JP2595364B2 - Optical fiber manufacturing method - Google Patents

Optical fiber manufacturing method

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、炭素被膜が設けられた光ファイバの製造
方法に関し、所定の流速で原料ガスを流しつつ成膜する
ことにより、より優れた耐水素特性および機械的強度を
有する光ファイバを生産できるようにしたものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing an optical fiber provided with a carbon coating, and more excellent resistance to resistance by forming a film while flowing a raw material gas at a predetermined flow rate. An optical fiber having hydrogen characteristics and mechanical strength can be produced.

[従来の技術と発明が解決しようとする課題] 石英系光ファイバは、水素と接触するとファイバ内に
拡散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大
する。さらにドーパントとして含有されているP2O5,GeO
2,B2O3などが水素と反応しOH基としてファイバガラス中
に取り込まれるため、OH基の吸収による伝送損失も増大
してしまう問題がある。
[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] When a silica-based optical fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases. P 2 O 5 and GeO further contained as dopants
2 , B 2 O 3 and the like react with hydrogen and are taken into fiber glass as OH groups, so that there is a problem that transmission loss due to absorption of OH groups increases.

このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する
液状の組成物を光ケーブル内に充填すること(特願昭61
−251808号)が考えられているが、その効果が不十分で
あるうえ、構造が複雑となって経済的にも問題がある。
To cope with such adverse effects, a liquid composition having a hydrogen absorbing ability is filled in an optical cable (Japanese Patent Application No.
-251808) is considered, but the effect is insufficient, and the structure is complicated, which is economically problematic.

このような問題を解決するため、最近化学気相成長法
(以下、CVD法と略称する)によって光ファイバ表面に
炭素被膜を形成し、これによって光ファイバの耐水素性
を向上させうることが発表されている。この製造方法
は、光ファイバ裸線表面にCVD法によって炭素被膜を形
成した後、紫外線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂によって保
護被覆層を形成する方法である。
In order to solve such problems, it has recently been announced that a carbon film can be formed on the surface of an optical fiber by a chemical vapor deposition method (hereinafter abbreviated as a CVD method), thereby improving the hydrogen resistance of the optical fiber. ing. This manufacturing method is a method in which a carbon coating is formed on the bare optical fiber surface by a CVD method, and then a protective coating layer is formed with an ultraviolet-curable resin or a thermosetting resin.

ところがこのような製造方法によって同じように製造
された光ファイバであっても、その耐水素特性や疲労特
性に大きな差異が生じる場合があった。
However, even in the case of an optical fiber manufactured in the same manner by such a manufacturing method, there may be a case where a great difference occurs in the hydrogen resistance characteristic and the fatigue characteristic.

この発明は前記事情に鑑みてなされたもので、より優
れた耐水素特性および機械的強度を有する光ファイバを
製造できる製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a manufacturing method capable of manufacturing an optical fiber having more excellent hydrogen resistance and mechanical strength.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明者らは、炭素被覆された光ファイバの耐水素特
性および機械的強度の向上について鋭意研究を重ねた結
果、炭素被膜形成時の原料ガスの流速を40m/分〜80m/分
の範囲に設定することによって、光ファイバの耐水素特
性および機械的強度を格段に向上できることを見出だし
た。
The present inventors have conducted intensive studies on the improvement of the hydrogen resistance characteristic and the mechanical strength of the carbon coated optical fiber, and as a result, the flow rate of the raw material gas at the time of forming the carbon coating was set to a range of 40 m / min to 80 m / min. By setting, it was found that the hydrogen resistance and the mechanical strength of the optical fiber can be remarkably improved.

原料ガスの流速が40m/分未満になると形成される炭素
被膜は、媒が堆積したような、クラスタが大きく水分や
水素分子の透過防止性能に劣るものとなる。そして製造
された光ファイバは、耐水素特性、機械的強度に劣るも
のとなる。また流速が80m/分を越えると、成膜速度が低
下し不経済である。
When the flow rate of the raw material gas is less than 40 m / min, the carbon film formed has large clusters, as if a medium is deposited, and is inferior in permeation prevention performance of moisture and hydrogen molecules. Then, the manufactured optical fiber is inferior in hydrogen resistance and mechanical strength. On the other hand, if the flow rate exceeds 80 m / min, the film forming speed is reduced, which is uneconomical.

ここで原料ガスとは、化学気相成長法を実施する反応
管に供給されたガスで、少なくとも原料化合物とキャリ
アガスとが混合されてなるものである。
Here, the source gas is a gas supplied to a reaction tube for performing a chemical vapor deposition method, and is a mixture of at least a source compound and a carrier gas.

本発明の製造方法で用いる原料化合物は、揮発性を有
しかつ熱分解して炭素を生成する化合物であれば特に限
定されないが、形成される炭素被膜の性状およびその析
出速度の観点から炭素数15以下の炭化水素またはハロゲ
ン化炭化水素が好適である。また置換するハロゲン原子
としては、取り扱い性等の観点から塩素原子が好まし
い。具体例としては、メタン、エタン、プロパン、ベン
ゼン、トルエン等のほか、これら化合物の水素原子を塩
素原子に置換したクロロメタン、クロロベンゼンなどを
挙げることができる。
The raw material compound used in the production method of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that has volatility and generates carbon by thermal decomposition, but from the viewpoint of the properties of the formed carbon film and the deposition rate thereof, Up to 15 hydrocarbons or halogenated hydrocarbons are preferred. The halogen atom to be substituted is preferably a chlorine atom from the viewpoint of handleability and the like. Specific examples include methane, ethane, propane, benzene, toluene, and the like, as well as chloromethane and chlorobenzene in which hydrogen atoms of these compounds are substituted with chlorine atoms.

また前記キャリアガスとしては、ヘリウムガス、アル
ゴンガス、水素ガスなど公知の種々のものを利用でき
る。
As the carrier gas, various known gases such as helium gas, argon gas, and hydrogen gas can be used.

原料ガスには、この他にも塩素ガス等の希釈ガスを混
合することもできる。
A diluent gas such as a chlorine gas may be mixed with the raw material gas.

前記条件で炭素被膜を形成する場合、原料ガス中の原
料化合物濃度は1〜6容積%程度に設定されることが望
ましい。
When the carbon film is formed under the above conditions, the concentration of the raw material compound in the raw material gas is desirably set to about 1 to 6% by volume.

原料化合物の濃度が前記の範囲未満になると、得られ
る炭素被膜のクラスタサイズのばらつきが大きくなる。
さらに成膜速度が低下して不経済である。他方濃度が前
記の範囲を越えると、得られる炭素被膜のクラスタサイ
ズが拡大する傾向が顕著となる。
If the concentration of the raw material compound is less than the above range, the variation in cluster size of the obtained carbon coating increases.
Further, the film forming speed is reduced, which is uneconomical. On the other hand, if the concentration exceeds the above range, the tendency of the cluster size of the obtained carbon coating to increase becomes remarkable.

この製造方法で炭素被膜を形成する場合、CVD反応炉
内の温度は600℃以上に設定されることが望ましい。こ
れよりも温度が低いと、原料化合物の熱分解が進行しな
い。またCVD反応炉に導入される際の光ファイバ裸線の
温度(予熱温度)は、1200〜1500℃の範囲に設定される
ことが望ましい。予熱温度が1500℃を越えると、石英で
形成されている光ファイバ裸線の表面が溶融状態になる
ので好ましくない。また予熱温度が1200℃未満になる
と、CVD反応炉を通過する間に光ファイバ裸線が原料化
合物の熱分解が進行しない600℃未満まで冷える恐れが
あるので好ましくない。
When forming a carbon film by this manufacturing method, it is desirable that the temperature in the CVD reactor be set to 600 ° C. or higher. If the temperature is lower than this, thermal decomposition of the starting compound does not proceed. It is desirable that the temperature (preheating temperature) of the bare optical fiber when introduced into the CVD reactor is set in the range of 1200 to 1500 ° C. If the preheating temperature exceeds 1500 ° C., the surface of the bare optical fiber made of quartz is undesirably melted. On the other hand, if the preheating temperature is lower than 1200 ° C., it is not preferable because the bare optical fiber may be cooled to less than 600 ° C. during which the thermal decomposition of the raw material compound does not proceed while passing through the CVD reactor.

[作用] この発明の製造方法では、原料ガスが高速で流される
ので、原料ラジカルが気相において反応して生じるラジ
カル種が大きくなるのを防止できる。この結果、光ファ
イバ裸線上に、クラスタサイズが小さくかつサイズのば
らつきも小さい炭素被膜を成膜できる。クラスタサイズ
の小さい炭素被膜は、水分や水素ガスの透過防止性能に
優れているので、光ファイバの耐水素特性を向上でき
る。そのうえクラスタサイズが小さくしかも安定してい
る炭素被膜が光ファイバ裸線上に成膜されると、光ファ
イバの機械的強度も改善される。
[Operation] In the production method of the present invention, the source gas is flowed at a high speed, so that it is possible to prevent the radical species generated by the reaction of the source radicals in the gas phase from increasing. As a result, a carbon coating having a small cluster size and a small variation in size can be formed on the bare optical fiber. Since the carbon coating having a small cluster size is excellent in preventing moisture and hydrogen gas from permeating, the hydrogen resistance of the optical fiber can be improved. In addition, if a carbon coating having a small cluster size and a stable carbon coating is formed on the bare optical fiber, the mechanical strength of the optical fiber is also improved.

〔実施例〕〔Example〕

(実施例1) 第1図は、この発明の光ファイバの製造方法に好適に
用いられる光ファイバの製造装置の一例を示したもので
ある。第1図中、符号1は光ファイバ裸線である。光フ
ァイバ裸線1は光ファイバ母材(図示せず)を光ファイ
バ紡糸炉2内で加熱紡糸したもので、紡糸された光ファ
イバ裸線1は、冷却用ヘリウムが流通する冷却管12を経
てCVD反応炉3内へ導かれるようになっている。このCVD
反応炉3は、その内部にてCVD反応を進行させ光ファイ
バ裸線1表面に炭素被膜を形成するもので、反応管4と
発熱体5とで概略構成されている。反応管4は、内径50
mm、長さ900mmのほぼ円筒状のものである。この反応管
4の上部には、原料ガスを供給するための供給管6が設
けられており、下部には未反応ガス等を排気する排気管
7が設けられている。発熱体5には、赤外線を放射する
発熱抵抗体が用いられている。CVD反応炉3の反応管4
の下端には、反応炉3内の気密を保つガスシール機構8
が連設されている。このCVD反応炉3の下方には、樹脂
コート用ダイスポット9と硬化装置10とが連続して設け
られており、上記CVD反応炉3内で形成された炭素被膜
上に保護被膜層を形成できるようになっている。
Embodiment 1 FIG. 1 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus suitably used in the optical fiber manufacturing method of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is obtained by heating and spinning an optical fiber preform (not shown) in an optical fiber spinning furnace 2, and the spun optical fiber 1 passes through a cooling pipe 12 through which helium for cooling flows. It is led into the CVD reactor 3. This CVD
The reaction furnace 3 forms a carbon coating on the surface of the bare optical fiber 1 by advancing a CVD reaction in the inside thereof, and is roughly constituted by a reaction tube 4 and a heating element 5. Reaction tube 4 has an inner diameter of 50
mm, 900 mm long, almost cylindrical. A supply pipe 6 for supplying a raw material gas is provided at an upper portion of the reaction tube 4, and an exhaust pipe 7 for exhausting unreacted gas and the like is provided at a lower portion. As the heating element 5, a heating resistor that emits infrared rays is used. Reaction tube 4 of CVD reactor 3
A gas seal mechanism 8 for keeping the airtight inside the reactor 3
Are connected. A resin coating die spot 9 and a curing device 10 are continuously provided below the CVD reactor 3 so that a protective coating layer can be formed on the carbon coating formed in the CVD reactor 3. It has become.

この光ファイバ製造装置を用いて次のように光ファイ
バを製造した。
An optical fiber was manufactured using this optical fiber manufacturing apparatus as follows.

まず光ファイバ紡糸炉2に、GeO2がドープ材として含
浸されたコア部を有する外径30mmの単一モードファイバ
母材を設置した。この光ファイバ母材を2000℃に加熱し
15m/分の紡糸速度で外径125μmの単一モードファイバ
に紡糸した。そしてこの紡糸されたファイバ裸線1を、
冷却筒12で50℃に冷却した後CVD反応炉3に導入して炭
素被膜を形成した。
First, a single mode fiber preform having an outer diameter of 30 mm and a core portion impregnated with GeO 2 as a doping material was installed in the optical fiber spinning furnace 2. This optical fiber preform is heated to 2000 ° C.
The fiber was spun into a single mode fiber having an outer diameter of 125 μm at a spinning speed of 15 m / min. And this spun fiber bare wire 1 is
After cooling to 50 ° C. in the cooling cylinder 12, it was introduced into the CVD reactor 3 to form a carbon coating.

成膜条件は以下の通りである。 The film forming conditions are as follows.

原料ガスには、ベンゼン化合物中にキャリアガスとし
てのヘリウムガスを導入することによって発生させたベ
ンゼン/ヘリウム混合ガスを用いた。
As a source gas, a benzene / helium mixed gas generated by introducing a helium gas as a carrier gas into a benzene compound was used.

上記反応炉3を通過し炭素被膜で被覆された光ファイ
バ裸線1を、ウレタンアクリレート樹脂液(ヤング率70
kg/mm2,伸び60%)が封入された樹脂コート用ダイスポ
ット9に挿通し、ついでUVランプを備えた硬化装置10に
より塗布された樹脂を硬化させて保護被覆層とし、外径
250μmの光ファイバとした。
The bare optical fiber 1 passed through the reaction furnace 3 and coated with a carbon coating was coated with a urethane acrylate resin solution (Young's modulus 70
(kg / mm 2 , elongation 60%) is inserted into the resin coating die spot 9 in which the resin is applied, and the applied resin is cured by a curing device 10 equipped with a UV lamp to form a protective coating layer.
An optical fiber of 250 μm was used.

(他の実施例および比較例) 原料ガスの流速を変化させて光ファイバを作成した。
他の条件は実施例1と同様である。各光ファイバを製作
した際の原料ガスの流速は、第1表に示す。
(Other Examples and Comparative Examples) An optical fiber was produced by changing the flow rate of the raw material gas.
Other conditions are the same as in the first embodiment. Table 1 shows the flow rate of the raw material gas when each optical fiber was manufactured.

(試験1) 上述の如き条件で製造された光ファイバをそれぞれ1k
mとり、波長1.24μmにおける伝送損失を測定した。こ
の後、これらを直径150mmに巻いて束状とし、温度80
℃、水素分圧1atmの水素評価用加圧容器の中に48時間放
置した。この後、再度波長1.24μmにおける伝送損失を
測定して、水素による吸収損失の増加を調べた。結果を
第1表に示す。
(Test 1) Each of the optical fibers manufactured under the conditions described above was 1 k
The transmission loss at a wavelength of 1.24 μm was measured. After that, they are wound into a bundle by winding them to a diameter of 150 mm,
It was left for 48 hours in a pressure vessel for hydrogen evaluation at 1 ° C. and a hydrogen partial pressure of 1 atm. Thereafter, the transmission loss at a wavelength of 1.24 μm was measured again to examine the increase in absorption loss due to hydrogen. The results are shown in Table 1.

(試験2) 製造した各光ファイバの引っ張り強度を測定した。引
っ張り試験の条件は、試験本数25本、ゲージ長3m、歪速
度10%/分、温度23℃、相対湿度50%とし、破断確率と
引っ張り強度のワイブルプロットを行い、50%破断確率
の引っ張り強度で評価した。この結果を第1表に併せて
示す。
(Test 2) The tensile strength of each manufactured optical fiber was measured. The conditions for the tensile test were 25 test pieces, a gauge length of 3 m, a strain rate of 10% / min, a temperature of 23 ° C, and a relative humidity of 50%. Weibull plotting of the probability of breakage and tensile strength was performed, and the tensile strength of 50% breakage probability was determined. Was evaluated. The results are shown in Table 1.

(試験3) 製造された光ファイバの炭素被膜を走査型電子顕微鏡
で観察してクラスタサイズを測定した。結果を第1表に
記す。
(Test 3) The carbon size of the manufactured optical fiber was observed with a scanning electron microscope to measure the cluster size. The results are shown in Table 1.

第1表の結果から、原料ガスの流速を40m/分未満に設
定すると(比較例1,2)、形成される炭素被膜のクラス
タサイズが大きくなり、得られる光ファイバは耐水素特
性に劣るものとなることが判明した。
From the results in Table 1, when the flow rate of the raw material gas is set to less than 40 m / min (Comparative Examples 1 and 2), the cluster size of the formed carbon coating increases, and the obtained optical fiber has poor hydrogen resistance. It turned out to be.

また原料ガスを80m/分を越える流速で流すと(比較例
3,4)、炭素被膜の成膜速度が極めて遅くなり、通常の
紡糸速度の範囲では必要な膜厚の炭素被膜を形成できな
いことが判明した これに対して原料ガスの流速を40〜80m/分の範囲で設
定すると(実施例1〜3)、クラスタサイズが小さくし
かもサイズが安定した炭素被膜を形成できた。そして得
られる光ファイバは耐水素特性および引っ張り特性が共
に良好なものとなることが判明した。
When the source gas is flowed at a flow rate exceeding 80 m / min (Comparative Example
3,4), it was found that the film formation speed of the carbon film was extremely slow, and it was found that the carbon film of the required thickness could not be formed within the normal spinning speed range. When set within the range of minutes (Examples 1 to 3), a carbon film having a small cluster size and a stable size could be formed. It was found that the obtained optical fiber had good hydrogen resistance and tensile properties.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したようにこの発明の光ファイバの製造方法
では、原料ガスの流速を40〜80m/分に設定したので、原
料ラジカルが気相で反応して生じるラジカル種が大きく
なるのを阻止できる。この結果、クラスタサイズが小さ
く、水分や水素ガス透過防止性能に優れ、しかも機械的
強度の点でも優れた炭素被膜を光ファイバ裸線上に形成
できる。よってこの発明の光ファイバの製造方法によれ
ば、より優れた耐水素特性および機械的強度を有する光
ファイバを製造できる。
As described above, in the method of manufacturing an optical fiber according to the present invention, the flow rate of the raw material gas is set to 40 to 80 m / min, so that the radical species generated by the reaction of the raw material radicals in the gas phase can be prevented from increasing. As a result, it is possible to form a carbon coating on the bare optical fiber having a small cluster size, excellent moisture and hydrogen gas permeation prevention performance, and excellent mechanical strength. Therefore, according to the method of manufacturing an optical fiber of the present invention, an optical fiber having more excellent hydrogen resistance and mechanical strength can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、実施例で用いた光ファイバ製造装置を示す概
略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an optical fiber manufacturing apparatus used in an embodiment.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鶴崎 幸司 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 荒木 真治 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 鈴木 秀雄 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株 式会社佐倉工場内 (72)発明者 吉澤 信幸 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 勝山 豊 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Koji Tsuruzaki 1440, Mukurosaki, Sakura-shi, Chiba Fujikura Electric Cable Co., Ltd.Sakura Plant (72) Inventor Shinji Araki 1440, Mukurosaki, Sakura-shi, Chiba Fujikura Electric Wire Co., Ltd.Sakura Plant (72) Inventor Hideo Suzuki 1440, Murosaki, Sakura-shi, Chiba Prefecture Fujikura Electric Wire & Cable Co., Ltd.Sakura Plant (72) Inventor Nobuyuki Yoshizawa 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Yutaka Katsuyama Nippon Telegraph and Telephone Corporation

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】紡糸された光ファイバ裸線上に熱化学気相
成長法により炭素被膜を形成するに際し、反応管中の原
料ガス流速を40m/分〜80m/分に設定したことを特徴とす
る光ファイバの製造方法。
1. A method of forming a carbon coating on a bare optical fiber spun by a thermal chemical vapor deposition method, wherein a flow rate of a raw material gas in a reaction tube is set to 40 m / min to 80 m / min. Optical fiber manufacturing method.
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