JP2780578B2 - 洗浄液 - Google Patents
洗浄液Info
- Publication number
- JP2780578B2 JP2780578B2 JP4282935A JP28293592A JP2780578B2 JP 2780578 B2 JP2780578 B2 JP 2780578B2 JP 4282935 A JP4282935 A JP 4282935A JP 28293592 A JP28293592 A JP 28293592A JP 2780578 B2 JP2780578 B2 JP 2780578B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methyl
- weight
- pyrrolidone
- cleaning
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＮ−メチル−２−ピロリ
ドンを主成分とする洗浄液に関する。詳しくは、本発明
は、主に大気中（酸素含有雰囲気中）で取り扱う際の安
定化された洗浄液に関する。
ドンを主成分とする洗浄液に関する。詳しくは、本発明
は、主に大気中（酸素含有雰囲気中）で取り扱う際の安
定化された洗浄液に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｎ−メチル−２−ピロリドンは、合成樹
脂の良溶剤であり、ポリマー合成用、塗料成分、洗浄液
等として広く用いられている。最近では、電子部品、特
に集積回路封止素子（以下「ＩＣ封止素子」という）の
封止剤のバリを除去するための洗浄液として利用されて
いる。また、最近フロン系又は塩素系の溶剤の代替溶剤
としてＮ−メチル−２−ピロリドンを脱脂洗浄剤として
使用することが提案されている。
脂の良溶剤であり、ポリマー合成用、塗料成分、洗浄液
等として広く用いられている。最近では、電子部品、特
に集積回路封止素子（以下「ＩＣ封止素子」という）の
封止剤のバリを除去するための洗浄液として利用されて
いる。また、最近フロン系又は塩素系の溶剤の代替溶剤
としてＮ−メチル−２−ピロリドンを脱脂洗浄剤として
使用することが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者等は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの大気中での安定
性を検討したところ、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの過
酸化物が生成すること、特に、ＩＣ封止素子用脱脂洗浄
用の洗浄液として３０〜１５０℃程度に加温した場合
に、過酸化物の生成が著しく、安全上問題があることを
見い出した。
者等は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの大気中での安定
性を検討したところ、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの過
酸化物が生成すること、特に、ＩＣ封止素子用脱脂洗浄
用の洗浄液として３０〜１５０℃程度に加温した場合
に、過酸化物の生成が著しく、安全上問題があることを
見い出した。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等はＮ−メチル
−２−ピロリドンの上記問題点を解決すべく鋭意検討し
た結果、Ｎ−メチル−２−ピロリドンに酸化防止剤、特
にフェノール系の酸化防止剤を添加することによりＮ−
メチル−２−ピロリドンの過酸化物の生成が充分に抑制
できることを見出し、本発明を完成するに至った。
−２−ピロリドンの上記問題点を解決すべく鋭意検討し
た結果、Ｎ−メチル−２−ピロリドンに酸化防止剤、特
にフェノール系の酸化防止剤を添加することによりＮ−
メチル−２−ピロリドンの過酸化物の生成が充分に抑制
できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明の要旨は、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン５０〜９０重量％、水５０〜１０重量％
の混液１００重量部に対し、酸化防止剤を０．０１〜
１．０重量部配合してなる洗浄液に存する。以下、本発
明を更に詳細に説明する。本発明で用いる洗浄剤はＮ−
メチル−２−ピロリドンを主成分とする常温で液体を示
すものである。
２−ピロリドン５０〜９０重量％、水５０〜１０重量％
の混液１００重量部に対し、酸化防止剤を０．０１〜
１．０重量部配合してなる洗浄液に存する。以下、本発
明を更に詳細に説明する。本発明で用いる洗浄剤はＮ−
メチル−２−ピロリドンを主成分とする常温で液体を示
すものである。
【０００８】Ｎ−メチル−２−ピロリドンを脱脂洗浄剤
用に用いる場合にはＮ−メチル−２−ピロリドンに対し
て水を、通常、最大５０重量％、好ましくは１０〜５０
重量％、特に好ましくは１５〜３０重量％含有させるこ
とにより、洗浄性及び脱脂された油分の分離性が向上す
ると共に、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの過酸化物の生
成が抑制できるので望ましい。上記Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドンは、通常、窒素シール下で保存されているが、
開封後は、通常、大気中でこれを取り扱う場合、例え
ば、加温して洗浄液等として使用する場合、また、通常
１日から数ケ月保存しておきたい場合等において、洗浄
液中のＮ−メチル−２−ピロリドンの安定性、安全性が
問題となる。
用に用いる場合にはＮ−メチル−２−ピロリドンに対し
て水を、通常、最大５０重量％、好ましくは１０〜５０
重量％、特に好ましくは１５〜３０重量％含有させるこ
とにより、洗浄性及び脱脂された油分の分離性が向上す
ると共に、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの過酸化物の生
成が抑制できるので望ましい。上記Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドンは、通常、窒素シール下で保存されているが、
開封後は、通常、大気中でこれを取り扱う場合、例え
ば、加温して洗浄液等として使用する場合、また、通常
１日から数ケ月保存しておきたい場合等において、洗浄
液中のＮ−メチル−２−ピロリドンの安定性、安全性が
問題となる。
【０００９】なお、本発明において、洗浄液の取り扱い
とは、洗浄液のタンクでの貯蔵方法、容器、タンクロー
リー等による輸送、運搬方法並びにＩＣ封止素子用又は
脱脂洗浄用の洗浄液等への使用方法を包含するものであ
る。本発明の洗浄液はピロリドンを主成分とし、これに
水、酸化防止剤を添加したものである。酸化防止剤とは
一般にフェノール系、ホスファイト系及びイオウ系の酸
化防止剤が使用できる。
とは、洗浄液のタンクでの貯蔵方法、容器、タンクロー
リー等による輸送、運搬方法並びにＩＣ封止素子用又は
脱脂洗浄用の洗浄液等への使用方法を包含するものであ
る。本発明の洗浄液はピロリドンを主成分とし、これに
水、酸化防止剤を添加したものである。酸化防止剤とは
一般にフェノール系、ホスファイト系及びイオウ系の酸
化防止剤が使用できる。
【００１０】フェノール系酸化防止剤としては、例え
ば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−α−ジメチルアミノ−
Ｐ−クレゾール等のモノフェノール系化合物、４，４′
−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス
（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，
４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール）等のビスフェノール系化合物、４，
４′−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール）、２，２′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−ｏ−クレゾール）、２，２′−チオビス（４−メチ
ル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）等のチオビスフ
ェノール系化合物、テトラキス〔メチレン−３−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕メタン、トリス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール）ブタン
等のトリスフェノール系化合物が挙げられる。
ば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、
２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−α−ジメチルアミノ−
Ｐ−クレゾール等のモノフェノール系化合物、４，４′
−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス
（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，
４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール）等のビスフェノール系化合物、４，
４′−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール）、２，２′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−ｏ−クレゾール）、２，２′−チオビス（４−メチ
ル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）等のチオビスフ
ェノール系化合物、テトラキス〔メチレン−３−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕メタン、トリス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール）ブタン
等のトリスフェノール系化合物が挙げられる。
【００１１】ホスファイト系酸化防止剤としては、トリ
フェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファ
イト、トリオクチルホスファイト、トリス（モノ及びジ
−ノニルフェニル）ホスファイト等が挙げられる。イオ
ウ系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロピオネ
ート、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられ
る。
フェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファ
イト、トリオクチルホスファイト、トリス（モノ及びジ
−ノニルフェニル）ホスファイト等が挙げられる。イオ
ウ系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロピオネ
ート、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられ
る。
【００１２】上記の酸化防止剤は単独又はそれらの混合
物のいずれで用いてもよい。上記酸化防止剤の使用量は
Ｎ−メチル−２−ピロリドン５０〜９０重量％と水５０
〜１０重量％の混液１００重量部に対して、０．０１〜
１．０重量部、好ましくは０．０５〜０．７重量部であ
る。酸化防止剤の使用量があまり少ないとＮ−メチル−
２−ピロリドン過酸化物の生成抑制効果が著しく低下
し、あまり多いと効果はそれ以上変らず、コストアップ
になるばかりでなく、洗浄後、シミの原因となるので好
ましくない。又、混液中の水の量も少くとも１０重量％
ないと洗浄液が燃焼しやすくなり、危険物品扱いとな
る。
物のいずれで用いてもよい。上記酸化防止剤の使用量は
Ｎ−メチル−２−ピロリドン５０〜９０重量％と水５０
〜１０重量％の混液１００重量部に対して、０．０１〜
１．０重量部、好ましくは０．０５〜０．７重量部であ
る。酸化防止剤の使用量があまり少ないとＮ−メチル−
２−ピロリドン過酸化物の生成抑制効果が著しく低下
し、あまり多いと効果はそれ以上変らず、コストアップ
になるばかりでなく、洗浄後、シミの原因となるので好
ましくない。又、混液中の水の量も少くとも１０重量％
ないと洗浄液が燃焼しやすくなり、危険物品扱いとな
る。
【００１３】本発明の洗浄剤は、特にＩＣ封止素子用洗
浄剤又は脱脂洗浄剤として好適に用いられる。ＩＣ封止
素子とは、銅または銀の導体基板にＩＣ素子をセット
し、封止剤としてエポキシ樹脂を主体としたもので固定
したものである。該洗浄液は、ＩＣ封止素子のバリ取り
除去のみに限らず、封止剤のモルディングに用いられた
金型内の付着物の除去等にも使用することができる。Ｉ
Ｃ封止素子の洗浄方法は、上記ＩＣ封止素子を洗浄液と
液接触させる洗浄処理であれば特に制限はなく、例え
ば、噴霧接触、シャワー接触、浸漬接触、超音波接触等
があげられる。洗浄温度は、通常５０〜１５０℃、好ま
しくは８０〜１４０℃、洗浄時間としては、通常３０秒
〜２時間、好ましくは１〜３０分で実施される。
浄剤又は脱脂洗浄剤として好適に用いられる。ＩＣ封止
素子とは、銅または銀の導体基板にＩＣ素子をセット
し、封止剤としてエポキシ樹脂を主体としたもので固定
したものである。該洗浄液は、ＩＣ封止素子のバリ取り
除去のみに限らず、封止剤のモルディングに用いられた
金型内の付着物の除去等にも使用することができる。Ｉ
Ｃ封止素子の洗浄方法は、上記ＩＣ封止素子を洗浄液と
液接触させる洗浄処理であれば特に制限はなく、例え
ば、噴霧接触、シャワー接触、浸漬接触、超音波接触等
があげられる。洗浄温度は、通常５０〜１５０℃、好ま
しくは８０〜１４０℃、洗浄時間としては、通常３０秒
〜２時間、好ましくは１〜３０分で実施される。
【００１４】また、脱脂洗浄については上記洗浄剤を用
いて被洗浄物である油付着物を浸漬法、超音波洗浄法、
揺動法、スプレー法等の各種の洗浄方法によって、通常
２０〜１００℃、望ましくは４０〜８０℃の温度で洗浄
処理して被洗浄物に付着した油分を脱脂洗浄する。上記
洗浄処理対象となる油分が付着した被洗浄物としては、
電子部品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光
学部品等の精密部品、機械部品、自動車部品及びその組
立加工工程に使用される治工具類等が挙げられる。これ
らの被洗浄物に付着する油分としては油脂、機械油、切
削油、グリース等が挙げられる。
いて被洗浄物である油付着物を浸漬法、超音波洗浄法、
揺動法、スプレー法等の各種の洗浄方法によって、通常
２０〜１００℃、望ましくは４０〜８０℃の温度で洗浄
処理して被洗浄物に付着した油分を脱脂洗浄する。上記
洗浄処理対象となる油分が付着した被洗浄物としては、
電子部品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光
学部品等の精密部品、機械部品、自動車部品及びその組
立加工工程に使用される治工具類等が挙げられる。これ
らの被洗浄物に付着する油分としては油脂、機械油、切
削油、グリース等が挙げられる。
【００１５】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。 実施例１〜３ 純度９９．８重量％のＮ−メチル−２−ピロリドン（水
分０．１重量％）８５重量部と水１５重量部の混合物に
表−１に示す酸化防止剤を添加した組成物２ｋｇに対し
て空気を１．５Ｎｍ3 ／Ｈｒの割合で該組成物中に吹き
込みながら、６０℃の液温に保持した。
する。 実施例１〜３ 純度９９．８重量％のＮ−メチル−２−ピロリドン（水
分０．１重量％）８５重量部と水１５重量部の混合物に
表−１に示す酸化防止剤を添加した組成物２ｋｇに対し
て空気を１．５Ｎｍ3 ／Ｈｒの割合で該組成物中に吹き
込みながら、６０℃の液温に保持した。
【００１６】各所定時間経過後の、上記混液中の過酸化
物量をヨウ化カリウム法で測定した。結果を表−１に示
す。 比較例１ 実施例１において酸化防止剤を添加することなく、表−
１の条件で行なったこと以外は同様にして行なった。結
果を表−１に示す。
物量をヨウ化カリウム法で測定した。結果を表−１に示
す。 比較例１ 実施例１において酸化防止剤を添加することなく、表−
１の条件で行なったこと以外は同様にして行なった。結
果を表−１に示す。
【００１７】
【表１】 Ａ：ヨシノックス４２５（吉富製薬商品名） ２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノール） Ｂ：イルガノックス１０１０（日本チバガイギー商品
名） テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェノールプロピオネート〕メ
タン Ｃ：スミライザーＷＸ−Ｒ（住友化学商品名） ４，４′−チオビス−（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノール）
ｔ−ブチルフェノール） Ｂ：イルガノックス１０１０（日本チバガイギー商品
名） テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェノールプロピオネート〕メ
タン Ｃ：スミライザーＷＸ−Ｒ（住友化学商品名） ４，４′−チオビス−（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノール）
【００１８】実施例４ 表−２に示す材質のテストピース（２．９８ｃｍ×４．
９８ｃｍ×０．３ｃｍ厚さ）を切削油中に浸漬した後、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）８０重量部、水
２０重量部、ヨシノックス０．１重量部の混合物からな
る洗浄剤に表−１に示す温度で表−２に示す時間浸漬し
た後、取り出した。このテストピース表面の油の残存状
態を肉眼観察し、下記評価基準にて評価した結果を表−
２に示す。
９８ｃｍ×０．３ｃｍ厚さ）を切削油中に浸漬した後、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）８０重量部、水
２０重量部、ヨシノックス０．１重量部の混合物からな
る洗浄剤に表−１に示す温度で表−２に示す時間浸漬し
た後、取り出した。このテストピース表面の油の残存状
態を肉眼観察し、下記評価基準にて評価した結果を表−
２に示す。
【００１９】評価基準 ○：完全に除去されている。 △：微量残存している。 ×：かなり残存している。
【００２０】表−２より、本発明の洗浄剤によれば、油
付着物を効率的に洗浄して油分をほぼ完全に除去できる
ことが明らかである。
付着物を効率的に洗浄して油分をほぼ完全に除去できる
ことが明らかである。
【００２１】
【表２】
【００２２】
【発明の効果】本発明のＮ−メチル−２−ピロリドンを
主成分とする洗浄液は大気中において安定であり、ＩＣ
封止素子用洗浄剤、脱脂用洗浄剤等として好適に用いる
ことができる。
主成分とする洗浄液は大気中において安定であり、ＩＣ
封止素子用洗浄剤、脱脂用洗浄剤等として好適に用いる
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｃ (72)発明者 副島 俊明 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化 成株式会社水島工場内 (56)参考文献 特開 平４−226587（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−248897（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−88115（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−65769（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−17270（ＪＰ，Ａ) 特表 平５−508180（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C11D 7/32 C11D 17/08 C07D 207/267 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｎ−メチル−２−ピロリドン５０〜９０
重量％、水５０〜１０重量％の混液１００重量部に対
し、酸化防止剤を０．０１〜１．０重量部配合してなる
洗浄液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4282935A JP2780578B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 洗浄液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4282935A JP2780578B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 洗浄液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06135930A JPH06135930A (ja) | 1994-05-17 |
| JP2780578B2 true JP2780578B2 (ja) | 1998-07-30 |
Family
ID=17659023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4282935A Expired - Lifetime JP2780578B2 (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 洗浄液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2780578B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3973058A (en) * | 1974-12-23 | 1976-08-03 | Monsanto Company | Method for printing interlayers for laminated safety glass |
| JPS5788115A (en) * | 1980-10-06 | 1982-06-01 | Miles Lab | Stable non-aqueous solution of tetracycline antibiotic salt |
| JPH01197402A (ja) * | 1988-01-30 | 1989-08-09 | Mikasa Kagaku Kogyo Kk | 低毒性水懸乳濁状農薬組成物 |
| KR920002496A (ko) * | 1990-07-19 | 1992-02-28 | 베르너 발데크 | 액체 유기 기질의 산화방지법 |
| KR920002533A (ko) * | 1990-07-19 | 1992-02-28 | 베르너 발데크 | 석유 화학 추출용매의 산화 방지방법 |
-
1992
- 1992-10-21 JP JP4282935A patent/JP2780578B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06135930A (ja) | 1994-05-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5004509A (en) | Low residue soldering flux | |
| US5120371A (en) | Process of cleaning soldering flux and/or adhesive tape with terpenet and monobasic ester | |
| KR100394159B1 (ko) | 세정방법및세정장치 | |
| CA2331453C (en) | Improved aqueous cleaning solution and method for removing uncured adhesive residues | |
| FR2773812A1 (fr) | Composition pour decaper les peintures a base d'un ether aromatique | |
| KR102419315B1 (ko) | 무연 납땜 용제용 세정제 조성물, 무연 납땜 용제의 세정 방법 | |
| JP2780578B2 (ja) | 洗浄液 | |
| JPH03252500A (ja) | フラックス洗浄剤 | |
| CA2044607C (en) | Peroxide composition for removing organic contaminants and method of using same | |
| US6306223B1 (en) | Degreasing method using a surfactant-free composition | |
| JP2005008735A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2002256295A (ja) | 洗浄方法 | |
| JPH03212497A (ja) | 洗浄組成物 | |
| JPH0753743A (ja) | 樹脂成形品用塗装前処理剤 | |
| JP3755548B2 (ja) | 金属の乾燥前処理剤及び乾燥方法 | |
| JPH0665532A (ja) | 塗膜剥離剤 | |
| JP4399709B2 (ja) | スズ含有合金製部品用洗浄剤組成物および洗浄方法 | |
| JP7468226B2 (ja) | 洗浄剤、洗浄剤の再生方法、及び洗浄方法 | |
| JPH04240738A (ja) | 集積回路封止素子用洗浄液 | |
| JP2792263B2 (ja) | 合成樹脂成形物に付着した離型剤の洗浄に用いる非ハロゲン系洗浄剤 | |
| JP2707910B2 (ja) | 塗膜剥離剤 | |
| JPH10183190A (ja) | 洗浄液組成物 | |
| EP0821724A1 (fr) | Agent de nettoyage a base de cycloalcanes | |
| JP2003049197A (ja) | 洗浄除去剤及び洗浄方法 | |
| JPH10183189A (ja) | 洗浄液組成物 |