JP2767308B2 - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、光により情報の記録が可能な光情報記録媒
体の製造方法に関する。

［発明の技術的背景］ 情報の記録が可能な光ディスクは基本構造として、ガ
ラス、合成樹脂などからなる円板状の基板と、この上に
設けられたBi、Sn、In、Te等の金属または半金属；また
はシアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素からなる
記録層とを有する。なお、記録層が設けられる側の基板
表面には通常、基板の平面性の改善、記録層との接着力
の向上あるいは光ディスクの感度の向上などの点から、
高分子物質からなる下塗層が設けられることが多い。

そして、光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取
りは通常下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照
射することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光
を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的
な変化（たとえば、ピットの生成）が生じてその光学的
特性を変えることにより情報が記録される。情報の読み
取りもまた、レーザビームを光ディスクに照射すること
により行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反
射光または透過光を検出することにより情報が再生され
る。

上記のように、このような光ディスクの製造方法に
は、記録層、下塗層、保護層などの層を円板状基板の表
面に設ける工程が含まれる。このような各層を形成させ
る方法として最も一般的に採用されている方法の一つと
してスピンコート法がある。スピンコート法は、添付す
る第１−Ａ図に示すように、基板11を水平にしてスピン
ナーのスピンドル６に取り付け、スピンナーを200〜500
0r.p.m.の回転数で回転させながら、上記各層となる膜
を形成させるための液状の材料を液状材料供給管７から
基板の上に滴下、噴霧などにより供給し、基板の回転に
よる遠心力により液状材料を飛散させ基板表面に成膜す
る方法である。

このような方法により塗布形成された記録層等の材料
は、基板の塗布面側の表面だけでなく塗布されないはず
の非塗布面である基板の裏側の表面や外周側側壁にも付
着している。すなわち、基板の回転による遠心力により
飛散した液状材料の一部は、基板外周縁より基板の裏側
へ廻り込んで、基板の非塗布面表面等に付着する。この
ような基板の裏側等に付着した物質は、情報の記録再生
に支障を来す、あるいは得られる光ディスクの外観が不
良となることからこれらを除去する必要がある。このた
め、従来は全層を形成した後、あるいは途中の工程と工
程との間に、基板を裏返して該基板の非塗布面の表面の
洗浄が行なわれていた。

しかしながら、各層の形成工程以外にさらに洗浄を行
なう工程を追加する必要があり、製造工程が多くなるた
め工程の短縮が望まれている。

一方、上記塗布液の裏回りを防止する塗布方法とし
て、スピンナーによる塗布方法を用いて、被塗物に上方
から塗布液を噴霧した際に被塗物の周辺に流れる塗布液
を吸引しながら且つ回転中の被塗物の裏面に水を噴霧し
て裏回りを防止しながら、上記上方よりの塗布を行なう
膜を形成する技術が、実開昭58−81932号公報に開示さ
れている。このような方法を用いて記録層材料である色
素の塗布液等を塗布した場合、裏面から噴霧される液体
が水であるため、基板に付着した色素を洗浄することが
できない、さらに噴霧される水の飛沫が色素塗布層に付
着し塗膜の欠陥が発生するとの問題がある。

［発明の目的］ 本発明は、記録層等のスピンコート法の塗布により発
生する光情報記録媒体の基板周縁部での記録層材料、下
塗層材料、及び／又は保護層材料の堆積物を洗浄除去す
る工程を増加させることなく、簡単な方法で従来方法と
同程度以上に光情報記録媒体の基板周縁部での記録層材
料などの堆積物を洗浄除去することを可能にする光情報
記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、円盤状基板を回転させながら、記録層形成
用塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布
することにより記録層を形成する工程、 該記録層上に金属からなる反射層を蒸着により形成す
る工程、および 該基板の回転下に、該反射層上に保護層形成用塗布液
を該基板の上方から塗布しながら、同時に該記録層が設
けられていない側の該基板裏側の表面に、少なくとも該
記録層の材料および該保護層の材料を処理温度で溶解す
ることができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃至膨潤
させない揮発性の有機溶剤を含む液体を該基板の下方か
ら供給して、該基板の周縁部に付着していた記録層材料
と該基板の周縁部に付着する保護層の材料を溶解除去処
理する工程、 を含む光情報記録媒体の製造方法（Ａ）にある。

本発明はまた、円盤状基板を回転させながら、下塗層
形成用塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して
塗布することにより下塗層を形成する工程、 該下塗層上に金属からなる記録層を蒸着により形成す
る工程、および 該基板の回転下に、該金属記録層上に保護層形成用塗
布液を該基板の上方から塗布しながら、同時に該記録層
が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なくと
も該下塗層の材料および該保護層の材料を処理温度で溶
解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃至
膨潤させない揮発性の有機溶剤を含む液体を該基板の下
方から供給して、該基板の周縁部に付着していた下塗層
材料と該基板の周縁部に付着する保護層の材料を溶解除
去処理する工程、 を含む光情報記録媒体の製造方法（Ｂ）にもある。

上記本発明の光情報記録媒体の製造方法の好ましい態
様は以下のとおりである。

１）該有機溶媒が、50〜150℃の沸点を有する液体であ
ることを特徴とする上記光情報記録媒体の製造方法。

２）該有機溶媒を含む溶液が揮発性の有機溶媒のみから
なり、そして該有機溶媒の供給が、その基板上での供給
位置を基板の半径の1/2の半径の円より外周側の範囲内
に調整するようにして行なわれることを特徴とする上記
光情報記録媒体の製造方法。

３）該有機溶媒を含む液体が機能層形成材料を含み、そ
して該溶液の供給が、その基板上での供給位置を基板の
回転中心近傍に調整するようにして行なわれることする
ことを特徴とする上記光情報記録媒体の製造方法。

４）上記機能層形成材料が、保護層形成用材料、反射防
止層形成材料または帯電防止層形成材料であることを特
徴とする上記３）の光情報記録媒体の製造方法。

５）該記録層形成用塗布液の記録層材料が、レーザーの
照射により記録可能な色素であることを特徴とする上記
光情報記録媒体の製造方法（Ａ）。

尚、上記蒸着は、真空蒸着、スパッタリングまたはイ
オンプレーティングを意味する。

また、上記記録層、下塗層または保護層の形成材料を
溶解するとは、25℃にて、使用する有機溶媒100重量部
に対して上記いずれかの材料が0.01重量部以上が溶解す
ることを意味する。さらに、基板の形成材料を溶解しな
いとは、25℃にて、使用する有機溶媒100重量部に対し
て基板材料が0.01重量部未満しか溶解しないことを意味
する。上記基板が膨潤しないとは、25℃にて、100重量
部の基板材料が使用する有機溶媒を0.1重量部未満しか
吸収しないことを意味する。

［発明の詳細な記述］ 本発明の製造方法により得られる光情報記録媒体は、
基板上に塗布型記録層、反射層および塗布型保護層が、
あるいは基板上に、塗布型下塗層、金属記録層、および
塗布型保護層がこの順で積層された基本構成を有してい
る。そして、該基板の記録層等が設けられていない裏側
表面および外側側壁が、極めて清浄で、記録層材料、下
塗層材料、及び／又は保護層材料などの堆積付着がない
ことを特徴としている。

上記基板の材料は、各種の材料から任意に選択するこ
とができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱
い性、経時安定性および製造コストなどの点から、基板
材料の例としては、ガラス；ポリメチルメタクリレート
等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合
体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエス
テルを挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネ
ート、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレート
を挙げることができる。

基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等
の情報を表わす微小凹凸が形成された、プレピット層及
び／又はプレグルーブ層が設けられている。プレピット
層及び／又はプレグルーブ層の材料としては、アクリル
酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテ
トラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（また
はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いること
ができる。

プレピット層及び／又はプレグルーブ層の形成は、ま
ず精密に作られた母型（スタンパー）上に上記のアクリ
ル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布
し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板ま
たは母型を介して紫外線の照射により液層を硬化させて
基板と液相とを固着させる。次いで、基板を母型から剥
離することによりプレピット層及び／又はプレグルーブ
層の設けられた基板が得られる。プレピット層及び／又
はプレグルーブ層の層厚は一般に0.05〜100μｍの範囲
にあり、好ましくは0.1〜50μｍの範囲である。基板材
料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形
などにより直接基板にプレピット及び／又はプレグルー
ブを設けてもよい。

上記のような基板表面に形成される膜としては、レー
ザ光により情報の書き込みが可能な色素を含有する記録
層、記録性能の改善、再生信号品質の改善、平面性の改
善、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層
の変質の防止の目的で、基板と記録層との間に設けられ
る下塗層、記録層の上に設けられる保護層などを挙げる
ことができる。そして、本発明の製造方法により得られ
る光情報記録媒体の基板の上記記録層等が設けられてい
ない裏側表面および外周側側面は、上記塗布により形成
される記録層材料、下塗層材料、保護層材料等が付着し
ていない。

下塗層の膜形成材料としてはたとえば、ポリメチルメ
タクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、ス
チレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコー
ル、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホ
ン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、ク
ロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ
塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン
・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリ
ング剤などの有機物質；および無機酸化物（SiO₂、Al₂O
₃等）、無機フッ化物（MgF₂）などの無機物質を、適当
な溶剤に溶解または分散して調製した塗布液を挙げるこ
とができる。下塗層の膜厚は一般に0.005〜20μｍの範
囲、好ましくは0.01〜10μｍの範囲である。

記録層の膜形成材料としては、前記のような色素を、
さらに所望により結合剤と共に、溶剤に溶解して調整し
た塗布液を挙げることができる。色素以外にも光により
相変化可能な高分子材料、あるいは光によりビット等の
形成が可能な金属（分散液として使用）を挙げることが
できる。上記色素は特に限定されるものではなく、光デ
ィスクの製造に使用されるものであればどのようなもの
でも良い。例えば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni,Crなどの金属
錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、
インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アル
ミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合
物を挙げることができる。好ましくは、シアニン系色
素、アズレニウム系色素およびスクワリリウム系色素を
挙げることができる。

これらのうちでも記録再生用レーザとして近赤外光を
発振する半導体レーザの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収率が高い
色素が好ましい。

なお、これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混
合物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用い
る場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジ
インモニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いる
ことが好ましい。その場合、クエンチャーとして金属錯
塩系色素などを全色素１モル部に対して0.001〜0.1モル
部含むことが好ましい。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２、２、３、３、テトラフロ
ロプロパノール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量％
以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素
溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含ん
でいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラ
チン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エ
ポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール
・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物
などの合成有機高分子物質を挙げることができる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤
に対する色素の比率は一般に0.01〜99％（重量比）の範
囲にあり、好ましくは1.0〜95％（重量比）の範囲にあ
る。

上記基板上に、スピンコート法により塗布して下塗層
を設けた場合は、記録層を塗布により設けた場合と同様
に基板の裏面等に下塗層の塗布液が付着するため、記録
層として金属の蒸着層を設けた後もこの付着物は残る。
従って、このような場合でも、本発明の保護層の塗布と
同様に洗浄を行なう工程は極めて有用である。

蒸着により形成される記録層の材料としては、Te、S
e、In、Pb、Bi等の低融点金属化合物;Ag、Au、Al、Tl、
Cu、Ga、Sb、Sn、Ti、Fe、Co、Ni、Mn、Nb、Pd、Zn等の
表面張力の高い金属；を挙げることができる。この他
に、金属硫化物、金属弗化物、金属酸化物等の金属化合
物が含有されていても良い。

上記金属記録層は、たとえば上記金属等を真空蒸着、
スパッタリングまたはイオンプレーティングすることに
より下塗層の上に形成することができる。その層厚は一
般には300〜2000Åの範囲にあることが好ましい。

また、本発明の製造方法では、塗布により設けられた
記録層の上には、保護層形成時の基板裏側を洗浄する
際、記録層が飛散する洗浄液による塗膜欠陥を生じない
ように、反射層を設けられる。前記金属記録層もこの反
射層と同じ役目を果たしている。反射層を設けることに
より、反射率の向上の効果、情報に再生時におけるS/N
の向上および記録時における感度の向上の効果も得るこ
とができる。

反射層の材料としては、Au、Al、Tl、Cu、In、Sb、T
e、Ge、Se、Bi、Sn、Ti、Fe、Co、Ni、Mo、Ta、Pt等の
金属、半金属及びこれらの合金を挙げることができる。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を真空蒸着、ス
パッタリングまたはイオンプレーティングすることによ
り記憶層の上に形成することができる。反射層の層厚は
一般には100〜3000Åの範囲にあることが好ましい。

金属記録層上または反射層上には、塗布により保護層
が設けられる。

保護層の膜形成材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を適当な溶剤に溶解
して調整した塗布液を挙げることができる。特にUV硬化
性樹脂を含むものが好ましく、UV硬化性樹脂の場合に
は、溶媒を用いなくてもよい。UV硬化性樹脂としては、
ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アク
リレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等の（メ
タ）アクリレートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸
エステル等のモノマー類等さらに光重合開始剤等の通常
のUV硬化性樹脂を使用することができる。これらの塗布
液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の
各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。

保護層の膜厚は一般には0.1〜100μｍの範囲にある。

上記保護層または反射防止層を、塗布により上記記録
層が設けられていない裏側表面に塗布しても良い。

上記保護層上に、さらに、SiO、SiO₂、SiN₄、MgF₂、S
nO₂等の無機物質からなる保護層を設けてもよい。

次に本発明の光情報記録媒体の製造方法を、添付する
図面を参照して詳細に説明する。

本発明では、円板状基板を回転させながら該基板表面
に、下塗層形成用塗布液または色素等の記録層形成用塗
布液を該基板の上方から従来することにより塗布を行な
う。次いで、このような塗布により形成された層上に、
金属の蒸着層（下塗層上には金属記録層、また色素等の
記録層上には反射層）を形成して、上記塗布による層を
保護する。そして、上記保護層形成時に、同時に基板の
裏面に有機溶媒を含む液体を該基板の下方から供給し
て、上記下塗層形成用塗布液または記録層形成用塗布液
を塗布した際に裏回り等により付着した塗布形成材料を
洗浄する。なお、上記色素記録層の下側に上記下塗層が
設けられていても勿論良い。

上記基板を高速回転させて各種塗布液あるいは有機溶
媒を供給するための装置としては任意の装置を利用する
ことができるが、一般に薄膜塗布に用いられるスピンコ
ート法を便利に使用できる。

第１−Ａ図、第１−Ｂ図、第１−Ｃ図、第１−Ｄ図お
よび第１−Ｅ図は、本発明の製造方法の一態様を説明す
る為の各工程の状態を示す断面図である。

第１−Ａ図には、基板11をスピンナーのスピンドル６
に挿入し、その挿入された基板を回転させながら基板上
方の液状材料供給管７より記録層形成用色素塗布液が噴
射されている状態が示されている。第１−Ａ図の塗布方
法は従来から行なわれているスピンコート法と同じ方法
である。

第１−Ｂ図には、第１−Ａ図で示したように、中央に
孔部13を有する基板11の表面に、記録層形成用色素塗布
液をスピンコート法にて塗布することにより色素からな
る記録層12が形成された状態が示されている。また、色
素塗布液をスピンコート法により塗布した際、裏回して
基板に付着した色素塗布液中の色素やポリマーなどの色
素層形成材料12aが示されている。

第１−Ｃ図には、中央に孔部13を有する基板11の表面
に設けられた記録層12の上に、金属からなる反射層14が
常法により形成された状態が示されている。反射層は、
金属をスパッタリング等を行なうことにより形成される
が、内周縁部及び外周縁部の近傍は一般にマスクされて
スパッタリングが行なわれるため、そこに金属が付着す
ることはない。

第１−Ｄ図には、上記記録層12および反射層14が形成
された基板11をスピンナーのスピンドル16に挿入し、そ
の挿入された基板を回転させながら基板上方の液状材料
供給管17より保護層形成用塗布液が噴霧され、下方の液
状材料供給管18より有機溶媒が噴霧されている状態が示
されている。

基板11の反射層14の上に保護層形成用塗布液を塗布し
成膜するには、まず、スピンナーにより基板11を前記の
ように回転させながら、基板上方の液状材料供給管17か
ら保護層形成用塗布液を噴霧することによって反射層14
上に供給する。反射層14上に供給された保護層形成用塗
布液は、基板11の回転による遠心力と重力とによって反
射層14上の全体に広がり、均一な厚さの塗布膜が形成さ
れる。基板上方の液状材料供給管17から保護層形成用塗
布液を噴霧する際、同時に基板下方の液状材料供給管18
から反射層14が設けられていない基板裏面に有機溶媒を
噴霧する。基板裏面に供給された有機溶媒は、基板11の
回転による遠心力によって基板裏面の外周側および外周
側側壁に広がり、記録層形成時に裏回りにより付着した
色素及び基板裏側に裏回りしてくる保護層形成用塗布液
を全て洗浄除去することができる。有機溶媒は、該記録
層材料および該保護層の材料を処理温度で溶解すること
ができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃至膨潤させな
い性質を有する揮発性の有機溶媒である必要がある。保
護層の塗布液は、例えばUV硬化型樹脂では比較的高粘度
の場合が多く、裏回りが発生し難いので、洗浄用の有機
溶媒は保護層の形成材料に対してそれほど大きい溶解力
がなくても良い。また有機溶媒が噴霧される液状材料供
給管18の基板上の位置は、特に限定されるものではない
が、図のように基板の半径の1/2の半径の円より外周側
に設置されていると、特に外周部分は効率良く洗浄され
るので好ましい。

前記保護層は、所定の膜厚の塗布膜が形成された後に
塗布膜から乾燥により溶剤を除去して、所定の膜を形成
させる。

上記保護層形成用塗布液および前記記録層形成用塗布
液などの形成材料の塗布液の濃度、粘度および量、基板
の回転数、温度、湿度、等を制御することによって任意
の厚さの膜を形成させることができ、これらの条件の設
定自体は従来公知のスピンコート法の技術により当業者
が容易に実施できる。

上記スピンコート法による洗浄および塗布は一般に常
温常圧下に実施されるので、上記有機溶媒としては、50
〜150℃の沸点を有する液体であることが好ましい。上
記有機溶媒の具体的物質は、対象となる色素、樹脂を溶
解することができ、使用する基板の材料（主に樹脂）を
溶解または膨潤しないように、適宜選択されることがで
きる。例えば、基板の材料がポリカーボネートである場
合は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ
−ブタノールなどのアルコール類、2,2,3,3−テトラフ
ロロ−１−プロパノールのようなフッ素含有アルコール
類、ジアセトンアルコールのようなジケトアルコール
類、脂肪族炭化水素類、及びそれらの混合物などの中か
ら、上記色素、上記保護層材料、後述する下塗層用材料
に対する溶解性を考慮して選択される。上記有機溶媒
は、使用前にミクロフィルターで濾過して清浄にしたも
のであることが好ましい。

上記洗浄に使用される有機溶媒の代わりに、該有機溶
媒を含み且つ機能層形成材料を含む塗布液を用いて、上
記のように噴霧することにより上記洗浄と機能層の塗設
を同時に行なうこも可能である。その際、塗布液の供給
位置を、基板の回転中心近傍とすることが必要である。
上記機能層形成材料としては、保護層形成用材料、反射
防止層形成材料または帯電防止層形成材料を挙げること
ができる。

第１−Ｅ図には、上記のようにして得られた光ディス
クの断面図を示されている。該光ディスクは、中央に孔
部13を有する基板11の表面に形成された記録層12、記録
層上に形成された反射層14、そして反射層上に上述した
本発明の方法により基板裏側を洗浄しながら塗設された
保護層15からなっている。基板の記録層が設けられた側
の外周縁部近傍に、反射層が形成されていない色素残っ
ていたが、これは主に保護層形成用塗布液の塗布と遠心
力により除去されている。

このようにして、記録層等のスピンコート法の塗布に
より発生する光情報記録媒体の基板の有機物の汚れ洗浄
する工程を増加させることなく、簡単な方法で従来方法
と同程度以上に光情報記録媒体の基板の汚れを洗浄する
ことができる。

また、反射層を形成する前に、色素の記録層以外に下
塗層等の塗布により他の層を設けて、保護層形成時に洗
浄により、それらの付着物を全てを一度に洗浄すること
も可能である。

第２−Ａ図および第２−Ｂ図は、本発明の製造方法の
別の一態様を説明する為の断面図である。

上記光ディスクの別の一態様として、基板上に、下塗
層、金属の記録層および保護層が順に積層された構成を
挙げることができる。

前記第１−Ａ〜Ｅ図では、基板上に、色素記録層、反
射層および保護層が順に積層された例を示したが、上記
態様は、基板上に、塗布に形成される高分子化合物から
なる下塗層、蒸着による金属の記録層および保護層が順
に積層されている。しかしながら、基板上の塗布層が色
素層から下塗層に、塗布層上の金属層が反射層から記録
層に代わったのみで、本質的な製造方法の違いはない。

第２−Ａ図には、上記スピンコート法により塗布形成
された下塗層22およびその上に蒸着により形成された金
属からなる記録層24が形成された基板21をスピンナーの
スピンドル26に挿入し、その挿入された基板を回転させ
ながら基板上方の液状材料供給管27より保護層形成用塗
布液が噴霧され、下方の液状材料給管28より有機溶媒が
噴霧されている状態が示されている。下塗層は、下塗層
形成用の高分子化合物の塗布液をスピンコート法にて塗
布することにより基板表面にされているので、下塗層形
成材料22a（高分子化合物）が基板裏面に裏回りして付
着している。

上記下方の液状材料供給管28より噴霧される有機溶媒
は、色素の代りに高分子化合物を溶解しやすい有機溶媒
を選択するように配慮する必要があるが、一般に同じ有
機溶媒が使用できる場合が多い。

第２−Ｂ図には、上記のようにして得られた光ディス
クの断面図を示されている。該光ディスクは、中央に光
部23を有する基板21の表面に形成された下塗層21、下塗
層上に形成された金属からなる記録層24、そして記録層
上に上述した本発明の方法により基板裏面を洗浄しなが
ら塗設された保護層25からなっている。

このようにして、下塗層のスピンコート法の塗布によ
り発生する光情報記録媒体の基板の高分子化合物等の汚
れ洗浄する工程を増加させることなく、簡単な方法で上
記構成を有する光情報記録媒体の基板の汚れを洗浄する
ことができる。

［発明の効果］ 本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に、ま
ず色素などの塗布型記録層または高分子化合物などの塗
布型下塗層のような塗布型の層を形成し、その上に金属
からなる反射層または記録層を蒸着、スパッタリング等
により有機溶媒に溶けない層を形成して、先の塗布型層
の基板表面の記録再生に必要な領域を保護する。そして
保護層の形成材料をスピンコート法により塗布する際、
同時に基板裏側から有機溶媒を噴霧して、基板裏側ある
いは側面等に付着した色素あるいは高分子化合物を洗浄
すると共に保護層形成材料の基板の裏回りも防ぎなが
ら、上記保護層を形成する。これにより、従来別の工程
として行なわれてきた基板裏側等に付着した有機物の汚
れの洗浄を保護層形成時に行なうことが可能となった。

従って、本発明は、記録層等のスピンコート法の塗布
により発生する光情報記録媒体の基板の有機物の汚れを
洗浄する工程を増加させることなく、簡単な方法で従来
方法と同程度以上に光情報記録媒体の基板周縁部での記
録層材料などの堆積物を洗浄除去することを可能にす
る。

以下に、本発明の実施例を記載する。ただし、これら
の各例は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 下記構造式の色素： を、2.75重量％になるように、2,2,3,3−テトラフロロ
プロパノールに溶解して色素記録層形成用塗布液を調製
した。

長さ:0.8μｍ、幅:0.4μｍ、深さ:800Åのピットがト
ラックピッチ:1.6μｍで長手方向に並んだプレピットが
設けられた円盤状のポリカーボネート基板（外径:120m
m、内径:15mm、厚さ:1.2mm）を、スピンナーに取付け回
転数1000r.p.m.の速度で回転させながら、上記塗布液を
基板の上方から噴霧する方法でスピンコートして層厚10
00Åの記録層を形成した。

上記記録層の上に、Auをスパッタリングすることによ
り層厚1300Åの反射層を形成した。その際、基板上の半
径20mmの円および半径118mmの円で囲まれた範囲以外を
マスクして行なった。

第１−Ｄ図に示す態様で、内部温度25℃のスピンコー
ターハウス内で、得られた記録層と反射層とを有する基
板をスピンナーに取付け、回転数1000r.p.m.の速度で回
転させながら保護層形成用塗布液として紫外線硬化型樹
脂（商品名:3070、粘度:5cps（25℃）、スリーボンド
（株）製）を液状材料供給管17から1cc/秒の送液速度で
反射層上に噴霧しながら、基板の下方から上向きにイソ
プロピルアルコールを液状材料供給管18から2cc/秒の送
液速度で、基板裏側表面上に噴霧して洗浄した。上記塗
布液の噴霧を５秒間維持し、両方の液状材料の供給を停
止して、そのまま回転を10秒間維持して塗布層を乾燥し
た。次いで、該塗布層に紫外線を照射（200w/cmの水銀
灯で10秒間）することにより層厚２μｍの保護層を形成
した。

このようにして、基板上に色素からなる記録層、反射
層および保護層からなる光情報記録媒体を製造した。

［実施例２］ 下塗層形成用塗布液組成（重量部） 塩素化ポリエチレン 0.2部 メチルエチルケトン 10部 シクロヘキサン 100部 長さ:0.8μｍ、幅:0.4μｍ、深さ:800Åのピットがト
ラックピッチ:1.6μｍで長手方向に並んだプレピットが
設けられた円盤状のポリカーボネート基板（外径:120m
m、内径:15mm、厚さ:1.2mm）を、スピンナーに取付け回
転数1000r.p.m.の速度で回転させながら、上記下塗層形
成用塗布液を基板の上方から噴霧する方法でスピンコー
トして層厚300Åの下塗層を形成した。

上記下塗層の上に、InおよびGeSをそれおぞれ40重量
％:60重量％の割合で共蒸着させるて、層厚が1300Åの
記録層を形成した。その際、基板上の半径20mmの円およ
び半径118mmの円で囲まれた範囲以外をマスクして行な
った。

第２−Ａ図に示す態様で、内部温度25℃のスピンコー
ターハウス内で、得られた下塗層と記録層とを有する基
板をスピンナーに取付け回転数1000r.p.m.の速度で回転
させながら、保護層形成用塗布液として紫外線硬化型樹
脂（商品名:3070、粘度:5cps（25℃）、スリーボンド
（株）製）を液状材料供給管27から1cc/秒の送液速度で
反射層上に噴射しながら、基板の下方から上向きにイソ
プロピルアルコールを液状材料供給管28から2cc/秒の送
液速度で、基板の裏側表面上に噴霧して洗浄した。上記
塗布液の噴霧を５秒間維持し、両方の液状材料の供給を
停止して、そのまま回転を10秒間維持して塗布層を乾燥
した。次いで、該塗布層に紫外線を照射（200w/cmの水
銀灯で10秒間）することにより層厚２μｍの保護層を形
成した。

このようにして、基板上に高分子化合物からなる下塗
層、金属記録層および保護層からなる光情報記録媒体を
製造した。

上記実施例１および実施例２で得られた光情報記録媒
体について外観を目視で観察した結果、基板の裏側、外
周側壁面、外周側端部および基板表面の外周縁近傍に色
素の付着や高分子化合物の付着が認められなかった。さ
らに、情報の記録再生もエラーの発生がなく行なうこと
ができた。

【図面の簡単な説明】

第１−Ａ図は、従来のスピンコート法により成膜を行な
っている状態を示す断面図、 第１−Ｂ図は、本発明の製造方法に従う一実施例におけ
る製造途中の光ディスクの断面図、 第１−Ｃ図は、本発明の製造方法に従う一実施例におけ
る製造途中の光ディスクの断面図、 第１−Ｄ図は、本発明の製造方法に従う一実施例のスピ
ンコート法により成膜および洗浄を行なっている状態を
示す断面図、 第１−Ｅ図は、本発明の製造方法に従う一実施例により
得られた光ディスクの断面図である。 第２−Ａ図は、本発明の製造方法に従う別の一実施例の
スピンコート法により成膜および洗浄を行なっている状
態を示す断面図、 第２−Ｂ図は、本発明の製造方法に従う別の一実施例に
より得られた光ディスクの断面図である。 11、21:基板、12:（色素）記録層 22:下塗層、13、23:孔部 14:反射層、24:（金属）記録層 15、25:保護層 ６、16、26:スピンドル ７、17、27:（上方）液状材料供給管 18、28:（下方）液状材料供給管 12a:色素層形成材料 22a:下塗層形成材料

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−200865（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−215378（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−271935（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−182944（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−62869（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 7/26

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】円盤状基板を回転させながら、記録層形成
   用塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布
   することにより記録層を形成する工程、 該記録層上に金属からなる反射層を蒸着により形成する
   工程、および 該基板の回転下に、該反射層上に保護層形成用塗布液を
   該基板の上方から塗布しながら、同時に該記録層が設け
   られていない側の該基板裏側の表面に、少なくとも該記
   録層の材料および該保護層の材料を処理温度で溶解する
   ことができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃至膨潤さ
   せない揮発性の有機溶剤を含む液体を該基板の下方から
   供給して、該基板の周縁部に付着していた記録層材料と
   該基板の周縁部に付着する保護層の材料を溶解除去処理
   する工程、 を含む光情報記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】円盤状基板を回転させながら、下塗層形成
   用塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布
   することにより下塗層を形成する工程、 該下塗層上に金属からなる記録層を蒸着により形成する
   工程、および 該基板の回転下に、該金属記録層上に保護層形成用塗布
   液を該基板の上方から塗布しながら、同時に該記録層が
   設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なくとも
   該下塗層の材料および該保護層の材料を処理温度で溶解
   することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃至膨
   潤させない揮発性の有機溶剤を含む液体を該基板の下方
   から供給して、該基板の周縁部に付着していた下塗層材
   料と該基板の周縁部に付着する保護層の材料を溶解除去
   処理する工程、 を含む光情報記録媒体の製造方法。