JP2751286B2 - 描画装置 - Google Patents
描画装置Info
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- JP2751286B2 JP2751286B2 JP175089A JP175089A JP2751286B2 JP 2751286 B2 JP2751286 B2 JP 2751286B2 JP 175089 A JP175089 A JP 175089A JP 175089 A JP175089 A JP 175089A JP 2751286 B2 JP2751286 B2 JP 2751286B2
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- discharge nozzle
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- discharge
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は基板上に導体ペーストなどのペーストを所望
のパターンで均一な厚みに塗布する描画装置に関するも
のである。
のパターンで均一な厚みに塗布する描画装置に関するも
のである。
従来の技術 一般に描画装置は、吐出ノズルの下端の吐出口から基
板の描画面にペーストを吐出させながら吐出ノズルを所
定のパターンに沿ってX−Y方向に相対移動させること
によりペーストパターンを描くように構成されている。
この吐出ノズルの全移動工程中において、吐出口と描画
面との間の間隔を一定に保持しないと、ペースト膜厚が
一定にならず、特性精度のよいパターンを描くことはで
きない。
板の描画面にペーストを吐出させながら吐出ノズルを所
定のパターンに沿ってX−Y方向に相対移動させること
によりペーストパターンを描くように構成されている。
この吐出ノズルの全移動工程中において、吐出口と描画
面との間の間隔を一定に保持しないと、ペースト膜厚が
一定にならず、特性精度のよいパターンを描くことはで
きない。
そこで従来は、第6図に示すように吐出ノズルaの側
方に配設した位置検出器bによって、X−Yテーブルc
上に設置された基板dの描画面eの高さ位置を、位置検
出器aの下方位置fでパターン形成経路の全体にわたっ
て計測し、その位置データをメモリしておき、次の描画
工程において、吐出ノズルaの吐出口gと描画面eとの
間を一定間隔に保持できるように、前記位置データに基
づいて吐出ノズルaの上下位置を制御しながら描画して
いる。
方に配設した位置検出器bによって、X−Yテーブルc
上に設置された基板dの描画面eの高さ位置を、位置検
出器aの下方位置fでパターン形成経路の全体にわたっ
て計測し、その位置データをメモリしておき、次の描画
工程において、吐出ノズルaの吐出口gと描画面eとの
間を一定間隔に保持できるように、前記位置データに基
づいて吐出ノズルaの上下位置を制御しながら描画して
いる。
又、吐出口gと描画面eの間隔を一定に保持するため
に吐出ノズルaを上下移動させる移動手段としては、高
い位置決め精度が確保できるようにパルスモータにて駆
動されるボールねじを用いたねじ送り機構が採用されて
いる。
に吐出ノズルaを上下移動させる移動手段としては、高
い位置決め精度が確保できるようにパルスモータにて駆
動されるボールねじを用いたねじ送り機構が採用されて
いる。
発明が解決しようとする課題 しかし、上記のように吐出ノズルの上下移動をねじ送
り機構によって行った場合には、かなり高い位置決め精
度が確保されるが、一方で位置調整に時間を要して応答
性が悪く、そのために高速で描画した場合には精度の高
い位置制御ができなくなるという問題があり、描画の高
速化ができないという問題がある。
り機構によって行った場合には、かなり高い位置決め精
度が確保されるが、一方で位置調整に時間を要して応答
性が悪く、そのために高速で描画した場合には精度の高
い位置制御ができなくなるという問題があり、描画の高
速化ができないという問題がある。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、吐出ノズルの位置
制御を応答性良くかつ高精度で行うことができ、高速描
画を可能にする描画装置を提供することを目的とする。
制御を応答性良くかつ高精度で行うことができ、高速描
画を可能にする描画装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は上記目的を達成するために、吐出口からペー
ストを吐出する吐出ノズルを描画面に対して遠近方向に
移動可能に設け、モータにて回転駆動されるカム機構
と、ピエゾ素子とを備えた吐出ノズルの移動手段を設け
たことを特徴とする。
ストを吐出する吐出ノズルを描画面に対して遠近方向に
移動可能に設け、モータにて回転駆動されるカム機構
と、ピエゾ素子とを備えた吐出ノズルの移動手段を設け
たことを特徴とする。
作用 本発明によると、カム機構とピエゾ素子が共に動作の
応答性が良いため、応答性良く吐出ノズルの位置調整を
行うことができ、しかもカム機構にて大きな幅で位置調
整し、その幅内で微小な位置調整をピエゾ素子によって
行うことによって高精度で位置調整を行うことができ、
従って吐出ノズルの位置調整を応答性良くかつ高精度で
行うことができ、高速描画が可能となる。
応答性が良いため、応答性良く吐出ノズルの位置調整を
行うことができ、しかもカム機構にて大きな幅で位置調
整し、その幅内で微小な位置調整をピエゾ素子によって
行うことによって高精度で位置調整を行うことができ、
従って吐出ノズルの位置調整を応答性良くかつ高精度で
行うことができ、高速描画が可能となる。
実 施 例 以下、本発明の一実施例を第1図〜第5図に基づいて
説明する。
説明する。
基板1はその上面が描画面2とされ、導体ペースト3
のパターンが形成される。この基板1は、X−Y方向に
移動可能なX−Yテーブル4上に設置される。吐出ノズ
ル5がX−Yテーブル4の上方に上下移動自在に支持さ
れた倒立T字状の可動部材16の一側片部16aに軸心を鉛
直にして取付けられている。この吐出ノズル5には、断
面円形の丸ノズルが用いられ、その下端の円形の吐出口
6からいずれの方向に対しても同様に導体ペースト3を
吐出して前記パターンを形成する。
のパターンが形成される。この基板1は、X−Y方向に
移動可能なX−Yテーブル4上に設置される。吐出ノズ
ル5がX−Yテーブル4の上方に上下移動自在に支持さ
れた倒立T字状の可動部材16の一側片部16aに軸心を鉛
直にして取付けられている。この吐出ノズル5には、断
面円形の丸ノズルが用いられ、その下端の円形の吐出口
6からいずれの方向に対しても同様に導体ペースト3を
吐出して前記パターンを形成する。
回転体7が上下方向並びに水平方向に固定で回転のみ
可能に配設され、前記吐出ノズル5はその軸心位置の貫
通孔8を非接触で貫通している。この回転体7は回転用
モータ9にて、そのモータ軸に取付けられたプーリ9aと
回転体7との間に巻回された回転ベルト10を介して任意
の角度位置に回転駆動される。
可能に配設され、前記吐出ノズル5はその軸心位置の貫
通孔8を非接触で貫通している。この回転体7は回転用
モータ9にて、そのモータ軸に取付けられたプーリ9aと
回転体7との間に巻回された回転ベルト10を介して任意
の角度位置に回転駆動される。
回転体7の下面において、貫通孔8の側方位置に描画
面2の高さ位置を検出するためのレーザ測長器から成る
第1の位置検出器11が取付けられ、貫通孔8の部分に、
吐出ノズル5が貫通する貫通孔13を形成された反射プリ
ズム12が取付けられている。この反射プリズム12は、吐
出ノズル5の軸心に対して45゜の傾斜角で下向きに傾斜
した光反射面14を形成し、この光反射面14によって第1
の位置検出器11から描画面2に至るL字状に屈曲した光
路15が形成される。このように、光反射面14を用いるこ
とによって描画面2の高さ検出位置40を吐出口6の近傍
に設定することができる。第1の位置検出器11は光路15
に沿ってレーザ光を描画面2に投射し、その反射光によ
って描画面2の高さ位置を検出する。
面2の高さ位置を検出するためのレーザ測長器から成る
第1の位置検出器11が取付けられ、貫通孔8の部分に、
吐出ノズル5が貫通する貫通孔13を形成された反射プリ
ズム12が取付けられている。この反射プリズム12は、吐
出ノズル5の軸心に対して45゜の傾斜角で下向きに傾斜
した光反射面14を形成し、この光反射面14によって第1
の位置検出器11から描画面2に至るL字状に屈曲した光
路15が形成される。このように、光反射面14を用いるこ
とによって描画面2の高さ検出位置40を吐出口6の近傍
に設定することができる。第1の位置検出器11は光路15
に沿ってレーザ光を描画面2に投射し、その反射光によ
って描画面2の高さ位置を検出する。
可動部材16の他側片部16bの上方には、第2の位置検
出器17が配設され、この他側片部16bの上面を検出する
ことによって間接的に吐出ノズル5の高さ位置を検出す
る。
出器17が配設され、この他側片部16bの上面を検出する
ことによって間接的に吐出ノズル5の高さ位置を検出す
る。
可動部材16の上方に延びるガイド片16cの一側面に、
この可動部材16を上下移動させる移動手段が連結されて
おり、次にこの移動手段の構成を詳細に説明する。
この可動部材16を上下移動させる移動手段が連結されて
おり、次にこの移動手段の構成を詳細に説明する。
吐出ノズル5の上下用モータ18のモータ軸に板カム19
が取付けられ、この板カム19外周のカム面にガイドブロ
ック20にて昇降自在に支持された昇降ブロック21から延
出されたアーム22が係合している。昇降ブロック21の一
側面に微小移動機構23が取付けられている。
が取付けられ、この板カム19外周のカム面にガイドブロ
ック20にて昇降自在に支持された昇降ブロック21から延
出されたアーム22が係合している。昇降ブロック21の一
側面に微小移動機構23が取付けられている。
この微小移動機構23は、2段拡大レバー機構24とピエ
ゾ素子25を備えている。2段拡大レバー機構24は、L字
を90゜時計方向に回転させた形状の固定片26の下端から
薄肉ヒンジの第1支点27を介して水平方向に第1レバー
28が延出され、固定片26の水平方向の腕の先端から薄肉
ヒンジの第2支点29を介して水平方向に第2レバー30が
延出され、第1レバー28の先端と第2レバー30の第2支
点29から適当距離の位置とが薄肉ヒンジの第3支点31を
介して連結されている。そして、固定片26と第1レバー
28の第1支点27から適当距離の部位との間にピエゾ素子
25が介装され、第2レバー30の先端が連結ピン32にて可
動部材16のガイド片16cに結合されている。
ゾ素子25を備えている。2段拡大レバー機構24は、L字
を90゜時計方向に回転させた形状の固定片26の下端から
薄肉ヒンジの第1支点27を介して水平方向に第1レバー
28が延出され、固定片26の水平方向の腕の先端から薄肉
ヒンジの第2支点29を介して水平方向に第2レバー30が
延出され、第1レバー28の先端と第2レバー30の第2支
点29から適当距離の位置とが薄肉ヒンジの第3支点31を
介して連結されている。そして、固定片26と第1レバー
28の第1支点27から適当距離の部位との間にピエゾ素子
25が介装され、第2レバー30の先端が連結ピン32にて可
動部材16のガイド片16cに結合されている。
X−Yテーブル4の基板1設置位置の側方に、吐出ノ
ズル5の高さを測定する測定ステージ33が配設されてい
る。この測定ステージ33の上面33aは水平に形成される
とともに、下面から垂直に延出された支軸34とX−Yテ
ーブル4に設けられたリニアベアリング35にて昇降自在
に支持され、かつバネ36にてその上面33aが常に所定の
高さに位置するように付勢されている。
ズル5の高さを測定する測定ステージ33が配設されてい
る。この測定ステージ33の上面33aは水平に形成される
とともに、下面から垂直に延出された支軸34とX−Yテ
ーブル4に設けられたリニアベアリング35にて昇降自在
に支持され、かつバネ36にてその上面33aが常に所定の
高さに位置するように付勢されている。
次に、動作を説明する。
基板1をX−Yテーブル4上の所定位置に設置し、吐
出ノズル5を導体パターンの始端の手前位置の上方に対
向して位置させる。次に、第1の位置検出器11にて導体
パターンの始端の描画面2の高さ位置を検出した後、X
−Yテーブル4を移動させて吐出ノズル5を導体パター
ンの始端に対向させるとともに吐出ノズル5の高さ位置
を吐出口6と描画面2の間が所定間隔となるように設定
し、吐出ノズル5の吐出口6から導体ペースト3の吐出
を開始する。
出ノズル5を導体パターンの始端の手前位置の上方に対
向して位置させる。次に、第1の位置検出器11にて導体
パターンの始端の描画面2の高さ位置を検出した後、X
−Yテーブル4を移動させて吐出ノズル5を導体パター
ンの始端に対向させるとともに吐出ノズル5の高さ位置
を吐出口6と描画面2の間が所定間隔となるように設定
し、吐出ノズル5の吐出口6から導体ペースト3の吐出
を開始する。
吐出口6と描画面2の間の間隔は、吐出ノズル5とX
−Yテーブル4との相対移動速度、導体ペースト3の粘
度、形成すべき導体パターンの断面寸法などによって適
宜設定されるが、通常は40μm程度である。
−Yテーブル4との相対移動速度、導体ペースト3の粘
度、形成すべき導体パターンの断面寸法などによって適
宜設定されるが、通常は40μm程度である。
次いで、吐出ノズル5の吐出口6から導体ペースト3
を吐出させながらX−Yテーブル4を移動させて吐出ノ
ズル5を所定の移動速度で形成すべき導体パターンに沿
って相対移動させる。このとき回転体7は、第5図に示
すように第1の位置検出器11による検出位置40が常に吐
出ノズル5に先行してパターン形成経路上に移動するよ
うに回転制御する。この移動に伴って描画面2の高さ位
置が変化すると、第1の位置検出器11によって先行して
検出された高さ位置データに基づいて吐出ノズル5が泥
た昇降する。この高さ位置データは描画面2の吐出口6
の近傍位置における高さ位置を絶対位置として検出して
いるので、データ処理が簡単で高速処理できるため、高
精度に高さ位置を制御しながら高速で描画することがで
きる。また、高さ位置の検出位置40が、上記のように吐
出ノズル5に先行して導体パターン経路上を移動するの
で、導体パターン形成経路が屈曲部を有する複雑な形状
であってもその全長にわたって吐出口6と描画面2との
間を所定間隔に保持し、導体パターンを精度よく形成す
ることができる。又、非接触なので、描画面2に傷を付
けないことはいうまでもない。
を吐出させながらX−Yテーブル4を移動させて吐出ノ
ズル5を所定の移動速度で形成すべき導体パターンに沿
って相対移動させる。このとき回転体7は、第5図に示
すように第1の位置検出器11による検出位置40が常に吐
出ノズル5に先行してパターン形成経路上に移動するよ
うに回転制御する。この移動に伴って描画面2の高さ位
置が変化すると、第1の位置検出器11によって先行して
検出された高さ位置データに基づいて吐出ノズル5が泥
た昇降する。この高さ位置データは描画面2の吐出口6
の近傍位置における高さ位置を絶対位置として検出して
いるので、データ処理が簡単で高速処理できるため、高
精度に高さ位置を制御しながら高速で描画することがで
きる。また、高さ位置の検出位置40が、上記のように吐
出ノズル5に先行して導体パターン経路上を移動するの
で、導体パターン形成経路が屈曲部を有する複雑な形状
であってもその全長にわたって吐出口6と描画面2との
間を所定間隔に保持し、導体パターンを精度よく形成す
ることができる。又、非接触なので、描画面2に傷を付
けないことはいうまでもない。
又、吐出ノズル5の昇降は、ACサーボモータから成る
上下用モータ18により板カム19を回転させて大きな幅の
位置制御を行い、その幅の中での微小な位置制御をピエ
ゾ素子25によって行うことにより高精度の位置制御を応
答性良く行うことができ、高速で描画しても高精度の位
置制御が可能である。即ち、第3図(a)に示すように
吐出ノズル5の高さ位置を制御する場合、上下用モータ
18における1パルス毎の板カム19の回転によって第3図
(b)に示すように、例えば5μm程度の幅で階段状に
変位させ、一方ピエゾ素子25により第3図(c)に示す
ように上記5μmの幅内で変位させることにより、これ
らの変位が合成されて、第3図(a)のように吐出ノズ
ル5の高さ位置を制御できる。また、パルスモータ18と
板カム19による変位及びピエゾ素子25による変位の応答
性は共に大変良く、全体として応答性良く、高精度に位
置制御できる。
上下用モータ18により板カム19を回転させて大きな幅の
位置制御を行い、その幅の中での微小な位置制御をピエ
ゾ素子25によって行うことにより高精度の位置制御を応
答性良く行うことができ、高速で描画しても高精度の位
置制御が可能である。即ち、第3図(a)に示すように
吐出ノズル5の高さ位置を制御する場合、上下用モータ
18における1パルス毎の板カム19の回転によって第3図
(b)に示すように、例えば5μm程度の幅で階段状に
変位させ、一方ピエゾ素子25により第3図(c)に示す
ように上記5μmの幅内で変位させることにより、これ
らの変位が合成されて、第3図(a)のように吐出ノズ
ル5の高さ位置を制御できる。また、パルスモータ18と
板カム19による変位及びピエゾ素子25による変位の応答
性は共に大変良く、全体として応答性良く、高精度に位
置制御できる。
また、吐出ノズル5の高さ位置を第2の位置検出器17
にて検出しており、第1の位置検出器11により得られた
位置指令値に対して吐出ノズル5の現実の位置を検出し
てサーボ制御を行うことにより、さらに高精度に吐出ノ
ズル5の高さ位置を制御できる。
にて検出しており、第1の位置検出器11により得られた
位置指令値に対して吐出ノズル5の現実の位置を検出し
てサーボ制御を行うことにより、さらに高精度に吐出ノ
ズル5の高さ位置を制御できる。
ところで、吐出ノズル5は、内部に収容した導体ペー
スト2を消費した場合や形成すべき導体パターンの幅等
が変わる場合に変換される。この交換によって、吐出ノ
ズル5の吐出口6の高さ位置が変化するため、この高さ
位置を正確に検出しないと、吐出口6と描画面2との間
の間隔を所定値に設定することはできない。
スト2を消費した場合や形成すべき導体パターンの幅等
が変わる場合に変換される。この交換によって、吐出ノ
ズル5の吐出口6の高さ位置が変化するため、この高さ
位置を正確に検出しないと、吐出口6と描画面2との間
の間隔を所定値に設定することはできない。
そこで次に、測定ステージ33と第1と第2の位置検出
器11、17とを用いて、任意に交換した吐出ノズル5の吐
出口6の高さ位置を検出する方法を説明する。まず、第
4図(a)に示すように、吐出ノズル5を取付けた状態
で可動部材16を適当な高さ位置に設定するとともに吐出
ノズル5を測定ステージ33の上方に対向位置させ、第1
の位置検出器11にて測定ステージの高さS1を検出すると
ともに、第2の位置検出器17にて吐出ノズル5の高さ位
置N1を間接的に検出する。次に、第4図(b)に示すよ
うに、吐出ノズル5を適当距離下方に移動させて吐出ノ
ズル5にて測定ステージ33を適当距離押し下げた後、第
1と第2の位置検出器11、17にてそれぞれ測定ステージ
33の高さ位置S2と吐出ノズル5の高さ位置N2を検出す
る。これらの検出値から吐出ノズル5の移動量ΔN=
(N2−N1)と測定ステージ33の下降量ΔS=(S2−S1)
が得られ、さらにこのΔNとΔSから、第4図(a)に
示すように吐出ノズル5を適当高さ位置に設定したとき
のその吐出口6と測定ステージの間の距離ΔH=(ΔN
−ΔS)が得られる。かくして、第1の位置検出器11に
よる吐出ノズル5の検出高さ位置と吐出口6の絶対高さ
位置との対応関係が判明し、吐出口6の絶対高さ位置を
検出することができ、以降この吐出口6の高さ位置を基
準にして位置制御を行えばよい。
器11、17とを用いて、任意に交換した吐出ノズル5の吐
出口6の高さ位置を検出する方法を説明する。まず、第
4図(a)に示すように、吐出ノズル5を取付けた状態
で可動部材16を適当な高さ位置に設定するとともに吐出
ノズル5を測定ステージ33の上方に対向位置させ、第1
の位置検出器11にて測定ステージの高さS1を検出すると
ともに、第2の位置検出器17にて吐出ノズル5の高さ位
置N1を間接的に検出する。次に、第4図(b)に示すよ
うに、吐出ノズル5を適当距離下方に移動させて吐出ノ
ズル5にて測定ステージ33を適当距離押し下げた後、第
1と第2の位置検出器11、17にてそれぞれ測定ステージ
33の高さ位置S2と吐出ノズル5の高さ位置N2を検出す
る。これらの検出値から吐出ノズル5の移動量ΔN=
(N2−N1)と測定ステージ33の下降量ΔS=(S2−S1)
が得られ、さらにこのΔNとΔSから、第4図(a)に
示すように吐出ノズル5を適当高さ位置に設定したとき
のその吐出口6と測定ステージの間の距離ΔH=(ΔN
−ΔS)が得られる。かくして、第1の位置検出器11に
よる吐出ノズル5の検出高さ位置と吐出口6の絶対高さ
位置との対応関係が判明し、吐出口6の絶対高さ位置を
検出することができ、以降この吐出口6の高さ位置を基
準にして位置制御を行えばよい。
本発明は上記実施例に示す外、種々の態様に構成する
ことができる。
ことができる。
例えば、上記実施例では微小移動機構23として、2段
拡大レバー機構24とピエゾ素子25を用いて作動させるよ
うにしたものを用いたが、ピエゾ素子25にて直接又は他
の連動機構を介して吐出ノズル5を移動させるようにし
てもよい。
拡大レバー機構24とピエゾ素子25を用いて作動させるよ
うにしたものを用いたが、ピエゾ素子25にて直接又は他
の連動機構を介して吐出ノズル5を移動させるようにし
てもよい。
さらに、上記実施例では導体ペーストのパターンを形
成する場合を例示したが、任意のペーストを用いた描画
に適用することができる。
成する場合を例示したが、任意のペーストを用いた描画
に適用することができる。
発明の効果 本発明の描画装置によれば、カム機構とピエゾ素子が
共に動作の応答性が良いため、応答性良く吐出ノズルの
位置調整を行うことができ、しかもカム機構にて大きな
幅で位置調整し、その幅内で微小な位置調整をピエゾ素
子によって行うことによって高精度で位置調整を行うこ
とができ、従って吐出ノズルの位置調整を応答性良くか
つ高精度で行うことができ、高速描画が可能となるとい
う大なる効果を発揮する。
共に動作の応答性が良いため、応答性良く吐出ノズルの
位置調整を行うことができ、しかもカム機構にて大きな
幅で位置調整し、その幅内で微小な位置調整をピエゾ素
子によって行うことによって高精度で位置調整を行うこ
とができ、従って吐出ノズルの位置調整を応答性良くか
つ高精度で行うことができ、高速描画が可能となるとい
う大なる効果を発揮する。
第1図は本発明の一実施例の概略構成を示す斜視図、第
2図は同要部の側面図、第3図(a)、(b)、(c)
は吐出ノズルの移動手段の動作説明図、第4図(a)、
(b)は吐出ノズルの絶対高さ位置の検出動作の説明
図、第5図はパターン形成経路に沿って高さ検出位置が
移動する状態を示す平面図、第6図は従来例の概略側面
図である。 2……描画面、5……吐出ノズル、18……上下用モー
タ、19……板カム、21……昇降ブロック、22……アー
ム、23……微小移動機構、25……ピエゾ素子。
2図は同要部の側面図、第3図(a)、(b)、(c)
は吐出ノズルの移動手段の動作説明図、第4図(a)、
(b)は吐出ノズルの絶対高さ位置の検出動作の説明
図、第5図はパターン形成経路に沿って高さ検出位置が
移動する状態を示す平面図、第6図は従来例の概略側面
図である。 2……描画面、5……吐出ノズル、18……上下用モー
タ、19……板カム、21……昇降ブロック、22……アー
ム、23……微小移動機構、25……ピエゾ素子。
Claims (1)
- 【請求項1】吐出口からペーストを吐出する吐出ノズル
を描画面に対して遠近方向に移動可能に設け、モータに
て回転駆動されるカム機構と、ピエゾ素子とを備えた吐
出ノズルの移動手段を設けたことを特徴とする描画装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP175089A JP2751286B2 (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | 描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP175089A JP2751286B2 (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | 描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02181494A JPH02181494A (ja) | 1990-07-16 |
JP2751286B2 true JP2751286B2 (ja) | 1998-05-18 |
Family
ID=11510250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP175089A Expired - Fee Related JP2751286B2 (ja) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | 描画装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2751286B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3801674B2 (ja) | 1995-12-15 | 2006-07-26 | 松下電器産業株式会社 | 電子部品の実装方法 |
JP2014148728A (ja) * | 2013-02-04 | 2014-08-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 脱水素方法 |
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1989
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