JP3039961B2 - Optical fiber manufacturing method - Google Patents

Optical fiber manufacturing method

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、その表面に炭素被膜が形成された光ファ
イバの製造方法に関し、光ファイバ裸線表面に炭素被膜
を形成する際に、光ファイバ裸線表面と反応管壁とを所
定温度に調整することによって、より優れた耐水素特性
を有する光ファイバを高い線引き速度で得られるように
したものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical fiber having a carbon coating formed on the surface thereof, and relates to a method for forming a carbon coating on a bare optical fiber surface. By adjusting the bare wire surface and the reaction tube wall to a predetermined temperature, an optical fiber having more excellent hydrogen resistance can be obtained at a high drawing speed.

[従来技術およびその課題] 石英系ファイバは、水素と接触するとファイバ内に拡
散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大す
る。さらにドーパントとして含有されているP2O5、Ge
O2、B2O3などが水素と反応しOH基としてファイバガラス
中に取り込まれるため、OH基の吸収による伝送損失も増
大してしまう問題がある。
[Prior art and its problems] When a silica fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases. P 2 O 5 and Ge further contained as dopants
Since O 2 , B 2 O 3 and the like react with hydrogen and are taken into the fiber glass as OH groups, there is a problem that transmission loss due to absorption of OH groups increases.

このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する
液状の組成物を光ケーブル内に充填すること(特願昭61
−251808号)が考えられているが、その効果が不十分で
あるうえ、構造が複雑となって経済的にも問題がある。
To cope with such adverse effects, a liquid composition having a hydrogen absorbing ability is filled in an optical cable (Japanese Patent Application No.
-251808) is considered, but the effect is insufficient, and the structure is complicated, which is economically problematic.

このような問題を解決するため、化学気相成長法によ
って光ファイバ表面に炭素被膜を形成し、これによって
光ファイバの耐水素特性を向上させうることが発表され
ている。
In order to solve such a problem, it has been disclosed that a carbon coating is formed on the surface of an optical fiber by a chemical vapor deposition method, whereby the hydrogen resistance of the optical fiber can be improved.

ところが上記構造方法では、光ファイバ裸線表面に形
成される炭素被膜の析出速度が小さく、またその膜質も
緻密でないので、十分な耐水素特性を得るには、光ファ
イバの100m/分以下の線引き速度に保たなければならな
く、その生産性において問題があった。
However, in the above structure method, the deposition rate of the carbon coating formed on the bare optical fiber surface is low, and the quality of the coating is not dense. Speed had to be kept and there was a problem in its productivity.

この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、耐水素
特性に優れた光ファイバを高速で線引き可能な製造方法
を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of drawing an optical fiber excellent in hydrogen resistance characteristics at high speed.

[課題を解決するための手段] 本発明者らは、表面に炭素被膜が形成された光ファイ
バの耐水素特性および紡糸速度の向上について鋭意研究
を重ねた結果、加熱された光ファイバ裸線に原料ガスを
反応管内にて接触させて炭素被膜を形成するにあたっ
て、光ファイバ裸線の表面温度と反応管の壁温度とを調
整することにより、光ファイバの耐水素特性および線引
き速度を格段に向上できることを見出した。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on the improvement of the hydrogen resistance and the spinning speed of an optical fiber having a carbon coating formed on the surface thereof. When the raw material gas is contacted in the reaction tube to form a carbon coating, the surface temperature of the bare optical fiber and the wall temperature of the reaction tube are adjusted to significantly improve the hydrogen resistance of the optical fiber and the drawing speed. I found what I could do.

すなわちこの発明の製造方法は、光ファイバ裸線の反
応管への入線時の表面温度を850〜1100℃とし、出線時
の表面温度を700〜850℃とし、かつ反応管の壁温度を40
0℃以下とすることを解決手段とした。
That is, in the production method of the present invention, the surface temperature of the bare optical fiber into the reaction tube is 850 to 1100 ° C., the surface temperature at the time of exit is 700 to 850 ° C., and the wall temperature of the reaction tube is 40 ° C.
The solution was set to 0 ° C. or lower.

以下、この発明を詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

第1図はこの発明の光ファイバの製造方法に好適に用
いられる光ファイバ製造装置の一例を示したものであ
る。第1図中、符号1は光ファイバ裸線である。光ファ
イバ裸線1は、光ファイバ母材2を光ファイバ紡糸炉3
内で加熱紡糸したものである。この光ファイバ裸線1
は、紡糸炉直下に設けられたCVD反応炉4へ冷却される
ことなく導かれるようになっている。
FIG. 1 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used for the optical fiber manufacturing method of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. An optical fiber bare wire 1 is made of an optical fiber preform 2 and an optical fiber spinning furnace 3.
Heat-spun inside. This bare optical fiber 1
Is led to the CVD reactor 4 provided immediately below the spinning furnace without being cooled.

このCVD反応炉4は、加熱された光ファイバ裸線1と
原料ガスとを接触させて、光ファイバ裸線1の表面温度
により原料ガスを熱分解させて、光ファイバ裸線1表面
に炭素被膜を形成するためのものである。このCVD反応
炉4は概略円筒状の反応管5と、この反応管5の壁温度
を調整する調温装置6とから概略構成される。
The CVD reactor 4 brings the heated optical fiber bare wire 1 into contact with the raw material gas, and thermally decomposes the raw material gas according to the surface temperature of the optical fiber bare wire 1 to form a carbon coating on the surface of the optical fiber bare wire 1. Is formed. The CVD reactor 4 is roughly composed of a substantially cylindrical reaction tube 5 and a temperature control device 6 for adjusting the wall temperature of the reaction tube 5.

調温装置6は、反応管5の壁温度を400℃以下に保つ
ためのものであって、たとえば水や不活性ガス等の冷媒
を流動せしめた冷却管を巻回したもの等からなり、コン
トロール部7を介して反応管5と接続されている。この
コントロール部7は、さらに反応管5の壁温度を測定す
る非接触温度計等からなる測温部(図示せず)と接続さ
れており、その測定結果により調温装置6の冷媒供給量
等を調整できるようになっている。
The temperature control device 6 is for maintaining the wall temperature of the reaction tube 5 at 400 ° C. or lower, and is, for example, a device in which a cooling tube in which a coolant such as water or an inert gas is flown is wound. It is connected to the reaction tube 5 via the section 7. The control section 7 is further connected to a temperature measuring section (not shown) including a non-contact thermometer or the like for measuring the wall temperature of the reaction tube 5, and based on the measurement result, the refrigerant supply amount of the temperature control device 6 and the like. Can be adjusted.

光ファイバ裸線1の反応管5への入線時の表面温度お
よび反応管5からの出線時の表面温度の調整は、光ファ
イバ紡糸炉3とCVD反応炉4との間隔、換言すればCVD反
応炉4の設置位置と、光ファイバ裸線1の紡糸速度とに
よって行われる。例えば、光ファイバ裸線1を300m/分
の速度で紡糸する場合には、CVD反応炉4と光ファイバ
母材2のネックダウン部との間隔は約30mm程度とされ
る。
Adjustment of the surface temperature when the bare optical fiber 1 enters the reaction tube 5 and the surface temperature when exiting the reaction tube 5 is performed by adjusting the distance between the optical fiber spinning furnace 3 and the CVD reaction furnace 4, in other words, the CVD. This is performed according to the installation position of the reaction furnace 4 and the spinning speed of the bare optical fiber 1. For example, when the bare optical fiber 1 is spun at a speed of 300 m / min, the distance between the CVD reactor 4 and the neck down portion of the optical fiber preform 2 is about 30 mm.

また、反応管5の上部には、原料ガスを供給するため
の原料ガス供給管8が、下部には未反応ガスや余剰の炭
素微粒子等を排気する排気管9が、それぞれ取り付けら
れている。さらに反応管5の上段と下段には、反応管5
内をシールするためのガスシール機構10が連設されてい
る。
A source gas supply pipe 8 for supplying a source gas is attached to an upper portion of the reaction tube 5, and an exhaust pipe 9 for exhausting unreacted gas and surplus carbon fine particles is attached to a lower portion of the reaction tube 5. Further, the upper and lower stages of the reaction tube 5
A gas seal mechanism 10 for sealing the inside is continuously provided.

さらにこのCVD反応炉4の下段には、樹脂液塗布装置1
1と硬化装置12とが設けられており、炭素被膜上に樹脂
製の保護被膜を形成できるようになっている。
Furthermore, a resin liquid coating device 1
1 and a curing device 12 are provided so that a protective coating made of resin can be formed on the carbon coating.

上記製造装置を用いて、この発明の製造方法に沿って
光ファイバを製造するには、以下の工程による。
The following steps are used to manufacture an optical fiber using the manufacturing apparatus according to the manufacturing method of the present invention.

光ファイバ母材2を光ファイバ紡糸炉3内で加熱紡糸
すると共に、光ファイバ紡糸炉3の下段に設けられたCV
D反応炉4、樹脂液塗布装置11、硬化装置12内へ順次挿
通し、これらの中心軸上を走行するように供給する。そ
して、この際に、光ファイバ裸線1の反応管5への入線
時の表面温度、すなわち原料ガス供給管8付近の表面温
度が850〜1100℃となり、反応管5からの出線時の表面
温度、すなわち排気管9付近の表面温度が700〜850℃と
なるように、CVD反応炉4の位置を設定するとともに、
光ファイバ裸線1の紡糸速度、すなわち線引き速度を設
定する。光ファイバ裸線1の表面温度をそれぞれこのよ
うに保持することにより、後述の実施例に見られるよう
に良好な特性を有する炭素被膜が形成される。
The optical fiber preform 2 is heated and spun in an optical fiber spinning furnace 3 and a CV provided in a lower stage of the optical fiber spinning furnace 3.
D The reactor is sequentially inserted into the reaction furnace 4, the resin liquid application device 11, and the curing device 12, and supplied so as to travel on the central axis. At this time, the surface temperature when the bare optical fiber 1 enters the reaction tube 5, that is, the surface temperature near the raw material gas supply tube 8 becomes 850 to 1100 ° C. The position of the CVD reactor 4 is set so that the temperature, that is, the surface temperature near the exhaust pipe 9 is 700 to 850 ° C.
The spinning speed of the bare optical fiber 1, that is, the drawing speed is set. By maintaining the surface temperature of the bare optical fiber 1 in this manner, a carbon coating having good characteristics is formed as will be described in Examples below.

ついで原料ガス供給管8より原料ガスを反応管5内へ
供給する。この原料ガスは、熱分解によって炭素被膜を
形成可能な炭素化合物であれば特に限定されるものでは
なく、少なくとも原料化合物と、それを希釈し移送する
キャリアガスとが混合されてなるものである。原料化合
物の具体例としては、メタン、エタン、プロパン、ベン
ゼン、トルエン等のほか、これら化合物の水素原子を塩
素原子に置換したクロロメタン、クロロベンゼンなどを
挙げることができる。これらの化合物のなかでも、ベン
ゼンが熱分解性がよく、良好な特性の炭素被膜を与える
点で好ましい。またキャリアガスとしてはヘリウムガ
ス、アルゴンガス、水素ガス、窒素ガスなど公知の種々
のものを利用できる。
Next, a source gas is supplied into the reaction tube 5 from the source gas supply pipe 8. The raw material gas is not particularly limited as long as it is a carbon compound capable of forming a carbon film by thermal decomposition, and is obtained by mixing at least the raw material compound and a carrier gas for diluting and transferring the raw material compound. Specific examples of the raw material compounds include methane, ethane, propane, benzene, toluene, and the like, and chloromethane and chlorobenzene in which a hydrogen atom of these compounds is replaced with a chlorine atom. Among these compounds, benzene is preferred because it has good thermal decomposability and gives a carbon film having good characteristics. As the carrier gas, various known gases such as helium gas, argon gas, hydrogen gas, and nitrogen gas can be used.

そしてこの際に、反応管5の壁温度を400℃以下に保
つように、調温装置6を駆動する。反応管5の壁温度が
低温である程、耐水素特性と紡糸速度の向上を図れるの
で、50℃以下が特に好ましく、400℃を上限とする。反
応管5の壁温度が400℃を越えると、原料ガスが熱分解
して発生した炭素微粒子が反応管5内に付着して、光フ
ァイバ裸線1表面への炭素被膜の析出速度が低下するた
めである。また気相領域で成長した炭素の粗大粒子が光
ファイバ裸線1表面に付着しやすくなり、得られる光フ
ァイバの耐水素特性を低下させるためである。
At this time, the temperature controller 6 is driven so that the wall temperature of the reaction tube 5 is kept at 400 ° C. or lower. The lower the wall temperature of the reaction tube 5 is, the more the hydrogen resistance and the spinning speed can be improved. Therefore, the temperature is particularly preferably 50 ° C or lower, and the upper limit is 400 ° C. When the wall temperature of the reaction tube 5 exceeds 400 ° C., carbon fine particles generated by the thermal decomposition of the raw material gas adhere to the inside of the reaction tube 5 and the deposition rate of the carbon film on the surface of the bare optical fiber 1 decreases. That's why. In addition, coarse particles of carbon grown in the gas phase region are more likely to adhere to the surface of the bare optical fiber 1, thereby lowering the hydrogen resistance of the obtained optical fiber.

このようにして炭素被膜が形成された光ファイバ裸線
1を、下段に設けられた樹脂液塗布装置11内へ導入す
る。樹脂液塗布装置11内へ挿通された光ファイバ裸線1
は、保護被膜を形成するための紫外線硬化型樹脂液また
は熱硬化型樹脂液が塗布され、ついで塗布された樹脂液
に好適な硬化条件を有する硬化装置12内で硬化されて保
護被膜が形成されて光ファイバとされる。
The bare optical fiber 1 on which the carbon coating is formed in this manner is introduced into a resin liquid coating device 11 provided at the lower stage. Optical fiber bare wire 1 inserted into resin liquid coating device 11
A UV-curable resin liquid or a thermosetting resin liquid for forming a protective film is applied, and then the applied resin liquid is cured in a curing device 12 having suitable curing conditions to form a protective film. Optical fiber.

このように、加熱された光ファイバ裸線と原料ガスと
を反応管内で接触させて、光ファイバ裸線表面に炭素被
膜を形成する際に、光ファイバ裸線の反応管への入線時
の表面温度を850〜1100℃とし、反応管からの出線時の
表面温度を700〜850℃とし、かつ反応管の壁温度を400
℃以下とすることにより、炭素粒子を微細化すると共
に、この炭素微粒子の光ファイバ裸線表面への析出効率
を向上できるので、線引き速度を大きくしても十分な膜
厚の炭素被膜を形成することができる。さらに炭素微粒
子は、発生後直ちに光ファイバ裸線表面に析出するの
で、形成される炭素被膜は緻密なものとなり、耐水素特
性に非常に優れたものとなる。
As described above, when the heated bare optical fiber and the raw material gas are brought into contact with each other in the reaction tube to form a carbon coating on the bare optical fiber surface, the surface of the bare bare optical fiber when entering the reaction tube is exposed. The temperature is 850-1100 ° C, the surface temperature at the time of outgoing from the reaction tube is 700-850 ° C, and the wall temperature of the reaction tube is 400
By setting the temperature to not more than ℃, the carbon particles can be refined, and the deposition efficiency of the carbon particles on the bare optical fiber surface can be improved. Therefore, even if the drawing speed is increased, a carbon film having a sufficient thickness is formed. be able to. Further, the carbon fine particles are deposited on the bare optical fiber surface immediately after the generation, so that the formed carbon film becomes dense and has excellent hydrogen resistance.

[実施例] (実施例) 光ファイバ紡糸炉の下段に反応管を設置すると共に、
この反応管の周囲に水を冷媒とする冷却管を巻回して第
1図に示したと同様の装置とした。なお、反応管は光フ
ァイバ母材のネックダウン位置から30mmのところに設置
した。
[Example] (Example) While installing a reaction tube in the lower stage of the optical fiber spinning furnace,
A cooling tube using water as a refrigerant was wound around the reaction tube to obtain a device similar to that shown in FIG. The reaction tube was set at a position 30 mm from the neck down position of the optical fiber preform.

光ファイバ紡糸炉内にGeO2がドープ剤として含浸され
たコア部を有する外径30mmの単一モード光ファイバ母材
を設置した。この光ファイバ母材を2000℃に加熱して30
0m/分の紡糸速度で外径125μmの単一モードファイバに
紡糸した。
A single-mode optical fiber preform having an outer diameter of 30 mm and a core portion impregnated with GeO 2 as a dopant was installed in an optical fiber spinning furnace. This optical fiber preform was heated to 2000 ° C.
The fiber was spun into a single mode fiber having an outer diameter of 125 μm at a spinning speed of 0 m / min.

ついでこの光ファイバ裸線を反応管内に挿通すると共
にベンゼンを原料化合物とし、窒素ガスをキャリアガス
とした原料ガスを供給し、この原料ガスを光ファイバ裸
線と接触させることにより熱分解させて、炭素被膜を光
ファイバ裸線表面に形成した。なお原料ガスの流量はベ
ンゼンガス0.2/分、窒素ガス0.8/分とした。排気
管からは−4mmH2Oの排気圧で反応管内を排気した。そし
て反応管内に挿通された光ファイバ裸線の表面温度を、
原料ガス供給口と排気管付近の二点で非接触温度計を用
いて測定したところ、900℃と750℃であった。また反応
管の壁温度は300℃であった。
Next, the raw optical fiber is inserted into the reaction tube, and benzene is used as a raw material compound, a raw material gas is supplied using nitrogen gas as a carrier gas, and the raw material gas is thermally decomposed by contacting the raw optical fiber with the raw optical fiber. A carbon coating was formed on the bare optical fiber surface. The flow rate of the raw material gas was benzene gas 0.2 / min and nitrogen gas 0.8 / min. The inside of the reaction tube was evacuated with an exhaust pressure of −4 mmH 2 O from the exhaust tube. Then, the surface temperature of the bare optical fiber inserted into the reaction tube is
It was 900 ° C and 750 ° C when measured using a non-contact thermometer at two points near the source gas supply port and the exhaust pipe. The wall temperature of the reaction tube was 300 ° C.

このようにして炭素被膜が形成された光ファイバをウ
レタンアクレート樹脂液(ヤング率70kg/mm2、伸び60
%)が封入された樹脂コート用ダイスポットに挿入し、
ついで紫外線照射ランプを備えた硬化装置により塗布さ
れた樹脂を硬化させて保護被膜を形成し、外径250μm
の光ファイバとした。
The optical fiber thus formed with the carbon coating is coated with a urethane acrylate resin solution (Young's modulus 70 kg / mm 2 , elongation 60
%) Into the die spot for resin coating in which
Next, the applied resin is cured by a curing device equipped with an ultraviolet irradiation lamp to form a protective film, and the outer diameter is 250 μm.
Optical fiber.

(実施例2〜4および比較例1〜4) 原料ガスの種類、光ファイバ裸線の紡糸速度、反応管
の壁温度をそれぞれ第1表に示したように変化させた以
外は上記実施例1と全く同様にして光ファイバを製造し
た。
(Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 4) The above Example 1 except that the kind of the raw material gas, the spinning speed of the bare optical fiber, and the wall temperature of the reaction tube were respectively changed as shown in Table 1. An optical fiber was manufactured in exactly the same manner as described above.

(試験例1) 上記実施例1〜4および比較例1〜4で得られた各光
ファイバをそれぞれ1kmずつ採取し、波長1.24μmにお
ける伝送損失を測定した。この後、これらを直径150mm
に巻いて束状とし、温度80℃、水素分圧1atmの水素評価
加圧容器内に96時間放置した。この後、再度波長1.24μ
mにおける伝送損失を測定して、水素による吸収損失の
増加を調べた。この結果を第1表に併せて示した。
(Test Example 1) Each of the optical fibers obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 was sampled for 1 km, and the transmission loss at a wavelength of 1.24 μm was measured. After this, these are 150mm in diameter
And left in a pressurized hydrogen evaluation container at a temperature of 80 ° C. and a hydrogen partial pressure of 1 atm for 96 hours. After this, the wavelength is again 1.24μ
The transmission loss at m was measured to determine the increase in absorption loss due to hydrogen. The results are shown in Table 1.

(試験例2) 上記実施例1〜4および比較例1〜4で得られた各光
ファイバのウレタンアクリレート樹脂被覆層を溶剤で除
去し、光ファイバ裸線表面に形成された炭素被膜の電気
抵抗値をデジタルマルチメータにて測定した。この電気
抵抗値をもって炭素被膜の付着度合を測る方法とした。
この結果を第1表に併せて示した。
(Test Example 2) The urethane acrylate resin coating layer of each optical fiber obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 was removed with a solvent, and the electrical resistance of the carbon coating formed on the bare optical fiber surface was measured. The values were measured with a digital multimeter. A method of measuring the degree of adhesion of the carbon film using the electric resistance value was adopted.
The results are shown in Table 1.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明の製造方法は、光ファ
イバ裸線の反応管への入線時の表面温度および出線時の
表面温度と反応管の壁温度とを適宜温度に調整するもの
であるので、原料ガスが熱分解して発生する炭素粒子を
微細化すると共に、この炭素微粒子の光ファイバ裸線表
面への析出効率およびその速度を格段に向上できる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the manufacturing method of the present invention, the surface temperature of the bare optical fiber into and out of the reaction tube and the wall temperature of the reaction tube are appropriately adjusted to the temperature. Since the adjustment is performed, the carbon particles generated by the thermal decomposition of the raw material gas can be miniaturized, and the efficiency and speed of the deposition of the carbon particles on the bare optical fiber surface can be remarkably improved.

よって光ファイバの線引き速度を大きくしても、緻密
な炭素被膜を十分な膜厚で析出させることができるの
で、耐水素特性に優れた光ファイバを高速で得ることが
できる。
Therefore, even if the drawing speed of the optical fiber is increased, a dense carbon film can be deposited with a sufficient film thickness, so that an optical fiber having excellent hydrogen resistance can be obtained at a high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の製造方法に好適に用いられる光ファ
イバの製造装置の一例を示した概略構成図である。 1……光ファイバ裸線、5……反応管、 6……調温装置。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used in the manufacturing method of the present invention. 1 ... bare optical fiber, 5 ... reaction tube, 6 ... temperature control device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒木 真治 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 鈴木 秀雄 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 勝山 豊 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−243539(JP,A) 特開 平3−126645(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C03C 25/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Shinji Araki 1440, Mukurosaki, Sakura City, Chiba Prefecture Inside the Sakura Plant of Fujikura Electric Wire Co., Ltd. (72) Inventor Yutaka Katsuyama 1-6, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (56) References JP-A-2-24439 (JP, A) JP-A-3-126645 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C03C 25/02

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】原料ガスが供給される反応管に光ファイバ
裸線を送り込み、原料ガスを熱分解して光ファイバ裸線
表面に炭素被膜を形成する際に、 光ファイバ裸線の反応管への入線時の表面温度を850〜1
100℃とし、反応管からの出線時の表面温度を700〜850
℃とし、 反応管の壁温度を400℃以下とすることを特徴とする光
ファイバの製造方法。
An optical fiber bare wire is fed into a reaction tube to which a raw material gas is supplied, and when the raw material gas is thermally decomposed to form a carbon coating on the surface of the optical fiber bare wire, the optical fiber bare wire is supplied to the reaction tube. 850-1
100 ° C, and the surface temperature when outgoing from the reaction tube is 700-850
° C and the wall temperature of the reaction tube is 400 ° C or lower.
【請求項2】上記原料ガスがベンゼンを含有するもので
あることを特徴とする請求項1記載の光ファイバの製造
方法。
2. The method for manufacturing an optical fiber according to claim 1, wherein said source gas contains benzene.
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