JP2753075B2 - Semiconductor device manufacturing equipment - Google Patents

Semiconductor device manufacturing equipment

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JP2753075B2 JP25778789A JP25778789A JP2753075B2 JP 2753075 B2 JP2753075 B2 JP 2753075B2 JP 25778789 A JP25778789 A JP 25778789A JP 25778789 A JP25778789 A JP 25778789A JP 2753075 B2 JP2753075 B2 JP 2753075B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、例えば、TAB(Tape Automated Bonding)
方式を採用した半導体装置の製造装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention relates to, for example, TAB (Tape Automated Bonding).
The present invention relates to an apparatus for manufacturing a semiconductor device employing a method.

(従来の技術) 近時、半導体装置の製造装置として、シネフィルム状
のフィルムキャリア走行させて半導体素子を搬送するTA
B(Tape Automated Bonding)方式を採用したものが普
及している。そして、半導体装置の各製造工程に用いら
れる各種装置のうちTAB方式を採用したものとしては、
インナリードボンディング装置、ポッティング装置、電
気テスト装置、および、アウタリードボンディング装置
などがある。
(Prior art) Recently, as a semiconductor device manufacturing apparatus, a TA for transporting semiconductor elements by running a cine-film-shaped film carrier.
Those using the B (Tape Automated Bonding) method are widely used. And among various devices used in each manufacturing process of a semiconductor device, those adopting the TAB method include:
There are an inner lead bonding device, a potting device, an electric test device, an outer lead bonding device, and the like.

そして、これらの各種装置のうち、第2図および第3
図に示すようにインナリードボンディング装置1は、供
給リール2からフィルムキャリア3を供給し、このフィ
ルムキャリア3を間欠送りする。さらに、第3図に示す
ように、フィルムキャリア3の、インナリード4…が形
成された部位をボンディングツール5の下方で停止さ
せ、インナリード4…と、作業ステージ6に載置された
半導体素子7の電極8…とを位置合せする。
FIG. 2 and FIG.
As shown in the figure, the inner lead bonding apparatus 1 supplies a film carrier 3 from a supply reel 2 and intermittently feeds the film carrier 3. Further, as shown in FIG. 3, the portion of the film carrier 3 where the inner leads 4 are formed is stopped below the bonding tool 5, and the inner leads 4 and the semiconductor element mounted on the work stage 6 are stopped. 7 are aligned with the electrodes 8.

さらに、インナリードボンディング装置1は、加熱し
たボンディングツール5を下降させ、ボンディングツー
ル5により、フィルムキャリア3のインナリード4…と
半導体素子7の電極8…とを圧着して同時接続する。そ
して、フィルムキャリア3を走行させて、フィルムキャ
リア3に装着された半導体素子7を搬送するとともに、
フィルムキャリア3を巻取リール9により、半導体素子
7の装着の済んだ部分から順次巻取る。
Further, the inner lead bonding apparatus 1 lowers the heated bonding tool 5, and presses the inner leads 4... Of the film carrier 3 and the electrodes 8 of the semiconductor elements 7 by the bonding tool 5 to simultaneously connect them. Then, the film carrier 3 is run, and the semiconductor element 7 mounted on the film carrier 3 is transported.
The film carrier 3 is sequentially wound by a take-up reel 9 from a portion where the semiconductor element 7 is mounted.

ここで、第2図中に10で示すのは、巻取リール9に巻
取られたフィルムキャリア3と半導体素子7とが直に接
触することを防止するためにフィルムキャリア3と重ね
巻きされる、フィルムキャリア3保護用のスペーサテー
プである。
Here, the numeral 10 in FIG. 2 indicates that the film carrier 3 wound on the take-up reel 9 and the semiconductor element 7 are wrapped around the film carrier 3 in order to prevent direct contact. And a spacer tape for protecting the film carrier 3.

また、第4図および第5図に示すように、樹脂封止工
程で用いられるポッティング装置11は、供給リール12か
らフィルムキャリア3を供給し、このフィルムキャリア
3を間欠送りする。さらに、第5図に示すように、フィ
ルムキャリア3に装着された半導体素子7を、例えばX
−Yテーブルに取付けられたシリンジ13の下方で停止さ
せる。
As shown in FIGS. 4 and 5, a potting device 11 used in the resin sealing step supplies the film carrier 3 from the supply reel 12, and intermittently feeds the film carrier 3. Further, as shown in FIG. 5, the semiconductor element 7 mounted on the film carrier 3 is
-Stop below the syringe 13 attached to the Y table.

さらに、ポッティング装置11は、シリンジ13を動かし
ながら、シリンジ13内に入れられた封止用の樹脂14をシ
リンジ13から吐出し、半導体素子7に滴下する。そし
て、ポッティング装置11は、樹脂14により半導体素子7
の表面をコーティングする。
Further, the potting device 11 discharges the sealing resin 14 put in the syringe 13 from the syringe 13 while moving the syringe 13 and drops the resin onto the semiconductor element 7. Then, the potting device 11 uses the resin 14 to
To coat the surface.

また、ポッティング装置11は硬化炉15を有しており、
半導体素子7を樹脂14でコーティングしたのち硬化炉15
内に搬送する。そして、硬化炉15内に設けられたガイド
ローラ16…等によりフィルムキャリア3を走行させ、樹
脂14を、硬化炉15内で半導体素子7を搬送しながら硬化
させる。そして、巻取リール17によりフィルムキャリア
3を、樹脂14の硬化の済んだ部分から順次巻取る。
Further, the potting device 11 has a curing furnace 15,
After the semiconductor element 7 is coated with the resin 14, the curing furnace 15
Conveyed inside. Then, the film carrier 3 is caused to travel by guide rollers 16 and the like provided in the curing furnace 15, and the resin 14 is cured while the semiconductor element 7 is conveyed in the curing furnace 15. Then, the film carrier 3 is sequentially wound by the winding reel 17 from the portion where the resin 14 has been cured.

(発明が解決しようとする課題) ところで、インナリードボンディング工程からポッテ
ィング工程に移る場合、従来は、フィルムキャリア3を
インナリードボンディング装置1で巻取ってからポッテ
ィング装置11にセットする必要があった。そして、巻取
ったフィルムキャリア3のポッティング装置11への付け
替えは、例えば30分毎に入手により行っていた。このた
め、従来は面倒で手間のかかる作業を行わなければなら
ず、作業性が悪かった。
(Problems to be Solved by the Invention) By the way, when shifting from the inner lead bonding step to the potting step, conventionally, it was necessary to wind the film carrier 3 with the inner lead bonding apparatus 1 and then set the film carrier 3 in the potting apparatus 11. The replacement of the wound film carrier 3 with the potting device 11 has been performed, for example, every 30 minutes. For this reason, conventionally, laborious and troublesome work had to be performed, and workability was poor.

さらに、インナリードボンディング後の、フィルムキ
ャリア3の走行時や、巻取りリール9による巻取り時な
どにフィルムキャリア3を曲げてしまうため、第6図に
示すようにインナリード4…が変形することがあった。
そして、特に半導体素子7が10mm以上の大型のものであ
る場合に、インナリード4…が半導体素子7の角部7aに
接触することや、インナリード4…が破断すること等の
不良が発生し易かった。
Further, since the film carrier 3 is bent when the film carrier 3 travels after the inner lead bonding or when the film carrier 3 is wound by the take-up reel 9, the inner leads 4 are deformed as shown in FIG. was there.
In particular, when the semiconductor element 7 has a large size of 10 mm or more, defects such as the inner leads 4 contacting the corners 7a of the semiconductor element 7 or the inner leads 4 breaking are generated. It was easy.

また、インナリード4…の破断などの不良の発生を防
止するために、インナリードボンディング後にフィルム
キャリア3を切断してマガジン等に収納することも考え
られる。しかし、このようにすることにより切断後に、
フィルムキャリア3で半導体素子7…を搬送することが
できなくなるという不具合がある。
It is also conceivable to cut the film carrier 3 after the inner lead bonding and store it in a magazine or the like in order to prevent the occurrence of defects such as breakage of the inner leads 4. However, in this way, after cutting,
There is a disadvantage that the semiconductor elements 7... Cannot be transported by the film carrier 3.

本発明の目的とするところは、作業性がよく、さら
に、不良の発生を低減することが可能な半導体装置の製
造装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing apparatus which has good workability and can reduce occurrence of defects.

[発明の構成] (課題を解決するための手段および作用) 上記目的を達成するために本発明は、半導体素子装着
用のフィルムキャリアを走行させる半導体装置の製造装
置において、少なくとも、半導体素子をフィルムキャリ
アに装着するインナリードボンディング装置と、フィル
ムキャリアに装着された半導体素子を封止用樹脂でコー
ティングするポッティング装置とを連結し、インナリー
ドボンディング装置からポッティング装置へフィルムキ
ャリアを走行させるようにした。
[Structure of the Invention] (Means and Actions for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor device manufacturing apparatus in which a film carrier for mounting a semiconductor element is run, wherein at least the semiconductor element is formed by a film An inner lead bonding apparatus mounted on a carrier and a potting apparatus for coating a semiconductor element mounted on a film carrier with a sealing resin are connected, and the film carrier travels from the inner lead bonding apparatus to the potting apparatus.

また、インナリードボンディングされた半導体素子を
ポッティング装置により封止用樹脂でコーティングした
のち、半導体素子をコーティングした封止用樹脂が少な
くともゲル状になるまでフィルムキャリアを水平に走行
させるようにした。
Further, after the inner lead-bonded semiconductor element was coated with a sealing resin by a potting device, the film carrier was caused to run horizontally until the sealing resin coated with the semiconductor element became at least gel-like.

こうすることによって本発明は、作業性を向上できる
ようにするとともに、不良の発生を低減できるようにし
たことにある。
By doing so, the present invention is intended to improve workability and reduce occurrence of defects.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図に基づいて説明す
る。なお、従来の技術の項で説明したものと重複するも
のについては同一番号を付し、その説明は省略する。
(Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Note that the same reference numerals are given to the same components as those described in the section of the related art, and the description thereof will be omitted.

第1図は本発明による半導体装置の製造装置(以下、
製造装置と称する)21の一実施例を示すものである。こ
の製造装置21は、互いに連結されたインナリードボンデ
ィング装置1とポッティング装置11とを備えている。そ
して、製造装置21は、インナリードボンディング装置1
に、インナリードボンディングするのに十分な温度に加
熱されるボンディングツール5や、ボンディングツール
5の下方に配置され半導体素子7を載置する作業ステー
ジ6などを有している。
FIG. 1 shows an apparatus for manufacturing a semiconductor device according to the present invention (hereinafter referred to as “the apparatus”).
1 shows an embodiment of a manufacturing apparatus 21). The manufacturing apparatus 21 includes an inner lead bonding apparatus 1 and a potting apparatus 11 connected to each other. Then, the manufacturing apparatus 21 includes the inner lead bonding apparatus 1
In addition, there are provided a bonding tool 5 heated to a temperature sufficient for inner lead bonding, a work stage 6 disposed below the bonding tool 5 and mounting a semiconductor element 7 thereon.

また、製造装置21はポッティング装置11に、X−Yテ
ーブル等に取付けられその内部に送り込まれた熱硬化性
の封止用樹脂を吐出するシリンジ13や、図示しない加熱
手段を有するとともに予め所定の温度プロファイルに制
御された硬化炉15などを備えている。そして、製造装置
21は、インナリードボンディング装置1の側に配置され
た供給リール22からポッティング装置11の硬化炉15の側
に配置された巻取リール23へファイルキャリア3を走行
させるようになっている。
Further, the manufacturing apparatus 21 includes a syringe 13 attached to an XY table or the like for discharging the thermosetting sealing resin fed into the potting apparatus 11 and a heating means (not shown), and a predetermined A curing furnace 15 controlled by a temperature profile is provided. And manufacturing equipment
Numeral 21 moves the file carrier 3 from a supply reel 22 arranged on the inner lead bonding apparatus 1 side to a take-up reel 23 arranged on the curing furnace 15 side of the potting apparatus 11.

さらに、製造装置21は、フィルムキャリア3を所定の
部位を通過するよう配設している。そして、製造装置21
はフィルムキャリア3を、フィルムキャリア3の両側面
を上下に向けて水平にした状態で、インナリードボンデ
ィング装置1のボンディングツール5と作業ステージ6
の間、および、ポッティング装置11のシリンジ13の下方
に通過させている。そして、フィルムキャリア3を、イ
ンナリードボンディング装置1、ポッティング装置11、
および、硬化炉15に順に通過させる。
Further, the manufacturing apparatus 21 is arranged so that the film carrier 3 passes through a predetermined portion. And the manufacturing apparatus 21
The bonding tool 5 of the inner lead bonding apparatus 1 and the work stage 6 are set in a state in which the film carrier 3 is horizontal with both sides of the film carrier 3 turned up and down.
And below the syringe 13 of the potting device 11. Then, the film carrier 3 is connected to the inner lead bonding device 1, the potting device 11,
And, it passes through the curing furnace 15 in order.

つまり、製造装置21はフィルムキャリア3を間欠送り
し、フィルムキャリア3に長手方向に沿って略等ピッチ
で形成された回路パターンを作業ステージ6に載置され
た半導体素子7に対向させる。そして、加熱されたボン
ディングツール5を下降させて上記回路パターンのイン
ナリードと半導体素子7の電極とを熱圧着して同時接続
し、半導体素子7をフィルムキャリア3に装着する。
That is, the manufacturing apparatus 21 intermittently feeds the film carrier 3 and causes the circuit pattern formed on the film carrier 3 at a substantially equal pitch along the longitudinal direction to face the semiconductor element 7 placed on the work stage 6. Then, the heated bonding tool 5 is lowered and the inner leads of the circuit pattern and the electrodes of the semiconductor element 7 are simultaneously connected by thermocompression bonding, and the semiconductor element 7 is mounted on the film carrier 3.

また、製造装置21は、フィルムキャリア3にインナリ
ードボンディングされた半導体素子7を、フィルムキャ
リア3の水平状態を保ったまま、ポッティング装置11に
搬送する。そして、半導体素子7をシリンジ13の下方で
停止させ、シリンジ13から封止用の樹脂(図示しない)
を吐出して滴下させ、上記樹脂により半導体素子7をコ
ーティングする。
In addition, the manufacturing apparatus 21 conveys the semiconductor element 7 that has been internally lead-bonded to the film carrier 3 to the potting apparatus 11 while keeping the film carrier 3 horizontal. Then, the semiconductor element 7 is stopped below the syringe 13, and a sealing resin (not shown) is supplied from the syringe 13.
Is discharged and dropped, and the semiconductor element 7 is coated with the resin.

さらに、製造装置21は、樹脂でコーティングされた半
導体素子7を硬化炉15内に搬送する。そして、半導体素
子7を、硬化炉15内でしばらくの間水平なままの状態で
搬送し、樹脂を例えばゲル状になるまで加熱して硬化さ
せたのち、ガイドローラ16に接触させる。そして、フィ
ルムキャリア3を間欠送りしながら、上記半導体素子7
の樹脂を更に硬化させる。
Further, the manufacturing apparatus 21 transports the semiconductor element 7 coated with the resin into the curing furnace 15. Then, the semiconductor element 7 is conveyed while remaining horizontal in the curing furnace 15 for a while, and is heated and cured until the resin becomes, for example, a gel state, and then brought into contact with the guide roller 16. Then, while intermittently feeding the film carrier 3, the semiconductor element 7
Is further cured.

ここで、図中のlは、インナリードボンディングして
から最初にガイドローラ16に接触するまでの間の、フィ
ルムキャリア3が水平に走行する距離を示している。
Here, 1 in the figure indicates the distance that the film carrier 3 travels horizontally after the inner lead bonding until the first contact with the guide roller 16.

このような構成の製造装置21は、インナリードボンデ
ィング装置1とポッティング装置11とを連結し、フィル
ムキャリア3を切断せずにインナリードボンディング装
置1からポッティング装置11に継続して走行させている
ので、インナリードボンディング工程からポッティング
工程に移る際のリールのかけ替え作業が不要である。し
たがって、作業数を低減でき、作業性を向上することが
できる。
The manufacturing apparatus 21 having such a configuration connects the inner lead bonding apparatus 1 and the potting apparatus 11 and continuously runs from the inner lead bonding apparatus 1 to the potting apparatus 11 without cutting the film carrier 3. In addition, there is no need to change the reels when moving from the inner lead bonding process to the potting process. Therefore, the number of operations can be reduced, and the operability can be improved.

また、インナリードボンディング装置1の、フィルム
キャリア3を巻取るための機構や、ポッティング装置11
の、フィルムキャリア3を供給するための機構が不要に
なるため、コストを低減でき、設置スペースを小とする
ことができる。
Also, a mechanism for winding the film carrier 3 of the inner lead bonding apparatus 1 and a potting apparatus 11 are provided.
However, since a mechanism for supplying the film carrier 3 becomes unnecessary, the cost can be reduced and the installation space can be reduced.

さらに、インナリードボンディングされた半導体素子
7を樹脂でコーティングしたのち、樹脂がゲル状になる
までの間、半導体素子7を水平に搬送しているので、イ
ンナリード4…の変形を原因とする、インナリード4…
と半導体素子7の角部との接触や、インナリードの破断
などの不良の発生を防止することができる。
Further, since the semiconductor element 7 to which inner lead bonding is applied is coated with a resin and then the semiconductor element 7 is transported horizontally until the resin becomes a gel state, deformation of the inner leads 4. Inner lead 4 ...
And the corners of the semiconductor element 7 and breakage of the inner leads can be prevented.

また、上述の製造装置21は、半導体素子7をインナリ
ードボンディングの直後に、一旦巻取リールに巻取るこ
となく、ポッティング装置11に搬送しているので、樹脂
でコーティングする前に半導体素子7の表面を傷付けた
り、インナリード4…を変形させたりすることがない。
そして、インナリード4…を空気中に長時間放置しない
ので、すずめっきされたインナリードを用いた場合で
も、ウィスカ(すずの表面に針状に成長するもの)、お
よび、ウィスカを原因とする不良を生じることがない。
Further, since the above-described manufacturing apparatus 21 transports the semiconductor element 7 to the potting apparatus 11 immediately after the inner lead bonding without winding the semiconductor element 7 on a take-up reel, the semiconductor element 7 is coated before being coated with resin. The surface is not damaged and the inner leads 4 are not deformed.
Since the inner leads 4 are not left in the air for a long period of time, even when the tin-plated inner leads are used, whiskers (those that grow like needles on the surface of the tin) and defects caused by the whiskers are eliminated. Will not occur.

なお、本実施例では、インナリードボンディング装置
1とポッティング装置11とを連結しているが、本発明は
これに限定されるものではなく、例えばインナリードボ
ンディング装置1とポッティング装置11との間に、電気
テスト装置(例えば、フィルムキャリア3の回路パター
ンに接触子を当て電気特性や不良の有無などを判別する
もの)や、洗浄装置(例えば、フィルムキャリアに付着
したゴムを除去するもの)、および、リードフォーミン
グ装置(インナリードをフォーミングするもの)などを
設けてもよい。
In this embodiment, the inner lead bonding apparatus 1 and the potting apparatus 11 are connected. However, the present invention is not limited to this. An electrical test device (for example, a device that applies a contact to the circuit pattern of the film carrier 3 to determine electrical characteristics and the presence or absence of a defect), a cleaning device (for example, a device that removes rubber adhered to the film carrier), and And a lead forming device (for forming an inner lead) may be provided.

[発明の効果] 以上説明したように本発明は、半導体素子装着用のフ
ィルムキャリアを走行させる半導体装置の製造装置にお
いて、少なくとも、半導体素子をフィルムキャリアに装
着するインナリードボンディング装置と、フィルムキャ
リアに装着された半導体素子を封止用樹脂でコーティン
グするポッティング装置とを連結し、インナリードボン
ディング装置からポッティング装置へフィルムキャリア
を切断せずに継続して走行させるようにした。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention relates to a semiconductor device manufacturing apparatus for running a film carrier for mounting a semiconductor element, wherein at least an inner lead bonding apparatus for mounting the semiconductor element on the film carrier, The film carrier was connected to a potting device that coats the mounted semiconductor element with a sealing resin, and the film carrier was continuously run from the inner lead bonding device to the potting device without cutting.

また、インナリードボンディングされた半導体素子を
ポッティング装置により封止用樹脂でコーティングした
のち、半導体素子をコーティングした封止用樹脂が少な
くともゲル状になるまでフィルムキャリアを水平に走行
させるようにした。
Further, after the inner lead-bonded semiconductor element was coated with a sealing resin by a potting device, the film carrier was caused to run horizontally until the sealing resin coated with the semiconductor element became at least gel-like.

したがって本発明は、作業性を向上できるとともに、
不良の発生を低減できるという効果がある。
Therefore, the present invention can improve workability,
There is an effect that occurrence of defects can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す正面図、第2図〜第6
図は従来例を示すもので、第2図はインナリードボンデ
ィング装置の正面図、第3図は同じくインナリードボン
ディング装置の要部を拡大して示す断面図、第4図はポ
ッティング装置を示す正面図、第5図は同じくポッティ
ング装置の要部を拡大して示す断面図、第6図はインナ
リードに不良を生じた状態を示す断面図である。 1……インナリードボンディング装置、3……フィルム
キャリア、7……半導体素子、11……ポッティング装
置、14……封止用樹脂、21……半導体装置の製造装置。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the present invention, and FIGS.
FIG. 2 shows a conventional example, FIG. 2 is a front view of an inner lead bonding apparatus, FIG. 3 is a cross-sectional view showing an enlarged main part of the inner lead bonding apparatus, and FIG. 4 is a front view showing a potting apparatus. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a main part of the potting apparatus in an enlarged manner, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a defect has occurred in the inner lead. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Inner lead bonding apparatus, 3 ... Film carrier, 7 ... Semiconductor element, 11 ... Potting apparatus, 14 ... Sealing resin, 21 ... Semiconductor device manufacturing apparatus.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体装置装着用のフィルムキャリアを走
行させる半導体装置の製造装置において、少なくとも、
半導体素子を上記フィルムキャリアに装着するインナリ
ードボンディング装置と、フィルムキャリアに装着され
た上記半導体素子を封止用樹脂でコーティングするポッ
ティング装置とを連結し、上記インナリードボンディン
グ装置から上記ポッティング装置へ上記フィルムキャリ
アを連続して走行させることを特徴とする半導体装置の
製造装置。
An apparatus for manufacturing a semiconductor device in which a film carrier for mounting a semiconductor device is run, at least
An inner lead bonding apparatus for mounting a semiconductor element on the film carrier and a potting apparatus for coating the semiconductor element mounted on the film carrier with a sealing resin are connected to the inner lead bonding apparatus and the potting apparatus. An apparatus for manufacturing a semiconductor device, wherein a film carrier is run continuously.
【請求項2】インナリードボンディングされた半導体素
子を上記ポッティング装置により封止用樹脂でコーティ
ングしたのち、上記半導体素子をコーティングした封止
用樹脂が少なくともゲル状になるまで上記フィルムキャ
リアを水平に走行させることを特徴とする請求項(1)
記載の半導体装置の製造装置。
2. The method according to claim 1, wherein the inner lead-bonded semiconductor element is coated with a sealing resin by the potting device, and then the film carrier is horizontally moved until the sealing resin coated with the semiconductor element becomes at least a gel. Claim (1)
An apparatus for manufacturing a semiconductor device as described in the above.
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