JP2825843B2 - Optical fiber - Google Patents

Optical fiber

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JP2825843B2
JP2825843B2 JP1104013A JP10401389A JP2825843B2 JP 2825843 B2 JP2825843 B2 JP 2825843B2 JP 1104013 A JP1104013 A JP 1104013A JP 10401389 A JP10401389 A JP 10401389A JP 2825843 B2 JP2825843 B2 JP 2825843B2
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圭二 大崎
穀 下道
真治 荒木
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10Coating
    • C03C25/104Coating to obtain optical fibres
    • C03C25/106Single coatings
    • C03C25/1061Inorganic coatings
    • C03C25/1062Carbon

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、炭素被膜を有する光ファイバに関し、炭
素被膜の電気抵抗値を特定することにより、光ファイバ
の機械的強度と耐水素特性とを向上せしめたものであ
る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical fiber having a carbon coating, and specifies the electrical resistance of the carbon coating to improve the mechanical strength and hydrogen resistance of the optical fiber. It has been improved.

[従来技術とその課題] 石英系光ファイバは、水素と接触するとファイバ内に
拡散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大
し、さらにドーパントとして含有されているP2O5,Ge
O2,B2O3などが水素と反応しOH基としてファイバガラス
中に取り込まれるため、OH基の吸収による伝送損失も増
大してしまう問題があった。
[Prior art and its problems] When a silica-based optical fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases, and further, P 2 O 5 , Ge contained as a dopant is contained.
Since O 2 , B 2 O 3, etc. react with hydrogen and are taken into the fiber glass as OH groups, there is a problem that transmission loss due to absorption of OH groups increases.

このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する
液状の組成物を光ケーブル内に充填する方法(特願昭61
−251808号)などが考えられているが、その効果が不十
分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問題があ
る。
To cope with such adverse effects, a method of filling a liquid composition having a hydrogen absorbing ability into an optical cable (Japanese Patent Application No.
No. 251808) is considered, but the effect is insufficient, and the structure becomes complicated, which is economically problematic.

このような問題を解決するため、最近化学気相成長法
(以下、CVD法と略称する)によって光ファイバ表面に
炭素被膜を形成し、これによって光ファイバの耐水素性
を向上させうることが発表されている。
In order to solve such problems, it has recently been announced that a carbon film can be formed on the surface of an optical fiber by a chemical vapor deposition method (hereinafter abbreviated as a CVD method), thereby improving the hydrogen resistance of the optical fiber. ing.

ところがこのような炭素被膜は必ずしも実用に適した
ものばかりではなく、耐水素特性と機械的強度とにばら
つきがあるという不都合があった。
However, such a carbon coating is not always suitable for practical use, and has a disadvantage that the hydrogen resistance and the mechanical strength vary.

この発明は上記課題を解決するためになされたもので
あって、石英ガラス系光ファイバ裸線上に炭化水素また
はハロゲン化炭化水素の熱分解によって得られた炭素被
膜の電気抵抗値を特定することにより、充分な耐水素特
性と機械的強度とを示す光ファイバを提供することを目
的としている。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problem, and specifies the electric resistance value of a carbon coating obtained by pyrolysis of a hydrocarbon or a halogenated hydrocarbon on a bare silica glass optical fiber. It is an object of the present invention to provide an optical fiber exhibiting sufficient hydrogen resistance and mechanical strength.

[課題を解決するための手段] この発明の光ファイバは、石英ガラス系光ファイバ裸
線上に炭化水素またはハロゲン化炭化水素の熱分解によ
って得られた炭素被膜の電気抵抗値を5kΩ/cm以上20kΩ
/cm未満としたものである。
[Means for Solving the Problems] The optical fiber of the present invention has a carbon coating obtained by pyrolysis of a hydrocarbon or a halogenated hydrocarbon on a bare silica glass optical fiber, and has an electric resistance of 5 kΩ / cm or more and 20 kΩ or more.
/ cm or less.

[作用] 炭素被膜の電気抵抗値が小さくなるに従って、光ファ
イバの耐水素特性は向上することが判明した。一方、炭
素被膜の電気抵抗値が大きくなるに従って、光ファイバ
の機械的強度も向上することが判明した。
[Action] It has been found that as the electrical resistance value of the carbon coating decreases, the hydrogen resistance of the optical fiber improves. On the other hand, it was found that the mechanical strength of the optical fiber also improved as the electrical resistance of the carbon coating increased.

よって、炭素被膜の電気抵抗値を一定に保つことによ
り、耐水素特性と機械的強度とを兼ね備えた光ファイバ
とすることができる。
Therefore, by keeping the electrical resistance of the carbon coating constant, an optical fiber having both hydrogen resistance and mechanical strength can be obtained.

以下、この発明を詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

第1図はこの発明の光ファイバの一例を示すもので、
図中符号1は光ファイバ裸線である。この光ファイバ裸
線1は石英系ガラス、多成分系ガラスなどのガラスから
なるものである。この光ファイバ裸線1上には炭素被膜
2が設けられている。この炭素被膜2上にはさらに必要
に応じて樹脂被膜3が設けられている。
FIG. 1 shows an example of the optical fiber of the present invention.
In the figure, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is made of glass such as quartz-based glass and multi-component glass. A carbon coating 2 is provided on the bare optical fiber 1. A resin coating 3 is further provided on the carbon coating 2 as needed.

炭素被膜2は炭化水素またはハロゲン化炭化水素を得
られたものなどであり、その電気抵抗値が5kΩ/cm以上2
0kΩ/cm未満となるものである。炭素被膜2の電気抵抗
値が小さくするにつれて、光ファイバの耐水素特性は向
上する一方で機械的強度は低下するので、炭素被膜2の
電気抵抗値を一定範囲に限定することにより、機械的強
度と耐水素特性とに優れた光ファイバとすることができ
る。そして後に実施例にて詳細に説明するように、炭素
被膜2の電気抵抗値が5kΩ/cm以上20kΩ/cm未満のもの
が耐水素特性に優れることが判明した。電気抵抗値が20
kΩ/cm以上となると、機械的強度は充分であるものの、
耐水素特性が低下するので好ましくない。また電気抵抗
値が5kΩ/cm未満であると、耐水素特性は充分であるも
のの、機械的強度が低下するので好ましくない。よって
炭素被膜2が耐水素特性と機械的強度とを兼ね備えるよ
うにするには、その電気抵抗値が5kΩ/cm以上20kΩ/cm
未満となるようにすることが必要である。
The carbon coating 2 is obtained by obtaining a hydrocarbon or a halogenated hydrocarbon and has an electric resistance of 5 kΩ / cm or more.
It is less than 0 kΩ / cm. As the electrical resistance of the carbon coating 2 decreases, the hydrogen resistance of the optical fiber improves, while the mechanical strength decreases. Therefore, by limiting the electrical resistance of the carbon coating 2 to a certain range, the mechanical strength is reduced. And an optical fiber having excellent hydrogen resistance. As will be described later in detail in Examples, it was found that the carbon coating 2 having an electric resistance value of 5 kΩ / cm or more and less than 20 kΩ / cm had excellent hydrogen resistance. Electric resistance value is 20
When it is more than kΩ / cm, although the mechanical strength is sufficient,
It is not preferable because the hydrogen resistance is reduced. On the other hand, if the electric resistance is less than 5 kΩ / cm, the hydrogen resistance is sufficient, but the mechanical strength is undesirably reduced. Therefore, in order for the carbon coating 2 to have both the hydrogen resistance property and the mechanical strength, its electric resistance value should be 5 kΩ / cm or more and 20 kΩ / cm.
It is necessary to be less than.

炭素被膜2の電気抵抗値を測定するには、たとえば四
端子法などの通常電気抵抗値測定方法を用いることがで
きる。
In order to measure the electric resistance of the carbon coating 2, a normal electric resistance measuring method such as a four-terminal method can be used.

また光ファイバ裸線1表面にこのような炭素被膜2を
形成する方法としては、炭化水素またはハロゲン化炭化
水素を熱分解してラジカルまたはイオンとし、これを炭
素被膜2として析出させる熱CVD法などを用いることが
できる。第2図はこの熱CVD法に好適に用いられる光フ
ァイバの製造装置の一例を示したものである。
Examples of a method for forming such a carbon coating 2 on the surface of the bare optical fiber 1 include a thermal CVD method in which hydrocarbons or halogenated hydrocarbons are thermally decomposed into radicals or ions, and the radicals or ions are deposited as the carbon coating 2. Can be used. FIG. 2 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used for the thermal CVD method.

第2図中、符号1は光ファイバ裸線である。光ファイ
バ裸線1は、光ファイバ母材(図示せず)を光ファイバ
紡糸炉4内で加熱紡糸したもので、光ファイバ裸線1は
紡糸されると共に、光ファイバ紡糸炉4の下段に設けら
れた加熱炉5内へ供給されるようになっている。この加
熱炉5は、上段の光ファイバ紡糸炉4内で紡糸された光
ファイバ裸線1表面に炭素被膜2を熱CVD法によって形
成するためのものであって、その内部にてCVD反応を進
行させる概略円筒状の反応管6と、この反応管6を加熱
する発熱体7とから構成されている。この反応管6の上
部には、反応管6内へ原料化合物を供給する原料化合物
供給管6aが、下部には未反応ガス等を排気する排気管6b
が、それぞれ取り付けられている。反応管6と、これを
加熱する発熱体7とは、加熱温度等によって適宜選択す
ることができ、抵抗加熱炉、誘導加熱炉、赤外線加熱炉
等を用いることができるほか、発熱体7には高周波また
はマイクロ波を用いてプラズマを発生させて原料化合物
をイオン分解させるようなものを用いることもできる。
またまこの加熱炉5の下段には、樹脂液塗布装置8と硬
化装置9とが連続して設けられており、上記加熱炉5内
で光ファイバ裸線1表面に形成された炭素被膜2上に樹
脂被膜3が形成できるようになっている。
In FIG. 2, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is obtained by heating and spinning an optical fiber preform (not shown) in an optical fiber spinning furnace 4. The bare optical fiber 1 is spun and provided at a lower stage of the optical fiber spinning furnace 4. The heating furnace 5 is supplied. The heating furnace 5 is for forming a carbon coating 2 on the surface of the bare optical fiber 1 spun in the upper optical fiber spinning furnace 4 by a thermal CVD method, in which a CVD reaction proceeds. It comprises a substantially cylindrical reaction tube 6 to be heated and a heating element 7 for heating the reaction tube 6. A source compound supply pipe 6a for supplying a source compound into the reaction tube 6 is provided at an upper portion of the reaction tube 6, and an exhaust pipe 6b for exhausting unreacted gas and the like is provided at a lower portion.
Are attached respectively. The reaction tube 6 and the heating element 7 for heating the reaction tube 6 can be appropriately selected depending on the heating temperature and the like, and a resistance heating furnace, an induction heating furnace, an infrared heating furnace, or the like can be used. It is also possible to use one that generates plasma using high frequency or microwaves to ion-decompose the raw material compound.
In addition, a resin liquid application device 8 and a curing device 9 are provided continuously below the heating furnace 5, and the carbon coating 2 formed on the surface of the bare optical fiber 1 in the heating furnace 5 is provided. The resin film 3 can be formed on the substrate.

上記装置を用いて光ファイバ裸線1表面に炭素被膜2
と樹脂被膜3とを形成するには、以下の工程による。
Using the above apparatus, a carbon coating 2 is applied to the surface of the bare optical fiber 1.
And the resin film 3 are formed by the following steps.

光ファイバ母材を光ファイバ紡糸炉4内で加熱紡糸す
ると共に、光ファイバ紡糸炉4の下段に設けられた加熱
炉5、樹脂液塗布装置8、硬化装置9内へ挿通し、これ
らの中心軸上を所定の線速で走行するように供給する。
ついで発熱体7を発熱させて反応管6内を所定温度に加
熱すると共に、原料化合物供給管6aより原料化合物を反
応管6内へ供給する。この原料化合物としては、炭化水
素またはハロゲン化炭化水素が用いられ、熱分解によっ
て炭素被膜を析出するものを用いることができる。また
この原料化合物はガス状態にして反応管6内へ供給する
ほか、不活性ガス等によって希釈して供給することがで
きる。
The optical fiber preform is heated and spun in the optical fiber spinning furnace 4, and inserted into a heating furnace 5, a resin liquid coating device 8, and a curing device 9 provided at a lower stage of the optical fiber spinning furnace 4. It is supplied so as to travel at a predetermined linear speed on the upper side.
Then, the heating element 7 is heated to heat the inside of the reaction tube 6 to a predetermined temperature, and the raw material compound is supplied into the reaction tube 6 from the raw material supply tube 6a. As the raw material compound, a hydrocarbon or a halogenated hydrocarbon is used, and a compound that precipitates a carbon film by thermal decomposition can be used. In addition, this raw material compound can be supplied in the form of a gas in the reaction tube 6, or diluted with an inert gas or the like.

反応管6内で原料化合物を熱分解させて、ラジカルあ
るいはイオンとし、これを光ファイバ裸線表面に析出さ
せることにより、炭素被膜を形成することができる。
The raw material compound is thermally decomposed in the reaction tube 6 to form radicals or ions, which are deposited on the bare optical fiber surface, whereby a carbon coating can be formed.

このようにして、その表面に炭素被膜2が形成された
光ファイバを、下段に設けられた樹脂液塗布装置8内へ
導入し、ついで樹脂液を硬化させる硬化装置9内へ挿通
する。樹脂液塗布装置8内へ挿通された光ファイバ裸線
1に、保護被覆層を形成するための紫外線硬化型樹脂液
あるいは熱硬化型樹脂液等を塗布し、ついで塗布された
樹脂液に好適な硬化条件を有する硬化装置9内で硬化し
て樹脂被膜3を形成する。
Thus, the optical fiber having the carbon coating 2 formed on its surface is introduced into the resin liquid coating device 8 provided at the lower stage, and then inserted into the curing device 9 for curing the resin liquid. An ultraviolet-curable resin liquid or a thermosetting resin liquid for forming a protective coating layer is applied to the bare optical fiber 1 inserted into the resin liquid coating device 8, and then suitable for the applied resin liquid. The resin film 3 is formed by curing in a curing device 9 having curing conditions.

なお、光ファイバ裸線1表面に炭素被膜2を被覆する
には、上記のように熱CVD法を用いる他にも、プラズマC
VD法等により炭化水素またはハロゲン化炭化水素を分解
し、ラジカルまたはイオンとし、炭素被膜2として堆積
させる方法を用いることができる。
In order to coat the surface of the bare optical fiber 1 with the carbon coating 2, besides using the thermal CVD method as described above, the plasma C
A method in which hydrocarbons or halogenated hydrocarbons are decomposed by VD or the like to form radicals or ions and deposited as the carbon coating 2 can be used.

以下、炭素被膜2の電気抵抗値の適正範囲を限定する
ための実施例について述べる。
Hereinafter, an example for limiting the appropriate range of the electric resistance value of the carbon coating 2 will be described.

[実施例] 炭素被膜の電気抵抗値の適正範囲を限定するために光
ファイバ裸線表面に種々の条件にて炭素被膜を形成し、
得られた光ファイバの電気抵抗値と、耐水素特性および
機械的強度との関係を調べた。
[Examples] In order to limit the appropriate range of the electric resistance value of the carbon coating, a carbon coating was formed on the bare optical fiber surface under various conditions,
The relationship between the electrical resistance value of the obtained optical fiber, the hydrogen resistance, and the mechanical strength was examined.

(実施例1) 第2図に示したと同様の光ファイバの製造装置を用意
し、この製造装置内に石英ガラスにGeO2をドープしてな
るコア部と石英ガラスからなるクラッド部とを有する外
径30mmの光ファイバ母材を設置した。この光ファイバ母
材を2000℃に加熱して、30m/分の紡糸速度で外径125μ
mの単一モードファイバに紡糸した。次に反応管内を12
00℃に加熱しつつ、炭素被膜を形成する原料化合物とし
て約5vol%にアルゴンガスで希釈した1,1,1トリクロロ
エタンガスを約5l/分の流量で供給し、排気口より排気
圧−4mmH2Oで排気し、未反応ガスおよび副生成物を除去
しつつ、光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成した。
Example 1 An apparatus for manufacturing an optical fiber similar to that shown in FIG. 2 was prepared, and an external device having a core portion made of quartz glass doped with GeO 2 and a clad portion made of quartz glass was prepared in this manufacturing device. An optical fiber preform having a diameter of 30 mm was installed. This optical fiber preform is heated to 2000 ° C and the outer diameter is 125μ at a spinning speed of 30m / min.
m of single mode fiber. Next, 12
While heating to 00 ° C., a 1,1,1 trichloroethane gas diluted with argon gas to about 5 vol% as a raw material compound for forming a carbon film is supplied at a flow rate of about 5 l / min, and an exhaust pressure of −4 mmH 2 is supplied from an exhaust port. The carbon fiber was formed on the bare optical fiber surface while evacuating with O to remove unreacted gas and by-products.

さらに紫外線硬化型樹脂コート用ダイスポット内にウ
レタンアクリレート樹脂液(ヤング率70kg/mm2、伸び60
%)を封入し、上記光ファイバ表面に樹脂液を塗布した
後、紫外線ランプにより樹脂液を硬化させ、外径が約25
0μmの光ファイバを1km得た。
In addition, a urethane acrylate resin liquid (Young's modulus 70 kg / mm 2 , elongation 60
%) And applying a resin liquid to the surface of the optical fiber, and then curing the resin liquid with an ultraviolet lamp to obtain an outer diameter of about 25%.
An optical fiber of 0 μm was obtained for 1 km.

このようにして得られた光ファイバの紡糸開始端およ
び終了端から1mずつ試料として採取し、これら試料ファ
イバの樹脂被膜を除去した後、デジタルマルチメータに
て炭素被膜の電気抵抗値を測定したところ、いずれの試
料ファイバも10kΩ/cmであった。
The optical fiber obtained in this manner was sampled as 1 m samples from the spinning start and end ends, and after removing the resin coating of these sample fibers, the electrical resistance of the carbon coating was measured using a digital multimeter. Each sample fiber had a value of 10 kΩ / cm.

(実施例2) 原料化合物をベンゼンとした以外は実施例1と全く同
様にして光ファイバを製造した。
(Example 2) An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that benzene was used as the raw material compound.

そして実施例1と全く同様にして炭素被膜の電気抵抗
値を測定したところ、開始端、終了端共に、18kΩ/cmで
あった。
The electrical resistance of the carbon coating was measured in exactly the same manner as in Example 1, and was found to be 18 kΩ / cm at both the start and end.

(実施例3) 原料化合物としてエタンを用い、反応管内の温度を13
00℃とした以外は実施例1と全く同様にして光ファイバ
を製造した。
(Example 3) Ethane was used as a raw material compound, and the temperature in the reaction tube was adjusted to 13
An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to 00 ° C.

そして実施例1と全く同様にして炭素被膜の電気抵抗
値を測定したところ、開始端、終了端共に、7kΩ/cmで
あった。
The electrical resistance of the carbon film was measured in exactly the same manner as in Example 1, and was found to be 7 kΩ / cm at both the start and end.

(実施例4) 紡糸速度を50m/分とした以外は実施例1と全く同様に
して光ファイバを製造した。
(Example 4) An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that the spinning speed was changed to 50 m / min.

そして実施例1と全く同様にして炭素被膜の電気抵抗
値を測定したところ、開始端、終了端共に、18kΩ/cmで
あった。
The electrical resistance of the carbon coating was measured in exactly the same manner as in Example 1, and was found to be 18 kΩ / cm at both the start and end.

(比較例1) 紡糸速度を60m/分とし、かつ反応管内の温度を1100℃
とした以外は実施例1と全く同様にして光ファイバを製
造した。
(Comparative Example 1) The spinning speed was 60 m / min, and the temperature in the reaction tube was 1100 ° C.
An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that the above conditions were satisfied.

そして実施例1と全く同様にして炭素被膜の電気抵抗
値を測定したところ、開始端、終了端共に、22kΩ/cmで
あった。
When the electrical resistance of the carbon coating was measured in exactly the same manner as in Example 1, it was 22 kΩ / cm at both the start end and the end end.

(比較例2) 原料化合物をジクロロメタンとし、反応管内の温度を
1100℃とした以外は実施例1と全く同様にして光ファイ
バを製造した。
(Comparative Example 2) The raw material compound was dichloromethane, and the temperature in the reaction tube was
An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to 1100 ° C.

そして実施例1と全く同様にして炭素被膜の電気抵抗
値を測定したところ、開始端、終了端共に、30kΩ/cmで
あった。
When the electrical resistance of the carbon coating was measured in exactly the same manner as in Example 1, it was 30 kΩ / cm at both the start end and the end end.

(比較例3) 紡糸速度を10m/分とし、かつ反応管内の温度を1300℃
とした以外は実施例1と全く同様にして光ファイバを製
造した。
(Comparative Example 3) The spinning speed was 10 m / min, and the temperature in the reaction tube was 1300 ° C.
An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Example 1 except that the above conditions were satisfied.

そして実施例1と全く同様にして炭素被膜の電気抵抗
値を測定したところ、開始端、終了端共に、3kΩ/cmで
あった。
The electrical resistance of the carbon coating was measured in exactly the same manner as in Example 1, and was found to be 3 kΩ / cm at both the start and end.

(試験例1) 上記実施例1ないし4、および比較例1ないし3で得
られた各光ファイバを700m採取し、これら試料ファイバ
の波長1.24μmにおける光伝送損失を測定した。その
後、これら各試料ファイバを水素分圧1atm、温度80℃の
水素加圧容器内に100時間放置した後、再度波長1.24μ
mにおける光伝送損失を測定し、その伝送損失の増加量
を測定した。
Test Example 1 Each of the optical fibers obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was sampled at a length of 700 m, and the optical transmission loss of the sample fibers at a wavelength of 1.24 μm was measured. Then, after leaving each of these sample fibers in a hydrogen pressurized vessel at a hydrogen partial pressure of 1 atm and a temperature of 80 ° C. for 100 hours, the wavelength was again 1.24 μm.
The optical transmission loss at m was measured, and the increase in the transmission loss was measured.

この結果を第1表に示した。 The results are shown in Table 1.

(試験例2) 実施例1ないし4、および比較例1ないし3で得られ
た各光ファイバを、試験本数20本、ゲージ長さ3m、歪速
度30cm/分の条件下で引っ張り破断確率と引っ張り強度
のワイブルプロットを行い、50%破断確率での引っ張り
強度を測定した。この結果を第1表に併せて示した。
(Test Example 2) Each of the optical fibers obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was tested with a test number of 20, a gauge length of 3 m, and a strain rate of 30 cm / min. A Weibull plot of the strength was performed, and the tensile strength at a 50% probability of breaking was measured. The results are shown in Table 1.

また種々条件を変えて光ファイバ裸線表面に炭素被膜
を形成し、この炭素被膜の電気抵抗値とその耐水素特性
との関係をプロットし、第3図にグラフとして、上記実
施例1ないし4および比較例1ないし3の結果と共に示
した。
Further, a carbon coating was formed on the surface of the bare optical fiber under various conditions, and the relationship between the electric resistance of the carbon coating and its hydrogen resistance was plotted. The results are shown together with the results of Comparative Examples 1 to 3.

さらに第4図に炭素被膜の電気抵抗値と光ファイバの
機械的強度との関係をグラフとして示した。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the electrical resistance of the carbon coating and the mechanical strength of the optical fiber.

第1表および第3図より、電気抵抗値が20kΩ/cm未満
の炭素被膜を有する光ファイバは伝送損失増加量が少な
く、耐水素特性に優れていることが確認できた。
From Table 1 and FIG. 3, it was confirmed that the optical fiber having the carbon coating having an electric resistance value of less than 20 kΩ / cm had a small increase in transmission loss and was excellent in hydrogen resistance.

また第1表および第4図より、電気抵抗値が5kΩ/cm
以上の炭素被膜を有する光ファイバは破断強度が高く、
機械的強度が高いことが確認できた。
From Table 1 and FIG. 4, the electric resistance value is 5 kΩ / cm.
An optical fiber having the above carbon coating has a high breaking strength,
It was confirmed that the mechanical strength was high.

これらの結果から電気抵抗値が5kΩ/cm以上20kΩ/cm
未満の炭素被膜を有してなる光ファイバは、耐水素特性
と機械的強度とに優れることが確認できた。
From these results, the electric resistance value is 5 kΩ / cm or more and 20 kΩ / cm
It was confirmed that an optical fiber having a carbon coating of less than 30% was excellent in hydrogen resistance and mechanical strength.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明の光ファイバは、石英
ガラス系光ファイバ裸線上に炭化水素またはハロゲン化
炭化水素を熱分解して得られた炭素被膜を設け、この炭
素被膜の電気抵抗値を5kΩ/cm以上20kΩ/cm未満とした
ものであるので実用に十分な耐水素特性と機械的強度と
を示すものとなる。
[Effects of the Invention] As described above, the optical fiber of the present invention is provided with a carbon coating obtained by thermally decomposing a hydrocarbon or a halogenated hydrocarbon on a bare silica glass optical fiber, and Since the electric resistance value is 5 kΩ / cm or more and less than 20 kΩ / cm, it exhibits hydrogen resistance and mechanical strength sufficient for practical use.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の光ファイバの一例を示した概略断面
図、第2図はこの発明の光ファイバの製造に好適に用い
られる光ファイバの製造装置の一例を示した概略構成
図、第3図は炭素被膜の電気抵抗値と光ファイバの耐水
素特性との関係を示したグラフ、第4図は炭素被膜の電
気抵抗値と光ファイバの機械的強度との関係を示したグ
ラフである。 1……光ファイバ裸線、2……炭素被膜。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one example of the optical fiber of the present invention, FIG. 2 is a schematic structural view showing one example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used for manufacturing the optical fiber of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a graph showing the relationship between the electrical resistance of the carbon coating and the hydrogen resistance of the optical fiber, and FIG. 4 is a graph showing the relationship between the electrical resistance of the carbon coating and the mechanical strength of the optical fiber. 1 ... bare optical fiber, 2 ... carbon coating.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒木 真治 千葉県佐倉市六崎144番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 鈴木 秀雄 千葉県佐倉市六崎144番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (56)参考文献 特開 昭61−267711(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Shinji Araki 144 Sakura-shi, Sakura-shi, Chiba Fujikura Electric Wire Co., Ltd. Sakura Plant (56) References JP-A-61-267711 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】石英ガラス系光ファイバ裸線上に炭化水素
またはハロゲン化炭化水素を熱分解して得られた炭素被
膜が設けられ、この炭素被膜の電気抵抗値が5kΩ/cm以
上20kΩ/cm未満であることを特徴とする光ファイバ。
A carbon coating obtained by thermally decomposing a hydrocarbon or a halogenated hydrocarbon is provided on a bare silica glass optical fiber, and the carbon coating has an electric resistance value of 5 kΩ / cm or more and less than 20 kΩ / cm. An optical fiber, characterized in that:
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