JP2765571B2 - Multi-chip module - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】本発明は従来のICパッケージと
同じ実装面積に対し複数倍のメモリ容量を有する大容量
マルチチップ半導体装置を用いたマルチチップモジュー
ルの構造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a multi-chip module using a large-capacity multi-chip semiconductor device having a memory capacity several times as large as the mounting area of a conventional IC package.
【従来の技術】半導体メモリは、大型コンピュータを始
めパソコン、ワープロ、ワークステーション、ファクシ
ミリ等のOA機器からデジタルVTR、TV等の映像機
器に至るまで広範囲に使用されており、今後これらの機
器の発展はさらに進むことからここに使われる半導体メ
モリの需要は加速度的に増大していくと予想される。こ
れと平行して、半導体メモリの製造においてはメモリの
高密度化による1チップ当りのメモリ容量を増加させる
努力が続けられており、チップ内のメモリ容量は3年に
4倍の割合で増大して、現在は1MbitDRAMが量
産、4MbitDRAMがサンプル出荷、16MDRA
Mが試作段階にある。しかし、チップの大容量化に対し
ては、基本技術及び製造プロセス上の種々の問題が多
く、特に現在の1Mbitから4Mbitへの移行に対
しては新しいメモリセルの開発、サブミクロン配線技
術、パッケージング技術等の開発に膨大な費用を必要と
している。従来、メモリ用途のパッケージは、リードフ
レームのタブ上にチップを搭載し、内部リード先端とチ
ップのボンディングパッドとをワイヤボンディングして
結線し、レジンモールドしてなるプラスチックパッケー
ジが主流である。パッケージ形態はメモリ容量が256
Kbitを境にして、これより以前はDIP(Dual
in line Package)が主流であった
が、その後高密度実装の要求が強くなり、実装面積をD
IPより小さくしたSOJ(small outlin
e J−lead package)、ZIP(zig
zag in−line package)に移ってき
ている。ここでDIPとは、パッケージ長辺2方向にリ
ードを2列にはり出し、このリードをパッケージ下方に
折り曲げ形のもので、リードをプリント板のスルーホー
ルに挿入して実装する。またZIPはパッケージ長辺一
方向にリードをはり出させ、このリードを交互に折り曲
げたもので、パッケージを縦形に実装したスルーホール
挿入タイプである。またSOJはパッケージを長辺2方
向にはり出すがリードピッチをDILの1/2と小さく
し、リードをパッケージ下方に「J」形に折り曲げてプ
リント板表面に直接に搭載する面実装タイプで、DIL
に比べてパッケージの長手方向の縮小とプリント板への
両面実装をねらったものである。従来のパッケージにつ
いて、パッケージ形態とプリント板への実装に関し日経
マイクロデバイス別冊No.1 p73〜80及び87〜
89について述べられており、ここで、DIPはパッケ
ージを横形に実装しスルーホールにリード線を挿入する
ことから両面実装が出来ず実装効率はよくない。これに
対し、ZIPは縦形にした分DIPより高密度実装が可
能である。すなわちDIPのリード列間の寸法がプリン
ト板の3格子ピッチであるのに対し、ZIPでは1格子
ピッチであり、プリント板上での実装密度はDIPのほ
ぼ2倍になる。またSOJは横形実装であるが、リード
ピン配置がプリント板の格子の制約を受けないこと及び
両面実装ができることからDIPの2倍以上の高密度実
装が図れる等の特徴がある。2. Description of the Related Art Semiconductor memories are widely used from OA equipment such as personal computers, word processors, workstations, and facsimile machines to video equipment such as digital VTRs and TVs. It is expected that the demand for the semiconductor memory used here will increase at an accelerating rate. In parallel with this, in the manufacture of semiconductor memories, efforts are being made to increase the memory capacity per chip by increasing the density of the memory, and the memory capacity in a chip is increasing four times every three years. Currently, 1Mbit DRAM is mass-produced, 4Mbit DRAM is sample shipped, 16MDRA
M is in the prototype stage. However, there are many problems in the basic technology and the manufacturing process for increasing the capacity of the chip. In particular, for the transition from the current 1 Mbit to 4 Mbit, development of new memory cells, submicron wiring technology, package Enormous costs are required for the development of technics. 2. Description of the Related Art Conventionally, as a package for a memory, a plastic package formed by mounting a chip on a tab of a lead frame, wire-bonding a tip of an internal lead to a bonding pad of the chip by wire bonding, and resin molding is mainly used. The package type has a memory capacity of 256.
Before Kbit, DIP (Dual
in line package), but the demand for high-density mounting has increased since then, and
SOJ (small outlin) smaller than IP
e J-lead package), ZIP (zig
zag in-line package). Here, the DIP is a type in which leads are extended in two rows in two directions of the long side of the package, and these leads are bent downward under the package. The leads are inserted into through holes of a printed board and mounted. The ZIP is a type in which leads are protruded in one direction of the long side of the package and the leads are alternately bent, and is a through-hole insertion type in which the package is mounted vertically. The SOJ is a surface mount type in which the package is protruded in two long sides, but the lead pitch is reduced to half of the DIL, and the leads are bent downward into a "J" shape and mounted directly on the surface of the printed board. DIL
The purpose of this is to reduce the length of the package in the longitudinal direction and to mount both sides on a printed board. Regarding conventional packages, Nikkei Microdevices Supplement No. 1 pp. 73-80 and 87-
No. 89 is mentioned here, and since the DIP mounts the package horizontally and inserts the lead wire into the through-hole, it cannot be mounted on both sides and the mounting efficiency is not good. On the other hand, the ZIP can be mounted at a higher density than the DIP because of the vertical shape. That is, while the dimension between the lead rows of the DIP is three grid pitches of the printed board, that of the ZIP is one grid pitch, and the mounting density on the printed board is almost twice that of the DIP. Although SOJ is a horizontal mounting, it has features such as high-density mounting more than twice as large as DIP because the layout of the lead pins is not restricted by the lattice of the printed board and double-sided mounting is possible.
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように従来
パッケージでは、大きく3種類が使われているが、どれ
も1パッケージに1チップを組み込んだものでチップ側
の容量が増えないかぎりパッケージ当りのメモリ容量は
増大しないという欠点があった。また、パッケージ形態
の違いによるプリント板への実装密度においても、2倍
程度の差があるのみであり、従来パッケージでは大容
量、高密度実装が難かしいという問題があった。特に、
大容量、高密度実装したパッケージを電子機器等で使用
する場合、その電気的な接続構造を考慮したモジュール
が必要であった。本発明の目的は、上記課題を取り除
き、従来のパッケージと同じ実装面積に対して複数倍の
メモリ容量を有し、電子機器等との電気的な接続を考慮
したマルチチップモジュールを提供することにある。As described above, three types of conventional packages are generally used. However, all three types incorporate one chip in one package, and each package has one chip unless the capacity on the chip side increases. However, there is a disadvantage that the memory capacity does not increase. Also, there is only a difference of about twice in the mounting density on the printed board due to the difference in the package form, and there has been a problem that it is difficult to mount a large capacity and high density with the conventional package. Especially,
When a package having a large capacity and a high density is used in an electronic device or the like, a module is required in consideration of the electrical connection structure. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a multi-chip module which has the above-mentioned problems, has a memory capacity that is twice as large as the mounting area of a conventional package, and takes into account electrical connection with electronic devices and the like. is there.
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、半導体チップと電気的に接続した半導体
モジュールをスペーサを介して複数個積み重ね、該半導
体モジュール間を電気的に接続して複数個の電極を形成
したマルチチップ半導体装置を樹脂封止してなるマルチ
チップモジュールであって、該マルチチップ半導体装置
の有する最下層もしくは最上層の該半導体モジュールと
対向する該マルチチップモジュールの一面に該マルチチ
ップ半導体装置の有する電極と電気的に接続する外部引
き出し端子を露出させて形成したものである。また、半
導体チップと電気的に接続した半導体モジュールをスペ
ーサを介して複数個積み重ね、該半導体モジュール間を
電気的に接続して複数個の電極を形成したマルチチップ
半導体装置と、該マルチチップ半導体装置を搭載し、該
マルチチップ半導体装置の有する電極と電気的に接続し
た配線基板と、該マルチチップ半導体装置の有する電極
と該配線基板を介して電気的に接続する外部引き出し端
子とを備えたマルチチップモジュールであって、該配線
基板の一辺に該外部引き出し端子を形成し、該外部引き
出し端子を該マルチチップモジュールから露出させて形
成したものである。また、半導体チップと電気的に接続
した半導体モジュールをスペーサを介して複数個積み重
ね、該半導体モジュール間を電気的に接続して複数個の
電極を形成したマルチチップ半導体装置を樹脂封止して
なるマルチチップモジュールであって、該マルチチップ
半導体装置の有する最下層もしくは最上層の該半導体モ
ジュールと対向する該マルチチップモジュールの一面の
端部から該半導体モジュールを積層した方向に延出する
ように該マルチチップ半導体装置の有する電極と電気的
に接続する外部引き出し端子を露出させて形成したもの
である。これらの場合、前記マルチチップ半導体装置
が、前記半導体チップと前記電極とを電気的に接続する
接続パターンのパターン形状を前記半導体モジュール毎
に異ならせて形成し、該異なるパターン形状の接続パタ
ーンと電気的に接続する電極を該異なるパターン形状の
接続パターンと電気的に接続する該半導体チップのチッ
プセレクタ用電極として構成する事が好ましい。もしく
は、前記マルチチップ半導体装置が、前記半導体チップ
と前記電極とを電気的に接続する接続パターンのうち前
記半導体チップ上に形成したパターン形状を該半導体モ
ジュール毎に異ならせて形成し、該半導体チップ上に形
成したパターン形状の異なる接続パターンと電気的に接
続する電極を該半導体チップ上に形成したパターン形状
の異なる接続パターンと電気的に接続する該半導体チッ
プのチップセレクタ用電極として構成する事が好まし
い。もしくは、前記マルチチップ半導体装置が、前記半
導体モジュール間を電気的に接続して各前記半導体モジ
ュールの有する半導体チップのそれぞれと電気的に接続
する共通電極と各前記半導体モジュールの有する半導体
チップを選択する各前記半導体モジュールのチップセレ
クタ用電極とを形成し、該チップセレクタ用電極と半導
体チップとを電気的に接続する接続パターンの形状を前
記半導体モジュール毎に異ならせて形成する事が好まし
い。もしくは、前記マルチチップ半導体装置が、前記半
導体モジュール間を電気的に接続して各前記半導体モジ
ュールの有する半導体チップのそれぞれと電気的に接続
する共通電極と各前記半導体モジュールの有する半導体
チップを選択する各前記半導体モジュールのチップセレ
クタ用電極とを形成し、該チップセレクタ用電極と半導
体チップとを電気的に接続する接続パターンのうち前記
半導体チップ上に形成したパターン形状を前記半導体モ
ジュール毎に異ならせて形成する事が好ましい。さらに
は、これらの場合、選択対象となる半導体チップを有す
る半導体モジュールの位置まで前記半導体モジュール間
を電気的に接続することにより前記チップセレクタ用電
極を形成する事が好ましい。According to the present invention, in order to achieve the above object, a plurality of semiconductor modules electrically connected to a semiconductor chip are stacked via a spacer, and the semiconductor modules are electrically connected. A multi-chip module formed by resin sealing a multi-chip semiconductor device having a plurality of electrodes formed thereon, wherein the multi-chip module faces the lowermost or uppermost semiconductor module of the multi-chip semiconductor device. An external lead terminal electrically connected to an electrode of the multi-chip semiconductor device is formed on one surface so as to be exposed. A multi-chip semiconductor device in which a plurality of semiconductor modules electrically connected to a semiconductor chip are stacked via a spacer, and a plurality of electrodes are formed by electrically connecting the semiconductor modules; And a wiring board electrically connected to an electrode of the multi-chip semiconductor device, and an external lead terminal electrically connected to the electrode of the multi-chip semiconductor device via the wiring board. A chip module, wherein the external lead-out terminal is formed on one side of the wiring board, and the external lead-out terminal is formed so as to be exposed from the multi-chip module. In addition, a plurality of semiconductor modules electrically connected to a semiconductor chip are stacked via a spacer, and a multichip semiconductor device in which a plurality of electrodes are formed by electrically connecting the semiconductor modules is formed by resin sealing. A multi-chip module, the multi-chip semiconductor device having a lowermost layer or an uppermost layer of the multi-chip module, which extends from the end of one surface of the multi-chip module facing the semiconductor module in a direction in which the semiconductor modules are stacked. It is formed by exposing an external lead terminal electrically connected to an electrode of the multi-chip semiconductor device. In these cases, the multi-chip semiconductor device forms the connection pattern for electrically connecting the semiconductor chip and the electrode with a different pattern shape for each of the semiconductor modules. Preferably, the electrode to be electrically connected is configured as a chip selector electrode of the semiconductor chip to be electrically connected to the connection pattern having the different pattern shape. Alternatively, the multi-chip semiconductor device is formed such that a pattern shape formed on the semiconductor chip among connection patterns for electrically connecting the semiconductor chip and the electrodes is different for each semiconductor module, and the semiconductor chip An electrode electrically connected to a connection pattern having a different pattern shape formed thereon may be configured as a chip selector electrode of the semiconductor chip electrically connected to a connection pattern having a different pattern shape formed on the semiconductor chip. preferable. Alternatively, the multi-chip semiconductor device selects a common electrode electrically connected between the semiconductor modules and electrically connected to each of the semiconductor chips included in each of the semiconductor modules, and a semiconductor chip included in each of the semiconductor modules. It is preferable that a chip selector electrode of each of the semiconductor modules is formed, and a shape of a connection pattern for electrically connecting the chip selector electrode and the semiconductor chip is different for each of the semiconductor modules. Alternatively, the multi-chip semiconductor device selects a common electrode electrically connected between the semiconductor modules and electrically connected to each of the semiconductor chips included in each of the semiconductor modules, and a semiconductor chip included in each of the semiconductor modules. Forming a chip selector electrode of each of the semiconductor modules, and changing a pattern shape formed on the semiconductor chip among connection patterns for electrically connecting the chip selector electrode and the semiconductor chip to each of the semiconductor modules. It is preferable to form it. Further, in these cases, it is preferable to form the chip selector electrode by electrically connecting the semiconductor modules to the position of the semiconductor module having the semiconductor chip to be selected.
【作用】これにより、従来のパッケージと同じ実装面積
に対して、複数倍のメモリ容量を有し、電子機器等との
接続対象を考慮したマルチチップモジュールを提供する
ことができる。As a result, it is possible to provide a multi-chip module having a memory capacity which is several times larger than the mounting area of the conventional package and taking into consideration a connection target with an electronic device or the like.
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1〜図22によ
り説明する。まず、図20から図22に示すような本発
明のマルチチップモジュールを説明する前に、その一構
成要素であるマルチチップ半導体装置120の一例を図
1から図19を用いて説明する。ここで、マルチチップ
モジュールとは、複数の半導体モジュールを積層して形
成したマルチチップ半導体装置に対して、その外部接続
端子となる構造を付加したものである。図1は4個のフ
ィルムキャリア半導体モジュール28a〜28dを積み
重ね電気的に接続したマルチチップ半導体装置の断面図
である。図2は、図1に示すマルチチップ半導体装置を
マザーボードに実装した状態での下から第1段目及び第
2段目のフィルムキャリア半導体モジュールの接続部を
拡大した断面図である。図3は、図1に示すマルチチッ
プ半導体装置の下から2段目のフィルムキャリア半導体
モジュール28bの平面図である。図4〜図6はチップ
選択端子部の詳細を示す斜視図で、図4は下から第2段
目、図5は下から第1段目のフィルムキャリア半導体モ
ジュール、図6はマザーボードである。図7は、半導体
チップを4個積み重ねたマルチチップ半導体装置の各半
導体チップの電気的接続状態を示す回路ブロック図であ
る。まず、図1〜図7において、本発明になるマルチチ
ップ半導体装置の構成を説明する。なお、各図において
同一符号は同一内容を示している。図1及び図2におい
て、半導体チップ2aにはバンプ4aが形成されてお
り、バンプ4aとフィルムキャリアテープ6aはリード
部の一部であるインナーリード部10aで電気的に接続
され、またリード部の一部であるアウターリード部12
aは半導体チップ2aの外側に張り出してスペーサ20
aと接続されている。スペーサ20aは、枠状に形成さ
れており(以下、枠状に形成したスペーサを枠状スペー
サと呼ぶ。)、フィルムキャリア半導体モジュール間を
電気的に接続するため、表面パターン22a、裏面パタ
ーン24a、表面パターン22aと裏面パターン24a
とを電気的に接続するスルーホール26aが形成されて
いる。また、その表面パターン22aと前記アウターリ
ード12aは第1接続層16aによって電気的に接続さ
れている。これによって、半導体チップ2aから裏面パ
ターン24aまでは、電気的に接続された状態となる。
なお、半導体チップ2aの上面及びインナリード部10
aを含む半導体チップ2aの側部には保護コート樹脂1
4aがコートしてある。以上のような構成が、フィルム
キャリア半導体モジュール28aの基本構造となる。上
記において図1の最下段のフィルムキャリア半導体モジ
ュール28aの構成について説明したが、下から第2段
目、第3段目、第4段目もほぼ同様の構成である。以降
各図において最下段のフィルムキャリア半導体モジュー
ルには前記のように符号の後に「a」を、また第2段目
には「b」を、第3段目には「c」を、第4段目には
「d」をつけて表示する。このフィルムキャリア半導体
モジュール間については、第1段目のフィルムキャリア
半導体モジュール28aの表面パターン22aと第2段
目のフィルムキャリア半導体モジュール28bの裏面パ
ターン24bとを第2接続層18bを介して電気的に接
続する。その他のフィルムキャリア半導体モジュール間
も同様に接続する。また、マザーボード30の上面に形
成された配線パターン32とは、最下段フィルムキャリ
ア半導体モジュール28aの裏面パターン24aとは第
3接続層34を介して電気的に接続する。このように複
数のフィルムキャリア半導体モジュールを積層したマル
チチップ半導体装置においては、マザーボードからの信
号の供給を受ける、例えば、スペーサ20a〜dの有する
裏面パターン24a〜d、スルーホール26a〜d、表面パ
ターン22a〜dと、スペーサ間を接続する第1の接続層
16a〜d、第2の接続層18a〜d等が、マルチチップ半
導体装置の電極となる。また、この電極と半導体チップ
とを接続する、例えば、バンプ4a〜d、インナーリード
10a〜d、アウターリード12a〜d、表面パターン22
a〜d等がマルチチップ半導体装置を構成するフィルムキ
ャリア半導体モジュールの接続パターンとなる。すなわ
ち、フィルムキャリア半導体モジュール間を電気的に接
続し、マザーボード30等の配線パターン32と電気的
に接続するものが電極となり、この電極と接続した半導
体チップまでの配線が接続パターンとなる。次に、フィ
ルムキャリア半導体モジュールの有する配線等の詳細を
図3等を用いて更に説明すると、図3において、前述の
アウターリード部12aとインナーリード部10a を含
む複数本のリード部は、1本のチップ選択リード線40
bと、それ以外の複数本の共通リード線42bとに区分
けすることができ、それぞれ半導体チップ2aと枠状ス
ペーサ20aに形成された表面パターンとを接続してい
る。このチップ選択リード線40は、マザーボードから
送られる読み込み・書き込み動作を許可する信号を半導
体チップ2aに供給するものである。そのためチップ選
択リード線40は、前述の電極のうちで各フィルムキャ
リア半導体モジュールに固有となるチップセレクタ用電
極と接続している。次に、各フィルムキャリア半導体モ
ジュールに固有となるような、チップセレクタ用電極
と、該チップセレクタ用電極と半導体チップとを接続す
る接続パターンとの一例を図4〜図6を用いて説明す
る。図4から分かるように、共通リード線42bは、表
面パターンである共通端子パターン46bと接続してい
る。また、チップ選択リード線40bは、チップ選択端
子パターン44b、チップ選択専用パターン50b、チ
ップ選択端子パターン44bとチップ選択専用パターン
50bとを接続するパターン48bとからなる表面パタ
ーンと接続している。この場合、共通端子パターン46
bと、裏面パターン52bとは、スルーホール58bを介
して電気的に接続され、同様に、チップ選択専用パター
ン50bと裏面パターン56bとはスルーホール60bを
介して電気的に接続されている。また、チップ選択端子
パターン44bと裏面パターン54bとの間にはスルーホ
ールは形成されていない。これに対して、図5は、チッ
プ選択端子パターン44aと裏面パターン54aとがス
ルーホール62aによって電気的に接続した点、チップ
選択端子44aとチップ選択専用パターン50aとが電
気的に絶縁した点を除き、その他は図4と同じ構成とな
っている。図6は、マザーボードの配線パターンを示し
たものであり、図においてマザーボード30の上面には
チップ選択端子パターン64、チップ選択専用パターン
66、共通端子パターン68が形成されており、それぞ
れの端子パターンにはライン70、72、74がつなが
っている。マルチチップ半導体装置では、図6に示すマ
ザーボード上に、図5に示すフィルムキャリア半導体モ
ジュール、図4に示すフィルムキャリア半導体モジュー
ルを順に積層して構成する。従って、マザーボード上の
チップ選択端子パターン64、これと接続するフィルム
キャリア半導体モジュールの裏面パターン54a、スル
ーホール62a、チップ選択端子パターン44aが、チッ
プ選択リード線40aと接続する半導体チップ2a固有の
チップセレクタ電極となる。また、チップ選択端子パタ
ーン44a、チップ選択リード線40aが、チップセレク
タ電極と半導体チップ2aとを電気的に接続する接続パ
ターンとなる。同様に、マザーボード上のチップ選択端
子パターン66、これと接続する裏面パターン56a、
スルーホール60a、チップ選択専用パターン50a、こ
れと接続する裏面パターン56b、スルーホール60b、
チップ選択専用パターン50bが、チップ選択リード線
40bと接続する半導体チップ2b固有のチップセレクタ
電極となる。また、チップ選択端子パターン44b、チ
ップ選択リード線40bが、チップセレクタ電極と半導
体チップ2bとを電気的に接続する接続パターンとな
る。また、マザーボード上の共通端子パターン66、こ
れと接続する裏面パターン52a、スルーホール58a、
共通端子パターン46a、これと接続する裏面パターン
52b、スルーホール58b、共通端子パターン46b
が、それぞれの接続パターンである共通リード線42
a、bを介して半導体チップ2a、bに電気的に接続し、各
フィルムキャリア半導体モジュールに共通な電極とな
る。このように、それぞれのチップセレクタ電極と接続
する接続パターンの形状を異ならせることにより、その
異なる形状の接続パターンと接続するチップセレクタ電
極を各半導体モジュールに固有なものとして形成するこ
とができる。また、フィルムキャリア半導体モジュール
を積層することで電極を形成するので、その電極は容易
に形成することができる。すなわち、それぞれのチップ
セレクタ電極と接続する接続パターンの形状を異ならせ
ることにより、電極の形成が容易な上、チップセレクタ
電極を各半導体モジュールに固有なものとして形成する
ことができる。また、各フィルムキャリア半導体モジュ
ールのチップセレクタ用電極を形成する場合に、チップ
セレクタ用電極が、該当するフィルムキャリア半導体モ
ジュールより上層に積層したフィルムキャリア半導体モ
ジュールに対して電気的に接続されないように構成する
ことにより、チップセレクタ用電極を各半導体モジュー
ルに固有なものとして形成することができる。このよう
にマルチチップ半導体装置を構成すれば、その電気的接
続状態を示す回路ブロック図は図7のようになる。ここ
で、マルチチップ半導体装置における半導体メモリチッ
プへの情報の記憶(データ入力)及び記憶されている情
報の読み出し(データ出力)法について説明する。図に
おいて半導体チップ2a、2b、2c、2dにはアドレ
ス端子80、データ入出力端子82、ライトイネーブル
端子84、アウトイネーブル端子86、電源端子88、
グランド端子90、チップ選択端子92a、92b、9
2c、92dが電気的につながっている。これらの端子
のうち、チップ選択端子92a〜92dはそれぞれの半
導体チップ2a〜2dに独立して接続されているが、そ
の他の端子は半導体チップ2a〜2dに共通に接続され
ている。情報の入出力は、チップ内に設定された番地単
位で行われる。ある番地への情報の書き込みは、番地を
指定するアドレス信号、書き込みを許可するライトイネ
ーブル信号、記憶するデータを含むデータ信号が必要で
ある。ところが、情報量が多くなり1個のチップでは情
報を収容しきれなくなると、複数個のチップを使う必要
が生ずる。図7はチップ4個についての一例を示すもの
で、例えば1チップに100個の番地が設定できるとす
れば、各チップ共0〜99番地を設定しておく。このよ
うにして今、半導体チップ2aの99番地へあるデータ
を書き込む動作を例にとれば、アドレス端子88には
「99番地」を示す信号を、データ入出力端子82には
書き込むためのデータ信号を、ライトイネーブル端子8
4に書き込み許可信号を印加し、同時に半導体チップ2
aにつながるチップ選択端子92aにチップ選択用の信
号を送ることにより、アドレス信号、データ信号、ライ
トイネーブル信号は4個の半導体チップ2a〜2dのう
ち半導体チップ2aのみ有効となり、他の半導体チップ
2b〜2dには作用しない。すなわち、半導体チップ2
aの99番地には必要なデータが書き込まれるが、他の
3個の非選択半導体チップの99番地は変化ないことに
なる。同様に、データの読み出しについては、読み出し
許可信号用のアウトイネーブル信号が作用して、その他
は書き込みと同じ接続状態でデータ入出力端子82に半
導体チップ2aの99番地に記憶されているデータが出
力されることになる。なお、図7において、アドレス端
子80及びデータ入出力端子82は一本のラインで示し
てあるが、実際の配線では複数本で構成されている。こ
れに対しライトイネーブル端子84、アウトイネーブル
端子86、電源端子88、グランド端子90及びチップ
選択端子92a〜92dは実際の配線ではそれぞれ各1
本の場合が多い。次に、これまで説明したマルチチップ
半導体装置の動作を説明する。図1〜図2において半導
体チップ2aは内部に記憶素子を集積化したメモリ用半
導体チップであり、マザーボード30から供給される信
号に応じてデータの書き込み及び読み出しを行うもので
ある。データの書き込み及び読み出し時の電気信号の流
れは、まずマザーボード30の配線パターン32に外部
から信号が供給され、第3接続層34、スペーサ20a
の裏面パターン24a、スルーホール26a、表面パタ
ーン22a、第1接続層16aを経てフィルムキャリア
6aのアウターリード部12a、インナリード部10
a、バンプ4aを通って第1段目の半導体チップ2a内
の素子に供給される。同様に第2段目の半導体チップ2
b及び第3段目、第4段目の半導体チップ2c、2dに
も同時に信号が供給される。ここで、図4に示す、チッ
プ選択リード線40bは図7に示すチップ選択端子92
aに相当し、各半導体チップに独立に接続されるが、そ
れ以外の複数本の共通リード線42bは同じく図7のア
ドレス端子80、データ入出力端子82、ライトイネー
ブル端子84、アウトイネーブル端子86、電源端子8
8、グランド端子90に相当しており、各端子に共通し
て接続されている。すなわち、図4〜図6に示すよう
に、共通端子に供給される信号はマザーボード30の共
通端子パターン68を経てスペーサ20aの裏面パター
ン52a、スルーホール58a、表面パターン46a、
共通リード線42aを経て第1段目の半導体チップ2a
に供給され、さらに第2段目のスペーサ20bの裏面パ
ターン52bから共通リード線42に供給されて、前述
したように各チップに同時に供給される。これに対して
チップ選択端子パターン64に供給されるチップ選択信
号は、スペーサ20aの裏面パターン54a、スルーホ
ール62a、表面パターン44a、チップ選択リード線
40aを経て第1段目の半導体チップ2aに供給される
が、スペーサ20bの裏面パターン54bと表面パター
ン44bは電気的に接続されていないため、第2段目の
半導体チップ2bには供給されない。同様にマザーボー
ド30のチップ選択端子パターン66に供給されるチッ
プ選択用信号は第1段目の半導体チップ2aには供給さ
れず、第2段目の半導体チップ2bのみに選択的に供給
することができる。なお、第2段目以上のチップについ
ても各段のスペーサに同様の回路パターンを設けること
によって、独立してチップ選択が行える。これにより、
チップセレクタ用電極を用いて所望の半導体チップを動
作させることができ、積層したフィルムキャリア半導体
モジュールに対して誤動作なくデータの書き込み・読み
出しを実現することができる。次にマルチチップ半導体
装置に用いられるその他のスペーサ形状について説明す
る。これまでは、図3に示すように外形が矩形のスペー
サについて説明したが、図8に示すようなフィルムキャ
リアのリード線配置の2面のみにスペーサを有する構造
も可能である。すなわち、図8に示すように対向して配
置した第一、第二のスペーサ20b1、20b2を有する構
造によっても、フィルムキャリアテープ半導体モジュー
ルを積層することができる。また、図1おいて第1段目
から第4段目までの枠状スペーサを半導体チップの表裏
両面位置にスペーサ部材を有しない構造として、全て同
じ形状にしているが、第1段目のスペーサを図9に示す
ように半導体チップ2aの下面にもスペーサ部材96a
を介在させたスペーサ64aとし、そのスペーサ部材の
マザーボードと接続する任意の面に任意形状の配線パタ
ーン98aを形成した構造とすることもできる。すなわ
ち、マザーボードの標準化された接続パターンと合致す
るパターン配置を任意に形成できる構造である。また、
これまでは、スペーサに表裏パターンを形成し、スルー
ホールによってこの表裏パターンを電気的に接続する構
造について説明したが、表裏パターンの導通を図る接続
用パターンとしては、フィルムキャリアのアウターリー
ドをスペーサ表面、側面を経由して裏面に折り曲げた構
造あるいは、折り曲げた表裏導通リード線を用いた構造
であっても良い。図10にこの一例としてアウターリー
ドを折り曲げて形成した接続用パターンを示す。この場
合、これまでの表面パターン、裏面パターン、スルーホ
ールは不要となる。図10は、フィルムキャリア半導体
モジュールのスペーサとアウターリードの接合部を示す
断面図で、スペーサ20aには表面パターン100a、
裏面パターン24aが形成されている。折り曲げられた
アウターリード12aの先端と裏面パターン24aは下
面接続層104aによって固定される。以上の構造にお
いて、アウターリード12aをスペーサ20aの上面を
通り、折り曲げによってスペーサ20aの側面、さらに
下面に伸延させて、裏面パターン24aに接合しスペー
サの表裏導通をはかっている。次に、マルチチップ半導
体装置に用いられるその他のチップセレクタ用電極を図
11から図13に示す。図11〜図13は図4〜図6と
同じ位置を示したもので、同一符号は同一内容を示して
いる。ただし、共通端子パターンについては省略してい
る。この特徴は、チップセレクタ用電極と半導体チップ
とを接続する接続パターンを半導体チップ上で異ならせ
て形成した点であり、また、スペーサ20bに形成され
る表裏パターン及び表裏パターンを接続するスルーホー
ル導通パターンをスペーサ20aと同じ構造で形成した
点である。このように、フィルムキャリアのアウターリ
ード形状を40aと40bとに示すように異なる配置に
することによって、それぞれのチップセレクタ電極を介
して該当する半導体チップを独立に選択できる構造とな
っている。図10にて説明したアウターリード線折り曲
げ方式はこの構造を適用することにより、容易に目的を
達成することができる。さらに、マルチチップ半導体装
置に用いられるその他のチップセレクタ用電極を図14
〜図16に示す。これもチップセレクタ用電極と半導体
チップとを接続する接続パターンの形状を半導体チップ
上で異ならせて形成しているが、スペーサ20aと20
bとを同じ構造とし、フィルムキャリアのアウターリー
ド40a、40a’、40b、40b’も同じ構造とし
た点が異なっている。すなわち、図14及び図15では
チップ選択パッド102b、102a、パッド接続ライ
ン104b、104a及びチップ選択予備パッド106
b、108b、106a、108aを形成し、第1段目
の半導体チップ2aではチップ選択パッド102aとチ
ップ選択予備パッド106aとをパッド接続ライン10
4aにより接続詞、チップ選択予備パッド108aはチ
ップ選択パッド102aと絶縁している。また、第2段
目の半導体チップ2bではチップ選択パッド102bと
チップ選択予備パッド108bとを接続し、チップ選択
予備パッド106bとは絶縁している。このような構成
によってもマザーボード30のチップ選択端子64に信
号が印加された時は半導体チップ2aが独立に選択で
き、チップ選択端子66への信号印加に対しては半導体
チップ2bが独立に選択できる。次にマルチチップ半導
体装置に用いられるその他のスペーサ形状を図17に示
す。図17は、半導体チップ2とバンプ4を介して接続
したリード部が、スペーサ110に形成されたスルーホ
ールを電気的に接続するように伸延したものである。す
なわち、表面パターンを形成しない例である。このリー
ド付スペーサ110の形成には基材の片面にのみパター
ン用導電材の固着された基板に半導体チップ2がはまり
込む孔を打ち抜いた後、他面にリードパターン形成用の
導電材を前記孔部分を含めて貼り付け、この後は印刷配
線板の製造プロセスを使って図17に示すような基材の
一端にリードパターンを張り出させたリード付スペーサ
110を形成する。リード付スペーサ110と半導体チ
ップ2の接合は金−金、金−すず等の既に知られている
インナリードボンディングの方法を用いる。本リード付
スペーサを用いたフィルムキャリア半導体モジュールの
積み重ねにおいては、図2に示す第1接続部16aが不
要であり、組み立て工程上非常に有利となる。なお、前
記スペーサにマザーボードと同質の材料を用いることに
よって、マザーボードへの実装後の接続信頼性を大巾に
向上させることができる。次にマルチチップ半導体装置
の製造方法について説明する。製造工程の概略を図18
に示す。図1、図2及び図18において、まず、パター
ニングしたフィルムキャリアテープのインナリード10
aと半導体チップ2aの表面に形成したバンプ4aを位
置合わせし、インナリード部のボンディングを行なう。
このボンディング法は、TAB(Tape Autom
ated Bonding)のインナリードボンディン
グとして一般的に知られている方法である。次いでボン
ディング面とチップ選択端子表面及び側面に保護コート
を施す。この時点で半導体チップ2a及びボンディング
部の検査を行い良否の区分けを行う。次いでフィルムキ
ャリアテープからフィルムキャリアモジュール6aを切
り出す。これと並行して複数個のスペーサを同時形成し
たプリント配線板から1個のスペーサを外形切断して取
り出し、前記フィルムキャリアモジュール6aと位置合
わせを行って、第1接続を行い、第1接続層16を形成
する。これで、図1に示すフィルムキャリア半導体モジ
ュールの単体ができる。次いでフィルムキャリア半導体
モジュール4個を位置合わせ治具に設置した後、各フィ
ルムキャリア半導体モジュールの裏面パターン24とア
ウターリード12を接触させて端子部のみを溶融はんだ
槽に浸積して、第2接続を行う。この後、マザーボード
への接続部を残して樹脂コートを行う。この工程図にお
いて、外形切断前のフィルムキャリアテープに外形切断
したスペーサを第1接続した後、フィルムキャリアテー
プを切断する方法、さらに外形切断前のスペーサプリン
ト配線板に外形切断したフィルムキャリアモジュールを
第1接続する方法も可能である。また、本実施例におけ
る第1接続は、スルーホールの端子部に予め付着させて
おいたSn−Pb系はんだを用いたはんだを熱圧着ヘッ
ドで加熱溶融してボンディングするはんだリフロー法を
採用したが、Au−Au熱圧着 Au−Snボンディン
グ、導電ペーストを用いた接続法等ももちろん適用でき
る。マルチチップ半導体装置の製造方法のその他の例に
ついて、図19で説明する。図19は製造工程の概略を
示すもので、特に図17に示すリード付スペーサを用い
たマルチチップ半導体装置の製造方法について示してい
る。まず、パターニングしたリード付スペーサのインナ
リードと半導体チップのバンプを接続する。この状態
が、図17に示す構造である。次にチップ表面の保護コ
ート及びボンディング部を含めたチップ全体の検査を行
い良否の区分けを行って、良品のみ外形切断を行う。こ
の後は前記図18の説明と同じ方法によって積み重ね、
位置合わせ、第2接続、性能検査、樹脂コートを行って
マルチチップ半導体装置が完成する。次に、これまで説
明してきたマルチチップ半導体装置に外部接続端子を付
加した本発明のマルチチップモジュールの一例について
説明する。図20は内部にマルチチップ半導体装置12
0を包含したマルチチップモジュール122であり、端
子124(外部引き出し端子)がモジュールの一面に配
置されている。モジュールは端子124(外部引き出し
端子)を除く全面に樹脂コート126を施してモジュー
ル外形を形成している。端子124(外部引き出し端
子)は表面にAuめっき処理を施してある。本構成のマ
ルチチップモジュールを端子(124外部引き出し端
子)と相対する端子を有するマザーボードに押しつけ保
持することにより、電子機器の記憶装置としたものであ
る。すなわち、図20では、半導体チップと電気的に接
続した半導体モジュールをスペーサを介して複数個積み
重ね、該半導体モジュール間を電気的に接続して複数個
の電極を形成したマルチチップ半導体装置を樹脂封止し
て形成したマルチチップモジュールであり、該マルチチ
ップ半導体装置の有する最下層もしくは最上層の該半導
体モジュールと対向する該マルチチップモジュールの一
面に該マルチチップ半導体装置の有する電極と電気的に
接続する外部引き出し端子を露出させて形成している。
図21は他のマルチチップモジュールを示すもので、内
部にマルチチップ半導体装置120を包含したマルチチ
ップモジュール128であり、マルチチップ半導体装置
120は、モジュール内部で配線基板130に電気的に
接続され、各信号端子は配線基板130の一端にコネク
ター端子132(外部引き出し端子)として取り出され
ている。すなわち、図21では、半導体チップと電気的
に接続した半導体モジュールをスペーサを介して複数個
積み重ね、該半導体モジュール間を電気的に接続して複
数個の電極を形成したマルチチップ半導体装置と、該マ
ルチチップ半導体装置を搭載し、該マルチチップ半導体
装置の有する電極と電気的に接続した配線基板と、該マ
ルチチップ半導体装置の有する電極と該配線基板を介し
て電気的に接続する外部引き出し端子とを備えたマルチ
チップモジュールであり、該配線基板の一辺に該外部引
き出し端子を形成し、該外部引き出し端子を該マルチチ
ップモジュールから露出させて形成している。図22
は、さらに別のマルチチップモジュールを示す。これ
は、コネクター端子132(外部引き出し端子)をモジ
ュール134の下方2個所に取りだしたもので、多数個
のマルチチップ半導体装置を積み重ねたもの、あるいは
多端子を有する半導体チップに対して有利な構造であ
る。すなわち、図22は、半導体チップと電気的に接続
した半導体モジュールをスペーサを介して複数個積み重
ね、該半導体モジュール間を電気的に接続して複数個の
電極を形成したマルチチップ半導体装置を樹脂封止して
なるマルチチップモジュールであり、該マルチチップ半
導体装置の有する最下層もしくは最上層の該半導体モジ
ュールと対向する該マルチチップモジュールの一面の端
部から該半導体モジュールを積層した方向に延出するよ
うに該マルチチップ半導体装置の有する電極と電気的に
接続する外部引き出し端子を露出させて形成している。
以上のように、本マルチチップモジュールでは搭載され
るマルチチップ半導体装置が複数個の半導体チップによ
って形成されていることから、従来のモジュールとほぼ
同じ実装面積に対して複数倍の記憶容量を有する構造で
あり、小形で大容量のメモリを要求される携帯用電子機
器に非常に有効である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS.
Will be described. First, as shown in FIGS.
Before explaining the Ming multi-chip module,
FIG. 1 illustrates an example of a multi-chip semiconductor device 120 as a component.
This will be described with reference to FIGS. Where the multi-chip
Modules are formed by stacking multiple semiconductor modules.
External connection to the formed multi-chip semiconductor device
The structure which becomes a terminal is added. Figure 1 shows four
Stacking film carrier semiconductor modules 28a to 28d
Cross-sectional view of a multi-chip semiconductor device electrically connected
It is. FIG. 2 shows the multi-chip semiconductor device shown in FIG.
1st stage and 1st stage from below with mounted on motherboard
The connection part of the second stage film carrier semiconductor module
It is the expanded sectional view. FIG. 3 shows the multi-chip shown in FIG.
The second stage film carrier semiconductor from the bottom of the semiconductor device
It is a top view of module 28b. 4 to 6 show chips.
FIG. 4 is a perspective view showing details of the selection terminal portion, and FIG.
FIG. 5 shows the first stage film carrier semiconductor module from the bottom.
Joule, FIG. 6 is a motherboard. FIG. 7 shows a semiconductor
Each half of a multi-chip semiconductor device with four stacked chips
FIG. 3 is a circuit block diagram showing an electrical connection state of a conductor chip.
You. First, in FIG. 1 to FIG.
The configuration of the top semiconductor device will be described. In each figure,
The same reference numerals indicate the same contents. 1 and 2
Therefore, bumps 4a are formed on the semiconductor chip 2a.
And the bump 4a and the film carrier tape 6a are
Electrical connection at the inner lead part 10a which is a part of the part
Outer lead portion 12 which is a part of the lead portion.
a protrudes outside the semiconductor chip 2a and
Connected to a. The spacer 20a is formed in a frame shape.
(Hereinafter, frame-shaped spacers are
Called sa. ), Between film carrier semiconductor modules
The front surface pattern 22a and the back surface pattern
24a, front surface pattern 22a and back surface pattern 24a
Through hole 26a is formed to electrically connect
I have. Also, the surface pattern 22a and the outer
The node 12a is electrically connected by the first connection layer 16a.
Have been. As a result, the back surface of the semiconductor chip 2a is
Until the turn 24a, they are electrically connected.
The upper surface of the semiconductor chip 2a and the inner lead portion 10
a protective coating resin 1 on the side of the semiconductor chip 2a containing
4a is coated. The above configuration is the film
This is the basic structure of the carrier semiconductor module 28a. Up
In FIG. 1, the lowermost film carrier semiconductor module of FIG.
The configuration of the module 28a has been described.
The eyes, third and fourth stages have substantially the same configuration. Or later
In each figure, the bottom film carrier semiconductor module
The letter "a" is added after the sign as described above, and
For "b", for the third row "c", for the fourth row
Display with "d" appended. This film carrier semiconductor
Between modules, the first stage film carrier
Surface pattern 22a of semiconductor module 28a and second stage
Back of the film carrier semiconductor module 28b
The turn 24b is electrically connected to the turn 24b via the second connection layer 18b.
Continue. Between other film carrier semiconductor modules
Are connected in the same way. In addition, the shape is
The formed wiring pattern 32 is the lower film carrier.
The back pattern 24a of the semiconductor module 28a
Electrical connection is made via the three connection layers 34. Like this
Number of film carrier semiconductor modules
In chip chips, the signal from the motherboard
Receiving the signal, for example, having the spacers 20a to 20d
Back patterns 24a-d, through holes 26a-d,
First connection layer for connecting turns 22a-d and spacers
16a-d, the second connection layers 18a-d, etc.
It becomes the electrode of the conductor device. Also, this electrode and the semiconductor chip
For example, bumps 4a to 4d, inner leads
10a-d, outer leads 12a-d, surface pattern 22
a to d etc. constitute a multi-chip semiconductor device
It becomes the connection pattern of the carrier semiconductor module. Sand
That is, the film carrier semiconductor modules are electrically connected.
Then, it is electrically connected to the wiring pattern 32 of the motherboard 30 and the like.
Is connected to the electrode, and the semiconductor connected to this electrode
The wiring to the body chip becomes the connection pattern. Next,
Details on the wiring etc. of the Lum carrier semiconductor module
This will be further described with reference to FIG. 3 and the like.
Including the outer lead portion 12a and the inner lead portion 10a
The plurality of lead portions are one chip selection lead wire 40.
b and a plurality of other common lead wires 42b
And the semiconductor chip 2a and the frame-shaped
Connected to the surface pattern formed on the pacer 20a.
You. This chip select lead 40 is
Semi-conducted signal to allow read / write operation to be sent
It is supplied to the body chip 2a. Therefore chip selection
The selection lead wire 40 is connected to each film capacitor among the aforementioned electrodes.
Chip selector power unique to the rear semiconductor module
Connected to poles. Next, each film carrier semiconductor model
Chip selector electrode that is unique to Joule
And connecting the chip selector electrode to the semiconductor chip.
An example of the connection pattern will be described with reference to FIGS.
You. As can be seen from FIG. 4, the common lead 42b is
Connected to the common terminal pattern 46b which is a surface pattern.
You. The chip selection lead wire 40b is connected to the chip selection end.
Child pattern 44b, chip selection dedicated pattern 50b,
Chip selection terminal pattern 44b and chip selection dedicated pattern
Surface pattern consisting of a pattern 48b connecting to the surface pattern 50b
Connected to the In this case, the common terminal pattern 46
b and the back surface pattern 52b are interposed through the through hole 58b.
Is electrically connected to the
Pattern 50b and the back pattern 56b form a through hole 60b.
Are electrically connected via Also, chip select terminal
There is a through hole between the pattern 44b and the back pattern 54b.
No rule is formed. On the other hand, FIG.
The terminal pattern 44a and the back pattern 54a
Point electrically connected by through hole 62a, chip
The selection terminal 44a and the chip selection dedicated pattern 50a
Except for gas insulation, the other configuration is the same as that of FIG.
ing. Figure 6 shows the wiring pattern of the motherboard
In the figure, on the upper surface of the motherboard 30
Chip selection terminal pattern 64, chip selection dedicated pattern
66, a common terminal pattern 68 is formed.
Lines 70, 72 and 74 are connected to these terminal patterns.
ing. In the multi-chip semiconductor device, the mask shown in FIG.
The film carrier semiconductor module shown in FIG.
Joule, film carrier semiconductor module shown in FIG.
Are laminated in order. Therefore, on the motherboard
Chip selection terminal pattern 64, film connected to this
Back pattern 54a of carrier semiconductor module, through
Hole 62a and chip select terminal pattern 44a
Unique to the semiconductor chip 2a connected to the selection lead wire 40a.
It becomes a chip selector electrode. Also, the chip select terminal pattern
44a and the chip selection lead wire 40a
Connection electrode for electrically connecting the data electrode and the semiconductor chip 2a.
Turns. Similarly, the chip select end on the motherboard
A child pattern 66, a back pattern 56a connected thereto,
Through hole 60a, chip selection pattern 50a,
Back surface pattern 56b, through hole 60b,
The chip selection dedicated pattern 50b is a chip selection lead wire.
Chip selector unique to semiconductor chip 2b connected to 40b
It becomes an electrode. In addition, the chip selection terminal pattern 44b,
The lead wire 40b is connected to the chip selector electrode and the semiconductor
The connection pattern electrically connects the body chip 2b.
You. Also, the common terminal pattern 66 on the motherboard,
Back surface pattern 52a, through hole 58a,
Common terminal pattern 46a, back side pattern connected to this
52b, through hole 58b, common terminal pattern 46b
Are the common lead wires 42 that are the respective connection patterns.
electrically connected to the semiconductor chips 2a and 2b through a and b, respectively.
Common electrode for film carrier semiconductor module
You. Thus, each chip selector electrode is connected
By changing the shape of the connection pattern
Chip selectors connected to connection patterns of different shapes
Make the poles unique to each semiconductor module.
Can be. Also, film carrier semiconductor module
The electrodes are formed by stacking
Can be formed. That is, each chip
Change the shape of the connection pattern connected to the selector electrode
This makes it easy to form the electrodes,
Form electrodes as unique to each semiconductor module
be able to. In addition, each film carrier semiconductor module
When forming the chip selector electrode,
If the selector electrode is
Film carrier semiconductor module laminated above
Configure not to be electrically connected to the module
This allows the chip selector electrode to be connected to each semiconductor module.
Can be formed unique to the device. like this
If a multi-chip semiconductor device is configured in
FIG. 7 is a circuit block diagram showing the connection state. here
Semiconductor memory chip in a multichip semiconductor device.
Storage of information (data input) and stored information
A method of reading out (data output) will be described. In the figure
Addressing the semiconductor chips 2a, 2b, 2c and 2d.
Terminal 80, data input / output terminal 82, write enable
Terminal 84, out enable terminal 86, power supply terminal 88,
Ground terminal 90, chip selection terminals 92a, 92b, 9
2c and 92d are electrically connected. These terminals
Of the chip selection terminals 92a to 92d
Although independently connected to the conductor chips 2a to 2d,
The other terminals are commonly connected to the semiconductor chips 2a to 2d.
ing. The input and output of information is performed by the address unit set in the chip.
It is performed in the place. To write information to a certain address,
Address signal to specify, write rice to enable writing
Cable signal and data signal containing data to be stored are required.
is there. However, the amount of information has increased and one chip has no information.
Need to use multiple chips when it can't accommodate information
Occurs. FIG. 7 shows an example of four chips.
Suppose, for example, that 100 addresses can be set in one chip.
In this case, addresses 0 to 99 are set for each chip. This
Now the data at address 99 of the semiconductor chip 2a
As an example, the operation of writing
A signal indicating “address 99” is supplied to the data input / output terminal 82.
A data signal for writing is supplied to a write enable terminal 8.
4 to the semiconductor chip 2 at the same time.
A chip selection terminal 92a connected to a
Address signal, data signal, and line signal.
The enable signal is applied to the four semiconductor chips 2a to 2d.
Only the semiconductor chip 2a is valid, and other semiconductor chips
It does not act on 2b-2d. That is, the semiconductor chip 2
The necessary data is written to address 99 of a,
Address 99 of the three unselected semiconductor chips remains unchanged
Become. Similarly, for reading data,
The out enable signal for the enable signal operates,
Is connected to the data input / output terminal 82 in the same connection state as writing.
The data stored at address 99 of the conductor chip 2a is output.
Will be empowered. Note that, in FIG.
The child 80 and the data input / output terminal 82 are shown by one line.
However, the actual wiring is composed of a plurality of wires. This
In response, the write enable terminal 84, out enable
Terminal 86, power terminal 88, ground terminal 90, and chip
The selection terminals 92a to 92d are each 1 in actual wiring.
Often books. Next, the multichip explained so far
The operation of the semiconductor device will be described. 1 and 2
Body chip 2a is a memory half in which storage elements are integrated.
A conductive chip, and a signal supplied from the motherboard 30
Write and read data according to the
is there. Electric signal flow when writing and reading data
First, the external pattern is attached to the wiring pattern 32 of the motherboard 30.
From the third connection layer 34, the spacer 20a
Back surface pattern 24a, through hole 26a, front surface pattern
Through the first connection layer 16a and the film carrier
6a outer lead portion 12a, inner lead portion 10
a, inside the first-stage semiconductor chip 2a through the bumps 4a
Are supplied to the elements. Similarly, the second stage semiconductor chip 2
b and the third and fourth stage semiconductor chips 2c and 2d
Are also supplied with signals at the same time. Here, the chip shown in FIG.
The chip selection lead wire 40b is connected to the chip selection terminal 92 shown in FIG.
a, and is independently connected to each semiconductor chip.
Other common lead wires 42b are also the same as those shown in FIG.
Dress terminal 80, data input / output terminal 82, write enable
Cable terminal 84, out enable terminal 86, power supply terminal 8
8, corresponding to the ground terminal 90, common to each terminal
Connected. That is, as shown in FIGS.
The signal supplied to the common terminal is
The back surface pattern of the spacer 20a via the through terminal pattern 68
52a, through hole 58a, surface pattern 46a,
First-stage semiconductor chip 2a via common lead wire 42a
To the back surface of the second-stage spacer 20b.
Supplied from the turn 52b to the common lead wire 42,
As described above, they are simultaneously supplied to each chip. On the contrary
Chip selection signal supplied to the chip selection terminal pattern 64
The symbols are the back pattern 54a of the spacer 20a and the through hole
62a, surface pattern 44a, chip selection lead wire
Supplied to the first-stage semiconductor chip 2a via the first semiconductor chip 2a
Are the back pattern 54b of the spacer 20b and the front pattern.
44b is not electrically connected, so the second stage
It is not supplied to the semiconductor chip 2b. Motherboard as well
Chip 30 supplied to the chip selection terminal pattern 66 of the
The selection signal is supplied to the first-stage semiconductor chip 2a.
Not selectively supplied to only the second stage semiconductor chip 2b
can do. Note that the second and higher chips
Even if the same circuit pattern is provided on the spacer at each stage
This allows independent chip selection. This allows
Move the desired semiconductor chip using the chip selector electrode.
Can be made into laminated film carrier semiconductor
Write / read data to / from module without malfunction
Delivery can be realized. Next, multi-chip semiconductor
Other spacer shapes used for the device will be described.
You. Until now, a space with a rectangular shape as shown in FIG.
Although the description has been made with respect to the film cap, as shown in FIG.
Structure with spacers only on two sides of rear lead wire arrangement
Is also possible. That is, as shown in FIG.
Having first and second spacers 20b1 and 20b2
Depending on the structure, film carrier tape semiconductor module
Can be stacked. Also, the first stage in FIG.
Frame-shaped spacers from the front to the back of the semiconductor chip
Same structure without spacer members on both sides
The first stage spacer is shown in FIG.
The spacer member 96a is also provided on the lower surface of the semiconductor chip 2a.
And a spacer 64a interposed therebetween.
Arbitrary shape wiring pattern on any surface connected to motherboard
Structure 98a may be formed. Sand
That match the standardized connection pattern of the motherboard
This is a structure that allows arbitrary pattern arrangement to be formed. Also,
Until now, front and back patterns have been formed on spacers,
Holes connect the front and back patterns electrically.
Has been explained, but the connection to conduct the front and back pattern
Pattern for film carrier outerwear
Is folded to the back via the spacer front and side surfaces.
Structured or constructed using bent front and back conductive leads
It may be. Fig. 10 shows an example of this
4 shows a connection pattern formed by bending a gate. This place
If the previous surface pattern, back pattern, through-hole
Rules are not required. FIG. 10 shows a film carrier semiconductor.
Shows the joint between the module spacer and the outer lead
In the cross-sectional view, the spacer 20a has a surface pattern 100a,
A back pattern 24a is formed. Folded
The tip of the outer lead 12a and the back surface pattern 24a are below.
It is fixed by the surface connection layer 104a. With the above structure
And the outer lead 12a is attached to the upper surface of the spacer 20a.
Street, the side of the spacer 20a
It extends to the lower surface and is joined to the back pattern 24a.
The continuity of the front and back of the sa is done. Next, multi-chip semiconductor
Figure shows other chip selector electrodes used in body devices
11 to FIG. 11 to 13 correspond to FIGS. 4 to 6.
The same position is indicated, and the same sign indicates the same content.
I have. However, the common terminal pattern is omitted.
You. This feature consists of the chip selector electrode and the semiconductor chip.
Pattern on the semiconductor chip to connect to
Formed on the spacer 20b.
Front and back patterns and through hoes connecting front and back patterns
The conductive pattern was formed with the same structure as the spacer 20a.
Is a point. Thus, the outer carrier of the film carrier
To different arrangements as shown at 40a and 40b
In this way, each chip selector electrode
And the semiconductor chip can be selected independently.
ing. Outer lead wire bending explained in FIG.
The application of this structure makes it easy to
Can be achieved. In addition, multi-chip semiconductor devices
FIG. 14 shows another chip selector electrode used for
To FIG. This is also a chip selector electrode and semiconductor
The shape of the connection pattern that connects the chip to the semiconductor chip
Although formed differently above, the spacers 20a and 20a
b) has the same structure as the film carrier
40a, 40a ', 40b, 40b' have the same structure.
Is different. That is, in FIGS. 14 and 15,
Chip select pads 102b, 102a, pad connection lines
104b, 104a and spare chip selection pad 106
b, 108b, 106a and 108a are formed, and the first stage
In the semiconductor chip 2a of FIG.
Pad selection pad 106a and pad connection line 10
4a, the connection word and the chip selection spare pad 108a are
It is insulated from the top selection pad 102a. Also, the second stage
In the second semiconductor chip 2b, the chip selection pad 102b
Connect the chip selection spare pad 108b to select the chip
It is insulated from the spare pad 106b. Such a configuration
To the chip select terminal 64 of the motherboard 30
When the signal is applied, the semiconductor chip 2a can be selected independently.
When a signal is applied to the chip select terminal 66, a semiconductor
Chip 2b can be selected independently. Next, multi-chip semiconductor
FIG. 17 shows other spacer shapes used for the body device.
You. FIG. 17 shows connection between the semiconductor chip 2 and the bump 4
Through the through hole formed on the spacer 110
Are extended to electrically connect the rails. You
That is, this is an example in which a surface pattern is not formed. This Lee
For the formation of the spacer 110 with a dough, only one side of the substrate
Semiconductor chip 2 fits on the substrate to which the conductive material for
After punching out the hole to be
Paste the conductive material including the holes, and then print
Using the wire plate manufacturing process, the base material as shown in FIG.
Leaded spacer with lead pattern protruding at one end
Form 110. Leaded spacer 110 and semiconductor chip
The bonding of the tip 2 is already known such as gold-gold, gold-tin, etc.
An inner lead bonding method is used. With this lead
Of film carrier semiconductor module using spacer
In stacking, the first connecting portion 16a shown in FIG.
It is important and very advantageous in the assembling process. In addition, before
To use the same material as the motherboard for the spacer
Therefore, the connection reliability after mounting on the motherboard is greatly increased.
Can be improved. Next, multi-chip semiconductor devices
A method of manufacturing the device will be described. FIG. 18 shows an outline of the manufacturing process.
Shown in In FIG. 1, FIG. 2 and FIG.
Inner lead 10 of thinned film carrier tape
a and the bump 4a formed on the surface of the semiconductor chip 2a.
Then, the inner lead portion is bonded.
This bonding method uses TAB (Tape Automated).
attached Bonding) Inner lead bondin
This is a method generally known as "logging". Then Bon
Protective coating on the mounting surface and chip selection terminal surface and side
Is applied. At this time, the semiconductor chip 2a and the bonding
Inspection of the parts and classification of quality. Then film key
Cut the film carrier module 6a from the carrier tape
Start. In parallel with this, a plurality of spacers are simultaneously formed.
One spacer from the printed wiring board
And aligned with the film carrier module 6a.
To make a first connection to form a first connection layer 16
I do. Thus, the film carrier semiconductor module shown in FIG.
A single unit of the tool is created. Then film carrier semiconductor
After installing four modules on the alignment jig,
Lum carrier semiconductor module back surface pattern 24
Only the terminals are melted by contacting the outer leads 12
A second connection is made by immersion in the bath. After this, the motherboard
Resin coating is performed, leaving the connection to the. In this process diagram
Before cutting the film carrier tape
After the first connection of the spacers, the film carrier table
To cut the tape, and the spacer pudding before cutting the outer shape
Film carrier module
A first connection method is also possible. In this embodiment,
The first connection is pre-attached to the terminal of the through hole.
The solder using the Sn-Pb-based solder
Solder reflow method for bonding by heating and melting
Adopted, Au-Au thermocompression bonding Au-Sn bondin
Of course, connection methods using conductive paste are also applicable.
You. For other examples of multi-chip semiconductor device manufacturing methods
This will be described with reference to FIG. FIG. 19 shows the outline of the manufacturing process.
In particular, use the spacer with leads shown in FIG.
Shows how to manufacture a multi-chip semiconductor device.
You. First, the inner of the patterned spacer with leads
Connect the leads to the bumps on the semiconductor chip. This state
Is the structure shown in FIG. Next, protect the chip
Inspection of the whole chip including the
The quality is classified and the outer shape is cut only for good products. This
After that, they are stacked by the same method as described in FIG.
Perform alignment, second connection, performance inspection, resin coating
A multi-chip semiconductor device is completed. Next, the theory so far
The external connection terminal is added to the multichip semiconductor device
Example of multi-chip module of the present invention added
explain. FIG. 20 shows a multi-chip semiconductor device 12 inside.
0 is a multi-chip module 122 including
A child 124 (external lead terminal) is arranged on one side of the module.
Is placed. Module is connected to terminal 124 (external drawer)
Module) by applying resin coat 126
The outer shape is formed. Terminal 124 (external drawer end
(A) has an Au plating treatment on the surface. This configuration
Connect the multichip module to the terminal (124
To the motherboard that has terminals facing the
The storage device of the electronic device
You. That is, in FIG. 20, the semiconductor chip is electrically connected.
Stacked multiple semiconductor modules via spacers
Overlapping, electrically connecting the semiconductor modules to each other
The multi-chip semiconductor device on which the electrodes are formed is sealed with resin.
A multi-chip module formed by
Of the lowermost or uppermost layer of the semiconductor device
One of the multi-chip modules facing the body module
Electrically connected to the electrodes of the multi-chip semiconductor device
The external lead terminals to be connected are formed by exposing them.
FIG. 21 shows another multi-chip module.
Multi-chip including multi-chip semiconductor device 120 in section
Multi-chip semiconductor device
120 is electrically connected to the wiring board 130 inside the module.
Each signal terminal is connected to one end of the wiring board 130.
Terminal 132 (external pull-out terminal)
ing. That is, in FIG.
Multiple semiconductor modules connected via a spacer
Stacking and electrically connecting the semiconductor modules to each other.
A multi-chip semiconductor device in which several electrodes are formed;
A multi-chip semiconductor device mounted with a multi-chip semiconductor device;
A wiring board electrically connected to the electrodes of the device;
Via the electrode of the multichip semiconductor device and the wiring substrate
With external draw-out terminals for electrical connection
A chip module, wherein one side of the wiring board has the external lead.
A lead terminal is formed, and the external lead terminal is
It is formed so as to be exposed from the top module. FIG.
Indicates yet another multi-chip module. this
Connects the connector terminal 132 (external lead-out terminal)
The lower two parts of the
Stacked multi-chip semiconductor devices, or
This structure is advantageous for semiconductor chips with multiple terminals.
You. That is, FIG. 22 shows an electrical connection with the semiconductor chip.
Stacked semiconductor modules via spacers
By electrically connecting the semiconductor modules,
Multi-chip semiconductor device with electrodes formed is sealed with resin
A multi-chip module,
The lowermost or uppermost semiconductor module of the semiconductor device;
End of one side of the multi-chip module facing the module
From the part in the direction in which the semiconductor modules are stacked.
As described above, the electrodes of the multi-chip semiconductor device
The external lead terminals to be connected are formed by exposing them.
As described above, this multi-chip module
Multi-chip semiconductor device
It is almost the same as the conventional module
With a structure that has multiple times the storage capacity for the same mounting area
Yes, portable electronic equipment that requires a small, large-capacity memory
Very effective for vessels.
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、従来パ
ッケージと同じ実装面積に対し複数倍のメモリ容量を有
するマルチチップモジュールを得ることができる。As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a multi-chip module having a memory capacity that is two or more times as large as the mounting area of the conventional package.
【図1】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置の断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multi-chip semiconductor device applied to a multi-chip module of the present invention.
【図2】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置の断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of a multi-chip semiconductor device applied to the multi-chip module of the present invention.
【図3】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置の平面図。FIG. 3 is a plan view of a multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図4】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a chip selection terminal structure of a multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図5】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の斜視図。FIG. 5 is a perspective view of a chip selection terminal structure of a multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図6】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の斜視図。FIG. 6 is a perspective view of a chip selection terminal structure of a multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図7】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置のの回路ブロック図。FIG. 7 is a circuit block diagram of a multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図8】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置のスペーサ構造の平面図及び断面
図。FIG. 8 is a plan view and a cross-sectional view of a spacer structure of a multi-chip semiconductor device applied to the multi-chip module of the present invention.
【図9】本発明のマルチチップモジュールに適用したマ
ルチチップ半導体装置のスペーサ構造の平面図及び断面
図。FIG. 9 is a plan view and a cross-sectional view of a spacer structure of a multi-chip semiconductor device applied to the multi-chip module of the present invention.
【図10】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のスペーサ構造の平面図及び断
面図。FIG. 10 is a plan view and a cross-sectional view of a spacer structure of a multi-chip semiconductor device applied to the multi-chip module of the present invention.
【図11】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の他の例
の斜視図。FIG. 11 is a perspective view of another example of the chip selection terminal structure of the multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図12】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の他の例
の斜視図。FIG. 12 is a perspective view of another example of the chip selection terminal structure of the multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図13】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の他の例
の斜視図。FIG. 13 is a perspective view of another example of the chip selection terminal structure of the multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図14】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の他の例
の斜視図。FIG. 14 is a perspective view of another example of the chip selection terminal structure of the multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図15】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の他の例
の斜視図。FIG. 15 is a perspective view of another example of the chip selection terminal structure of the multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図16】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のチップ選択端子構造の他の例
の斜視図。FIG. 16 is a perspective view of another example of the chip selection terminal structure of the multi-chip semiconductor device applied to the multi-chip module of the present invention.
【図17】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のリード付スペーサの断面図。FIG. 17 is a sectional view of a leaded spacer of a multichip semiconductor device applied to the multichip module of the present invention.
【図18】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のマルチチップ半導体装置の製
造工程図。FIG. 18 is a manufacturing process diagram of the multi-chip semiconductor device of the multi-chip semiconductor device applied to the multi-chip module of the present invention.
【図19】本発明のマルチチップモジュールに適用した
マルチチップ半導体装置のマルチチップ半導体装置の製
造工程図。FIG. 19 is a manufacturing process diagram of the multi-chip semiconductor device applied to the multi-chip module of the present invention.
【図20】本発明のマルチチップモジュールを示す斜視
図。FIG. 20 is a perspective view showing a multichip module of the present invention.
【図21】本発明のマルチチップモジュールを示す斜視
図。FIG. 21 is a perspective view showing a multichip module of the present invention.
【図22】本発明のマルチチップモジュールを示す斜視
図。FIG. 22 is a perspective view showing a multichip module of the present invention.
2…半導体チップ、 6…フィルムキャリア、 10…インナリード、 12…アウタリード、 16…第1接続層、 18…第2接続層、 20…スペーサ、 28…フィルムキャリア半導体モジュール、 30…マザーボード、 44…チップ選択端子パターン、 110…リード付スペーサ 2 Semiconductor chip, 6 Film carrier, 10 Inner lead, 12 Outer lead, 16 First connection layer, 18 Second connection layer, 20 Spacer, 28 Film semiconductor module, 30 Motherboard, 44 Chip selection terminal pattern, 110 ... Leaded spacer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芹沢 弘二 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株 式会社日立製作所生産技術研究所 (72)発明者 本田 美智晴 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 吉田 亨 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 谷本 道夫 東京都小平市上水本町1450番地株式会社 日立製作所武蔵工場内 (56)参考文献 特許2728432(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 25/00 - 25/18 H01L 21/60──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Koji Serizawa, Inventor 292, Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Hitachi, Ltd.Production Technology Laboratory (72) Michiharu Honda, 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Address Co., Ltd., Hitachi, Ltd., Production Technology Laboratory (72) Inventor Toru Yoshida 292, Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture, Ltd. 1450 No. in Musashi Plant, Hitachi, Ltd. (56) References Patent 2728432 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 25/00-25/18 H01L 21/60
Claims (8)
モジュールをスペーサを介して複数個積み重ね、該半導
体モジュール間を電気的に接続して複数個の電極を形成
したマルチチップ半導体装置を樹脂封止してなるマルチ
チップモジュールであって、 該マルチチップ半導体装置の有する最下層もしくは最上
層の該半導体モジュールと対向する該マルチチップモジ
ュールの一面に該マルチチップ半導体装置の有する電極
と電気的に接続する外部引き出し端子を露出させて形成
したことを特徴とするマルチチップモジュール。1. A multi-chip semiconductor device in which a plurality of semiconductor modules electrically connected to a semiconductor chip are stacked via a spacer , and a plurality of electrodes are formed by electrically connecting the semiconductor modules to each other. A multi-chip module comprising: a multi-chip semiconductor device electrically connected to an electrode of the multi-chip semiconductor device on one surface of the multi-chip module opposed to the lowermost or uppermost semiconductor module of the multi-chip semiconductor device; A multi-chip module formed by exposing external lead-out terminals.
モジュールをスペーサを介して複数個積み重ね、該半導
体モジュール間を電気的に接続して複数個の電極を形成
したマルチチップ半導体装置と、 該マルチチップ半導体装置を搭載し、該マルチチップ半
導体装置の有する電極と電気的に接続した配線基板と、 該マルチチップ半導体装置の有する電極と該配線基板を
介して電気的に接続する外部引き出し端子とを備えたマ
ルチチップモジュールであって、 該配線基板の一辺に該外部引き出し端子を形成し、該外
部引き出し端子を該マルチチップモジュールから露出さ
せて形成したことを特徴とするマルチチップモジュー
ル。2. A multi-chip semiconductor device in which a plurality of semiconductor modules electrically connected to a semiconductor chip are stacked via a spacer , and a plurality of electrodes are formed by electrically connecting the semiconductor modules. A wiring board mounted with the chip semiconductor device and electrically connected to an electrode of the multi-chip semiconductor device; and an external lead-out terminal electrically connected to the electrode of the multi-chip semiconductor device via the wiring board. A multi-chip module, comprising: the external lead-out terminal formed on one side of the wiring board; and the external lead-out terminal being exposed from the multi-chip module.
モジュールをスペーサを介して複数個積み重ね、該半導
体モジュール間を電気的に接続して複数個の電極を形成
したマルチチップ半導体装置を樹脂封止してなるマルチ
チップモジュールであって、 該マルチチップ半導体装置の有する最下層もしくは最上
層の該半導体モジュールと対向する該マルチチップモジ
ュールの一面の端部から該半導体モジュールを積層した
方向に延出するように該マルチチップ半導体装置の有す
る電極と電気的に接続する外部引き出し端子を露出させ
て形成したことを特徴とするマルチチップモジュール。3. A multi-chip semiconductor device in which a plurality of semiconductor modules electrically connected to a semiconductor chip are stacked via a spacer , and a plurality of electrodes are formed by electrically connecting the semiconductor modules to each other. A multi-chip module, wherein the multi-chip semiconductor device extends from an end of one surface of the multi-chip module facing the lowermost or uppermost semiconductor module of the multi-chip semiconductor device in a direction in which the semiconductor modules are stacked. The multi-chip module is formed by exposing the external lead-out terminals electrically connected to the electrodes of the multi-chip semiconductor device.
導体チップと前記電極とを電気的に接続する接続パター
ンのパターン形状を前記半導体モジュール毎に異ならせ
て形成し、該異なるパターン形状の接続パターンと電気
的に接続する電極を該異なるパターン形状の接続パター
ンと電気的に接続する該半導体チップのチップセレクタ
用電極として構成したことを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載のマルチチップモジュール。 Wherein said multi-chip semiconductor device, wherein the pattern shape of the connection pattern for electrically connecting the semiconductor chip and the electrode formed different for each of the semi-conductor modules, the connection pattern of said different pattern multi-chip according to any one of claims 1 to 3, characterized by being configured as an electrode chip selector of said semiconductor chip to electrically connect the electrodes of the electrically to the connection pattern of said different pattern shape to be connected with module.
導体チップと前記電極とを電気的に接続する接続パター
ンのうち前記半導体チップ上に形成したパターン形状を
該半導体モジュール毎に異ならせて形成し、該半導体チ
ップ上に形成したパターン形状の異なる接続パターンと
電気的に接続する電極を該半導体チップ上に形成したパ
ターン形状の異なる接続パターンと電気的に接続する該
半導体チップのチップセレクタ用電極として構成したこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のマルチ
チップモジュール。 5. The semiconductor device according to claim 5, wherein said multi-chip semiconductor device is
Among the connection patterns for electrically connecting the conductor chip and the electrodes, the pattern shape formed on the semiconductor chip is
Different was formed on each semi-conductor module, the semiconductor switch
Connection patterns with different pattern shapes formed on the
An electrode for electrical connection is formed on the semiconductor chip.
The electrical connection with connection patterns having different turn shapes
Configured as chip selector electrode for semiconductor chip
The multi-chip module according to claim 1, wherein:
導体モジュール間を電気的に接続して各前記半導体モジ
ュールの有する半導体チップのそれぞれと電気的に接続
する共通電極と各前記半導体モジュールの有する半導体
チップを選択する各前記半導体モジュールのチップセレ
クタ用電極とを形成し、該チップセレクタ用電極と半導
体チップとを電気的に接続する接続パターンの形状を前
記半導体モジュール毎に異ならせて形成したことを特徴
とする請求項1〜3のいずれかに記載のマルチチップモ
ジュール。 6. The multi-chip semiconductor device according to claim 5 , wherein
Each of the semiconductor modules is electrically connected by electrically connecting the conductor modules.
Electrically connected to each of the semiconductor chips of the module
Common electrode and semiconductor of each semiconductor module
The chip selector of each of the semiconductor modules for selecting a chip
Electrode for the chip selector and the electrode for the chip selector
The shape of the connection pattern for electrical connection with the body chip
It is characterized by being formed differently for each semiconductor module
The multi-chip module according to claim 1, wherein
導体モジュール間を電気的に接続して各前記半導体モジEach of the semiconductor modules is electrically connected by electrically connecting the conductor modules.
ュールの有する半導体チップのそれぞれと電気的に接続Electrically connected to each of the semiconductor chips of the module
する共通電極と各前記半導体モジュールの有する半導体Common electrode and semiconductor of each semiconductor module
チップを選択する各前記半導体モジュールのチップセレThe chip selector of each of the semiconductor modules for selecting a chip
クタ用電極とを形成し、該チップセレクタ用電極と半導Electrode for the chip selector and the electrode for the chip selector
体チップとを電気的に接続する接続パターンのうち前記Of the connection patterns for electrically connecting with the body chip
半導体チップ上に形成したパターン形状を前記半導体モThe pattern shape formed on the semiconductor chip is
ジュール毎に異ならせて形成したことを特徴とする請求Claims characterized by being formed differently for each joule
項1〜3のいずれかに記載のマルチチップモジュール。Item 4. The multichip module according to any one of Items 1 to 3.
導体モジュールの位置まで前記半Half of the way up to the conductor module position 導体モジュール間を電Electricity between conductor modules
気的に接続することにより前記チップセレクタ用電極をThe chip selector electrode is connected by pneumatic connection.
形成したことを特徴とする請求項4〜7のいずれかに記8. The method according to claim 4, wherein
載のマルチチップモジュール。Onboard multi-chip module.
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