〉 四端子法にてフイルム抵抗を測定した。
〈光線透過率〉 島津製作所製の分光分析装置UV-240を用いて、光波長
550nmにおける可視光線透過率を測定した。
550nmにおける可視光線透過率を測定した。
〈耐擦傷性〉 新東科学社製のヘイドン表面性測定機TYPE-HEIDON14
を用いて、擦傷子：ガーゼ（日本薬局方タイプＩ）、
荷重:100g/cm2、擦傷速度:30cm/分、擦傷回数:10
0回（往復50回）の条件で、導電性薄膜表面を擦つたの
ちにフイルム抵抗（Rs）を測定し、初期のフイルム抵抗
（Ro）に対する変化率（Rs/Ro）を求めて、耐擦傷性を
評価した。
を用いて、擦傷子：ガーゼ（日本薬局方タイプＩ）、
荷重:100g/cm2、擦傷速度:30cm/分、擦傷回数:10
0回（往復50回）の条件で、導電性薄膜表面を擦つたの
ちにフイルム抵抗（Rs）を測定し、初期のフイルム抵抗
（Ro）に対する変化率（Rs/Ro）を求めて、耐擦傷性を
評価した。
〈打点特性〉 ２枚の透明導電性積層フイルム（または透明導電性フ
イルム）を厚さ100μｍのスペーサを介して導電性薄膜
同志が向かい合うように対向配置し、一方のフイルム
（の防眩処理層を有する透明基体またはフイルム基材）
側より、硬度40度のウレタンゴムからなるロツド（鍵先
7R）を用いて荷重100gで100万回のセンター打点を行つ
たのち、フイルム抵抗（Rd）を測定し、初期のフイルム
抵抗（Ro）に対する変化率（Rd/Ro）を求めて、打点特
性を評価した。なお、フイルム抵抗の測定は、上記対向
配置した２枚の透明導電性積層フイルム（または透明導
電性フイルム）の打点時の接触抵抗について行つたもの
である。
イルム）を厚さ100μｍのスペーサを介して導電性薄膜
同志が向かい合うように対向配置し、一方のフイルム
（の防眩処理層を有する透明基体またはフイルム基材）
側より、硬度40度のウレタンゴムからなるロツド（鍵先
7R）を用いて荷重100gで100万回のセンター打点を行つ
たのち、フイルム抵抗（Rd）を測定し、初期のフイルム
抵抗（Ro）に対する変化率（Rd/Ro）を求めて、打点特
性を評価した。なお、フイルム抵抗の測定は、上記対向
配置した２枚の透明導電性積層フイルム（または透明導
電性フイルム）の打点時の接触抵抗について行つたもの
である。
〈視認性〉 スガ試験機社製の変角光度計UGV-5Dを用いて、透明導
電性積層フイルム（または透明導電性フイルム）におけ
る導電性薄膜表面とは反対側の面について、60度光沢度
を測定するとともに、同面をスチールウール＃0000でこ
する擦傷試験を行い、その表面状況の変化を目視観察し
て、つぎの三段階の評価を行つた。
電性積層フイルム（または透明導電性フイルム）におけ
る導電性薄膜表面とは反対側の面について、60度光沢度
を測定するとともに、同面をスチールウール＃0000でこ
する擦傷試験を行い、その表面状況の変化を目視観察し
て、つぎの三段階の評価を行つた。
Ａ……強くこすつてもほとんど傷がつかない Ｂ……強くこすると傷がつく Ｃ……軽くこするだけで傷がつく 上記表の結果から明らかなように、この発明の透明導
電性積層フイルムは、高い光線透過率とフイルム裏面の
低擦傷性およびすぐれた防眩性（60度光沢度）によつて
良好な視認性が得られており、そのうえ導電性薄膜表面
の耐擦傷性および打点特性にも非常にすぐれたものであ
ることがわかる。
電性積層フイルムは、高い光線透過率とフイルム裏面の
低擦傷性およびすぐれた防眩性（60度光沢度）によつて
良好な視認性が得られており、そのうえ導電性薄膜表面
の耐擦傷性および打点特性にも非常にすぐれたものであ
ることがわかる。
図面はこの発明の透明導電性積層体の一例を示す断面図
である。 １……透明なフイルム基材、２……透明な導電性薄膜、
３……透明な粘着剤層、４……透明基体、５……防眩処
理層
である。 １……透明なフイルム基材、２……透明な導電性薄膜、
３……透明な粘着剤層、４……透明基体、５……防眩処
理層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−104764（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−145630（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−177338（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−145630（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−84020（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】厚さが２〜120μｍの透明なフイルム基材
の一方の面に膜厚が50Å以上の透明な導電性薄膜を形成
し、他方の面に弾性係数が１×105〜１×107dyn／cm2、
厚みが１μｍ以上である透明な粘着剤層を介して外表面
に防眩処理層を有する透明基体を貼り合わせてなる透明
導電性積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24723488A JP2829003B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 透明導電性積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24723488A JP2829003B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 透明導電性積層体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0294322A JPH0294322A (ja) | 1990-04-05 |
| JP2829003B2 true JP2829003B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=17160450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24723488A Expired - Lifetime JP2829003B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 透明導電性積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2829003B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7732060B2 (en) | 2000-03-31 | 2010-06-08 | Nitto Denko Corporation | Sheet for treating gaseous ingredient and electroluminescent element employing the same |
| JP2002245858A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-30 | Hs Planning:Kk | 透明導電性積層体 |
| KR100578781B1 (ko) * | 2001-07-16 | 2006-05-12 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 기체 성분 처리 시트 및 이것을 사용한 일렉트로루미네선스 소자 |
| CN114550980A (zh) * | 2022-03-08 | 2022-05-27 | 苏州兴派丽智能科技有限公司 | 一种导电膜、其制备方法以及显示装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59104764A (ja) * | 1982-12-03 | 1984-06-16 | Canon Inc | 液晶表示キ−ボ−ド |
| JPH0415476Y2 (ja) * | 1985-02-28 | 1992-04-07 | ||
| JPS61177338U (ja) * | 1985-04-19 | 1986-11-05 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP24723488A patent/JP2829003B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0294322A (ja) | 1990-04-05 |
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