JP2824894B2 - パラレルシーム接合装置およびパラレルシーム接合方法 - Google Patents
パラレルシーム接合装置およびパラレルシーム接合方法Info
- Publication number
- JP2824894B2 JP2824894B2 JP6257525A JP25752594A JP2824894B2 JP 2824894 B2 JP2824894 B2 JP 2824894B2 JP 6257525 A JP6257525 A JP 6257525A JP 25752594 A JP25752594 A JP 25752594A JP 2824894 B2 JP2824894 B2 JP 2824894B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pair
- axis
- joining
- electrode
- parallel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，半導体集積回路や水晶
振動子などを収容してなるセラミックや金属製などの外
囲器と蓋とを接合するのに適したパラレルシーム接合装
置に関する。
振動子などを収容してなるセラミックや金属製などの外
囲器と蓋とを接合するのに適したパラレルシーム接合装
置に関する。
【０００２】
【従来技術】半導体集積回路や水晶振動子などの回路素
子を気密封止するパラレルシーム接合装置は，一般に外
囲器であるセラミックパッケージとコバール製の蓋とを
重ねておき一対のローラ状の接合用電極がその上を加圧
しながら回動し，これら一対のローラ状の接合用電極の
一方から蓋を通して他方へ電流を流すことにより外囲器
と蓋とを連続線状に接合する。
子を気密封止するパラレルシーム接合装置は，一般に外
囲器であるセラミックパッケージとコバール製の蓋とを
重ねておき一対のローラ状の接合用電極がその上を加圧
しながら回動し，これら一対のローラ状の接合用電極の
一方から蓋を通して他方へ電流を流すことにより外囲器
と蓋とを連続線状に接合する。
【０００３】ここで蓋の材料として選択されるコバール
（登録商標）は鉄，ニッケル，コバルトの合金であって
セラミックの膨張係数と等しくなるような材料であり，
磁性材料が主成分であるためコバールも磁性体である。
そのため接合時の大電流の磁界の作用によって接合前の
コバール製の蓋は位置ずれが発生することにもなる。そ
のため１個ずつ接合作業をしたり，連続作業をするとき
には作業待ちの蓋については機械的に固定する装置を併
用するなどしていた。
（登録商標）は鉄，ニッケル，コバルトの合金であって
セラミックの膨張係数と等しくなるような材料であり，
磁性材料が主成分であるためコバールも磁性体である。
そのため接合時の大電流の磁界の作用によって接合前の
コバール製の蓋は位置ずれが発生することにもなる。そ
のため１個ずつ接合作業をしたり，連続作業をするとき
には作業待ちの蓋については機械的に固定する装置を併
用するなどしていた。
【０００４】また，このパラレルシーム接合方法におい
ては，ローラ電極を回動させてワークの縁を移動して行
くので，このローラ電極の移動による反作用力に耐える
だけの力で仮付け前処理をしておく必要がある。この仮
付けのときにも作業待ちの蓋は磁気力によって位置ずれ
が発生する問題がある。そのため仮付け工程と本作業の
パラレルシーム接合との両方の作業のために２回ローラ
電極の移動循環させることになり，作業時間が長くなる
問題がある。
ては，ローラ電極を回動させてワークの縁を移動して行
くので，このローラ電極の移動による反作用力に耐える
だけの力で仮付け前処理をしておく必要がある。この仮
付けのときにも作業待ちの蓋は磁気力によって位置ずれ
が発生する問題がある。そのため仮付け工程と本作業の
パラレルシーム接合との両方の作業のために２回ローラ
電極の移動循環させることになり，作業時間が長くなる
問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はパラレルシー
ム接合装置において，接合時の電流による磁界の影響を
防止することを第１の課題とする。またパラレルシーム
接合方法において，仮付けを効率よく処理する方法を得
ることを第２の課題とする。
ム接合装置において，接合時の電流による磁界の影響を
防止することを第１の課題とする。またパラレルシーム
接合方法において，仮付けを効率よく処理する方法を得
ることを第２の課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】第１の課題を解決するた
め，本発明では以下の手段を提案するものである。所定
回路素子又は電子回路を収納してなる外囲器と磁性材料
を含む蓋部材とを同一平面上のＸ軸，Ｙ軸に沿って多数
載置できるパレットと，Ｙ軸に沿って回動可能に配設し
た一対の接合用電極と，この一対の接合用電極のそれぞ
れに連なるとともにＸ軸に平行な一対の回転軸と，この
一対の回転軸を軸支する一対の電極ホルダと，この一対
の電極ホルダの下端面に張られた磁気シールド板と，前
記一対の回転軸に交流電流を流す接合用変圧器とからな
ることを特徴とするパラレルシーム接合装置。
め，本発明では以下の手段を提案するものである。所定
回路素子又は電子回路を収納してなる外囲器と磁性材料
を含む蓋部材とを同一平面上のＸ軸，Ｙ軸に沿って多数
載置できるパレットと，Ｙ軸に沿って回動可能に配設し
た一対の接合用電極と，この一対の接合用電極のそれぞ
れに連なるとともにＸ軸に平行な一対の回転軸と，この
一対の回転軸を軸支する一対の電極ホルダと，この一対
の電極ホルダの下端面に張られた磁気シールド板と，前
記一対の回転軸に交流電流を流す接合用変圧器とからな
ることを特徴とするパラレルシーム接合装置。
【０００７】第２の課題を解決するため，本発明では以
下の手段を提案するものである。所定回路素子又は電子
回路を収納してなる外囲器と磁性材料を含む蓋部材とを
同一平面上のＸ軸，Ｙ軸に沿って多数載置できるパレッ
トと，Ｙ軸に沿って回動可能に配設した一対の接合用電
極と，この一対の接合用電極のそれぞれに連なるととも
にＸ軸に平行な一対の回転軸と，この一対の回転軸を軸
支する一対の電極ホルダと，この一対の電極ホルダの下
端面に張られた磁気シールド板と，前記一対の回転軸に
交流電流を流す接合用変圧器とからなり，前記外囲器と
蓋部材を接合するパラレルシーム接合方法であって，以
下の工程： （１）前記電極ホルダを固定加圧して微小時間電流を流
して仮付けする工程と， （２）前記接合用電極を加圧しながら蓋部材の平行する
辺のＹ軸方向に回動移動させるパラレルシーム接合工程
と， （３）前記電極ホルダをＹ軸方向へ移動して外囲器１個
分シフトする工程と， （４）上記（１）〜（３）の工程を繰り返す工程群と， （５）前記パレットを９０゜転回する工程と， （６）上記（２）〜（３）の工程を繰り返す工程群と， からなるパラレルシーム接合方法。
下の手段を提案するものである。所定回路素子又は電子
回路を収納してなる外囲器と磁性材料を含む蓋部材とを
同一平面上のＸ軸，Ｙ軸に沿って多数載置できるパレッ
トと，Ｙ軸に沿って回動可能に配設した一対の接合用電
極と，この一対の接合用電極のそれぞれに連なるととも
にＸ軸に平行な一対の回転軸と，この一対の回転軸を軸
支する一対の電極ホルダと，この一対の電極ホルダの下
端面に張られた磁気シールド板と，前記一対の回転軸に
交流電流を流す接合用変圧器とからなり，前記外囲器と
蓋部材を接合するパラレルシーム接合方法であって，以
下の工程： （１）前記電極ホルダを固定加圧して微小時間電流を流
して仮付けする工程と， （２）前記接合用電極を加圧しながら蓋部材の平行する
辺のＹ軸方向に回動移動させるパラレルシーム接合工程
と， （３）前記電極ホルダをＹ軸方向へ移動して外囲器１個
分シフトする工程と， （４）上記（１）〜（３）の工程を繰り返す工程群と， （５）前記パレットを９０゜転回する工程と， （６）上記（２）〜（３）の工程を繰り返す工程群と， からなるパラレルシーム接合方法。
【０００８】
【実施例】図１は本発明にかかるパラレルシーム接合装
置の一実施例である。図において１は１００Ｖの交流電
源であり，３は互いに逆並列接続されたサイリスタであ
り，５は変圧器であり，これらにより変圧器５の１次側
への電力供給と制御する回路が形成される。変圧器５の
１次巻線と２次巻線との巻数比は２０：１から５０：１
までの適当な比にタップ選定される。したがって２次巻
線には巻数の逆比の１次電流の２０倍から５０倍までの
大きな電流を流すことができる。変圧器５の２次巻線に
は一対の電極ホルダ９が接続され，この一対の電極ホル
ダ９はそれぞれ一対のローラ電極７の回転軸７Ａ，７Ｂ
を支える。これら一対の回転軸は接合用の電流路とな
り，溶接待ちの被加工物（ワーク）上に沿って溶接電流
を流すので，回転軸７Ａ，７Ｂを同心円とする磁界を形
成する。接合用の電流路となる。そして電極ホルダ９の
下端面には薄い珪素鋼板でできた磁気シールド板１５が
張り付けられている。ワークであるセラミックパッケー
ジ１３とコバール製の蓋１４は，図４に示すようにパレ
ット１１の上に５０個から１００個程の数がＸ軸とＹ軸
にそって縦横に並べて置かれる。
置の一実施例である。図において１は１００Ｖの交流電
源であり，３は互いに逆並列接続されたサイリスタであ
り，５は変圧器であり，これらにより変圧器５の１次側
への電力供給と制御する回路が形成される。変圧器５の
１次巻線と２次巻線との巻数比は２０：１から５０：１
までの適当な比にタップ選定される。したがって２次巻
線には巻数の逆比の１次電流の２０倍から５０倍までの
大きな電流を流すことができる。変圧器５の２次巻線に
は一対の電極ホルダ９が接続され，この一対の電極ホル
ダ９はそれぞれ一対のローラ電極７の回転軸７Ａ，７Ｂ
を支える。これら一対の回転軸は接合用の電流路とな
り，溶接待ちの被加工物（ワーク）上に沿って溶接電流
を流すので，回転軸７Ａ，７Ｂを同心円とする磁界を形
成する。接合用の電流路となる。そして電極ホルダ９の
下端面には薄い珪素鋼板でできた磁気シールド板１５が
張り付けられている。ワークであるセラミックパッケー
ジ１３とコバール製の蓋１４は，図４に示すようにパレ
ット１１の上に５０個から１００個程の数がＸ軸とＹ軸
にそって縦横に並べて置かれる。
【０００９】
【接合工程の概要】次にこのパラレルシーム接合装置の
動作について説明する。パラレルシーム接合には以下の
工程からなる。第１に仮付け工程，第２にＹ軸方向のシ
ーム接合工程，第３にＹ軸方向のピッチ送り工程，そし
てこれら第１から第３の工程の繰り返しをする。そして
Ｙ軸方向のピッチ送り工程が端部にきたときに，１列Ｘ
軸方向に平行移動して，上記の第１から第３の工程の繰
り返しをする。そしてＹ軸方向の全ての縁のシーム接合
が完了した後に，９０°回転してＸ軸を従前のＹ軸方向
に向きを換え，その状態で上述のＹ軸方向と同様（ただ
し仮付け工程は不要）の工程を再度繰り返して完了まで
続ける。
動作について説明する。パラレルシーム接合には以下の
工程からなる。第１に仮付け工程，第２にＹ軸方向のシ
ーム接合工程，第３にＹ軸方向のピッチ送り工程，そし
てこれら第１から第３の工程の繰り返しをする。そして
Ｙ軸方向のピッチ送り工程が端部にきたときに，１列Ｘ
軸方向に平行移動して，上記の第１から第３の工程の繰
り返しをする。そしてＹ軸方向の全ての縁のシーム接合
が完了した後に，９０°回転してＸ軸を従前のＹ軸方向
に向きを換え，その状態で上述のＹ軸方向と同様（ただ
し仮付け工程は不要）の工程を再度繰り返して完了まで
続ける。
【００１０】
【仮付け工程】仮付け工程について詳しく説明する。パ
レット11は図１に示す状態で静止しており，セラミック
パッケージ13も蓋14を載せて静止している。そして電極
ホルダ９は静止状態で，上から500 グラムから２キログ
ラム重の力で下方に押されるので，ローラ電極７はこの
力を受けて，セラミックパッケージ13の上に置かれた蓋
14の縁を押す。この状態でサイリスタ３は点弧信号（図
示せず）により位相制御点弧して，変圧器５の１次巻線
には位相制御された交流電流を流す。その交流電流は図
２に示すような波形が流れる。この１次電流により変圧
器５の２次巻線から蓋14を経由する回路には実効値約10
0Aの電流を３周期（60ms) 流すことによりセラミックパ
ッケージ13と蓋14とは向かい合った１点ずつが仮接合さ
れる。この１点ずつの仮付けにより次のシーム接合工程
では蓋14がずれることなく作業を進めることができる。
レット11は図１に示す状態で静止しており，セラミック
パッケージ13も蓋14を載せて静止している。そして電極
ホルダ９は静止状態で，上から500 グラムから２キログ
ラム重の力で下方に押されるので，ローラ電極７はこの
力を受けて，セラミックパッケージ13の上に置かれた蓋
14の縁を押す。この状態でサイリスタ３は点弧信号（図
示せず）により位相制御点弧して，変圧器５の１次巻線
には位相制御された交流電流を流す。その交流電流は図
２に示すような波形が流れる。この１次電流により変圧
器５の２次巻線から蓋14を経由する回路には実効値約10
0Aの電流を３周期（60ms) 流すことによりセラミックパ
ッケージ13と蓋14とは向かい合った１点ずつが仮接合さ
れる。この１点ずつの仮付けにより次のシーム接合工程
では蓋14がずれることなく作業を進めることができる。
【００１１】
【シーム接合工程】シーム接合工程は，一対の電極ホル
ダ９を図１の紙面に垂直方向に移動させてローラ電極９
を蓋14の両縁に接触回転させながら，サイリスタ３を点
弧させる。ローラ電極９の移動速度と流す電流値につい
ては，接合結果が好ましくなるように定める。一例とし
て３mm×６mm×０．１mmのコバール製の蓋14では，接合
電流実効値100Aで６mmの辺を0.6 秒間でローラ電極９を
移動させて好ましい結果が得られた。
ダ９を図１の紙面に垂直方向に移動させてローラ電極９
を蓋14の両縁に接触回転させながら，サイリスタ３を点
弧させる。ローラ電極９の移動速度と流す電流値につい
ては，接合結果が好ましくなるように定める。一例とし
て３mm×６mm×０．１mmのコバール製の蓋14では，接合
電流実効値100Aで６mmの辺を0.6 秒間でローラ電極９を
移動させて好ましい結果が得られた。
【００１２】
【磁界作用の防止】以上説明してきた接合工程における
電極からワークに流れる電流は実効値に比較してピーク
値はその数倍の値にもなり，このピーク値に対応して瞬
間的に高磁界が発生する。この高磁界によって，加工待
ちの他の蓋14に対して飛び出そうとする力が作用する。
ここで磁気シールド板15は磁気の発生源である電極ホル
ダ９と磁力を受ける蓋14との間にあって磁気シールドを
行うので，蓋14には位置ずれの力は作用しなくなる。
電極からワークに流れる電流は実効値に比較してピーク
値はその数倍の値にもなり，このピーク値に対応して瞬
間的に高磁界が発生する。この高磁界によって，加工待
ちの他の蓋14に対して飛び出そうとする力が作用する。
ここで磁気シールド板15は磁気の発生源である電極ホル
ダ９と磁力を受ける蓋14との間にあって磁気シールドを
行うので，蓋14には位置ずれの力は作用しなくなる。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように本発明にかかるパラ
レルシーム接合装置においては，接合時の電流による磁
界の影響を防止することができる。しかもこの防止のた
めの構造は磁界の発生源に直接設置してあるので，ワー
クの位置や数がどのような場合においても完璧に磁界の
影響を防止することができる。また本発明にかかるパラ
レルシーム接合方法においては，多数のワークをパレッ
トに載置した状態で仮付けと本作業のパラレルシーム接
合とを１行程で効率よく処理する方法を得ることができ
る。したがって装置の構造は簡素で経済的であり，その
上作業工程の効率が向上する効果がある。
レルシーム接合装置においては，接合時の電流による磁
界の影響を防止することができる。しかもこの防止のた
めの構造は磁界の発生源に直接設置してあるので，ワー
クの位置や数がどのような場合においても完璧に磁界の
影響を防止することができる。また本発明にかかるパラ
レルシーム接合方法においては，多数のワークをパレッ
トに載置した状態で仮付けと本作業のパラレルシーム接
合とを１行程で効率よく処理する方法を得ることができ
る。したがって装置の構造は簡素で経済的であり，その
上作業工程の効率が向上する効果がある。
【図１】本発明にかかるパラレルシーム接合装置の一実
施例を示す。
施例を示す。
【図２】接合部に流れる電流波形を示す。
【図３】セラミックパッケージの断面図である。
【図４】パレットとそれに載置させるセラミックパッケ
ージの図である。
ージの図である。
１…交流電源 ３…サイリスタ ５…変圧器 ７…ローラ電極 ９…電極ホルダ 11…パレット 13…セラミックパッケージ 14…蓋 15…磁気シー
ルド板
ルド板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B23K 11/00 B23K 11/06
Claims (2)
- 【請求項１】所定回路素子又は電子回路を収納してなる
外囲器と磁性材料を含む蓋部材とを同一平面上のＸ軸，
Ｙ軸に沿って多数載置できるパレットと，Ｙ軸に沿って
回動可能に配設した一対の接合用電極と，この一対の接
合用電極のそれぞれに連なるとともにＸ軸に平行な一対
の回転軸と，この一対の回転軸を軸支する一対の電極ホ
ルダと，この一対の電極ホルダの下端面に張られた磁気
シールド板と，前記一対の回転軸に交流電流を流す接合
用変圧器とからなることを特徴とするパラレルシーム接
合装置。 - 【請求項２】所定回路素子又は電子回路を収納してなる
外囲器と磁性材料を含む蓋部材とを同一平面上のＸ軸，
Ｙ軸に沿って多数載置できるパレットと，Ｙ軸に沿って
回動可能に配設した一対の接合用電極と，この一対の接
合用電極のそれぞれに連なるとともにＸ軸に平行な一対
の回転軸と，この一対の回転軸を軸支する一対の電極ホ
ルダと，この一対の電極ホルダの下端面に張られた磁気
シールド板と，前記一対の回転軸に交流電流を流す接合
用変圧器とからなり， 前記外囲器と蓋部材を接合するパラレルシーム接合方法
であって，以下の工程： （１）前記電極ホルダを固定加圧して微小時間電流を流
して仮付けする工程と， （２）前記接合用電極を加圧しながら蓋部材の平行する
辺のＹ軸方向に回動移動させるパラレルシーム接合工程
と， （３）前記電極ホルダをＹ軸方向へ移動して外囲器１個
分シフトする工程と， （４）上記（１）〜（３）の工程を繰り返す工程群と， （５）前記パレットを９０゜転回する工程と， （６）上記（２）〜（３）の工程を繰り返す工程群と， からなるパラレルシーム接合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6257525A JP2824894B2 (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | パラレルシーム接合装置およびパラレルシーム接合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6257525A JP2824894B2 (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | パラレルシーム接合装置およびパラレルシーム接合方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0890244A JPH0890244A (ja) | 1996-04-09 |
| JP2824894B2 true JP2824894B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=17307512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6257525A Expired - Fee Related JP2824894B2 (ja) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | パラレルシーム接合装置およびパラレルシーム接合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2824894B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59175141A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Toshiba Corp | 半導体外囲器封止装置 |
| JPS6089980U (ja) * | 1983-11-25 | 1985-06-20 | 三菱電機株式会社 | 溶接機の給電装置 |
-
1994
- 1994-09-27 JP JP6257525A patent/JP2824894B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0890244A (ja) | 1996-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6347151B2 (ja) | ||
| JP2824894B2 (ja) | パラレルシーム接合装置およびパラレルシーム接合方法 | |
| ES8303957A1 (es) | "una disposicion de fuente de energia electrica con un inversor estatico y un transformador de soldadura para una maquina de soldar por resistencia". | |
| US4273986A (en) | Method and apparatus for arc butt welding | |
| US3920949A (en) | Beam leaded device welding machine | |
| JPH1133737A (ja) | 被溶接物及びその溶接方法 | |
| US3612813A (en) | Method of forming a lightweight metal sandwich having a honeycomb core | |
| ATE36130T1 (de) | Widerstandsverbindungsverfahren zum loeten oder schweissen metastabiler metalle. | |
| US1989172A (en) | Apparatus for electric welding | |
| US4625091A (en) | Method and apparatus for welding a cover on a circuit enclosure | |
| JPS6063941A (ja) | 半導体装置の製法 | |
| WO1986000035A1 (en) | Resistance welder | |
| JPH01228674A (ja) | 溶接方法 | |
| AU587165B2 (en) | Resistance welder | |
| JPH03226361A (ja) | プラズマ液相拡散ろう付方法 | |
| JP2913605B2 (ja) | スポット溶接装置 | |
| JPS63177977A (ja) | スポツト溶接方法 | |
| SU1738539A1 (ru) | Способ контактной стыковой сварки сопротивлением | |
| SINELNIKOV et al. | Device for high frequency arc welding[Abstract Only] | |
| JPH0371985A (ja) | コンデンサ形スポット溶接機 | |
| SU1648688A1 (ru) | Способ сварки давлением | |
| JP3318878B2 (ja) | 熱圧着ツール及びこれを用いた熱圧着装置 | |
| JPS588955B2 (ja) | シ−ム溶接法 | |
| JPH0671455A (ja) | スポット溶接の方法 | |
| JPH0263685A (ja) | 溶接方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980813 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080911 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090911 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090911 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100911 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100911 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110911 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110911 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911 Year of fee payment: 15 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |