JP2710402B2 - Optical fiber - Google Patents

Optical fiber

Info

Publication number
JP2710402B2
JP2710402B2 JP1104012A JP10401289A JP2710402B2 JP 2710402 B2 JP2710402 B2 JP 2710402B2 JP 1104012 A JP1104012 A JP 1104012A JP 10401289 A JP10401289 A JP 10401289A JP 2710402 B2 JP2710402 B2 JP 2710402B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical fiber
carbon coating
reaction tube
raw material
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1104012A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02282208A (en
Inventor
圭二 大橋
穀 下道
真治 荒木
秀雄 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP1104012A priority Critical patent/JP2710402B2/en
Publication of JPH02282208A publication Critical patent/JPH02282208A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2710402B2 publication Critical patent/JP2710402B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10Coating
    • C03C25/104Coating to obtain optical fibres
    • C03C25/106Single coatings
    • C03C25/1061Inorganic coatings
    • C03C25/1062Carbon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、炭素被膜を被覆した光ファイバに関し、
炭素被膜の結晶構造を特定することにより、光ファイバ
の耐水素特性を格段に向上せしめたものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical fiber coated with a carbon film,
By specifying the crystal structure of the carbon coating, the hydrogen resistance of the optical fiber is significantly improved.

[従来技術とその課題] 石英系光ファイバは、水素と接触するとファイバ内に
拡散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大
し、さらにドーパントとして含有されているP2O5,GeO2,
B2O3などが水素と反応しOH基としてファイバガラス中に
取り込まれるため、OH基の吸収による伝送損失も増大し
てしまう問題があった。
[Prior art and its problems] When a silica-based optical fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases, and P 2 O 5 and GeO 2 contained as dopants further increase. ,
Since B 2 O 3 and the like react with hydrogen and are taken into the fiber glass as OH groups, there is a problem that transmission loss due to absorption of OH groups increases.

このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する
液状の組成物を光ケーブル内に充填する方法(特願昭61
−251808号)などが考えられているが、その効果が不十
分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問題があ
る。
To cope with such adverse effects, a method of filling a liquid composition having a hydrogen absorbing ability into an optical cable (Japanese Patent Application No.
No. 251808) is considered, but the effect is insufficient, and the structure becomes complicated, which is economically problematic.

このような問題を解決するため、最近化学気相成長法
(以下、CVD法と略称する)によって光ファイバ表面に
炭素被膜を形成し、これによって光ファイバの耐水素性
を向上させうることが発表されている。
In order to solve such problems, it has recently been announced that a carbon film can be formed on the surface of an optical fiber by a chemical vapor deposition method (hereinafter abbreviated as a CVD method), thereby improving the hydrogen resistance of the optical fiber. ing.

ところが光ファイバ表面に形成する炭素被膜の結晶構
造の種類により、その耐水素特性が大きく異なることが
判明し、一定の結晶構造を示す炭素被膜のみを光ファイ
バ表面に被覆することが提案されているが、炭素被膜の
結晶構造を限定することは困難であった。
However, it has been found that the hydrogen resistance of the carbon fiber formed on the surface of the optical fiber varies greatly depending on the type of crystal structure, and it has been proposed that only the carbon film having a certain crystal structure be coated on the surface of the optical fiber. However, it was difficult to limit the crystal structure of the carbon coating.

この発明は上記課題を解決するためになされたもので
あって、炭素被膜の結晶構造を特定することにより、充
分な耐水素特性を示す光ファイバを提供することを目的
としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and has as its object to provide an optical fiber having sufficient hydrogen resistance by specifying the crystal structure of a carbon coating.

[課題を解決するための手段] この発明の光ファイバは、X線回折法によって得られ
る結晶格子の(002)面における見掛けの大きさLc(00
2)が15Å以上となる炭素被膜を有してなることをその
解決手段とした。
[Means for Solving the Problems] The optical fiber of the present invention has an apparent size Lc (00) on the (002) plane of the crystal lattice obtained by the X-ray diffraction method.
2) has a carbon coating of 15 mm or more as a solution.

以下、この発明を詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

第1図はこの発明の光ファイバの一例を示すもので、
図中符号1は光ファイバ裸線である。この光ファイバ裸
線1は石英系ガラス、多成分系ガラスなどのガラスから
なるものである。この光ファイバ裸線1上には炭素被膜
2が設けられている。この炭素被膜2上にはさらに必要
に応じて樹脂被膜3が設けられている。
FIG. 1 shows an example of the optical fiber of the present invention.
In the figure, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is made of glass such as quartz-based glass and multi-component glass. A carbon coating 2 is provided on the bare optical fiber 1. A resin coating 3 is further provided on the carbon coating 2 as needed.

ここでの炭素被膜2は、炭化水素を分解して得られた
ものなどであり、X線回折法による結晶格子の(002)
面における見掛けの大きさLc(002)が15Å以上となる
ものである。
The carbon coating 2 here is obtained by decomposing hydrocarbons, and has a (002) crystal lattice by X-ray diffraction.
The apparent size Lc (002) of the surface is 15 mm or more.

X線回折法による結晶格子の(002)面における見掛
けの大きさLc(002)を算出するには、以下の方法を用
いることができる。
The following method can be used to calculate the apparent size Lc (002) on the (002) plane of the crystal lattice by the X-ray diffraction method.

光ファイバ裸線1表面に形成された炭素被膜2にX線
を照射し、透過法にて炭素被膜2のX線回折を測定す
る。
The carbon coating 2 formed on the surface of the bare optical fiber 1 is irradiated with X-rays, and the X-ray diffraction of the carbon coating 2 is measured by a transmission method.

この際に用いるX線発生装置としては、CuKα線をX
線源とした出力35kV、15mAのものを用い、第2図に示し
たようなX線回折ピークが得られた。なお第2図中、Ip
は回折ピークの強度を示し、Ip/2は上記Ipの半分の強度
を示し、Ip/2における回折ピークの幅を半値幅βEとし
た。そして炭素被膜2の結晶の(002)面に相当する回
折角(2θ)の26.55゜における回折ピークの半値幅か
ら、Scherrerの式と呼ばれる下記(1)式を用いてLc
(002)を求めた。
The X-ray generator used at this time is CuKα ray
An X-ray diffraction peak as shown in FIG. 2 was obtained using a source having an output of 35 kV and 15 mA as a radiation source. In FIG. 2, Ip
Represents the intensity of the diffraction peak, Ip / 2 represents the intensity of the half of the Ip, and the width of the diffraction peak at Ip / 2 and half width beta E. Then, from the half value width of the diffraction peak at 26.55 ° of the diffraction angle (2θ) corresponding to the (002) plane of the crystal of the carbon coating 2, Lc was calculated using the following formula (1) called Scherrer's formula.
(002).

Lc(002)=κλ/β0cosθ …(1) ただし式中、 κ=1.0、 λ:測定に使用したX線の波長、 β=(βE2−βI21/2、 βE:半値幅(測定値)、 βI=1.05×10-2rad、 θB:ブラッグ角である。Lc (002) = κλ / β 0 cosθ B ... (1) However Shikichu, κ = 1.0, λ: wavelength of X-rays used for the measurement, β 0 = (βE 2 -βI 2) 1/2, βE: Half width (measured value), βI = 1.05 × 10 −2 rad, θ B : Bragg angle.

このような炭素被膜2を光ファイバ裸線1表面に被覆
する方法としては、たとえば炭化水素化合物を熱分解し
てラジカルまたはイオンとし、これを炭素被膜2として
光ファイバ裸線1表面に析出させる熱CVD法などを用い
ることができる。第3図はこの熱CVD法に好適に用いら
れる光ファイバの製造装置の一例を示したものである。
As a method of coating such a carbon coating 2 on the surface of the bare optical fiber 1, for example, a hydrocarbon compound is thermally decomposed into radicals or ions, and this is deposited on the surface of the bare optical fiber 1 as a carbon coating 2. A CVD method or the like can be used. FIG. 3 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used for the thermal CVD method.

第3図中、符号1は光ファイバ裸線である。光ファイ
バ裸線1は、光ファイバ母材(図示せず)を光ファイバ
紡糸炉4内で加熱紡糸したもので、光ファイバ裸線1は
紡糸されると共に、光ファイバ紡糸炉4の下段に設けら
れた加熱炉5内へ供給されるようになっている。この加
熱炉5は、上段の光ファイバ紡糸炉4内で紡糸された光
ファイバ裸線1表面に炭素被膜2を熱CVD法によって形
成するためのものであって、その内部にてCVD反応を進
行させる概略円筒状の反応管6と、この反応管6を加熱
する加熱体7とから構成されている。この反応管6の上
部には、反応管6内へ原料化合物を供給する原料化合物
供給管6aが、下部には未反応ガス等を排気する排気管6b
が、それぞれ取り付けられている。反応管6と、これを
加熱する発熱体7とは、加熱温度等によって適宜選択す
ることができ、抵抗加熱炉、誘導加熱炉、赤外線加熱炉
等を用いることができるほか、発熱体7には高周波また
はマイクロ波を用いてプラズマを発生させて原料化合物
をイオン分解させるようなものを用いることもできる。
またこの加熱炉5の下段には、樹脂液塗布装置8と硬化
装置9とが連続して設けられており、上記加熱炉5内で
光ファイバ裸線1表面に形成された炭素被膜2上に樹脂
被膜3が形成できるようになっている。
In FIG. 3, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is obtained by heating and spinning an optical fiber preform (not shown) in an optical fiber spinning furnace 4. The bare optical fiber 1 is spun and provided at a lower stage of the optical fiber spinning furnace 4. The heating furnace 5 is supplied. This heating furnace 5 is for forming a carbon coating 2 on the surface of the bare optical fiber 1 spun in the upper optical fiber spinning furnace 4 by a thermal CVD method, in which a CVD reaction proceeds. It comprises a substantially cylindrical reaction tube 6 to be heated and a heating element 7 for heating the reaction tube 6. A source compound supply pipe 6a for supplying a source compound into the reaction tube 6 is provided at an upper portion of the reaction tube 6, and an exhaust pipe 6b for exhausting unreacted gas and the like is provided at a lower portion.
Are attached respectively. The reaction tube 6 and the heating element 7 for heating the reaction tube 6 can be appropriately selected depending on the heating temperature and the like, and a resistance heating furnace, an induction heating furnace, an infrared heating furnace, or the like can be used. It is also possible to use one that generates plasma using high frequency or microwaves to ion-decompose the raw material compound.
A resin liquid application device 8 and a curing device 9 are provided continuously below the heating furnace 5, and are provided on the carbon coating 2 formed on the surface of the bare optical fiber 1 in the heating furnace 5. The resin film 3 can be formed.

上記装置を用いて光ファイバ裸線1表面に炭素被膜2
と樹脂被膜3とを形成するには、以下の工程による。
Using the above apparatus, a carbon coating 2 is applied to the surface of the bare optical fiber 1.
And the resin film 3 are formed by the following steps.

光ファイバ母材を光ファイバ紡糸炉4内で加熱紡糸す
ると共に、光ファイバ紡糸炉4の下段に設けられた加熱
炉5、樹脂液塗布装置8、硬化装置9内へ挿通し、これ
らの中心軸上を所定の線速で走行するように供給する。
ついで発熱体7を発熱させて反応管6内を所定温度に加
熱すると共に、原料化合物供給管6aより原料化合物を反
応管6内へ供給する。この原料化合物としては、その分
子中に炭素原子を含有する化合物であり、熱分解等によ
って炭素被膜を析出するものを用いることができる。ま
たこの原料化合物はガス状態にして反応管6内へ供給す
るほか、不活性ガス等によって希釈して供給することが
できる。
The optical fiber preform is heated and spun in the optical fiber spinning furnace 4, and inserted into a heating furnace 5, a resin liquid coating device 8, and a curing device 9 provided at a lower stage of the optical fiber spinning furnace 4. It is supplied so as to travel at a predetermined linear speed on the upper side.
Then, the heating element 7 is heated to heat the inside of the reaction tube 6 to a predetermined temperature, and the raw material compound is supplied into the reaction tube 6 from the raw material supply tube 6a. As the raw material compound, a compound containing a carbon atom in its molecule and capable of depositing a carbon film by thermal decomposition or the like can be used. In addition, this raw material compound can be supplied in the form of a gas in the reaction tube 6, or diluted with an inert gas or the like.

反応管6内で原料化合物を熱分解させて、ラジカルあ
るいはイオンとし、これを光ファイバ裸線表面に析出さ
せることにより、炭素被膜を形成することができる。
The raw material compound is thermally decomposed in the reaction tube 6 to form radicals or ions, which are deposited on the bare optical fiber surface, whereby a carbon coating can be formed.

このようにして、その表面に炭素被膜2が形成された
光ファイバを、下段に設けられた樹脂液塗布装置8内へ
導入し、ついで樹脂液を硬化させる硬化装置9内へ挿通
する。樹脂液塗布装置8内へ挿通された光ファイバ裸線
1に、保護被覆層を形成するための紫外線硬化型樹脂液
あるいは熱硬化型樹脂液等を塗布し、ついで塗布された
樹脂液に好適な硬化条件を有する硬化装置9内で硬化し
て樹脂被膜3を形成する。
Thus, the optical fiber having the carbon coating 2 formed on its surface is introduced into the resin liquid coating device 8 provided at the lower stage, and then inserted into the curing device 9 for curing the resin liquid. An ultraviolet-curable resin liquid or a thermosetting resin liquid for forming a protective coating layer is applied to the bare optical fiber 1 inserted into the resin liquid coating device 8, and then suitable for the applied resin liquid. The resin film 3 is formed by curing in a curing device 9 having curing conditions.

なお、光ファイバ裸線1表面に炭素被膜2を被覆する
には、上記のように熱CVD法を用いる他にも、プラズマC
VD法等により炭化水素化合物を分解し、ラジカルまたは
イオンとし、炭素被膜2として堆積させる方法などを用
いることができ、光ファイバ裸線1表面に炭素被膜2を
析出できものであれば、その方法に関しては特に限定さ
れるものではない。
In order to coat the surface of the bare optical fiber 1 with the carbon coating 2, besides using the thermal CVD method as described above, the plasma C
A method in which a hydrocarbon compound is decomposed by a VD method or the like to form radicals or ions and deposited as a carbon coating 2 can be used. If the carbon coating 2 can be deposited on the surface of the bare optical fiber 1, the method can be used. Is not particularly limited.

以下、Lc(002)の適正値を求めるための試験例につ
いて述べる。
Hereinafter, a test example for obtaining an appropriate value of Lc (002) will be described.

[実施例] Lc(002)の適正値を求めるために光ファイバ裸線1
表面に種々の条件にて炭素被膜2を形成し、得られた光
ファイバの結晶格子の見掛けの大きさと、耐水素特性と
の関係を調べた。
[Example] To obtain an appropriate value of Lc (002), bare optical fiber 1
The carbon coating 2 was formed on the surface under various conditions, and the relationship between the apparent size of the crystal lattice of the obtained optical fiber and the hydrogen resistance was examined.

(製造例1) 第3図に示したと同様の光ファイバの製造装置を用意
し、この製造装置内にGeO2がドープ剤として含浸された
コア部を有する外径30mmの光ファイバ母材を設置した。
この光ファイバ母材を2000℃に加熱して、30m/分の紡糸
速度で外径125μmの単一モードファイバに紡糸した。
次に反応管内を1200℃に加熱しつつ、炭素被膜を形成す
る原料化合物として約5vol%にアルゴンガスで希釈した
ベンゼン蒸気を約3/分の流量で供給して紡糸された
光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成した。
(Production Example 1) An optical fiber production apparatus similar to that shown in FIG. 3 was prepared, and an optical fiber preform having an outer diameter of 30 mm and a core portion impregnated with GeO 2 as a dopant was installed in the production apparatus. did.
The optical fiber preform was heated to 2000 ° C. and spun into a single mode fiber having an outer diameter of 125 μm at a spinning speed of 30 m / min.
Then, while heating the inside of the reaction tube to 1200 ° C., a benzene vapor diluted with argon gas to about 5 vol% as a raw material compound for forming a carbon film is supplied at a flow rate of about 3 / min, and the surface of the bare optical fiber spun. Was formed with a carbon coating.

さらに紫外線硬化型樹脂コート用ダイスポット内にウ
レタンアクリレート樹脂液(ヤング率70kg/mm2、伸び60
%)を封入し、上記光ファイバ表面に樹脂液を塗布した
後、紫外線ランプにより樹脂液を硬化させ、外径が約30
0μmの光ファイバとした。
In addition, a urethane acrylate resin liquid (Young's modulus 70 kg / mm 2 , elongation 60
%) And applying a resin liquid to the surface of the optical fiber, and then curing the resin liquid with an ultraviolet lamp to obtain an outer diameter of about 30%.
An optical fiber of 0 μm was used.

(製造例2) 反応管内の温度を1000℃にし、原料化合物をo−クロ
ロメチルトルエンとした以外は製造例1と全く同様にし
て光ファイバを製造した。
(Production Example 2) An optical fiber was produced in exactly the same manner as in Production Example 1 except that the temperature in the reaction tube was set to 1000 ° C and the raw material compound was changed to o-chloromethyltoluene.

(製造例3) 原料化合物としてエチレンを用いた以外は製造例1と
全く同様にして光ファイバを製造した。
(Production Example 3) An optical fiber was produced in exactly the same manner as in Production Example 1 except that ethylene was used as a raw material compound.

(製造例4) 原料化合物として1,2ジクロロエタンを用い、反応管
内の温度を1300℃とした以外は製造例1と全く同様にし
て光ファイバを製造した。
(Production Example 4) An optical fiber was produced in exactly the same manner as in Production Example 1, except that 1,2 dichloroethane was used as a raw material compound and the temperature inside the reaction tube was set at 1300 ° C.

(製造例5) 反応管の温度を1500℃とし、紡糸速度を15m/分とした
以外は製造例1と全く同様にして光ファイバを製造し
た。
(Production Example 5) An optical fiber was produced in exactly the same manner as in Production Example 1 except that the temperature of the reaction tube was set to 1500 ° C and the spinning speed was set to 15 m / min.

(製造例6) 第3図に示した装置の上下に差動排気装置を接続して
反応管内を減圧とし、アルゴンプラズマを発生させ、そ
の領域内にアルゴンガスで5vol%に希釈したベンゼン蒸
気を原料化合物として供給し、光ファイバ裸線表面に炭
素被膜をプラズマCVD法によって堆積させた以外は、製
造例1と同様にして光ファイバを製造した。
(Manufacturing Example 6) A differential evacuation device was connected above and below the device shown in FIG. 3 to reduce the pressure inside the reaction tube to generate argon plasma, and benzene vapor diluted to 5 vol% with argon gas was generated in the region. An optical fiber was manufactured in the same manner as in Production Example 1 except that the raw material compound was supplied and a carbon coating was deposited on the bare optical fiber surface by a plasma CVD method.

(比較例1) 原料化合物を1,2ジクロロエチレンとし、反応管内の
温度を900℃とした以外は製造例1と全く同様にして光
ファイバを製造した。
(Comparative Example 1) An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Manufacturing Example 1, except that the raw material compound was 1,2 dichloroethylene and the temperature in the reaction tube was 900 ° C.

(比較例2) 原料化合物を1,1,2,2テトラクロロエタンとした以外
は製造例1と全く同様にして光ファイバを製造した。
(Comparative Example 2) An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Manufacturing Example 1, except that the raw material compound was 1,1,2,2 tetrachloroethane.

(比較例3) 反応管内の温度を1000℃、紡糸速度を50m/分とした以
外は製造例1と全く同様にして光ファイバを製造した。
(Comparative Example 3) An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as in Manufacturing Example 1, except that the temperature in the reaction tube was set to 1000 ° C and the spinning speed was set to 50 m / min.

(試験例1) 上記製造例1ないし6、および比較例1ないし3で得
られた各光ファイバを1km、約150mmφの束状態に集合さ
せ、これを水素分圧10atm、温度80℃の水素加圧容器内
に48時間放置した後、波長1.24μmにおける伝送損失の
増加量を測定した。
(Test Example 1) Each of the optical fibers obtained in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 was assembled into a bundle of about 1 mm and a diameter of about 150 mmφ, and this was hydrogenated at a hydrogen partial pressure of 10 atm and a temperature of 80 ° C. After being left in the pressure vessel for 48 hours, the amount of increase in transmission loss at a wavelength of 1.24 μm was measured.

(試験例2) 製造例1ないし6、および比較例1ないし3で得られ
た各光ファイバの樹脂被膜を除去した後、長さ40mmに切
り揃えたものをそれぞれ40mgずつを成型金型中に配列さ
せ、コロジオン−アルコール溶液を用いてこれらを固定
し、幅1mmの測定試料を作製した。
(Test Example 2) After removing the resin coating of each of the optical fibers obtained in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, 40 mg each of which was cut to a length of 40 mm was placed in a molding die. These were arranged and fixed using a collodion-alcohol solution to prepare a measurement sample having a width of 1 mm.

上記測定試料のそれぞれのX線回折をX線発生装置
(理学電機社製、X線源:CuKα線、出力35kV、15mA)を
用いて測定した。そして回折角26.55゜における回折ピ
ークを、結晶格子の(002)面におけるピークとして、
このピークの半値幅より上記Scherrerの式を用いて結晶
格子の見掛けの大きさLc(002)を算出した。
The X-ray diffraction of each of the measurement samples was measured using an X-ray generator (Rigaku Corporation, X-ray source: CuKα ray, output 35 kV, 15 mA). Then, the diffraction peak at a diffraction angle of 26.55 ° is defined as the peak at the (002) plane of the crystal lattice.
The apparent size Lc (002) of the crystal lattice was calculated from the half width of this peak using the above Scherrer's formula.

そして試験例1にて得られた耐水素特性と、試験例2
にて得られた炭素被膜の結晶格子の見掛けの大きさとの
関係を調べた。この結果を第1表に併せて示した。
And the hydrogen resistance obtained in Test Example 1 and Test Example 2
The relationship between the carbon coating and the apparent size of the crystal lattice of the carbon coating obtained was examined. The results are shown in Table 1.

第1表より、光ファイバ裸線表面に形成した炭素被膜
の結晶格子の見掛けの大きさLc(002)が15Å以上であ
ると、良好な耐水素特性を示すことが確認できた。
From Table 1, it was confirmed that when the apparent size Lc (002) of the crystal lattice of the carbon coating formed on the bare optical fiber surface was 15 ° or more, good hydrogen resistance was exhibited.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明の光ファイバは、X線
回折法によって得られる結晶格子の(002)面における
見掛けの大きさLc(002)が15Å以上となる炭素被膜を
有してなるものであるので、実用に十分な耐水素特性を
示すものとなる。
[Effect of the Invention] As described above, the optical fiber of the present invention has a carbon coating in which the apparent size Lc (002) on the (002) plane of the crystal lattice obtained by the X-ray diffraction method is 15 ° or more. Therefore, it exhibits sufficient hydrogen resistance for practical use.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の光ファイバの一例を示した概略断面
図、第2図はこの発明の光ファイバのX線回折のピーク
を示したグラフ、第3図はこの発明の光ファイバを製造
する際に好適に用いられる製造装置の一例を示した概略
構成図である。 1……光ファイバ裸線、 2……炭素被膜。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the optical fiber of the present invention, FIG. 2 is a graph showing the peak of X-ray diffraction of the optical fiber of the present invention, and FIG. FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an example of a manufacturing apparatus suitably used at the time. 1 ... bare optical fiber, 2 ... carbon coating.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】X線回折法によって得られる結晶格子の
(002)面における見掛けの大きさLc(002)が15Å以上
となる炭素被膜を有してなる光ファイバ
1. An optical fiber having a carbon coating having an apparent size Lc (002) of at least 15 ° on a (002) plane of a crystal lattice obtained by an X-ray diffraction method.
JP1104012A 1989-04-24 1989-04-24 Optical fiber Expired - Lifetime JP2710402B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1104012A JP2710402B2 (en) 1989-04-24 1989-04-24 Optical fiber

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1104012A JP2710402B2 (en) 1989-04-24 1989-04-24 Optical fiber

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02282208A JPH02282208A (en) 1990-11-19
JP2710402B2 true JP2710402B2 (en) 1998-02-10

Family

ID=14369355

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1104012A Expired - Lifetime JP2710402B2 (en) 1989-04-24 1989-04-24 Optical fiber

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2710402B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02282208A (en) 1990-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68922476T2 (en) Process for the production of a carbon-coated optical fiber.
US5157755A (en) Hermetically coated optical fiber
US5024688A (en) Method for producing carbon-coated optical fiber
US5037464A (en) Method of cleaning and carbon coating optical fiber
JP2710402B2 (en) Optical fiber
US5235666A (en) Production of a hermetically coated optical fiber
JPH0227308A (en) Optical fiber and its production
JP2644018B2 (en) Optical fiber manufacturing method
JP2683070B2 (en) Optical fiber manufacturing method
JP2798790B2 (en) Optical fiber manufacturing method
JP2734586B2 (en) Optical fiber strand
JP2595364B2 (en) Optical fiber manufacturing method
JP3039948B2 (en) Optical fiber manufacturing method
JP2796166B2 (en) Optical fiber manufacturing equipment
JP2796167B2 (en) Optical fiber manufacturing equipment
JP3039949B2 (en) Optical fiber manufacturing method
JP2825843B2 (en) Optical fiber
JP3039961B2 (en) Optical fiber manufacturing method
JPH0312345A (en) Production of hermetically-coated optical fiber
JPH02289450A (en) Optical fiber
JPH04119944A (en) Method and device for producing optical fiber
JPH02160642A (en) Production of optical fiber
JPH06656B2 (en) Method for manufacturing radiation resistant optical fiber
JPH02184546A (en) Production apparatus of optical fiber
JPH0587456B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024

Year of fee payment: 12