JP2742632B2 - ディスクブレーキロータ - Google Patents
ディスクブレーキロータInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ディスクブレーキに使
用されるディスクブレーキロータ（以下、ディスクロー
タという。）の改良に関する。
用されるディスクブレーキロータ（以下、ディスクロー
タという。）の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】ディスクブレーキにおいては、車両の車
輪と一体にディスクロータが回転し、車両を制動させる
際、ディスクブレーキキャリパによりディスクブレーキ
パッドが押し付けられ、ディスクロータとディスクブレ
ーキパッドのライニング部との摩擦により車両が制動さ
れる。かかるディスクロータは、（１）大きな抵抗力を
得るため、ディスクブレーキパッドのライニング部との
高い摩擦係数が要求特性とされ、また（２）ライニング
部の有機成分が高温下で溶融してディスクロータの表面
に膜を作り、この膜により上記摩擦係数を低下させるこ
とを防止するため、冷却性も要求特性とされ、さらに
（３）耐久性向上のため、耐蝕性も要求特性とされる。
輪と一体にディスクロータが回転し、車両を制動させる
際、ディスクブレーキキャリパによりディスクブレーキ
パッドが押し付けられ、ディスクロータとディスクブレ
ーキパッドのライニング部との摩擦により車両が制動さ
れる。かかるディスクロータは、（１）大きな抵抗力を
得るため、ディスクブレーキパッドのライニング部との
高い摩擦係数が要求特性とされ、また（２）ライニング
部の有機成分が高温下で溶融してディスクロータの表面
に膜を作り、この膜により上記摩擦係数を低下させるこ
とを防止するため、冷却性も要求特性とされ、さらに
（３）耐久性向上のため、耐蝕性も要求特性とされる。
【０００３】従来、かかるディスクロータとしては、例
えば特開昭６３−１１１３３１号公報に開示されている
ように、ディスクブレーキパッドと当接する溶射層が形
成されたものが知られている。この溶射層は、軟質であ
るが熱伝導性に優れる銅系材料及び硬質のステンレス系
材料を所定の割合で溶射したものである。この溶射層
は、アーク溶射ガンを用いて２種類の材料を酸化雰囲気
下かつ一律の条件で溶射する方法か、粒子の飛行速度が
大きいプラズマ溶射により２種類の材料を酸化雰囲気下
で溶射する方法により主に形成されていた。このディス
クロータでは、溶射層において、軟質の銅系材料中に硬
質のステンレス系材料が複合化されることにより好適な
摩擦係数を維持しつつ、熱伝導性に優れる銅系材料によ
り好適な冷却性を確保し、かつ銅系材料の粒子とステン
レス系材料の粒子との密着性により好適な耐蝕性を確保
している。
えば特開昭６３−１１１３３１号公報に開示されている
ように、ディスクブレーキパッドと当接する溶射層が形
成されたものが知られている。この溶射層は、軟質であ
るが熱伝導性に優れる銅系材料及び硬質のステンレス系
材料を所定の割合で溶射したものである。この溶射層
は、アーク溶射ガンを用いて２種類の材料を酸化雰囲気
下かつ一律の条件で溶射する方法か、粒子の飛行速度が
大きいプラズマ溶射により２種類の材料を酸化雰囲気下
で溶射する方法により主に形成されていた。このディス
クロータでは、溶射層において、軟質の銅系材料中に硬
質のステンレス系材料が複合化されることにより好適な
摩擦係数を維持しつつ、熱伝導性に優れる銅系材料によ
り好適な冷却性を確保し、かつ銅系材料の粒子とステン
レス系材料の粒子との密着性により好適な耐蝕性を確保
している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のデ
ィスクロータでは、上記方法により、図５に示すよう
に、溶射層中で銅系材料の粒子９１及びステンレス系材
料の粒子９２をそれぞれある程度偏平状態で存在させな
いと、溶射層がポーラスになり、両粒子の密着性が阻害
されて耐蝕性を充分に確保できないことから、摩擦係数
の向上が制約されていた。
ィスクロータでは、上記方法により、図５に示すよう
に、溶射層中で銅系材料の粒子９１及びステンレス系材
料の粒子９２をそれぞれある程度偏平状態で存在させな
いと、溶射層がポーラスになり、両粒子の密着性が阻害
されて耐蝕性を充分に確保できないことから、摩擦係数
の向上が制約されていた。
【０００５】また、上記従来のディスクロータでは、上
記方法により、酸化雰囲気下で溶射層が形成されていた
ため、ステンレス系材料の脱炭・酸化を生じて所望の硬
度のステンレス系材料の粒子が溶射層中に存在しにく
い。また、この場合、溶射層中で両粒子が酸化膜を介し
て存在するため、熱応力によって脆い酸化物でヘアーク
ラックを伝播しやすいとともに、ライニング部との摩擦
時にステンレス系材料の粒子が脱落して表面に条痕摩耗
を生じやすい。このため、これらの点でも耐蝕性が阻害
されていた。
記方法により、酸化雰囲気下で溶射層が形成されていた
ため、ステンレス系材料の脱炭・酸化を生じて所望の硬
度のステンレス系材料の粒子が溶射層中に存在しにく
い。また、この場合、溶射層中で両粒子が酸化膜を介し
て存在するため、熱応力によって脆い酸化物でヘアーク
ラックを伝播しやすいとともに、ライニング部との摩擦
時にステンレス系材料の粒子が脱落して表面に条痕摩耗
を生じやすい。このため、これらの点でも耐蝕性が阻害
されていた。
【０００６】本発明は、上記従来の制約に鑑みてなされ
たものであって、冷却性を確保しつつ、摩擦係数及び耐
蝕性の向上したディスクロータを提供することを目的と
する。
たものであって、冷却性を確保しつつ、摩擦係数及び耐
蝕性の向上したディスクロータを提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のディスクロータ
は、ディスクブレーキパッドと当接する溶射層が形成さ
れたディスクロータにおいて、前記溶射層は、銅系材料
を含むマトリックスと、該マトリックス中に酸化膜が介
在されずに分散され、平均粒径１００μｍ以下かつ偏平
率７０％以下であって、該マトリックスより硬質の塊状
粒子とからなることを特徴とするものである。
は、ディスクブレーキパッドと当接する溶射層が形成さ
れたディスクロータにおいて、前記溶射層は、銅系材料
を含むマトリックスと、該マトリックス中に酸化膜が介
在されずに分散され、平均粒径１００μｍ以下かつ偏平
率７０％以下であって、該マトリックスより硬質の塊状
粒子とからなることを特徴とするものである。
【０００８】溶射層は、マトリックスと、このマトリッ
クス中に酸化膜が介在されずに分散された塊状粒子とか
らなる。マトリックスは銅系材料を含むものである。こ
のマトリックス中にはステンレス系材料を含ませること
もできる。銅系材料とステンレス系材料とでマトリック
スを構成する場合、銅系材料の粒子及びステンレス系材
料の粒子も酸化膜が介在されていないことが好ましい。
この場合、不活性ガス雰囲気下で銅系材料の粒子及びス
テンレス系材料の粒子を溶射する方法を採用することが
できる。
クス中に酸化膜が介在されずに分散された塊状粒子とか
らなる。マトリックスは銅系材料を含むものである。こ
のマトリックス中にはステンレス系材料を含ませること
もできる。銅系材料とステンレス系材料とでマトリック
スを構成する場合、銅系材料の粒子及びステンレス系材
料の粒子も酸化膜が介在されていないことが好ましい。
この場合、不活性ガス雰囲気下で銅系材料の粒子及びス
テンレス系材料の粒子を溶射する方法を採用することが
できる。
【０００９】塊状粒子は平均粒径１００μｍ以下かつ偏
平率７０％以下である。塊状粒子が平均粒径１００μｍ
を超えれば、マトリックス中に占める塊状粒子の面積割
合が大きくなりすぎ、塊状粒子による研摩効果が充分に
発揮されず、摩擦係数の向上が充分でない。また、塊状
粒子が偏平率７０％を超えれば、塊状粒子による研摩効
果が発揮されにくく、やはり摩擦係数の向上が充分でな
い。塊状粒子をこのように塊状でマトリックス中に分散
させるためには、溶射をアーク溶射ガンで行なう場合は
圧縮ガスの圧力を低め、粒子の飛行速度を下げることに
より、衝突エネルギーを小さくすればよい。また、塊状
粒子の粒径は、溶射をアーク溶射ガンで行なう場合、線
材の送り量で調整すればよい。すなわち、線材の送り量
を小さくするほど、塊状粒子の粒径を小さくすることが
できる。
平率７０％以下である。塊状粒子が平均粒径１００μｍ
を超えれば、マトリックス中に占める塊状粒子の面積割
合が大きくなりすぎ、塊状粒子による研摩効果が充分に
発揮されず、摩擦係数の向上が充分でない。また、塊状
粒子が偏平率７０％を超えれば、塊状粒子による研摩効
果が発揮されにくく、やはり摩擦係数の向上が充分でな
い。塊状粒子をこのように塊状でマトリックス中に分散
させるためには、溶射をアーク溶射ガンで行なう場合は
圧縮ガスの圧力を低め、粒子の飛行速度を下げることに
より、衝突エネルギーを小さくすればよい。また、塊状
粒子の粒径は、溶射をアーク溶射ガンで行なう場合、線
材の送り量で調整すればよい。すなわち、線材の送り量
を小さくするほど、塊状粒子の粒径を小さくすることが
できる。
【００１０】また、塊状粒子はマトリックスより硬質の
ものである。マトリックス中にステンレス系材料を含む
場合には塊状粒子はステンレス系材料よりも硬質のもの
であることが好ましい。塊状粒子がマトリックスより硬
質のものでなければ、塊状粒子による研摩効果が発揮さ
れない。塊状粒子を酸化膜を介在させずにマトリックス
中に分散させるためには、不活性ガス雰囲気下で塊状粒
子を溶射する方法を採用することができる。マトリック
ス中にステンレス系材料を含む場合において、酸化膜を
介在させずにマトリックス中に塊状粒子を分散させるた
めには、一つのアーク溶射ガンにより所定割合の銅系材
料及びステンレス系材料でマトリックスを形成すると同
時に、別のアーク溶射ガンにより不活性ガス雰囲気下で
塊状粒子を溶射する方法を採用することができる。
ものである。マトリックス中にステンレス系材料を含む
場合には塊状粒子はステンレス系材料よりも硬質のもの
であることが好ましい。塊状粒子がマトリックスより硬
質のものでなければ、塊状粒子による研摩効果が発揮さ
れない。塊状粒子を酸化膜を介在させずにマトリックス
中に分散させるためには、不活性ガス雰囲気下で塊状粒
子を溶射する方法を採用することができる。マトリック
ス中にステンレス系材料を含む場合において、酸化膜を
介在させずにマトリックス中に塊状粒子を分散させるた
めには、一つのアーク溶射ガンにより所定割合の銅系材
料及びステンレス系材料でマトリックスを形成すると同
時に、別のアーク溶射ガンにより不活性ガス雰囲気下で
塊状粒子を溶射する方法を採用することができる。
【００１１】
【作用】本発明のディスクロータの溶射層では、酸化膜
を介在させずに分散された塊状粒子が溶射前の所望の硬
度を溶射層中でも維持し、その塊状粒子が軟質の銅系材
料を含むマトリックス中で平均粒径１００μｍ以下かつ
偏平率７０％以下で分散されていることにより、塊状粒
子の研摩効果が発揮され、高い摩擦係数が得られる。マ
トリックス中にステンレス系材料を含む場合には、軟質
の銅系材料中に硬質のステンレス系材料が複合化された
マトリックスにより、ある程度好適な摩擦係数を維持
し、さらにこのマトリックス中に上記塊状粒子が分散さ
れていることにより、塊状粒子の研摩効果が発揮され、
より一層高い摩擦係数が得られる。
を介在させずに分散された塊状粒子が溶射前の所望の硬
度を溶射層中でも維持し、その塊状粒子が軟質の銅系材
料を含むマトリックス中で平均粒径１００μｍ以下かつ
偏平率７０％以下で分散されていることにより、塊状粒
子の研摩効果が発揮され、高い摩擦係数が得られる。マ
トリックス中にステンレス系材料を含む場合には、軟質
の銅系材料中に硬質のステンレス系材料が複合化された
マトリックスにより、ある程度好適な摩擦係数を維持
し、さらにこのマトリックス中に上記塊状粒子が分散さ
れていることにより、塊状粒子の研摩効果が発揮され、
より一層高い摩擦係数が得られる。
【００１２】また、塊状粒子は、溶射層中で酸化膜を介
在させないので、熱応力によってヘアークラックを生じ
ることはなく、上記平均粒径及び偏平率の範囲であれ
ば、ライニング部との摩擦時に塊状粒子が脱落しにく
い。また、この塊状粒子は、酸化膜が介在されずにマト
リックス中に分散されるため濡れ性がよく、上記平均粒
径及び偏平率の範囲であれば、充分にマトリックスと密
着し、かえってマトリックス中で骨材として作用して機
械的強度を高める。このため、溶射層は好適な耐蝕性を
確保する。マトリックス中にステンレス系材料を含む場
合でも、銅系材料の粒子とステンレス系材料の粒子とが
マトリックス中に偏平状態で存在すれば、溶射層がポー
ラスとなることはなく両粒子は好適に密着し、ここで塊
状粒子も両者の密着性を阻害することなく、かえって機
械的強度を高めて、より一層好適な耐蝕性を確保する。
在させないので、熱応力によってヘアークラックを生じ
ることはなく、上記平均粒径及び偏平率の範囲であれ
ば、ライニング部との摩擦時に塊状粒子が脱落しにく
い。また、この塊状粒子は、酸化膜が介在されずにマト
リックス中に分散されるため濡れ性がよく、上記平均粒
径及び偏平率の範囲であれば、充分にマトリックスと密
着し、かえってマトリックス中で骨材として作用して機
械的強度を高める。このため、溶射層は好適な耐蝕性を
確保する。マトリックス中にステンレス系材料を含む場
合でも、銅系材料の粒子とステンレス系材料の粒子とが
マトリックス中に偏平状態で存在すれば、溶射層がポー
ラスとなることはなく両粒子は好適に密着し、ここで塊
状粒子も両者の密着性を阻害することなく、かえって機
械的強度を高めて、より一層好適な耐蝕性を確保する。
【００１３】さらに、この溶射層では、熱伝導性に優れ
る銅系材料により従来と同様に好適な冷却性を確保して
いる。
る銅系材料により従来と同様に好適な冷却性を確保して
いる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を具体化した実施例のディスク
ロータにおける溶射層１、２、５、６を比較例のディス
クロータにおける溶射層３、４、７〜１２とともに図面
を参照しつつ説明する。まず、図１に示すように、ディ
スクブレーキパッド（図示せず）と当接する被溶射面１
ａをもつディスクロータ本体１を用意した。また、２つ
のアーク溶射ガン２、３を用意するとともに、銅系材料
としてＣｕ線材４、ステンレス系材料としてＳＵＳ４２
０Ｊ２線材５、塊状粒子材料としてＳＵＳ４４０Ｃ線材
６を用意した。なお、ＳＵＳ４４０Ｃは、ＳＵＳ４２０
Ｊ２よりもＣ量が多く、硬質である。すなわち、ＳＵＳ
４４０Ｃは５６０Ｈｖ（１００ｇ）、ＳＵＳ４２０Ｊ２
は４３０Ｈｖ（１００ｇ）である。
ロータにおける溶射層１、２、５、６を比較例のディス
クロータにおける溶射層３、４、７〜１２とともに図面
を参照しつつ説明する。まず、図１に示すように、ディ
スクブレーキパッド（図示せず）と当接する被溶射面１
ａをもつディスクロータ本体１を用意した。また、２つ
のアーク溶射ガン２、３を用意するとともに、銅系材料
としてＣｕ線材４、ステンレス系材料としてＳＵＳ４２
０Ｊ２線材５、塊状粒子材料としてＳＵＳ４４０Ｃ線材
６を用意した。なお、ＳＵＳ４４０Ｃは、ＳＵＳ４２０
Ｊ２よりもＣ量が多く、硬質である。すなわち、ＳＵＳ
４４０Ｃは５６０Ｈｖ（１００ｇ）、ＳＵＳ４２０Ｊ２
は４３０Ｈｖ（１００ｇ）である。
【００１５】次いで、一方のアーク溶射ガン２にはＣｕ
線材４及びＳＵＳ４２０Ｊ２線材５を装備し、他方のア
ーク溶射ガン３にはＳＵＳ４４０Ｃ線材６、６を装備し
た。そして、一方のアーク溶射ガン２により、圧縮空気
を用いた所定の条件で、被溶射面１ａにＣｕ線材４及び
ＳＵＳ４２０Ｊ２線材５の溶射を行なうと同時に、他方
のアーク溶射ガン３により、Ａｒガスを用いた所定の条
件で、被溶射面１ａにＳＵＳ４４０線材６、６の溶射を
行なった。なお、アーク溶射ガン３の条件は、例えば、
塊状粒子が平均粒径１００（μｍ）、偏平率７０（％）
の場合、 電流：１００Ａ 電圧：３０Ｖ Ａｒガス圧縮圧力（一次）：５ｋｇｆ／ｃｍ2 Ａｒガス圧縮圧力（二次）：０ｋｇｆ／ｃｍ2 である。こうして、溶射層Ｍ（１〜１２）をもつディス
クロータを得た。
線材４及びＳＵＳ４２０Ｊ２線材５を装備し、他方のア
ーク溶射ガン３にはＳＵＳ４４０Ｃ線材６、６を装備し
た。そして、一方のアーク溶射ガン２により、圧縮空気
を用いた所定の条件で、被溶射面１ａにＣｕ線材４及び
ＳＵＳ４２０Ｊ２線材５の溶射を行なうと同時に、他方
のアーク溶射ガン３により、Ａｒガスを用いた所定の条
件で、被溶射面１ａにＳＵＳ４４０線材６、６の溶射を
行なった。なお、アーク溶射ガン３の条件は、例えば、
塊状粒子が平均粒径１００（μｍ）、偏平率７０（％）
の場合、 電流：１００Ａ 電圧：３０Ｖ Ａｒガス圧縮圧力（一次）：５ｋｇｆ／ｃｍ2 Ａｒガス圧縮圧力（二次）：０ｋｇｆ／ｃｍ2 である。こうして、溶射層Ｍ（１〜１２）をもつディス
クロータを得た。
【００１６】このとき、Ｃｕ線材４の粒子及びＳＵＳ４
２０Ｊ２線材５の粒子における体積割合、各平均粒径及
び各偏平率（％）は、各線材４、５の送り量等で調節
し、以下の条件で一定とした。なお、偏平率は、各粒子
の断面において、長さ（長手方向）をａ、厚さをｂとし
た場合に、｛（ａ−ｂ）／ａ｝×１００で表した。ま
た、各平均粒径は偏平率が高いため表示不能である。
２０Ｊ２線材５の粒子における体積割合、各平均粒径及
び各偏平率（％）は、各線材４、５の送り量等で調節
し、以下の条件で一定とした。なお、偏平率は、各粒子
の断面において、長さ（長手方向）をａ、厚さをｂとし
た場合に、｛（ａ−ｂ）／ａ｝×１００で表した。ま
た、各平均粒径は偏平率が高いため表示不能である。
【００１７】体積割合…Ｃｕ線材４の偏平粒子体積：Ｓ
ＵＳ４２０Ｊ２線材５の偏平粒子体積＝５０：５０ 各偏平率…９０％以上 他方、ＳＵＳ４４０線材６の塊状粒子の体積割合は以下
の条件で一定とし、平均粒径（μｍ）及び偏平率（％）
を種々変化させた。なお、平均粒径は偏平率が高い場合
は表示不能である。
ＵＳ４２０Ｊ２線材５の偏平粒子体積＝５０：５０ 各偏平率…９０％以上 他方、ＳＵＳ４４０線材６の塊状粒子の体積割合は以下
の条件で一定とし、平均粒径（μｍ）及び偏平率（％）
を種々変化させた。なお、平均粒径は偏平率が高い場合
は表示不能である。
【００１８】体積割合…Ｃｕ線材４の偏平粒子体積＋Ｓ
ＵＳ４２０Ｊ２線材５の偏平粒子体積：ＳＵＳ４４０線
材６の塊状粒子体積＝９０：１０ 塊状粒子の平均粒径及び偏平率が異なる溶射層１〜１２
について、１００ｋｍ／ｈから０ｋｍ／ｈまで、６０ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 の圧力でブレーキングした場合の摩擦係数
（μ）を求めた。結果を表１に示す。
ＵＳ４２０Ｊ２線材５の偏平粒子体積：ＳＵＳ４４０線
材６の塊状粒子体積＝９０：１０ 塊状粒子の平均粒径及び偏平率が異なる溶射層１〜１２
について、１００ｋｍ／ｈから０ｋｍ／ｈまで、６０ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 の圧力でブレーキングした場合の摩擦係数
（μ）を求めた。結果を表１に示す。
【００１９】
【表１】 なお、塊状粒子を存在させなかった溶射層の摩擦係数は
０．３４であった。また、実施例のディスクロータに係
る溶射層５の表面の金属組織を図２に示し、断面の金属
組織を図３に示す。一方、比較例のディスクロータに係
る溶射層８の断面の金属組織を図４に示す。
０．３４であった。また、実施例のディスクロータに係
る溶射層５の表面の金属組織を図２に示し、断面の金属
組織を図３に示す。一方、比較例のディスクロータに係
る溶射層８の断面の金属組織を図４に示す。
【００２０】ＳＵＳ４４０Ｃ線材６の塊状粒子は、Ａｒ
ガスを用いたアーク溶射ガン３によって溶射されるた
め、酸化膜が介在されずに溶射層中に分散され、溶射前
の硬度が維持される。また、表１より、溶射層１、２、
５、６が優れていることから、その塊状粒子がマトリッ
クス中に平均粒径１００μｍ以下かつ偏平率７０％以下
で存在すれば、従来よりも一層高い摩擦係数の溶射層が
得られることがわかる。このため、溶射層１、２、５、
６では、軟質のＣｕ線材４の偏平粒子中に硬質のＳＵＳ
４２０Ｊ２線材５の偏平粒子が複合化されたマトリック
スにより、ある程度好適な摩擦係数を維持し、さらにこ
のマトリックス中に上記塊状粒子が分散されていること
により、塊状粒子の研摩効果が発揮され、より一層高い
摩擦係数が得られていることがわかる。
ガスを用いたアーク溶射ガン３によって溶射されるた
め、酸化膜が介在されずに溶射層中に分散され、溶射前
の硬度が維持される。また、表１より、溶射層１、２、
５、６が優れていることから、その塊状粒子がマトリッ
クス中に平均粒径１００μｍ以下かつ偏平率７０％以下
で存在すれば、従来よりも一層高い摩擦係数の溶射層が
得られることがわかる。このため、溶射層１、２、５、
６では、軟質のＣｕ線材４の偏平粒子中に硬質のＳＵＳ
４２０Ｊ２線材５の偏平粒子が複合化されたマトリック
スにより、ある程度好適な摩擦係数を維持し、さらにこ
のマトリックス中に上記塊状粒子が分散されていること
により、塊状粒子の研摩効果が発揮され、より一層高い
摩擦係数が得られていることがわかる。
【００２１】また、上記塊状粒子は、溶射層中で酸化膜
を介在させないので、熱応力によってヘアークラックを
生じることはなく、上記平均粒径及び偏平率の範囲であ
れば、ライニング部との摩擦時に塊状粒子が脱落しにく
い。また、この塊状粒子は、Ｃｕ線材４の偏平粒子とＳ
ＵＳ４２０Ｊ２線材５の偏平粒子とがマトリックス中に
偏平状態で存在し、溶射層がポーラスとなることはなく
両粒子は好適に密着し、ここで塊状粒子が酸化膜を介在
させずにマトリックス中に分散されるため濡れ性がよ
く、上記平均粒径及び偏平率の範囲であれば、両者の密
着性を阻害することなく、かえってマトリックス中で骨
材として作用して機械的強度を高める。このため、溶射
層１、２、５、６では、より一層好適な耐蝕性が確保さ
れることがわかる。
を介在させないので、熱応力によってヘアークラックを
生じることはなく、上記平均粒径及び偏平率の範囲であ
れば、ライニング部との摩擦時に塊状粒子が脱落しにく
い。また、この塊状粒子は、Ｃｕ線材４の偏平粒子とＳ
ＵＳ４２０Ｊ２線材５の偏平粒子とがマトリックス中に
偏平状態で存在し、溶射層がポーラスとなることはなく
両粒子は好適に密着し、ここで塊状粒子が酸化膜を介在
させずにマトリックス中に分散されるため濡れ性がよ
く、上記平均粒径及び偏平率の範囲であれば、両者の密
着性を阻害することなく、かえってマトリックス中で骨
材として作用して機械的強度を高める。このため、溶射
層１、２、５、６では、より一層好適な耐蝕性が確保さ
れることがわかる。
【００２２】さらに、この溶射層では、熱伝導性に優れ
る銅系材料により従来と同様に好適な冷却性を確保して
いる。
る銅系材料により従来と同様に好適な冷却性を確保して
いる。
【００２３】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明のディスク
ロータでは、銅系材料を含むマトリックス中に上記塊状
粒子が分散された溶射層をもつため、充分な冷却性を確
保しつつ、高い摩擦係数及び耐蝕性を発揮することがで
きる。したがって、このディスクロータを車両のディス
クブレーキに使用すれば、充分な冷却性を確保しつつ、
高い摩擦係数及び耐蝕性を発揮することができるため、
より大きな抵抗力で車両を制動することができるととも
に、より過酷な条件下の使用に耐えることができ、従来
よりもより一層高い安全性を得ることができる。
ロータでは、銅系材料を含むマトリックス中に上記塊状
粒子が分散された溶射層をもつため、充分な冷却性を確
保しつつ、高い摩擦係数及び耐蝕性を発揮することがで
きる。したがって、このディスクロータを車両のディス
クブレーキに使用すれば、充分な冷却性を確保しつつ、
高い摩擦係数及び耐蝕性を発揮することができるため、
より大きな抵抗力で車両を制動することができるととも
に、より過酷な条件下の使用に耐えることができ、従来
よりもより一層高い安全性を得ることができる。
【図１】実施例のディスクロータを得べく溶射中の状態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】実施例のディスクロータに係る溶射層５の表面
の金属組織を示す５０倍の顕微鏡写真である。
の金属組織を示す５０倍の顕微鏡写真である。
【図３】実施例のディスクロータに係る溶射層５の断面
の金属組織を示す２００倍の顕微鏡写真である。
の金属組織を示す２００倍の顕微鏡写真である。
【図４】比較例のディスクロータに係る溶射層８の断面
の金属組織を示す２００倍の顕微鏡写真である。
の金属組織を示す２００倍の顕微鏡写真である。
【図５】従来のディスクロータに係る溶射層の断面図で
ある。
ある。
１…ディスクロータ本体 １ａ…被溶
射面 ２、３…アーク溶射ガン ４…Ｃｕ線
材（銅系材料） ５…ＳＵＳ４２０Ｊ２線材（ステンレス系材料） ６…ＳＵＳ４４０Ｃ線材（塊状粒子材料） Ｍ…溶射層
射面 ２、３…アーク溶射ガン ４…Ｃｕ線
材（銅系材料） ５…ＳＵＳ４２０Ｊ２線材（ステンレス系材料） ６…ＳＵＳ４４０Ｃ線材（塊状粒子材料） Ｍ…溶射層
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−116326（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−32437（ＪＰ，Ａ) 特公 昭45−245（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (1)
- 【請求項１】ディスクブレーキパッドと当接する溶射層
が形成されたディスクブレーキロータにおいて、前記溶
射層は、銅系材料を含むマトリックスと、該マトリック
ス中に酸化膜が介在されずに分散され、平均粒径１００
μｍ以下かつ偏平率７０％以下であって、該マトリック
スより硬質の塊状粒子とからなることを特徴とするディ
スクブレーキロータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3909791A JP2742632B2 (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | ディスクブレーキロータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3909791A JP2742632B2 (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | ディスクブレーキロータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04258533A JPH04258533A (ja) | 1992-09-14 |
| JP2742632B2 true JP2742632B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=12543578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3909791A Expired - Fee Related JP2742632B2 (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | ディスクブレーキロータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2742632B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102020112100A1 (de) | 2020-05-05 | 2021-11-11 | Fritz Winter Eisengiesserei Gmbh & Co. Kg | Bauteil einer Bremse für ein Fahrzeug und Verfahren zu seiner Herstellung |
-
1991
- 1991-02-08 JP JP3909791A patent/JP2742632B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04258533A (ja) | 1992-09-14 |
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