JP2741418B2 - Metal core rib, method of manufacturing the same, and plasma display panel using the metal core rib - Google Patents

Metal core rib, method of manufacturing the same, and plasma display panel using the metal core rib

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JP2741418B2
JP2741418B2 JP2025981A JP2598190A JP2741418B2 JP 2741418 B2 JP2741418 B2 JP 2741418B2 JP 2025981 A JP2025981 A JP 2025981A JP 2598190 A JP2598190 A JP 2598190A JP 2741418 B2 JP2741418 B2 JP 2741418B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は表面が誘電体で被覆されたメタルコアリブ
(有孔金属板)および該メタルコアリブを隔壁やスペー
サーとして用いるプラズマディスプレイパネルに関す
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a metal core rib (perforated metal plate) whose surface is covered with a dielectric, and a plasma display panel using the metal core rib as a partition wall or a spacer.

[従来の技術] 一般に、複数の放電セルを配置したプラズマディスプ
レイパネル(以下、PDPと略記する)においては、ACま
たはDCといった放電形式に拘らず、適切な放電ギャップ
を確保するため、または隣接セルへのクロストークを防
止するため、隔壁またはスペーサーと呼ばれる誘電体を
必要とする。
[Prior Art] Generally, in a plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP) in which a plurality of discharge cells are arranged, an appropriate discharge gap is ensured regardless of a discharge type such as AC or DC, or an adjacent cell is used. In order to prevent crosstalk, a dielectric called a partition or a spacer is required.

ところで、PDPの放電セルの配置は、その使用目的に
より決定され、例えば7セグメントの8の字表示、5×
7ドットのキャラクタ表示、640×480ドットのフルドッ
ト表示等がある。
By the way, the arrangement of the discharge cells of the PDP is determined according to the purpose of use.
There are 7-dot character display, 640 × 480 full-dot display, and the like.

第1〜5図に、これらのPDPの放電セル配置例を示
す。なお、第1〜5図において、1は前面ガラス板、3
は隔壁、4は背面ガラス板を示す。これらの図に示され
るように様々な形状・配列のセル穴を有する隔壁やスペ
ーサーが用いられる。いずれのセル配置に対しても同一
の方法で隔壁を作ることができ、現在までに様々な方法
が試みられており、例えば以下に示すようなものがあ
る。
1 to 5 show examples of the arrangement of the discharge cells of these PDPs. 1 to 5, reference numeral 1 denotes a front glass plate, 3
Denotes a partition, and 4 denotes a back glass plate. As shown in these figures, partition walls and spacers having cell holes of various shapes and arrangements are used. The partition can be formed by the same method for any cell arrangement, and various methods have been tried so far, for example, as shown below.

A法:厚膜法(スクリーン印刷の多層印刷) B法:感光性板ガラスのエッチング加工 C法:板ガラスの穴あけ加工 [発明が解決しようとする課題] このうち、A法は安価で量産性に優れた方法である
が、多数回印刷を重ねなければ充分な放電ギャップが得
られないという欠点がある。また、特にフルドット表示
PDPでは、ドットピッチの高精細度化(例えばドットピ
ッチ0.2mm)は重要な課題であるが、スクリーン印刷で
は対応が難しい。第2図に示したようなストライプ形状
では実現された例はあるが(Y.Amano:SID Int.Symp.Di
g.Tech.Paper.p.169(1982))、第1,4図に示したよう
な、放電セルを周囲から完全に取り囲むような隔壁には
特に対応が難しく、非常に高度な技術を要し実用的でな
い。
Method A: Thick film method (multilayer printing of screen printing) Method B: Etching of photosensitive plate glass Method C: Drilling of plate glass [Problems to be Solved by the Invention] Among them, Method A is inexpensive and excellent in mass productivity. However, there is a disadvantage that a sufficient discharge gap cannot be obtained unless printing is repeated many times. Also, especially full dot display
In PDPs, high definition of dot pitch (for example, 0.2 mm dot pitch) is an important issue, but screen printing is difficult to deal with. There is an example realized with the stripe shape as shown in FIG. 2 (Y. Amano: SID Int. Symp. Di).
g.Tech.Paper.p.169 (1982)), as shown in Figs. 1 and 4, it is particularly difficult to deal with partition walls that completely surround the discharge cell from the surroundings, and very advanced technology is required. And not practical.

ところで、放電セルを周囲から完全に取り囲む隔壁
(以下、完全閉鎖隔壁という)とストライプ形状のよう
に、一方向でも隣接セルとの間に隔壁が存在しない部分
がある場合(以下、不完全閉鎖隔壁という)とでは以下
のような意味で大きな違いがある。
By the way, when there is a portion where a partition does not exist between adjacent cells even in one direction, such as a partition (hereinafter, referred to as a completely closed partition) completely surrounding the discharge cell and a stripe shape (hereinafter, an incompletely closed partition). There is a big difference in the following sense.

例えば、ネオンガスの放電によるオレンジ発光色のPD
Pのように、希ガス自身の発光色を利用する場合は、そ
の発光は選択セルの電極近傍のみに制限されるため、不
完全閉鎖隔壁でも実用化されているが、マルチカラーま
たはフルカラーPDPを考える場合には、放電に伴なう紫
外線によって蛍光体を励起発光させる方法を取るため、
不完全閉鎖隔壁では紫外線が漏れることにより、隣接セ
ルの蛍光体を励起発光させてしまうことがある。すなわ
ち、クロストークまたは色滲みが避けられず、色再現性
および解像性が阻害され、ディスプレイとしての価値が
下がる結果となる。その点、A法は高精細な完全閉鎖隔
壁を作るのに不向きで、カラーPDPに対応させるには実
用的ではない。
For example, a PD that emits orange light due to the discharge of neon gas
When the emission color of the rare gas itself is used, as in P, the emission is limited only to the vicinity of the electrode of the selected cell. When thinking, in order to take the method of exciting and emitting the phosphor by ultraviolet rays accompanying the discharge,
In the imperfectly closed partition, the leakage of the ultraviolet rays may cause the phosphors in the adjacent cells to emit light by excitation. That is, crosstalk or color blur is inevitable, color reproducibility and resolution are impaired, and the value as a display is reduced. In that respect, the method A is not suitable for producing a high-definition completely closed partition wall, and is not practical for a color PDP.

B法は高精細度化への対応は比較的容易と考えられる
が、極めて特殊な感光性ガラスを材料とするため高価で
あり、経済性に劣る。また、厚さが0.1〜0.5mmという薄
いガラス板を組立てることはガラスが脆くて実用的に困
難である。
The B method is considered to be relatively easy to cope with high definition, but is expensive because of using a very special photosensitive glass as a material, and is inferior in economical efficiency. Further, it is practically difficult to assemble a thin glass plate having a thickness of 0.1 to 0.5 mm because the glass is brittle.

C法については、一般ガラスが使用できるものの、高
精細セルピッチの穴あけ加工をするのは困難であり、組
立も同様に困難である。
Regarding the method C, although general glass can be used, it is difficult to form a hole with a high-definition cell pitch, and assembling is also difficult.

従って、従来においては、PDPの高精細度化に対応で
き、かつ適切な放電空間を確保でき、さらには比較的安
価で量産的にも優れた隔壁やスペーサーは未だ見い出さ
れていない。
Therefore, in the related art, partition walls and spacers that can cope with higher definition of the PDP, secure an appropriate discharge space, and are relatively inexpensive and excellent in mass production have not been found yet.

本発明の目的は、かかる従来技術の課題に鑑みなされ
たもので、比較的安価で量産性にも優れる隔壁やスペー
サーとして用いられるメタルコアリブを提供するもので
あり、究極的には高精細度化し、かつ適切な放電空間を
確保できるPDPを提供するものである。
An object of the present invention is to provide a metal core rib used as a partition wall or a spacer which is relatively inexpensive and excellent in mass productivity in view of the problems of the related art, and ultimately has a high definition. It is intended to provide a PDP which can secure a suitable discharge space.

[課題を解決するための手段] 本発明の上記目的は、表面が誘電体で被覆されたメタ
ルコアリブをPDPの隔壁またはスペーサーに用いること
によって達成される。
[Means for Solving the Problems] The above object of the present invention is achieved by using a metal core rib, the surface of which is coated with a dielectric, as a partition or spacer of a PDP.

すなわち、本発明のPDPの隔壁またはスペーサーに用
いられるメタルコアリブは、多数の貫通孔が配列された
金属板の上下表面および孔内面が、ガラスを含む厚み1
〜100μmの誘電体で緻密に被覆された金属板であっ
て、該金属板の線熱膨張係数が80〜100×10-7/℃であ
り、該孔が配列された領域の開口率が42%以上であるこ
とを特徴とする。
That is, the metal core ribs used for the partition walls or spacers of the PDP of the present invention have a thickness of 1 mm including glass on the upper and lower surfaces and the inner surface of the metal plate on which a large number of through holes are arranged.
A metal plate densely covered with a dielectric material having a thickness of 100100 μm, a linear thermal expansion coefficient of the metal plate is 80 to 100 × 10 −7 / ° C., and an aperture ratio of a region where the holes are arranged is 42 % Or more.

以下、本発明をさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

本発明において、PDPの隔壁またはスペーサーとして
用いられ、表面が誘電体で被覆されたメタルコアリブの
基体となる基体金属としては、42重量%Ni−6重量%Cr
−Fe合金、50重量%Ni−Fe合金等が挙げられる。これら
の金属板の肉厚は0.05〜1.0mm程度のものが好ましく使
用できる。
In the present invention, the base metal used as a partition or spacer of the PDP and serving as a base of a metal core rib whose surface is coated with a dielectric material is 42 wt% Ni-6 wt% Cr
-Fe alloy, 50% by weight Ni-Fe alloy, and the like. The thickness of these metal plates is preferably about 0.05 to 1.0 mm.

ところで、隔壁やスペーサーは2枚のガラス板に挟ま
れて内部にガスを封入するため周囲を封止ガラスでシー
ルされる。従って、隔壁(スペーサー)、2枚のガラス
板、封止ガラスの各々の線熱膨張係数は概略同一または
近似していなければならない。さもなければシール以後
の冷却過程においてガラスに応力が過大にかかり破損に
至るのである。
By the way, the partition wall and the spacer are sandwiched between two glass plates, and the periphery thereof is sealed with sealing glass in order to enclose gas therein. Therefore, the linear thermal expansion coefficients of the partition wall (spacer), the two glass plates, and the sealing glass must be substantially the same or similar. Otherwise, during the cooling process after sealing, the glass will be over-stressed and will break.

一般に2枚のガラス板はソーダ石灰ガラスが汎用され
るので、本発明のメタルコアリブの線熱膨張係数は、こ
れに合わせて80〜100(×10-7/℃)である。従って、上
記のように42重量%Ni−6重量%Cr−Fe合金等の基体金
属が用いられる。もちろん使用するガラス部材の線熱膨
張係数が前記と異なるものを使用する場合は、これに合
わせて隔壁の材料を選定すれば良い。
In general, soda-lime glass is generally used for the two glass plates. Therefore, the linear thermal expansion coefficient of the metal core rib of the present invention is 80 to 100 (× 10 −7 / ° C.) in accordance with this. Therefore, as described above, a base metal such as a 42 wt% Ni-6 wt% Cr-Fe alloy is used. Of course, when using a glass member having a different linear thermal expansion coefficient from that described above, the material of the partition may be selected according to this.

上記金属板に所定の穴を開ける方法としては、プレス
による打ち抜き加工法、レーザー加工法、エッチング法
等が使用できる。加工歪、加工精度、加工コスト等を考
慮して一番有利な加工法を用いれば良いが、一般的には
エッチング法が好ましく用いられる。
As a method for forming a predetermined hole in the metal plate, a punching method using a press, a laser processing method, an etching method, or the like can be used. The most advantageous processing method may be used in consideration of processing distortion, processing accuracy, processing cost, and the like, but generally, an etching method is preferably used.

メタルコアリブの抜き穴形状・配列は任意であり、例
えば第1〜5図に示される格子形状、ライン形状、円
形、デルタ形式、7セグメント形式等が例示されるが、
本発明では第1,4図に示される高精細な完全閉鎖隔壁と
なるような形状が好ましく、特に第1図に示される格子
形状が好ましい。
The shapes and arrangements of the punched holes of the metal core ribs are arbitrary, and examples thereof include a lattice shape, a line shape, a circle, a delta type, and a seven-segment type shown in FIGS.
In the present invention, the shape which becomes a high-definition completely closed partition shown in FIGS. 1 and 4 is preferable, and the lattice shape shown in FIG. 1 is particularly preferable.

本発明のメタルコアリブは、その表面に1〜100μm
の誘電体が被着されている。
The metal core rib of the present invention has a surface of 1 to 100 μm
Of dielectric material is applied.

ここに用いられる誘電体はガラスを含むものである。
更に詳しくは一般的にはガラス、またはガラスを含んだ
結晶性無機物が汎用される。
The dielectric used here includes glass.
More specifically, glass or a crystalline inorganic material containing glass is generally used.

具体的なガラス組成を例に挙げると、PbO−B2O3−SiO
2,PbO−B2O3,ZnO−B2O3−SiO2等が好適である。これら
ガラスの軟化点は350〜1000℃、ガラスの粒度は1〜5
μm程度がそれぞれ好ましい。このガラスは、PDPのシ
ール工程において、封止ガラスフリットが軟化溶融する
温度(封着温度)まで昇温される。普通ガラスフリット
の封着温度は軟化点より50℃程度高く、またPDPの封着
温度としては400〜450℃程度が適当であり、従って、誘
電体材料中に含まれるガラスの軟化点は350℃以上であ
ることが望ましい。また、軟化点の上限は基体金属が変
形しないこと、基体金属と誘電体が化学反応を起こさな
いことを条件に決められ、その温度は1000℃以下である
ことが望ましい。
Taking specific glass composition in examples, PbO-B 2 O 3 -SiO
2, PbO-B 2 O 3 , ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 and the like. The softening point of these glasses is 350-1000 ° C, and the particle size of the glass is 1-5.
Each is preferably about μm. This glass is heated to a temperature at which the sealing glass frit softens and melts (sealing temperature) in the sealing process of the PDP. The sealing temperature of ordinary glass frit is about 50 ° C. higher than the softening point, and the sealing temperature of PDP is about 400 to 450 ° C., therefore, the softening point of glass contained in the dielectric material is 350 ° C. It is desirable that this is the case. The upper limit of the softening point is determined on the condition that the base metal does not deform and the base metal and the dielectric do not cause a chemical reaction, and the temperature is desirably 1000 ° C. or lower.

また、結晶無機物としては、アルミナ(Al2O3)、フ
ォルステライト(2MgO−SiO2)等のセラミックスが使用
され、さらに、無機顔料(FeO−Cr2O3,CoO−Al2O3等)
も使用可能である。この結晶性無機物の粒度としては1
〜5μm程度が好ましい。
Ceramics such as alumina (Al 2 O 3 ) and forsterite (2MgO—SiO 2 ) are used as crystalline inorganic substances, and inorganic pigments (FeO—Cr 2 O 3 , CoO—Al 2 O 3, etc.)
Can also be used. The particle size of this crystalline inorganic substance is 1
About 5 μm is preferable.

また、有機物についても最終的に無機化できるのであ
ればいずれも使用できる。
Any organic substance can be used as long as it can be finally mineralized.

このような材料からなる誘電体を被着させるのは、PD
Pの隔壁はマトリックス状に並んだ各々の放電セルを独
立分離させる役割をなすため、放電空間に露出している
隔壁表面の特性が重要となるからである。つまり、誘電
体を被着していない基体金属のみでは、隣接セル間で電
気的な短絡が起こり隔壁としての意味をなさないからで
ある。
Depositing a dielectric made of such a material is performed by PD
This is because the characteristics of the surface of the partition wall exposed to the discharge space are important because the partition walls of P play a role of independently separating the discharge cells arranged in a matrix. That is, if only the base metal without the dielectric is applied, an electric short circuit occurs between the adjacent cells and does not serve as a partition.

また、誘電体は放電空間中で使用して、変質変形が起
きない、放電ガス空間を汚さない、基体金属を放電空間
に晒すような隙間がなく基体金属との密着性がよいこと
が各々必要である。また一般的パネル封止方法(封止ガ
ラスによってシールする)ではその封止温度に耐え、線
熱膨張係数が2枚のガラス板、封止ガラス、基体金属と
概略同じでなければならない。
In addition, it is necessary that the dielectric is used in the discharge space, does not cause alteration and deformation, does not contaminate the discharge gas space, and has good adhesion to the base metal without any gap for exposing the base metal to the discharge space. It is. Further, in a general panel sealing method (sealing with sealing glass), it must withstand the sealing temperature and have a coefficient of linear thermal expansion substantially equal to that of two glass plates, sealing glass, and base metal.

このような観点から上記のような材料が適宜選択され
る。
From such a viewpoint, the above materials are appropriately selected.

さらに、本発明におけるメタルコアリブ表面への誘電
体の皮膜の形成方法は、次に示す方法のうち少なくとも
1種以上が使用できる。
Further, as a method for forming a dielectric film on the metal core rib surface in the present invention, at least one or more of the following methods can be used.

すなわち、(1)誘電体粉末を融解させた液体、もし
くは誘電体粉末を水または有機溶剤に溶解または分散さ
せた液体に浸漬するディッピング法、(2)上記液体を
スプレー状に塗布するスプレー法、(3)基体金属を適
切な雰囲気中で焼成酸化し、表面に金属酸化膜を形成さ
せる焼成酸化法、(4)基体金属を陽極として適切な電
解液中で金属表面上に酸化物被膜を作る陽極酸化法、
(5)高圧静電気を利用した静電塗布法、および(6)
誘電体粉末を液体中に分散させることで、誘電体粒子は
正または負のいずれかに帯電することを利用し、基体金
属を陰極または陽極として、帯電粒子(誘電体粒子)を
金属表面上に引きつけ、析出させる電着法がある。
That is, (1) a dipping method in which a dielectric powder is melted or a liquid in which the dielectric powder is dissolved or dispersed in water or an organic solvent, (2) a spray method in which the liquid is applied in a spray form, (3) firing oxidation method in which a base metal is fired and oxidized in an appropriate atmosphere to form a metal oxide film on the surface; and (4) oxide film is formed on the metal surface in a suitable electrolyte using the base metal as an anode. Anodizing method,
(5) an electrostatic coating method using high-voltage static electricity, and (6)
By dispersing the dielectric powder in a liquid, the dielectric particles are charged either positively or negatively. Using the base metal as the cathode or anode, the charged particles (dielectric particles) are placed on the metal surface. There is an electrodeposition method of attracting and depositing.

この中で被膜の均一性、形成厚み、形成条件の管理の
し易さ、基体金属に及ぼす影響等を考慮して一番有利な
方法を用いればよいが、電着法を利用するのが最も良
い。
Among these, the most advantageous method may be used in consideration of the uniformity of the coating, the formed thickness, the ease of controlling the forming conditions, the influence on the base metal, and the like, but the electrodeposition method is most used. good.

この電着法では、析出膜の厚みは非常に均一性に富
み、100μm程度の析出が可能でかつ膜厚コントロール
も容易で短時間に析出させることができる。また誘電体
を2種以上、共析出させその混合割合も任意に選べると
いう利点もある。
According to this electrodeposition method, the thickness of the deposited film is very uniform, a thickness of about 100 μm can be deposited, the thickness can be easily controlled, and the deposited film can be deposited in a short time. Another advantage is that two or more dielectrics can be co-precipitated and the mixing ratio can be arbitrarily selected.

このように、メタルコアリブの表面に誘電体を電着し
た後、所定の温度で焼成する。焼成時の雰囲気について
は、使用する有機バインダーの性質も考慮して、大気
中、不活性ガス中、真空中(減圧中)等の条件で可能で
あるが、設備コストの点で、大気中焼成が好ましい。
After electrodeposition of the dielectric material on the surface of the metal core rib, firing is performed at a predetermined temperature. The atmosphere at the time of firing can be set in the air, in an inert gas, in a vacuum (under reduced pressure), etc. in consideration of the properties of the organic binder used. Is preferred.

本発明の表面が誘電体で被覆されたメタルコアリブを
隔壁として2枚の板ガラスにそのまま挟んでパネルを形
成した場合、格子に囲まれる各セル間には、全く隙間が
なくガスが全セルに行き渡らない結果となる。そこで上
記メタルコアリブ(隔壁)の片面または両面に、あるい
は2枚の板ガラスのうち少なくとも1枚に、溝を形成し
てガス導入孔を形成する必要がある。または、隔壁と2
枚の板ガラスとの間に、僅かな隙間を持たせるようにス
ペーサーを入れてガス導入孔を確保することもできる。
When the panel of the present invention is formed by sandwiching a metal core rib whose surface is coated with a dielectric material as a partition wall between two sheets of glass as it is, there is no gap between the cells surrounded by the grid and gas spreads to all cells. No result. Therefore, it is necessary to form a groove on one or both surfaces of the metal core rib (partition wall), or on at least one of the two glass sheets to form a gas introduction hole. Or a partition and 2
It is also possible to secure a gas introduction hole by inserting a spacer so as to have a slight gap between the sheet glasses.

[作用] 本発明は、微細な格子状等の誘電体を形成するにあた
り、それに適合する誘電体(ガラスまたは、ガラスを含
む無機材料等)単独では、加工性および組立加工性が悪
いという欠点を鑑み、加工性および組立加工性に優れる
金属材料と誘電体を複合させることにより、所望の材料
を提供するものである。
[Operation] The present invention has a disadvantage that, when forming a fine lattice-like dielectric or the like, a dielectric (glass or an inorganic material containing glass or the like) alone is inferior in workability and assembly workability. In view of the above, a desired material is provided by combining a dielectric material with a metal material having excellent workability and assembly workability.

従って、抜き穴サイズ、形状または配列ピッチといっ
た形状に関する制約は、基体金属の加工精度に依るとこ
ろが大きく通常のドットマトリックス表示を行なうPDP
で求められるドットサイズおよびドットピッチを形成す
るのに十分満足できる精度を有している。また基体が金
属であることから本発明の表面が誘電体で被覆されたメ
タルコアリブは肉薄のガラス板にみられるような脆さは
なく、柔軟性も有し組立加工性にも優れている。
Therefore, restrictions on the shape, such as the hole size, shape, or array pitch, largely depend on the processing accuracy of the base metal.
Has sufficient accuracy to form the dot size and dot pitch required in the above. Further, since the base is made of metal, the metal core rib of the present invention whose surface is coated with a dielectric does not have the brittleness seen in a thin glass plate, has flexibility, and is excellent in assembling workability.

[実施例] 以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

実施例1 基体となる金属板として、線熱膨張係数が92(×10-7
/℃)である42重量%Ni−6重量%Cr−Fe合金を使用し
た。金属板厚みは0.1mm、形成ドットピッチは縦横共0.2
mm、抜き穴サイズは0.15×0.15mmとし、エッチング加工
により、多数の抜き穴を形成し、格子状のメタルコアリ
ブとした。
Example 1 As a metal plate serving as a base, a coefficient of linear thermal expansion was 92 (× 10 −7).
/ ° C) of 42 wt% Ni-6 wt% Cr-Fe alloy. Metal plate thickness is 0.1mm, dot pitch is 0.2 for both vertical and horizontal
mm, the hole size was 0.15 × 0.15 mm, and a large number of holes were formed by etching to form a lattice-shaped metal core rib.

誘電体材料としては、軟化点600℃、平均粒径2〜3
μmのZnO−B2O3−SiO2系ガラス粉末およびAl2O3、FeO
・Cr2O3等の無機フィラーを使用した。誘電体の被着は
第1表に示すような組成の電着液中にて、格子状のメタ
ルコアリブを陰極とし、これと同じ材質、同程度の面積
の金属板を陽極として電着をした。使用電圧は直流200
ボルト一定とした。
As the dielectric material, a softening point of 600 ° C. and an average particle diameter of 2-3
ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 based glass powder and Al 2 O 3 of [mu] m, FeO
· Cr 2 using an inorganic filler O 3 or the like. The dielectric was deposited in an electrodeposition solution having a composition as shown in Table 1 using a grid-shaped metal core rib as a cathode and a metal plate of the same material and the same area as an anode as an anode. . Working voltage is DC 200
The bolt was fixed.

この結果、電着状態や電着層強度も極めて良好であっ
た。
As a result, the electrodeposition state and the electrodeposition layer strength were also very good.

このサンプルを大気中にてガラス粉末の軟化点600℃
より高い温度で焼成し、誘電体層を緻密な膜に仕立て上
げて、表面が誘電体で被覆された所望の格子状のメタル
コアリブが得られた。
This sample is softened at 600 ° C in glass atmosphere
By firing at a higher temperature, the dielectric layer was made into a dense film, and a desired lattice-shaped metal core rib whose surface was covered with a dielectric was obtained.

次に、この表面が誘電体で被覆された格子状のメタル
コアリブを隔壁に用いたDC−PDPを下記に示す通り作成
した。
Next, a DC-PDP using the grid-shaped metal core ribs whose surfaces were covered with a dielectric as a partition was prepared as shown below.

すなわち、第6〜9図に示すように、隔壁3として表
面が誘電体で被覆された格子状のメタルコアリブ、スペ
ーサー2として隔壁3より30μm程度厚いガラスを用い
た。この隔壁3とスペーサー2を、予め電極の形成して
ある2枚の前面ガラス板1と背面ガラス板4の間に挟ん
で周囲を封止ガラス5でシールしてX−Yマトリックス
のDC−PDPを形成した。
That is, as shown in FIGS. 6 to 9, grid-like metal core ribs whose surfaces are covered with a dielectric were used as the partition walls 3, and glass about 30 μm thicker than the partition walls 3 was used as the spacer 2. The partition wall 3 and the spacer 2 are sandwiched between two front glass plates 1 and rear glass plates 4 on which electrodes are formed in advance, and the periphery thereof is sealed with a sealing glass 5 to form an XY matrix DC-PDP. Was formed.

このDC−PDPの封止状況は良好で、応力歪による破損
等の問題は発生しなかった。この時、スペーサーはPDP
の表示領域外に位置し、隔壁のある表示領域においては
常に30μm程度のガス導入空間が存在し、管内排気およ
びガス封入が、表示領域全域に渡って確実に行なえた。
The sealing condition of this DC-PDP was good, and no problems such as breakage due to stress strain occurred. At this time, the spacer is PDP
In the display area having the partition walls, a gas introduction space of about 30 μm was always present, and the exhaust and gas filling in the tube could be reliably performed over the entire display area.

実施例2〜7 実施例1と同様の格子状のメタルコアリブを用い、第
1表に示すような組成の電着液中にて、同様の電着条件
にて電着を行なった。
Examples 2 to 7 Using the same grid-shaped metal core ribs as in Example 1, electrodeposition was performed in an electrodeposition solution having a composition shown in Table 1 under the same electrodeposition conditions.

この結果、電着時間はいずれも5分間で第1表に示す
ような厚みの電着層が得られた。また、電着状態はいず
れも良好であったが、実施例7は電着液に有機バインダ
ーを添加していないために、電着層強度は弱く、電着層
剥れが生じ易く、このような場合には取扱いに注意が必
要である。
As a result, the electrodeposition time was 5 minutes in each case, and an electrodeposited layer having a thickness as shown in Table 1 was obtained. In addition, the electrodeposition state was good in all cases, but in Example 7, since the organic binder was not added to the electrodeposition solution, the electrodeposition layer strength was weak, and the electrodeposition layer was easily peeled off. In such cases, care must be taken in handling.

これらのサンプルを大気中にてガラス粉末の軟化点60
0℃より高い温度で焼成し、誘電体層を緻密な膜に仕立
て上げて、所望の表面が誘電体で被覆された格子状のメ
タルコアリブが得られた。
These samples were subjected to a softening point of 60
By firing at a temperature higher than 0 ° C., the dielectric layer was made into a dense film, and a lattice-shaped metal core rib having a desired surface covered with a dielectric was obtained.

次に、この格子状のメタルコアリブを隔壁として実施
例1と同様にDC−PDPを作成したところ、封止状況は良
好で、管内排気およびガス封入も良好に行なうことがで
きた。
Next, when a DC-PDP was prepared in the same manner as in Example 1 using the lattice-shaped metal core ribs as the partition walls, the sealing condition was good, and the in-pipe exhaust and gas sealing could be performed well.

比較例1 実施例1で示したDC−PDPの隔壁を厚膜印刷で形成し
た。
Comparative Example 1 The partition walls of the DC-PDP shown in Example 1 were formed by thick film printing.

まず、形成ドットピッチ1.0mm、抜き穴サイズ0.8×0.
8mmの隔壁を作成した。8回におよぶ重ね印刷で隔壁の
高さは0.15mmに形成できた。
First, the formed dot pitch is 1.0mm, and the hole size is 0.8 × 0.
An 8 mm partition was made. The height of the partition walls could be formed to be 0.15 mm by eight times of overprinting.

次に、実施例1で示したものと同一精度のドットピッ
チ0.2mm、抜き穴サイズ0.15×0.15mmの隔壁を作成しよ
うとした。1.0mmピッチでは、ほとんど無視できた微妙
なアライメントのずれ、または印刷ペーストのだれ等が
無視できず、製造は技術的に困難であり、歩留まり率は
実施例1に比してはるかに悪かった。また良好に製造で
きたものについても、上記のような理由で十分なセル開
口率が得られなかった。その一例を示すと、0.2mmピッ
チに対して抜き穴サイズは0.1×0.1mmで開口率は25%で
あった。上記した実施例1では被着誘電体層が10μmな
ので、抜き穴サイズは0.13×0.13mmで開口率は42%とな
り、明らかに実施例1が有利であった。
Next, an attempt was made to form a partition having a dot pitch of 0.2 mm and a hole size of 0.15 × 0.15 mm with the same precision as that shown in Example 1. At a pitch of 1.0 mm, subtle misalignment that could be almost ignored or dripping of the printing paste could not be ignored, manufacturing was technically difficult, and the yield was much worse than in Example 1. In addition, a well-manufactured product could not obtain a sufficient cell opening ratio for the above-described reason. As an example, the hole size was 0.1 × 0.1 mm and the aperture ratio was 25% with respect to the pitch of 0.2 mm. In Example 1 described above, since the deposited dielectric layer was 10 μm, the hole size was 0.13 × 0.13 mm and the aperture ratio was 42%. Thus, Example 1 was clearly advantageous.

比較例2 実施例1で示したDC−PDPの隔壁を感光性板ガラスの
エッチング加工により作成した。しかし、この材料は前
記のように価格的に極めて高価であり、かつ薄い板ガラ
スであるゆえ非常に脆く、組立加工性の点でも実施例1
より劣っていた。
Comparative Example 2 The partition wall of the DC-PDP shown in Example 1 was formed by etching a photosensitive plate glass. However, as described above, this material is extremely expensive in terms of price, and is very brittle because it is a thin sheet glass.
Was worse.

比較例3 一般のソーダ石灰ガラス等に穴あけ加工をして、比較
例2のようなDC−PDPの隔壁を作成した。しかし、この
方法で0.2mm程度の高精細なピッチの多数の穴あけ加工
をするのでは、比較例2と比べて寸法精度はかなり低下
する。また、薄板ガラスの脆さから考えて、加工性、組
立加工性の点で比較例2より劣り、従って実施例1より
かなり劣っていた。
Comparative Example 3 A common soda-lime glass or the like was perforated to form a DC-PDP partition as in Comparative Example 2. However, when a large number of holes are drilled with a fine pitch of about 0.2 mm by this method, the dimensional accuracy is considerably reduced as compared with Comparative Example 2. Also, considering the brittleness of the thin glass, the workability and the assembly workability were inferior to Comparative Example 2 and therefore considerably inferior to Example 1.

比較例4 基体として用いた誘電体が被覆されていないメタルコ
アリブを単独で隔壁としてそのまま使用した。その結
果、陽極−陰極間で電気的短絡が起こり点灯しなかった
り、場合によっては陽極同士のみあるいは陰極同士のみ
が短絡して非選択セルが発光するという不都合が生じ、
PDPの隔壁として意味をなさなかった。
Comparative Example 4 A metal core rib used as a substrate and not covered with a dielectric was used alone as a partition. As a result, an electric short circuit occurs between the anode and the cathode and the lamp does not light up, or in some cases, only the anodes or only the cathodes are short-circuited, causing a disadvantage that an unselected cell emits light,
It didn't make sense as a PDP bulkhead.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明の表面が誘電体で被覆さ
れたメタルコアリブをPDPの隔壁やスペーサーに用いる
ことによって、高精細なセルピッチに対応でき、かつク
ロストーク特性に優れ、しかも適切な放電空間を確保で
きる。
[Effects of the Invention] As described above, by using the metal core ribs whose surfaces are coated with a dielectric material for the partition walls and spacers of the PDP, it is possible to cope with a high-definition cell pitch and to have excellent crosstalk characteristics. Moreover, an appropriate discharge space can be secured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、X−Yマトリトックス配列における格子形状
隔壁を使用したPDPの一例、 第2図は、X−Yマトリトックス配列におけるライン形
状隔壁を使用したPDPの一例、 第3図は、X−Yマトリックス配列における円形隔壁を
使用したPDPの一例、 第4図は、デルタ配列の隔壁を使用したPDPの一例、 第5図は、7セグメント形式の隔壁を使用したPDPの一
例、 第6図は、PDPの構成部品とその組立途中図、 第7図は、PDP組立後の平面図、 第8図は、第7図のA−A′断面がセル空間を切る場合
の垂直断面図、そして、 第9図は、第7図のA−A′断面が隔壁を切る場合の垂
直断面図。 1:前面ガラス板、2:スペーサー、 3:隔壁(表面が誘電体で被覆されたメタルコアリブ)、 4:背面ガラス板、5:封止ガラス。
FIG. 1 is an example of a PDP using lattice-shaped partitions in an XY matrix matrix, FIG. 2 is an example of a PDP using line-shaped partitions in an XY matrix matrix, FIG. FIG. 4 shows an example of a PDP using a delta-arranged partition wall, FIG. 5 shows an example of a PDP using a 7-segment type partition wall, FIG. Is a PDP component part and its assembly process, FIG. 7 is a plan view after assembling the PDP, FIG. 8 is a vertical sectional view when the AA ′ section of FIG. 7 cuts through the cell space, and Fig. 9 is a vertical cross-sectional view when the AA 'cross section of Fig. 7 cuts a partition wall. 1: front glass plate, 2: spacer, 3: partition wall (metal core rib whose surface is covered with a dielectric), 4: rear glass plate, 5: sealing glass.

フロントページの続き (72)発明者 横井 達政 愛知県海部郡八開村大字鵜多須字中道74 番地 (72)発明者 浅井 秀之 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字中池5 (56)参考文献 特開 昭55−143754(JP,A) 特開 昭60−103050(JP,A) 特開 平1−120731(JP,A) 特公 昭45−18618(JP,B1)Continued on the front page (72) Inventor Tatsumasa Yokoi 74, Nakamichi, Utasu-zai, Hachikai-mura, Kaifu-gun, Aichi Prefecture (72) Inventor Hideyuki Asai 5 Nakaike, Nagakute-cho, Nagakute-cho, Aichi-gun, Aichi Prefecture 5 (56) References JP-A-55-143754 (JP, A) JP-A-60-103050 (JP, A) JP-A-1-120731 (JP, A) JP-B-45-18618 (JP, B1)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】多数の貫通孔が配列された金属板の上下表
面および孔内面が、ガラスを含む厚み1〜100μmの誘
電体で緻密に被覆された金属板であって、該金属板の線
熱膨張係数が80〜100×10-7/℃であり、該孔が配列され
た領域の開口率が42%以上であることを特徴とする隔壁
あるいはスペーサー用メタルコアリブ。
An upper and lower surface and an inner surface of a metal plate on which a large number of through holes are arranged are densely covered with a dielectric material containing glass and having a thickness of 1 to 100 μm. A metal core rib for a partition or a spacer, wherein a coefficient of thermal expansion is 80 to 100 × 10 −7 / ° C., and an aperture ratio of a region where the holes are arranged is 42% or more.
【請求項2】請求項1に記載のメタルコアリブを隔壁ま
たはスペーサーとして用いるプラズマディスプレイパネ
ル。
2. A plasma display panel using the metal core rib according to claim 1 as a partition or a spacer.
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