JP2819183B2 - Solder chip and manufacturing method thereof - Google Patents

Solder chip and manufacturing method thereof

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JP2819183B2
JP2819183B2 JP2121824A JP12182490A JP2819183B2 JP 2819183 B2 JP2819183 B2 JP 2819183B2 JP 2121824 A JP2121824 A JP 2121824A JP 12182490 A JP12182490 A JP 12182490A JP 2819183 B2 JP2819183 B2 JP 2819183B2
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solder
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、電気半田ごてのこて先や自動機用の半田
チップ等の半田用チップおよびその製造方法に関し、さ
らに詳細には、製造が用で生産性が高く、かつ歩留りが
良好な半田用チップおよびその製造方法に関するもので
ある。
Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a soldering tip such as a soldering iron tip for an electric soldering iron or a soldering tip for an automatic machine and a method for manufacturing the same. The present invention relates to a solder chip having high productivity and good yield and a method for manufacturing the same.

(従来の技術) 電気半田ごてのこて先等の半田用チップには、熱伝導
が良好であること、および半田の濡れ性に優れているこ
とが要求され、通常、これらの要求を満たす材料として
銅が用いられている、一方、銅には半田やフラックスに
対する耐蝕性に劣るという欠点があり、こて先全体が銅
のみから形成されている場合は、連続的な半田付け作業
等において、半田やフラックスの浸蝕作用により早期に
こて先が減ってしまい、寿命が比較的短いという問題が
ある。この問題は、特に、チップ先端径が1mm以下に形
成された精密半田付作業用のこて先において顕著であっ
た。
(Prior Art) Solder chips such as an iron tip of an electric soldering iron are required to have good thermal conductivity and excellent solder wettability, and usually satisfy these requirements. Copper is used as a material.On the other hand, copper has a disadvantage that it is inferior in corrosion resistance to solder and flux, and when the entire tip is formed only of copper, it is used in continuous soldering work etc. In addition, there is a problem that the tip is reduced at an early stage due to the erosion effect of solder or flux, and the life is relatively short. This problem was particularly remarkable in a precision soldering tip having a tip diameter of 1 mm or less.

そこで、従来は、第8図(c)に示すように、銅製基
体aの表面全体に、耐蝕性に優れる鉄メッキ層bが50〜
500μm程度の厚さで形成された構造のものが一般に使
用されていた。
Therefore, conventionally, as shown in FIG. 8 (c), an iron plating layer b having excellent corrosion resistance is formed on the entire surface of the copper base a by 50 to 50%.
A structure having a thickness of about 500 μm was generally used.

このこて先の製造にあたっては、まず銅製基体aのチ
ップ形状に成形加工し(第8図(a))、次いで、この
表面全体に鉄メッキ層を形成した後(第8図(b))、
チップ先端等の角部における鉄メッキ層の盛り上がり部
分b′を、旋盤を用いた旋削加工等の表面仕上げにより
除去し、第8図(c)のような製品としている。ちなみ
に、上記鉄メッキ層の盛り上がり部分b′は、鉄メッキ
処理が電解処理で長時間行うことに起因して、銅製基体
aの各角部の電流密度が高くなった結果生じるものであ
るが、この部分は材質が固くてもろく、分子構造上望ま
しくないことから、除去する必要があった。
In manufacturing this tip, first, it is formed into a chip shape of a copper base a (FIG. 8 (a)), and then an iron plating layer is formed on the entire surface (FIG. 8 (b)). ,
The raised portion b 'of the iron plating layer at the corner such as the tip of the tip is removed by surface finishing such as turning using a lathe to obtain a product as shown in FIG. 8 (c). Incidentally, the raised portion b 'of the iron plating layer is a result of an increase in the current density at each corner of the copper base a due to the fact that the iron plating process is performed for a long time in the electrolytic process. This portion had to be removed because the material was hard and brittle, which was undesirable in terms of molecular structure.

ところが、このような製造方法では、鉄メッキ層bの
厚さを外部から確認できないため、上記のような機械加
工による表面仕上げでは、たとえ表面輪郭が所期の形状
に形成されても、鉄メッキ層bの厚さにはバラツキが生
じてしまい、これがため、製品に均一な耐蝕性を付与す
ることができないという問題があった。
However, in such a manufacturing method, since the thickness of the iron plating layer b cannot be checked from the outside, even if the surface contour is formed by the machining described above, even if the surface contour is formed in an expected shape, the iron plating The thickness of the layer b varies, which causes a problem that uniform corrosion resistance cannot be imparted to the product.

また、精密半田付作業用のこて先のように、チップ先
端径が1mm以下の細径チップを製造する場合、例えば250
μm厚の鉄メッキ層bを施そうとすると、銅製基体aの
チップ先端径は0.5mm以下に形成しておく必要があると
ころ、このようにチップ先端径が細い銅製基体aを、機
械加工により製造することはきわめて困難で、実際上、
量産が不可能な状況にあった。
Also, when manufacturing a small-diameter chip with a tip diameter of 1 mm or less, such as a soldering tip for precision soldering work, for example, 250 mm
In order to apply an iron plating layer b having a thickness of μm, the tip diameter of the copper base a must be formed to be 0.5 mm or less. It is extremely difficult to manufacture and in practice,
Mass production was impossible.

この点に関して、近時、まず、第9図(a)に示すよ
うに、先端が球形に加工された丸棒状の銅製基体cを形
成した後、この表面に鉄メッキ層dを形成して、第9図
(b)に示すようなチップ基材とし、最後に、このチッ
プ基材を鍛圧加工(スエージング加工およびプレス加
工)により、第9図(c)に示すような所期の製品形状
に成形する方法が開発されている(例えば特公昭59−11
386号公報参照)。
In this regard, recently, as shown in FIG. 9 (a), first, after forming a round bar-shaped copper base c having a spherical tip, an iron plating layer d is formed on this surface. A chip base as shown in FIG. 9 (b) is formed, and finally this chip base is subjected to forging (swaging and pressing) to obtain an intended product shape as shown in FIG. 9 (c). A molding method has been developed (for example, Japanese Patent Publication No. 59-11).
No. 386).

この方法によれば、チップ先端となる銅製基体cの先
端部分が球面形状であるため、均一な厚さの鉄メッキ層
dの形成が可能となり、この結果、成形仕上後の鉄メッ
キ層cの厚さをある程度均一とするとともに、高品質の
製品を歩留りよく製造することが可能となった。
According to this method, since the tip portion of the copper base c serving as the tip end of the chip has a spherical shape, it is possible to form the iron plating layer d having a uniform thickness. The thickness can be made uniform to some extent, and high-quality products can be manufactured with good yield.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、この製造方法においても以下に列挙す
るような問題があり、そのさらなる改良が要望されてい
た。
(Problems to be Solved by the Invention) However, this manufacturing method also has the following problems, and further improvements have been demanded.

(1) 耐蝕性チップとしての性能を十分に確保するた
めには、銅製基体cの表面に形成する鉄被膜の厚さは、
少なくとも250μm以上とするのが望ましいが、この鉄
被膜を従来技術(特公昭59−11386号)にしたがって形
成するのでは、その生産性に問題があった。
(1) In order to ensure sufficient performance as a corrosion-resistant chip, the thickness of the iron coating formed on the surface of the copper base c is
It is desirable that the thickness be at least 250 μm or more. However, if this iron film is formed according to the conventional technique (Japanese Patent Publication No. 59-11386), there is a problem in productivity.

すなわち、鉄金属の電着において、1A/dm2通電する時
の鉄の析出厚は、陰極電流効率100%の数値で、Fe2+
オンが13.25μm/hr、Fe3+イオンが8.83μm/hrである。
したがって、上記のように250μm以上の厚さの鉄メッ
キ層bを得ようとすると、一昼夜という長時間を必要と
することとなり、その生産性がきわめて低い。
That is, in the electrodeposition of iron metal, the deposition thickness of iron when 1 A / dm 2 is applied is a value of the cathode current efficiency of 100%, 13.25 μm / hr for Fe 2+ ions, and 8.83 μm / hr for Fe 3+ ions. hr.
Therefore, in order to obtain the iron plating layer b having a thickness of 250 μm or more as described above, a long time of one day and night is required, and the productivity is extremely low.

(2) また、通常の鉄メッキ液中に含有されるFe2+
オンとFe3+イオンの量を的確に分析するのは非常に難し
く、ひいては、Fe2+イオンとFe3+イオンの量を常に同じ
比率に保つようにメッキ液管理をすることはきめて困難
な状況にあり、この点でも生産性が低い。
(2) In addition, it is very difficult to accurately analyze the amounts of Fe 2+ ions and Fe 3+ ions contained in a normal iron plating solution, and thus the amounts of Fe 2+ ions and Fe 3+ ions. It is extremely difficult to control the plating solution so as to always maintain the same ratio, and the productivity is also low in this respect.

しかも、このメッキ液管理が不十分であると、銅製基
体cの表面に施された鉄メッキ層dの硬度が高くなるこ
とがあり、これが原因で、半田ごてを加熱時に、鉄メッ
キ層部分に割れや剥離を生じることがある。
In addition, if the plating solution management is insufficient, the hardness of the iron plating layer d applied to the surface of the copper base c may increase, and this may cause the iron plating layer to be hardened when the soldering iron is heated. Cracking or peeling may occur.

(3) さらに、鉄メッキ層dの形成後にスエージング
加工等の鍛厚加工を施す方法では、メッキ処理終了後に
電着した鉄メッキ層dの厚さを正確に測定できないこと
や、鍛圧による変形により鉄メッキ層dの厚さにある程
度の不均一が生じることは避けることができない。
(3) Further, in the method in which forging such as swaging is performed after the formation of the iron plating layer d, the thickness of the electrodeposited iron plating layer d cannot be measured accurately after the plating process is completed, and the deformation due to forging pressure is caused. Due to this, it is unavoidable that the thickness of the iron plating layer d becomes somewhat uneven.

したがって、この方法でも、仕上がり製品の品質不均
一を起こすことは否めず、製品における鉄メッキ層の厚
さをコントロールして、目的に応じた品質の製品を供給
するということは実際上非常に困難であった。
Therefore, even with this method, it is unavoidable that the quality of the finished product will be uneven, and it is actually very difficult to control the thickness of the iron plating layer in the product and supply the product with the desired quality. Met.

本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもの
であって、耐蝕性にすぐれ、寿命も長く、しかも、製造
がきわめて容易で生産性にすぐれた半田用チップおよび
その製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such conventional problems, and provides a solder chip excellent in corrosion resistance, long in life, extremely easy to manufacture and excellent in productivity, and a method for manufacturing the same. The purpose is to:

(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明の半田用チップの製
造方法は、銅製基体の段差を設けた先端部分に、ビッカ
ース硬度が所定値以下の鉄製チップ部材を被覆状かつ一
体的に固着して、両者の外周面を面一な連続状とし、そ
の後、鉄製チップ部材が固着された基体の先端部分を、
スエージング加工などの鍛圧加工によって所定形状に絞
り込み成形し、最外部の層が剥離する場合を考慮して中
間層を設けた後、最外部の層として、鉄製チップ部材と
銅製基体との境界部分よりも先端側部分に半田メッキ層
を被覆形成する一方、その他の部分にクロムメッキ層を
被覆形成する。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, a method for manufacturing a soldering chip according to the present invention covers an iron tip member having a Vickers hardness of a predetermined value or less on a tip portion of a copper substrate having a step. Shape and integrally fixed, the outer peripheral surfaces of both are flush and continuous, then the tip of the base body to which the iron chip member is fixed,
After forming by drawing into a predetermined shape by forging processing such as swaging processing, and providing an intermediate layer in consideration of the case where the outermost layer is peeled off, as the outermost layer, the boundary portion between the iron chip member and the copper base body A solder plating layer is formed on the tip side, and a chrome plating layer is formed on the other portions.

また、本発明の半田用チップは、上記の方法により製
造される。
Further, the solder chip of the present invention is manufactured by the above method.

(作用) 半田付け作業時に半田やフラックスに接触する基体の
先端部分に、熱伝導性にすぐれ、かつ半田、フラックス
等に対して耐蝕性に優れた金属材料、例えば鉄製の薄肉
状チップ部材が、被覆状にかつ一体的に固着されている
ため、耐蝕性に劣る銅製基体が、その機能を損なうこと
なく、半田やフラックスによる侵蝕から有効に保護され
る。
(Function) A metal material having excellent thermal conductivity and excellent corrosion resistance to solder, flux, etc., for example, a thin chip member made of iron, for example, is provided on the tip portion of the base which comes into contact with solder or flux during soldering work. Since it is integrally fixed in the form of a coating, the copper base having poor corrosion resistance is effectively protected from erosion by solder or flux without impairing its function.

また、上記半田用チップの製造にあたっては、基体の
先端部分に、上記チップ部材を、圧入またはろう付け等
の手段により、被覆状にかつ一体的に固着し、この後、
この先端部分を、スエージング加工等の鍛圧加工により
所期の形状に成形するようにし、鉄メッキ等のメッキ処
理を不要とする。
Further, in manufacturing the solder chip, the chip member is fixedly and integrally fixed to the tip portion of the base by means such as press-fitting or brazing, and thereafter,
This tip portion is formed into a desired shape by forging processing such as swaging processing, so that plating processing such as iron plating is not required.

(実 施 例) 以下、本発明の実施例を図面に基いて説明する。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明に係る半田用チップを第1図に示し、該半田用
チップ1は、具体的には精密半田付作業用の電気半田ご
てのこて先であって、銅製の基体2の基部2aが円柱形状
とされるとともに、前部2bが尖鋭状の先端を有する段付
き先細形状とされている。また、該前部2bの先端側部分
は、鉄製のチップ部材3により被覆され、さらに、この
基体2の全周に、純鉄メッキ層4が被覆形成されてい
る。また、この純鉄メッキ層4の表面において、上記チ
ップ部材3と基体2との境界部分5よりも先端側部分に
は、半田メッキ層6が被覆形成されるとともに、その他
の部分に硬質クロムメッキ層7が形成されている。
FIG. 1 shows a soldering tip according to the present invention. Specifically, the soldering tip 1 is an iron tip of an electric soldering iron for precision soldering work, and includes a base 2 a of a copper base 2. Have a cylindrical shape, and the front portion 2b has a stepped tapered shape having a sharp tip. Further, the front end portion of the front portion 2b is covered with a tip member 3 made of iron, and a pure iron plating layer 4 is formed on the entire periphery of the base 2 so as to cover it. Further, on the surface of the pure iron plating layer 4, a solder plating layer 6 is formed so as to cover a tip end portion of the boundary portion 5 between the chip member 3 and the base 2, and hard chromium plating is applied to other portions. Layer 7 is formed.

チップ部材3は、半田やフラックスによる侵蝕作用か
ら銅製の基体2を保護する薄肉状のもので、上記基体2
の先端部分に、被覆状にかつ一体的に固着されている。
該チップ部材3の構成材料としては、図示例のような鉄
が最適であるが、このほか次の条件を満たす金属材料が
使用可能である。つまり、チップ部材3の構成材料に要
求される条件としては、(a)熱伝導性にすぐれるこ
と、(b)半田ののりが良いこと、(c)半田,フラッ
クス等に対して耐蝕性に優れること、および(d)基体
2の材料である銅と同様に比較的やわらかい(マイクロ
ビッカース硬度200以下)ことなどが挙げられる。
The chip member 3 is a thin member that protects the copper base 2 from erosion by solder or flux.
Is fixedly and integrally to the tip portion of the cover.
As the constituent material of the tip member 3, iron as shown in the illustrated example is optimal, but in addition, a metal material satisfying the following conditions can be used. In other words, the conditions required for the constituent material of the chip member 3 include (a) excellent thermal conductivity, (b) good solder paste, and (c) corrosion resistance to solder and flux. And (d) it is relatively soft (micro Vickers hardness of 200 or less) like copper as the material of the substrate 2.

純鉄メッキ層(マイクロビッカース硬度200以下)4
は、主として半田メッキ層6およびクロムメッキ層7が
剥離した場合を考慮して形成されるもので、基体2の先
端部への半田ののりを促進するとともに、加熱時におけ
る基体2の銅地表面の酸化を防止する作用をなす。
Pure iron plating layer (micro Vickers hardness 200 or less) 4
Is formed mainly in consideration of the case where the solder plating layer 6 and the chromium plating layer 7 are peeled off, which promotes the soldering to the tip of the base 2 and the copper ground surface of the base 2 during heating. Acts to prevent oxidation of

半田メッキ層6以外の部分に形成されるクロムメッキ
層7は、半田上がりを防止するためのもので、このほ
か、耐熱塗装やセラミックスコーティング等の被膜処理
も好適である。
The chromium plating layer 7 formed on a portion other than the solder plating layer 6 is for preventing the solder from rising, and in addition, a coating treatment such as heat-resistant coating or ceramic coating is also suitable.

次に、以上のように構成された半田用チップ(こて
先)1の製造方法について説明する。
Next, a method for manufacturing the soldering tip (iron tip) 1 configured as described above will be described.

第2図に示すような形状に加工された銅製基体2を
成形する。つまり、該銅製基体2は、円柱丸棒状とされ
るとともに、その先端部2cが段付きの球面形状(または
円錐形状)に形成されている。
A copper base 2 processed into a shape as shown in FIG. 2 is formed. That is, the copper base 2 is formed in a cylindrical round bar shape, and the tip 2c is formed in a stepped spherical shape (or conical shape).

この基体2の先端部2cに、鉄製のチップ部材3を被
覆状にかつ一体的に固着する固着手段としては、圧入ま
たはろう付けが適用される。
Press-fitting or brazing is applied as a fixing means for integrally fixing the iron chip member 3 to the front end portion 2c of the base 2 in a covering shape.

なお、チップ部材3は、第3図に示すような薄肉のキ
ャップ形状であって、鉄製材料をプレス加工、機械加工
などにより成形加工されてなり、その肉厚が上記基体2
の先端部2cの段付き部8の段差と同一寸法とされるとと
もに、その内周面3aが上記先端部2cの外周面9に一致す
る形状とされている。これにより、チップ部材3を基体
2に固着した状態において、第4図に示すように、チッ
プ部材3の外周面3bと基体2の外周面10とは面一に連続
状となる。
The tip member 3 has a thin cap shape as shown in FIG. 3, and is formed by pressing an iron material by pressing, machining, or the like.
The tip 2c has the same size as the step of the stepped portion 8 of the tip 2c, and the inner peripheral surface 3a has a shape matching the outer peripheral surface 9 of the tip 2c. As a result, in a state where the chip member 3 is fixed to the base 2, the outer peripheral surface 3b of the chip member 3 and the outer peripheral surface 10 of the base 2 are continuous with each other as shown in FIG.

この基体2の前部2bに、スエージング加工等の鍛圧
加工を施して、第5図に示すように、先端に向けて先端
のテーパ形状を予備成形する。
The front portion 2b of the base 2 is subjected to a forging process such as a swaging process, and a tapered shape at the tip is preformed toward the tip as shown in FIG.

予備成形された基体2の前部2bに、さらにスエージ
ング加工等の鍛圧加工を施して、第6図に示すように、
前部2bの後部をより絞り込んだ形状に成形する(細径段
付加工)。
The front portion 2b of the preformed base 2 is further subjected to forging such as swaging, as shown in FIG.
The rear part of the front part 2b is formed into a more narrowed shape (step processing with a small diameter).

この細径段付加工が施された前部2bの先端部を、第
7図に示すように斜めに切除11することにより(先端斜
めカット加工)、その先端径が1.0mm以下のものから1.0
mm以上のものまで、目的に応じた尖鋭なチップ形状を成
形加工する。
As shown in FIG. 7, the tip of the front part 2b on which the small diameter stepping is performed is cut obliquely 11 as shown in FIG.
Form a sharp tip shape according to the purpose, up to mm or more.

所期形状に成形した基体2の表面全体に、純鉄メッ
キ層を被覆形成する。
A pure iron plating layer is formed on the entire surface of the substrate 2 formed into a desired shape.

さらに、チップ部材3と基体2との境界部分5より
も先端側部分に、半田メッキ層6を被覆形成する一方、
その他の部分にクロムメッキ層7を被覆形成して、第1
図に示す製品を完成する。
Further, a solder plating layer 6 is coated and formed on a portion on the tip side of the boundary portion 5 between the chip member 3 and the base 2,
The other portion is covered with a chrome plating layer 7 to form the first portion.
Complete the product shown in the figure.

(発明の効果) 本発明は、以下に列挙するような効果が得られる。(Effects of the Invention) The present invention has the following effects.

(1) 半田付け作業に必要なチップ先端のみが耐蝕性
に優れる金属からなるから、耐蝕性に劣る銅製基体は、
その機能(熱伝導性)を全く損なうことなく、半田やフ
ラックスによる侵蝕から有効に保護され、寿命が長い。
(1) Since only the tip of the chip necessary for the soldering operation is made of a metal having excellent corrosion resistance, a copper base having poor corrosion resistance is
It is effectively protected from erosion by solder and flux without impairing its function (thermal conductivity) at all, and has a long life.

(2) しかも、この半田ごて用チップの寿命は、チッ
プ部材の厚さを適宜設定することにより、自由にコント
ロールすることが可能であり、作業目的に応じた構造の
ものを容易かつ確実に製造することができ、その品質も
均一化することが容易である。
(2) In addition, the life of the soldering iron chip can be freely controlled by appropriately setting the thickness of the chip member, and a structure having a structure corresponding to the work purpose can be easily and reliably provided. It can be manufactured and its quality can be easily made uniform.

(3) チップ部材により基体先端の被膜層が形成され
る構造であるため、本発明の製造方法のように、メッキ
処理を不要とする製造方法が可能となり、メッキ処理が
必須の従来の製造方法における問題点をすべて解消する
ことができる。
(3) Since the coating layer at the tip of the base is formed by the chip member, a manufacturing method that does not require plating as in the manufacturing method of the present invention becomes possible, and a conventional manufacturing method that requires plating is essential. Can all be solved.

(4) また、チップ先端に、より高い半田との濡れ性
を確保することができる一方、その他の部分を半田やフ
ラックスによる浸蝕作用から確実に保護することができ
る。
(4) In addition, it is possible to ensure higher wettability with the solder at the tip end of the chip, and it is possible to reliably protect other portions from erosion by solder or flux.

(6) チップ部材の厚さを予め設定しておくことによ
り、基体先端部分に、バラツキのない均一な所期厚さを
有する耐蝕性被膜層を容易かつ確実に形成することがで
きる。
(6) By setting the thickness of the chip member in advance, it is possible to easily and surely form a corrosion-resistant coating layer having a uniform and desired thickness without variation at the tip of the base.

したがって、従来の鉄メッキなどを用いた被膜処理に
比較して、はるかに均一ですぐれた耐蝕性を製品に付与
することができるとともに、その製造時間も、メッキ処
理による方法(ほぼ一昼夜要する)に比較してはるかに
短縮され、その生産性がきわめて高い。
Therefore, compared with the conventional coating process using iron plating, it is possible to impart much more uniform and excellent corrosion resistance to the product, and the manufacturing time is reduced by the plating process (almost day and night). It is much shorter than that and its productivity is extremely high.

(7) チップ部材を基体に一体的に固着した後に、鍛
圧加工により所期のチップ先端形状を成形するから、精
密半田付作業用のこて先のように、チップ先端径が1mm
以下の細径チップを製造する場合でも、チップ先端を確
実に成形することができ、製造容易かつ歩留り良好で、
量産にも適し、生産コストの大幅な低減化を図ることが
できる。
(7) After the chip member is integrally fixed to the base, the desired tip shape is formed by forging, so that the tip diameter is 1 mm, like a tip for precision soldering work.
Even when manufacturing the following small-diameter chips, the tip of the chip can be reliably molded, and it is easy to manufacture and has a good yield.
It is also suitable for mass production, and can significantly reduce production costs.

(8) 鉄メッキ処理のような複雑かつ精密な作業管理
が全く不要で、この点でも生産性が高く、しかも、メッ
キ液管理の不十分さに起因するメッキ層の硬度の高まり
といったような問題も生じず、この結果、半田ごて加熱
時に、チップ先端の耐蝕性被膜層部分に割れや剥離を生
じるといった問題も生じない。
(8) There is no need for complicated and precise work management such as iron plating, and in this respect, productivity is high, and the hardness of the plating layer is increased due to insufficient plating solution management. As a result, when the soldering iron is heated, there is no problem that the corrosion-resistant coating layer at the tip of the chip is cracked or peeled off.

(9) さらに、スエージング加工等の鍛圧加工を施し
ても、これに伴うチップ部材の厚さ変形は生じず、その
厚さを当初設定の寸法に均一に保てるので、仕上がり製
品の品質にバラツキを生じることがなく、この点からも
歩留りが良好で、製品価値も高い。
(9) Even if forging processing such as swaging is performed, the thickness of the chip member does not change due to this, and the thickness can be kept uniform to the initially set dimensions, so that the quality of the finished product varies. In this respect, the yield is good and the product value is high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に係る半田用チップの一実施例である電
気半田ごてのこて先を示す側面断面図、第2図ないし第
7図は同こて先の製造方法を説明するための図、第8図
(a)ないし(c)は従来の電気半田ごてのこて先の製
造方法を説明するための図、第9図(a)ないし(c)
は他の従来の電気半田ごてのこて先の製造方法を説明す
るための図である。 1……半田用チップ(電気半田ごてのこて先)、2……
基体、3……チップ部材、4……純鉄メッキ層、5……
チップ部材と基体の境界部分、6……半田メッキ層、7
……クロムメッキ層
FIG. 1 is a side sectional view showing an iron tip of an electric soldering iron which is an embodiment of a soldering tip according to the present invention, and FIGS. 2 to 7 are views for explaining a method of manufacturing the iron tip. 8 (a) to 8 (c) are views for explaining a conventional method for manufacturing a soldering iron tip, and FIGS. 9 (a) to 9 (c).
FIG. 5 is a view for explaining another conventional method for manufacturing a soldering iron tip. 1 ... Soldering chip (iron soldering iron), 2 ...
Substrate, 3 ... chip member, 4 ... pure iron plating layer, 5 ...
Boundary part between chip member and base, 6 solder plating layer, 7
...... Chrome plating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B23K 3/02──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) B23K 3/02

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】銅製基体の段差を設けた先端部分に、ビッ
カース硬度が所定値以下の鉄製チップ部材を被覆状かつ
一体的に固着して、両者の外周面を面一な連続状とし、 その後、鉄製チップ部材が固着された基体の先端部分
を、スエージング加工などの鍛圧加工によって所定形状
に絞り込み成形し、 最外部の層が剥離する場合を考慮して中間層を設けた
後、最外部の層として、鉄製チップ部材と銅製基体との
境界部分よりも先端側部分に半田メッキ層を被覆形成す
る一方、その他の部分にクロムメッキ層を被覆形成する ことを特徴とする半田用チップの製造方法。
An iron chip member having a Vickers hardness of not more than a predetermined value is coated and integrally fixed on a stepped end portion of a copper base to make the outer peripheral surfaces of the both flat and continuous. The tip portion of the base body to which the iron tip member is fixed is drawn into a predetermined shape by forging such as swaging, and after forming an intermediate layer in consideration of the case where the outermost layer is peeled off, the outermost layer is formed. A solder plating layer on the tip side of the boundary between the iron chip member and the copper base, and a chromium plating layer on the other portion. Method.
【請求項2】銅製基体の段差を設けた先端部分に、ビッ
カース硬度が所定値以下の鉄製チップ部材を被覆状かつ
一体的に固着して、両者の外周面を面一な連続状とし、 その後、鉄製チップ部材が固着された基体の先端部分
を、スエージング加工などの鍛圧加工によって所定形状
に絞り込み成形し、 最外部の層が剥離する場合を考慮して中間層を設けた
後、最外部の層として、鉄製チップ部材と銅製基体との
境界部分よりも先端側部分に半田メッキ層を被覆形成す
る一方、その他の部分にクロムメッキ層を被覆形成して
製造される ことを特徴とする半田用チップ。
2. An iron chip member having a Vickers hardness of not more than a predetermined value is coated and integrally fixed to a stepped end portion of a copper base to make the outer peripheral surfaces of the two flat and continuous. The tip portion of the base body to which the iron tip member is fixed is drawn into a predetermined shape by forging such as swaging, and after forming an intermediate layer in consideration of the case where the outermost layer is peeled off, the outermost layer is formed. Characterized in that the solder plating layer is formed by coating a solder plating layer on the tip side of a boundary portion between the iron chip member and the copper base, while coating a chromium plating layer on the other portions. For chips.
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