KR930004994B1 - Plasma display paneled of manufacturing - Google Patents

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KR930004994B1
KR930004994B1 KR1019900016534A KR900016534A KR930004994B1 KR 930004994 B1 KR930004994 B1 KR 930004994B1 KR 1019900016534 A KR1019900016534 A KR 1019900016534A KR 900016534 A KR900016534 A KR 900016534A KR 930004994 B1 KR930004994 B1 KR 930004994B1
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히데유끼 아사이
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가부시기가이샤 노리다께컴퍼니리미티드
사에끼 스스무
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Abstract

내용 없음.No content.

Description

플라즈마 디스플레이패널 및 그 제조방법 그리고 격벽Plasma Display Panel, Manufacturing Method And Bulkhead

제1도는 X-Y매트릭스배열에 있어서의 격자형상 격벽을 사용한 PDP의 일예를 도시하는 도면.1 is a diagram showing an example of a PDP using lattice-shaped partition walls in an X-Y matrix array.

제2도는 X-Y매트릭스배열에 있어서의 스트라이프형상 격벽을 사용한 PDP의 일예를 도시하는 도면.2 is a diagram showing an example of a PDP using a stripe-shaped partition wall in an X-Y matrix array.

제3도는 X-Y매트릭스배열에 있어서의 원형격벽을 사용한 PDP의 일예를 도시하는 도면.3 is a diagram showing an example of a PDP using a circular partition in an X-Y matrix array.

제4도는 델터배열의 격벽을 사용한 PDP의 일예를 도시하는 도면.4 is a diagram showing an example of a PDP using a partition of a delta array.

제5도는 7세그먼트형식의 격벽을 사용한 PDP의 일예를 도시하는 도면.5 is a diagram showing an example of a PDP using a seven-segment partition.

제6도는 본 발명의 일예인 DC형 PDP의 구성부품과 그 조립도중도.6 is a view showing the components of a DC-type PDP as an example of the present invention and assembly thereof.

제7도는 본 발명의 다른예인 DC형 PDP의 구성부품과 그 조립도증도.7 is a constituent part of a DC-type PDP which is another example of the present invention, and an assembly diagram thereof.

제8도는 PDP조립후의 평면도.8 is a plan view after PDP assembly.

제9도는 제8도의 A-A′선 단면이 셀공간을 자를 경우의 수직단면도.FIG. 9 is a vertical sectional view when the section A-A 'of FIG. 8 cuts the cell space. FIG.

제10도는 제8도의 A-A′선 단면이 격벽을 자를 경우의 수직단면도.FIG. 10 is a vertical sectional view when the section A-A 'of FIG. 8 cuts a partition.

제11도는 본 발명의 또다른 예인 DC형 PDP의 구성부품과 조립도.11 is a component and assembly diagram of a DC-type PDP as another example of the present invention.

제12도는 제11도의 PDP의 1셀의 구조단면도.12 is a structural sectional view of one cell of the PDP of FIG.

제13도는 본 발명의 또다른 예인 DC형 PDP의 구성부재와 조립도.13 is a view illustrating the assembly and the construction of a DC-type PDP as another example of the present invention.

제14도는 제13도의 PDP의 양극방향에 따른 셀단면도.FIG. 14 is a cross-sectional view of the cell along the anode direction of the PDP of FIG. 13;

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 전면유리판 2 : 절연층(유전체층)1: Front glass plate 2: Insulation layer (dielectric layer)

3 : 격벽 4 : 격자형상격벽3: bulkhead 4: grid-shaped bulkhead

5 : 배면유리판 6 : 양극5: back glass plate 6: anode

7 : 음극 8 : 스페이서7: cathode 8: spacer

9 : 시일유리(봉지유리) 10 : 스트라이프형상의 유전체9: seal glass (sealing glass) 10: stripe dielectric

11 : 형광체 12 : 제3전극군(음극)11: phosphor 12: third electrode group (cathode)

13 : 제2전극군(양극) 14 : 제1전극(트리커전극)13: 2nd electrode group (anode) 14: 1st electrode (triker electrode)

본 발명은 유공금속판을 격벽이나 스페이서로서 사용한 플라즈마 디스플레이패널 및 그 제조방법 그리고 격벽에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel using a porous metal plate as a partition and a spacer, a method of manufacturing the same, and a partition.

최근의 플라즈마 디스플레이패널(이하 PDP라고 함)에 있어서는, 패널을 플랫형으로 하기 위하여, 2매의 기판을 적당한 간격을 두어 포개고, 주위를 봉지유리로 밀봉한 외위기(外器)를 구성하고, 가스를 봉입하는 타입의 주류이다. 2매의 기판중 전면은 유리판이 필요하고, 또 하나의 배면판도 값이 싸므로, 동일종류의 유리판이 사용된다. 따라서, 이하 이와같은 타입의 PDP에 대해서 설명한다.In recent plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs), in order to flatten the panel, two substrates are stacked at appropriate intervals, and the envelope is sealed with a sealing glass. It is a type of liquor that consists of gas and sealed gas. Since the front surface of two board | substrates requires a glass plate, and another back plate also is inexpensive, the same kind of glass plate is used. Therefore, a description will be given of such a type of PDP.

PDP의 제조에 있어서는, 가스봉입에 앞서서, 배기를 행하나, 이때 외위기 안밖의 압력차는 최대에 달한다. 이 압력차에 의해 2매의 유리기체(基體)는 변형한다. 외위기내의 흡착가스를 방출시키기 위하여 가열하므로 이 변형은 보다 커진다. 이 변형을 무시할 수 있는 정도로 억제하는데는 유리판의 두께를 크게 하든가, 패널을 작게할 필요가 있다. 2매의 유리판 사이에 스페이서를 형성하면 이와같은 제약은 없어지므로, 대형의 표시패널에는 스페이서는 불가결한 것이다.In the production of the PDP, the gas is exhausted prior to gas encapsulation, but at this time, the pressure difference inside and outside the envelope reaches a maximum. Due to this pressure difference, two glass substrates deform. This deformation is larger because it is heated to release the adsorbed gas in the envelope. In order to suppress this deformation to a negligible extent, it is necessary to enlarge the thickness of a glass plate or to make a panel small. If the spacer is formed between two glass plates, such a restriction is eliminated. Therefore, the spacer is indispensable for a large display panel.

또 일반적으로 복수개의 방전셀을 배치한 PDP에 있어서는, AC형 또는 DC형이라는 방전형식에 불과하고, 적절한 방전갭을 확보하기 위하여 또는 인접셀에의 크로스토오크를 방지하기 위하여, 격벽(隔璧) 또는 스페이서를 필요로 한다.In general, in a PDP in which a plurality of discharge cells are arranged, only a discharge type of AC type or DC type is used. In order to secure an appropriate discharge gap or to prevent crosstalk to adjacent cells, a partition wall is used. Or a spacer is required.

그런데, PDP의 방전셀의 배치는 그 사용목적에 의해 결정되고, 예를들면 7세그먼트의 8의 글자표시, 5×7도트의 문자표시, 640×480도트의 풀도트표시등이 있다.By the way, the arrangement of the discharge cells of the PDP is determined depending on the purpose of use, and there are, for example, 8 character display of 7 segments, 5 x 7 dot character display, and 640 x 480 dot full dot display.

제1∼5도에 이들의 PDP의 방전셀 배치예를 표시한다. 또한, 제1∼5도에 있어서 (1)은 전면유리판, (3)은 격벽, (5)는 배면유리판, (6)은 양극, (7)은 음극을 각각 표시한다. 이들 도면에 표시된 바와같이 여러가지의 형상, 배열의 셀구멍을 가진 격벽이나 스페이서(이하, 경우에 따라서 격벽이라고 총칭한다)가 사용된다. 어느 셀배치에 대해서도 동일한 방법으로 격벽을 만들 수 있고, 현재까지 여러가지 방법이 시도되어 있고, 예를들면 이하에 표시한 바와같은 것이 있다.1 to 5 show examples of discharge cell arrangement of these PDPs. In Figs. 1 to 5, (1) denotes a front glass plate, (3) a partition wall, (5) a rear glass plate, (6) an anode, and (7) a cathode. As shown in these figures, barrier ribs and spacers having various shapes and arrangements of cell holes (hereinafter, collectively referred to as barriers in some cases) are used. In any cell arrangement, a partition wall can be formed by the same method, and various methods have been tried up to now, for example, as shown below.

A법 : 후막법(스크리인 인쇄의 다층인쇄)Method A: Thick film method (multi-layer printing of screen printing)

B법 : 감광성 판유리의 에칭가공Method B: Etching of Photosensitive Plate Glass

C법 : 판유리의 기계가공Method C: Machining of Plate Glass

이중에서, A법은 값이 싸고 양산성에 뛰어난 방법이나, 다수회 인쇄를 거듭하지 않으면, 충분한 방전갭을 얻을 수 없다는 결점이 있다. 또, 특히 풀도트 표시 PDP에서는 도트피치의 고정밀세밀도화(예를들면 도트피치 0.2mm)는 중요과제이나, 스크리인 인쇄에서는 대응이 어렵다. 제2도에 표시한 바와같은 스트라이프 형상에서는 실현된 예가 있으나, (Y.Amano : SID Int Symp. Dig.Tech.Paper.p.160(1982)), 제1, 4도에 표시한 바와같은 방전셀을 주위로부터 완전히 둘러싸는 것 같은 격벽에는 특히 대응이 어렵고, 대단히 고도한 기술을 요하며 실용적이 아니다.Among them, the method A is inexpensive and excellent in mass productivity, but there is a drawback that a sufficient discharge gap cannot be obtained without repeated printing a plurality of times. In particular, in the full-dot display PDP, the high precision of the dot pitch (for example, the dot pitch of 0.2 mm) is an important task, but it is difficult to cope with screen printing. In the stripe shape as shown in Fig. 2, there is an example realized (Y.Amano: SID Int Symp.Dig.Tech.Paper.p.160 (1982)), and the discharge as shown in Figs. Bulkheads, such as those that completely enclose a cell from the surroundings, are particularly difficult to respond, require very advanced techniques and are not practical.

상기한 바와같이 방전셀을 주위로부터 완전히 둘러싼 격벽(이하, 완전폐쇄 격벽이라고 한다)과, 스트라이프형상과 같이, 한방향이라도 인접셀과의 사이에 격벽이 존재하지 않는 부분이 있는 경우(이하, 불완전폐쇄 격벽이라고 한다)에서는 이하와 같은 의미에 있어서, 큰 차이가 있다.As described above, when there is a partition that completely surrounds the discharge cell from the surroundings (hereinafter, referred to as a completely closed partition) and a stripe-shaped portion where there is no partition between adjacent cells even in one direction (hereinafter, incomplete closure). In the following meaning, there is a big difference in the partition wall.

예를들면 네온가스의 방전에 의한 오렌지발광색의 PDP와 같이 희(希) 가스자신의 발광색을 이용하는 경우는 그 발광은 선택셀의 전극근방만에 제한되기 때문에, 불완전폐쇄격으로도 실용화 되고 있다. 그러나, 발광셀 간격이 작아지면 인접셀이 오(誤) 방전을 일으키기 쉬워진다. 또, 멀티칼라 또는 풀칼라 PDP를 생각하는 경우에는, 방전에 수반한 자외선에 의해서 형광체를 여기(勵起)발광시키는 방법을 취하기 때문에, 불완전폐쇄 격벽으로는 자외선이 새므로서, 인접셀의 형광체를 여기 발광시켜 버리는 일이 있다. 즉, 크로스토오크 또는 색침(色渗)을 피할 수 없고, 색재현성 및 해상성이 저해되고, 디스플레이로서의 가치가 떨어지는 결과가 된다. 그점, A법은 고정밀세밀한 완전폐쇄격벽을 만드는데 적합하지 않고, 칼라 PDP에 대응시키기에는 실용적이 아니다.For example, when the luminescent color of the noble gas itself is used, such as a PDP of orange luminescence color caused by the discharge of neon gas, its emission is limited only near the electrode of the selected cell, and thus has been put into practical use as an incomplete closure. However, when the light emitting cell spacing becomes small, adjacent cells tend to cause false discharge. In the case of considering a multi-color or full-color PDP, a method of exciting the phosphor by the ultraviolet rays accompanying discharge is taken, so that the phosphors of adjacent cells are leaked by the incompletely closed partition wall. May emit light here. In other words, crosstalk or color bleeding cannot be avoided, color reproducibility and resolution are impaired, resulting in low value as a display. In view of this, the method A is not suitable for making a high-precision, fully closed bulkhead, and is not practical to correspond to a color PDP.

B법은 고정밀세밀도화에의 대응은 비교적 용이하다고 생각되나, 극히 특수한 감광성 유리를 재료로 하기 때문에 고가이며, 경제성이 떨어진다. 또, 두께가 0.1∼0.5mm라는 얇은 유리판을 조립하는 것은, 유리가 깨지기 쉬워서 실용적으로 곤란하다.Although it is considered that the method B is relatively easy to cope with high-definition, it is expensive and inexpensive because it is made of a very special photosensitive glass material. Moreover, assembling a thin glass plate with a thickness of 0.1 to 0.5 mm is easy to break the glass and practically difficult.

C법에 대해서는 일반유리를 사용할 수 있으며, 고정밀세밀한 셀피치의 기계가공을 하는 것을 곤란하며, 조립도 마찬가지로 곤란하다.For the C method, ordinary glass can be used, and it is difficult to machine a high-precision cell pitch, and assembly is similarly difficult.

따라서, 종래에 있어서는 PDP의 고정밀세밀도화에 대응할 수 있고, 또한 적절한 방전공간을 확보할 수 있고, 또한 비교적 값이 싸고 양산성에도 뛰어난 격벽이나 스페이서는 아직 발견되지 않고 있다.Therefore, conventionally, barrier ribs and spacers that can cope with the high precision of the PDP, have a suitable discharge space, and are relatively inexpensive and have excellent mass productivity have not yet been found.

본 발명은 이러한 종래 기술의 과제에 비추어 이루어진 것으로서, 고정밀세밀도화에 대응할 수 있고, 또한 경제성, 양산성에 뛰어난 PDP 및 그 제조방법 그리고 격벽을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and an object thereof is to provide a PDP, a manufacturing method thereof, and a partition wall, which can cope with high precision and are excellent in economy and mass productivity.

본 발명의 상기 목적은 유공금속판을 격벽 또는 스페이서로서 사용하고, 또한 상기 유공금속판과 전극사이에 절연층을 형성하므로서 달성된다.The above object of the present invention is achieved by using a perforated metal plate as a partition or spacer and forming an insulating layer between the perforated metal plate and an electrode.

즉 본 발명의 PDP는 두께 0.01∼1.0mm의 유공금속판을 격벽이나 스페이서로서 사용하고, 또 전면판 및/또는 배면판상의 방전전극과 상기 유공금속판을 전기적으로 졀연시키는 절연층을 가지는 것을 특징으로 한다.That is, the PDP of the present invention is characterized in that a porous metal plate having a thickness of 0.01 to 1.0 mm is used as a partition wall or a spacer, and has an insulating layer for electrically discharging the discharge electrode on the front plate and / or the rear plate and the porous metal plate. .

이와 같은 본 발명의 일예인 DC형 PDP의 구성부품과 조립도중도를 제6도에 표시한다.Fig. 6 shows the components and the assembly midway of the DC type PDP as one example of the present invention.

상기 도면에 있어서, 전면유리판(1)에는 양극(6)이, 또 배면유리판(5)에는 음극(7)이 각각 형성되어 있다. 또 전면유리판(1)과 배면유리판(5)의 사이에는 유공금속판으로 이루어진 격자형상격벽(4)이 배치되고, 또 양극(6)이나 음극(7)과 격자형상격벽(4)을 전기적으로 절연시키도록, 절연층(2)이 전면유리판(1)이나 배면유리판(5)과 격자형상격벽(4)의 사이에 위치하고 있다.In the drawing, the positive electrode 6 is formed on the front glass plate 1, and the negative electrode 7 is formed on the rear glass plate 5, respectively. In addition, between the front glass plate 1 and the rear glass plate 5, a lattice-shaped partition wall 4 made of a perforated metal plate is disposed, and the anode 6 or the cathode 7 and the lattice-shaped partition wall 4 are electrically insulated from each other. The insulating layer 2 is located between the front glass plate 1 or the rear glass plate 5 and the lattice-shaped partition wall 4.

또, 본 발명의 다른 예인 DC형 PDP의 구성부품과 조립도중도를 제7도에 표시하는 동시에, 조립후의 평면도를 제8도에, 제8도의 A-A′선단면이 셀공간을 자르는 경우의 수직단면도를 제9도에, 제8도의 A-A′선단면이 격벽을 자르는 경우의 수직단면도를 제10도에 각각 표시한다. 제7∼10도의 부호번호(符番)는, 제6도와 마찬가지이다. 또, 유공금속으로 이루어지는 격자형상격벽(4)에는 유전체층이 피착되어, 절연층을 형성하고 있다. 도, (8)은 스페이서, (9)는 시일유리를 각각 표시한다.In addition, when the components and the assembly midway of the DC-type PDP, which is another example of the present invention, are shown in Fig. 7, the plan view after assembly is shown in Fig. 8, and the AA 'end face of Fig. 8 cuts the cell space. A cross-sectional view is shown in FIG. 9 and a vertical cross-sectional view in the case where the AA 'front end section of FIG. 8 cuts the partition wall is shown in FIG. The code numbers in Figs. 7 to 10 are the same as those in Fig. 6. In addition, a dielectric layer is deposited on the lattice-shaped partition wall 4 made of a porous metal to form an insulating layer. (8) shows a spacer, and (9) shows a seal glass, respectively.

본 발명에 있어서, 격벽이나 스페이서가 되는 유공금속판의 금속재료 조성으로 서는, Fe, Co, Ni, Cr로부터 선택되는 적어도 1개 종류의 원소를 함유한 합금이고, 선열팽창계수가 40∼100×10-7/℃(25∼500℃)인 것이 바람직하다. 이들 금속판의 두께는 0.01∼1.0mm, 바람직하기는 0.05∼0.1mm의 것을 사용할 수 있다.In the present invention, the metal material composition of the perforated metal plate serving as the partition wall or the spacer is an alloy containing at least one element selected from Fe, Co, Ni, and Cr, and the coefficient of linear thermal expansion is 40 to 100 x 10. It is preferable that it is -7 / degreeC (25-500 degreeC). The thickness of these metal plates is 0.01-1.0 mm, Preferably the thing of 0.05-0.1 mm can be used.

그런데, 격벽이나 스페이서는 2매의 유리판에 끼워져서 내부에 가스를 봉입하기 때문에 주위를 봉지유리로 밀봉한다. 따라서 격벽(스페이서), 2매의 유리판, 봉지유리의 각각의 선열팽창계수는 개략 동일 또는 근사해야 한다. 그렇지 않으면 밀봉이후의 냉각과정에 있어서 유리에 응력이 과대하게 걸려서 파손에 이르기 때문이다.By the way, since a partition and a spacer are inserted in two glass plates and gas is enclosed inside, a circumference is sealed with sealing glass. Therefore, the coefficients of linear thermal expansion of the partition (spacer), the two glass plates, and the encapsulating glass should be approximately the same or approximate. Otherwise, the glass is excessively stressed in the cooling process after sealing, leading to breakage.

일반적으로 2매의 유리판이 연질유리인 경우, 금속판의 선열팽창계수는, 이것에 맞추어서 80∼100×10-7/℃(25∼500℃)인 것이 바람직하다. 이것에 적합하는 금속재료 조성으로서는, 42중량%, Ni-6중량% Cr-Fe합금, 50중량% Fi-Fe합금등이 예시된다. 유리판이 경질유리인 경우, 금속판의 선열팽창계수는 이것에 맞추어서 40∼60×10-7/℃(25∼500℃)인 것이 바람직하다. 이것에 적합하는 금속재료 조성으로서는 20중량% Ni-17중량% Co-Fe 합금을 예시할 수 있다. 물론 사용하는 유리부재의 선열팽창계수가 상기와 다른 것을 사용하는 경우는, 이것에 맞추어서 격벽의 재료를 선정하면 된다.Generally, when two glass plates are soft glass, it is preferable that the coefficient of linear thermal expansion of a metal plate is 80-100x10 <-7> / degreeC (25-500 degreeC) according to this. As a suitable metal material composition, 42 weight%, Ni-6 weight% Cr-Fe alloy, 50 weight% Fi-Fe alloy etc. are illustrated. When a glass plate is hard glass, it is preferable that the linear thermal expansion coefficient of a metal plate is 40-60x10 <-7> / degreeC (25-500 degreeC) according to this. As a suitable metal material composition, 20 weight% Ni-17 weight% Co-Fe alloy can be illustrated. Of course, in the case where a coefficient of thermal expansion of the glass member to be used is different from that described above, the material of the partition wall may be selected according to this.

금속재료조성의 선정에는, 상기 선열팽창계수외에, 가격이나 가공성, 기계특성도 감안되나, 상기 봉지공정에서의 내열성이 필요하다. 통상 봉지공정(封址工程)은 400∼500℃로 행하여지나, 상기 예시한 합금은 이 온도에 대해서 충분히 사용할 수 있다. 봉지공정은 공기분위기로 행하는 것이 간편하다. 이 경우, 금속재료의 내산화성이 문제로 되나, 상기 예시의 합금은 충분히 사용할 수 있다. 내산화성에 문제가 있는 금속재료에 있어서는 봉지분위기를 비산화성으로 하므로서, 또 잘 알려진 금속표면처리에 의해 내산화막을 형성하므로서 사용할 수 있다.In the selection of the metal material composition, in addition to the linear thermal expansion coefficient, price, workability, and mechanical properties are taken into consideration, but heat resistance in the encapsulation step is required. Usually sealing process is performed at 400-500 degreeC, but the above-mentioned alloy can fully be used about this temperature. The encapsulation process is easy to carry out in an air atmosphere. In this case, the oxidation resistance of the metal material becomes a problem, but the alloy of the above examples can be sufficiently used. In a metal material having a problem of oxidation resistance, the encapsulating atmosphere can be used as non-oxidizing property, and an oxide film can be formed by well-known metal surface treatment.

상기 금속판에 소정의 유공패턴을 가공하는 방법으로서는, 프레스에 의한 구멍 뚫기 가공법, 레이저 가공법, 도금법, 용접법, 에칭법 등을 사용할 수 있다. 가공 찌그러짐(歪), 가공정밀도, 가공코스트등을 고려해서 제일 유리한가공법을 사용하면 되나, 일반적으로는 에칭법이 바람직하게 사용된다.As a method of processing a predetermined hole pattern on the metal plate, a punching method by a press, a laser processing method, a plating method, a welding method, an etching method, or the like can be used. Although the most advantageous processing method may be used in consideration of processing distortion, processing precision, processing cost, etc., in general, an etching method is preferably used.

유공금속판의 구멍뚫린형상, 배열은 임의이며, 예를들면 제1∼5도에 표시되는 격자형상, 스트라이프형상, 원모양, 텔터배열, 7세그먼트형식 등이 예시되나, 본 발명에서는, 1, 4도에 표시되는 고정밀세밀한 완전폐쇄 격벽이 되는 것 같은 형상이 바람직하고, 특히 제1도에 표시되는 격자형상이 바람직하다.The perforated shape and arrangement of the perforated metal plate are arbitrary. For example, a lattice shape, a stripe shape, a circle shape, a telter arrangement, a seven segment type, and the like shown in Figs. 1 to 5 are exemplified. The shape which becomes a high precision fine closed partition which is shown in FIG. Is preferable, and the lattice shape shown in FIG. 1 is especially preferable.

그런데, 도트피치가 0.6mm이하의 고정밀세밀한 패널에 있어서는, 격벽에 의해 표시무효부가 증대하므로 표시셀의 개구율이 문제이다. 고정밀세밀한 패널에 있어서는 통상 격벽높이는 100∼200μm의 것이 사용된다. 이것은 상기 설명한 바와같이 현실적인 격벽작성법, 즉 후막인쇄법이 적용되는 범위이다. 100μm보다 낮으면 DC형의 경우 음극스패터의 영향이 커지고, 또 일반적으로 방전특성을 다수셀에 걸쳐, 균일화하는데 불리하게 된다. 200μm보다 높은 것은 인쇄회수가 증가하여 코스트가 높게 된다. 개구율에 영향하는 격벽폭은 격벽이 높을수록 좁게하는 일이 곤란하게 된다. 격벽의 높이 100μm정도를 생각했을 때, 후막인쇄로 형성할 수 있는 최소의 격벽폭은 스트라이프 형상에 있어서 80μm정도, 격자형상에 있어서는 150μm정도이다. 본 발명의 유공금속판을 사용한 완전폐쇄격벽에 있어서, 최소격벽폭은, 두께 50μm정도이고 약 20μm 또 두께 100μm 정도이고 약 30μm가 각각 상기 설명의 에칭으로 달성된다. 따라서, 높이가 100μm의 완전폐쇄격벽이고 0.6μm 피치의 정방격자형상으로 비교한 개구율은, 후막인쇄법으로 약 56%, 1매의 유공금속판으로는 약90%가 되며, 약 1.6배의 개구율을 가진다. 이것은 도트피치가 작아질수록 더욱 커진다. 또, 유공금속판을 얇게하여 조합하면 보다 개구율이 큰것이 형성된다.By the way, in the high precision panel with dot pitch of 0.6 mm or less, since the display invalid part increases by a partition, the aperture ratio of a display cell is a problem. In high-precision panels, the partition height is 100-200 micrometers normally. As described above, this is the range to which the realistic bulkhead making method, that is, thick film printing method, is applied. If it is lower than 100 μm, the influence of the negative electrode spatter is increased in the case of DC type, and in general, it is disadvantageous to uniformize discharge characteristics over a large number of cells. Anything higher than 200 μm increases the number of times of printing, resulting in a high cost. It is difficult to narrow the partition width that affects the opening ratio as the partition wall is higher. Considering the height of the partition wall is about 100 µm, the minimum partition width that can be formed by thick film printing is about 80 µm in the stripe shape and about 150 µm in the lattice shape. In the completely closed bulkhead using the porous metal plate of the present invention, the minimum bulkhead width is about 50 µm, about 20 µm, and about 100 µm thick, and about 30 µm, respectively, by the etching described above. Therefore, the aperture ratio of 100 μm-tight closed bulkheads in the form of a square lattice of 0.6 μm pitch is about 56% by thick film printing and about 90% by one sheet of porous metal plate. Have This becomes larger as the dot pitch becomes smaller. In addition, when the porous metal plate is thinned and combined, a larger aperture ratio is formed.

본 발명에서는 이와같이 해서 목적하는 형상으로 가공된 유공금속판을 격벽으로서 사용하나, 이때 전면판 및/또는 배면판 상에는 방전전극이 배치되어 있고, AC형 PDP와 같이 전극이 유전체로 피복되어 있는 경우는 되나, DC형 PDP와 같이, 전극이 방전공간에 노출하여 있는 경우는, 전면판과 배면판과의 사이에, 그대로 유공금속판(격벽)을 끼고, 밀봉하면 각각의 전극과 유공금속판(격벽)이 전기적으로 단락되게 된다.In the present invention, a porous metal plate processed in the desired shape is used as a partition wall, but at this time, a discharge electrode is disposed on the front plate and / or the back plate, and the electrode may be covered with a dielectric such as an AC PDP. When the electrode is exposed to the discharge space, such as a DC-type PDP, the electrode and the hole metal plate (bulk wall) are electrically inserted between the front plate and the back plate, while being sealed. Will be shorted.

즉, PDP의 양극상호간, 음극상호간 및 양극-음극 사이가 전기적으로 단락되어 버리고, 방전발광이 일어날 수 없는 상태로 되어 버린다. 그래서, 본 발명에서는 유공금속판(격벽)과 방전전극과의 사이에 절연층을 형성하므로서 이상과 같은 문제를 해결할 수 있다.That is, between the anode, cathode, and anode-cathodes of the PDP are electrically shorted, and the discharge light emission does not occur. Thus, in the present invention, the above-described problems can be solved by forming an insulating layer between the porous metal plate (bulk) and the discharge electrode.

이 절연층은 전면판(前面板) 및 배면판(背面板)의 전극상에 형성하여도 되고, 유공금속판(격벽)의 전극과 접하는 표면상에 형성하여도 되고, 또는 그 양쪽에 형성하여도 된다. 또한, 유공금속판 그 자체에 절연층을 형성하여도 된다.This insulating layer may be formed on the electrodes of the front plate and the back plate, or may be formed on the surface of the porous metal plate (the partition wall) in contact with the electrodes, or both. do. Moreover, you may form an insulating layer in the perforated metal plate itself.

절연층을 피착하는 방법은 스프레이법, 인쇄법, 정전도장법, 디핑법, 양극 산화법, 열산화법, 스패터법, 용사(溶射)법, 전착법등 각종의 기술이 적용되고, 코스트 및 성능등을 감안하여 선택하면 된다. 다음의 2개 방법이 바람직하다.In order to deposit the insulating layer, various techniques such as spray method, printing method, electrostatic coating method, dipping method, anodic oxidation method, thermal oxidation method, spatter method, thermal spraying method and electrodeposition method are applied, and the cost and performance are considered. To select. The following two methods are preferred.

즉, 제1의 방법은 전착법이며, 이에 의해 유공금속판의 거의 전체 표면을 유전체로 피복하고, 절연층을 형성할 수 있다. 전착법은 유공금속판을 1개의 전극으로서, 유리 및 유리를 함유한 유전체분체를 전해질을 함유한 용액중에 분산시켜 전계를 인가(印加)하므로서 달성된다. 분체입자 직경은 요구되는 절연층에 따라 다르나, 0.1∼5μm가 바람직하게 사용된다. 분산액으로서는 이소프로필알코올, 전해질로서는 Al2(NO3)3, Ba(NO3)2등을 예시할 수 있으나, 공지된 많은 것으로부터 선택할 수 있다. 분체를 전착후 가열하여 유리를 용융해서 유공금속판의 거의 전체면에 치밀한 절연층이 고착된다. 절연층의 두께가 크면 방전셀 공간을 작게하므로 바람직하지 않다. 통상 절연층의 두께는 1∼10μm에서 바람직하게 사용할 수 있다. 절연층이 유공금속판의 거의 전체표면에 실시되면 방전전극과의 절연이 취해져서, 또 다음의 이점을 가진다. 통상 격벽이 유전체만으로 구성되면, 방전에 의해서 도전물질이 스패터되고, 유전체상에 피착되어도 그 양은 적으므로, 전극간의 단락은 문제가 되지 않는다. 그러나, 본 발명과 같이 유공금속판을 격벽으로서 사용하고, 또한 전극과 유공금속판과의 절연거리가 짧으면 단락의 위험이 그만큼 증가하게 된다. 상기 전착법에 의하면, 격벽을 유전체로 형성하는 종래의 구성과 마찬가지로 할 수 있고 단락의 위험이 없게 된다.That is, the first method is an electrodeposition method, whereby almost the entire surface of the perforated metal plate can be covered with a dielectric to form an insulating layer. The electrodeposition method is achieved by dispersing a glass and glass dielectric powder in a solution containing an electrolyte as one electrode and applying an electric field. The powder particle diameter varies depending on the required insulating layer, but 0.1 to 5 µm is preferably used. As the dispersion, isopropyl alcohol, Al 2 (NO 3 ) 3 , Ba (NO 3 ) 2 , and the like can be exemplified, but it can be selected from many known ones. The powder is electrodeposited, heated to melt the glass, and a dense insulating layer adheres to almost the entire surface of the porous metal plate. If the thickness of the insulating layer is large, the discharge cell space is small, which is not preferable. Usually, the thickness of an insulating layer can be preferably used in 1-10 micrometers. If the insulating layer is applied to almost the entire surface of the perforated metal plate, insulation with the discharge electrode is taken, and further has the following advantages. In general, when the barrier rib is composed of only a dielectric material, the conductive material is sputtered by discharge, and even if deposited on the dielectric material, the amount thereof is small, so that short-circuit between electrodes is not a problem. However, if the perforated metal plate is used as the partition wall as in the present invention, and the insulation distance between the electrode and the perforated metal plate is short, the risk of short circuit increases by that much. According to the electrodeposition method, it can be carried out similarly to the conventional structure in which the partition wall is formed of a dielectric, and there is no risk of short circuit.

또, 제2의 방법은 압력 또는 열과 압력을 이용하여, 절연층의 유공금속판 표면에 전사하는 방법이다. 이 방법자체는 공지의 기술이고 각종의 재료를 사용할 수 있으나, 다음과 같은 것을 예시할 수 있다. 박리성(剝離性)기체로서는 실리콘막이 형성된 폴리에스테르 필름을 사용하고, 감압 또는 감열압 잉크로서는 아크릴수지를 부틸카르비톨 아세테이트 등의 용제에 용해한 비히클을 유리 및 유리를 함유한 유전체 분체와 함께 혼련(混練)한 것을 사용할 수 있다. 분체입자 직경은 0.1∼5μm가 바람직하게 사용된다. 이 잉크를 박리성기체상에 예를들면 스크리인 인쇄하여 절연층을 성막(成膜)해서 건조한다. 이 막위에 유공금속판을 올려놓고, 양자를 상온 또는 가열하여 압력을 가하고, 절연층을 유공금속판의 표면패턴으로서 밀착하고, 기체를 박리하면 전사할 수 있다.The second method is a method of transferring to the surface of the porous metal plate of the insulating layer using pressure or heat and pressure. This method itself is a well-known technique and various materials can be used, but the following can be illustrated. As a peelable gas, a polyester film with a silicon film was used, and as a reduced pressure or thermal pressure ink, a vehicle in which acrylic resin was dissolved in a solvent such as butylcarbitol acetate was kneaded together with glass and a dielectric powder containing glass ( I) can be used. The powder particle diameter is preferably 0.1 to 5 탆. This ink is, for example, screen-printed on a peelable gas to form an insulating layer and dried. A porous metal plate is placed on this film, and both are pressurized by normal temperature or heating, the insulating layer is brought into close contact with the surface pattern of the porous metal plate, and the substrate can be transferred by peeling off the substrate.

이 전사는 유공금속판의 편면 또는 양면에 실시할 수 있다. 전사된 상태에서 가열하고, 유리를 용융시키므로서, 절연층이 유공금속판에 고착된다. 이 고착을 패널의 유리기체상에 접해서 실시하면, 유리기체에의 격벽 고착도 동시에 달성할 수 있어서 편리하다.This transfer can be performed on one side or both sides of the perforated metal plate. By heating in the transferred state and melting the glass, the insulating layer is fixed to the porous metal plate. If this fixing is carried out in contact with the glass substrate of the panel, it is convenient that the partition wall to the glass substrate can be achieved at the same time.

상기 설명한 전사법의 이점은 고정밀 세밀한 패널, 특히 격벽폭이 작은 것에 크다. 제1방법과 같이 격벽의 측면에도 절연층을 형성하면, 가령 그 절연층이 얇더라도 방전셀 면적을 감소하게 된다. 유공금속판의 표면만에 절연층을 형성할 경우, 전사법 이외의 방법, 예를들면 스크리인 인쇄등을 사용하면, 고정밀 세밀한 패턴의 인쇄가 어려운 일, 치수어긋남이 발생하기 쉬운일, 또 인쇄가 되더라도 잉크의 흘림에 의하여 격벽측면에 잉크가 퍼지는 일등의 문제가 있다. 격벽폭 100μm이하, 셀피치 200μm이하의 고정밀 세밀한 패널을 상정(想定)하면, 그 곤란 정도를 이해할 수 있다.The advantages of the transfer method described above are large for high-precision panels, especially for small partition widths. If the insulating layer is formed on the side surface of the partition as in the first method, for example, even if the insulating layer is thin, the discharge cell area is reduced. When the insulating layer is formed only on the surface of the perforated metal plate, when a method other than the transfer method is used, for example, screen printing, it is difficult to print a high-definition pattern, or it is easy to cause dimensional deviation, or printing. Even if it is, there is a problem such that ink spreads on the side surface of the partition wall due to the flow of ink. The degree of difficulty can be understood when a high-precision panel having a partition width of 100 µm or less and a cell pitch of 200 µm or less is assumed.

또 제2방법과 같이 방전고안에 격벽으로 되는 금속이 노출되어 있을 경우, 방전전극상의 문제가 발생할 가능성이 있다. 그러나, 잘 알려져 있는 바와같이 DC형 PDP에 있어서 전압강하가 큰 것은 음성의 극히 근방만이다. 따라서 방전전극 근방만이 절연되어 있으면, 도중에 도전부분이 존재하더라도, 방전패널은 충분히 동작하는 것을 본 발명자 등은 실험적으로 보고 알았다. 실험에 의하면 전극과 격벽금속과의 절연거리는 수 μm, 안전을 어림하더라도 10μm정도 있으면 문제 없다는 것을 판명하였다. 따라서, 이러한 거리를 실현할 수 있는 절연층 두께를 적용하는 것이 유효하다.In addition, when the metal serving as the partition wall is exposed in the discharge chamber as in the second method, there is a possibility that a problem on the discharge electrode may occur. However, as is well known, the voltage drop in the DC PDP is only very near to the negative. Therefore, the inventors have experimentally found that the discharge panel is sufficiently operated even if only a conductive portion is insulated in the vicinity of the discharge electrode. Experiments have shown that the distance between the electrode and the barrier metal is only a few μm, and even if the safety is about 10 μm, there is no problem. Therefore, it is effective to apply an insulation layer thickness that can realize such a distance.

이와같이 해서 유공금속판에 형성된 절연층(유전체층)의 두께는 1∼100μm이다.Thus, the thickness of the insulating layer (dielectric layer) formed in a perforated metal plate is 1-100 micrometers.

한편, 완전폐쇄격벽을 구성하는 평행표면을 가진 유공금속판을 2매의 유리판으로 끼웠는 패널을 생각하면, 방전가스의 봉입이나 그것에 앞선 배기에 문제가 있음이 생각된다. 특히, 각 방전셀의 상하사주(上下四周)가 유리의 융착과 같이 기밀하게 패절유리기체에 고착되는 경우는 문제이다. 이때는 봉입유리가 충만한 장치내에서 고착이 이루어질 필요가 있으며, 장치상의 연구가 필요하다. 그러나, 각 셀이 배기구멍에 연통하는 틈새를 가지면 통상의 장치를 적용할 수 있다. 실험적으로 본 발명자 등이 보고한 바로는, 상기 틈새, 즉 유공금속판과 패널유리 사이에 있어서, 수 μm 안전을 어림하더라도 10μm 정도의 가스확산용의 홈을 가지면 가스봉입에 지장이 없다는 것을 판명하였다.On the other hand, considering a panel in which two glass plates are provided with a porous metal plate having a parallel surface constituting a completely closed bulkhead, it is considered that there is a problem in encapsulating discharge gas or exhausting the gas before it. In particular, it is a problem when the upper and lower sand scans of each discharge cell adhere to the closed glass gas in a hermetic manner such as fusion of glass. At this time, it is necessary to fix in the apparatus filled with the encapsulated glass, and the research on the apparatus is necessary. However, if each cell has a gap communicating with the exhaust hole, a conventional apparatus can be applied. As experimentally reported by the present inventors, it has been found that there is no problem in gas encapsulation if the gap, that is, between the porous metal plate and the panel glass, has a groove for gas diffusion of about 10 μm even if several μm of safety is estimated.

이와 같은 틈새는 패널유리상에 형성하는 전극막이나 패널상 또는 유공금속판에 형성하는 절연층의 막형상에 기인하는 요철이나, 패턴에 기인하는 요철에 의해서 필연적으로 형성되는 일이 많다. 또 확실하게 가스확산용의 홈을 형성하는데는 다음 방법으로부터 선택하고, 또 짜맞추어도 된다. 제1은 전극막 두께를 예를들면 후막기술을 사용해서 크게 하는 일이다. 제2는 전극과 유공금속판의 사이의 절연층으로서 스트라이프형상의 유전체를 채용하여 소정의 두께를 가지게 하는 일이다. 제3은 유공금속판 표면에 홈을 형성해 놓는 일이다. 홈형성에는 유공패턴의 가공에서 설명한 에칭법을 사용하는 것이 바람직하고, 이것에 의하면 유공패턴 가공과 동시 일괄처리도 가능하다.Such a gap is inevitably formed by irregularities caused by the electrode shape formed on the panel glass, the film shape of the insulating layer formed on the panel or the porous metal plate, and irregularities caused by the pattern. In addition, in order to form a groove | channel for gas diffusion surely, you may select from the following method and may combine. The first is to increase the electrode film thickness using, for example, a thick film technique. The second is to adopt a stripe dielectric as an insulating layer between the electrode and the porous metal plate to have a predetermined thickness. The third is to form grooves on the surface of the perforated metal plate. It is preferable to use the etching method described in the processing of the hole pattern for forming the groove, and according to this, the hole pattern processing and the simultaneous batch processing are also possible.

상기한 제2방법과 같이, 스트라이프형상의 유전체를 사용하였다. DC형 PDP의 구성부품과 조립도를 제11도에, 그 PDP의 1셀의 구조단면도를 제12도에 각각 표시한다. 제11∼12도의 부호번호는, 제6도와 마찬가지이다. 단, 유공금속으로 이루어진 격자형상 격벽(4)에는 제7도와 마찬가지로 유전체층이 피착되어, 절연층을 형성하고 있다. 또, (10)은 스트라이프형상의 유전체, (11)은 형광체를 각각 표시한다.As in the second method described above, a stripe dielectric was used. Fig. 11 shows the structural components and the assembly diagram of the DC-type PDP and the structure cross-sectional view of one cell of the PDP is shown in Fig. 12, respectively. The code numbers in FIGS. 11 to 12 are the same as in FIG. However, a dielectric layer is deposited on the lattice-shaped partition wall 4 made of a porous metal as in FIG. 7 to form an insulating layer. 10 denotes a stripe dielectric, and 11 denotes a phosphor.

이와 같은 절연층에 사용되는 유전체 재료는 유기물, 결정성 무기물, 유리중에서 선택된 적어도 1종류이상의 것을 사용할 수 있다. 또 상세하게는 일반적으로 유리, 또는 유리를 함유한 결정성 무기물이 범용된다.The dielectric material used for such an insulating layer can use at least 1 type or more selected from organic substance, a crystalline inorganic substance, and glass. In detail, in general, glass or a crystalline inorganic substance containing glass is generally used.

구체적인 유리조성을 예로들면, PbO-B2O3-SiO2, PBo-B2O3, ZnO-B2O3-SiO2등이 바람직하다. 이들 유리의 인화점은 350∼1000℃ 유리의 입도는 1∼5μm정도가 각각 바람직하다. 여기에 사용되는 유리는 PDP의 시일공정에 있어서, 봉지유리프릿이 연화용융하는 온도(봉착온도)까지 승온되고, 이온도에서 재용융하여서는 안된다. 통상, 유리프릿의 봉착온도는 연화점보다 50℃정도 높다. 또, PDP의 봉착온도로서는 400∼450℃정도가 적당하고, 따라서 유전체재료중에 함유되는 유리의 염화점은 350℃이상인 것이 바람직하다.Specific examples of the glass composition include PbO-B 2 O 3 -SiO 2 , PBo-B 2 O 3 , ZnO-B 2 O 3 -SiO 2, and the like. As for the flash point of these glasses, the particle size of 350-1000 degreeC glass has about 1-5 micrometers, respectively. The glass used here is heated up to a temperature (sealing temperature) at which the sealing glass frit softens and melts in the sealing step of the PDP, and should not be remelted at ionicity. Usually, the sealing temperature of glass frit is about 50 degreeC higher than a softening point. The sealing temperature of PDP is preferably about 400 to 450 占 폚, and therefore, the chloride point of the glass contained in the dielectric material is preferably 350 占 폚 or higher.

또 연하점의 상한은 유공금속판 표면상에 형성한다고 생각하면, 금속이 변형하지 않을 것, 금속과 유전체가 다량으로 화학반응을 일으키지 않을 것을 조건으로 결정하고, 그 온도는 1000℃이하인 거이 바람직하다.In addition, when the upper limit of the swallowing point is considered to be formed on the surface of the perforated metal plate, it is determined under the condition that the metal does not deform and that the metal and the dielectric do not cause a large amount of chemical reaction, and the temperature is preferably 1000 ° C or lower.

또, 결정성 무기물로서는 알루미나(Al2O3), 포오스테라이트(2MgO-SiO2) 등의 세라믹이 사용되고, 또 무기안료(FeO-Cr2O3, CoO-Al2O3등) 사용 가능하다. 이 결정성 무기물의 입도로서는 1∼5μm정도가 바람직하다.As the crystalline inorganic substance, ceramics such as alumina (Al 2 O 3 ) and forsterite (2MgO-SiO 2 ) may be used, and inorganic pigments (FeO-Cr 2 O 3 , CoO-Al 2 O 3, etc.) may be used. Do. As a particle size of this crystalline inorganic substance, about 1-5 micrometers is preferable.

또, 유기물에 대해서도 최종적으로 무기화할 수 있는 것이면 모두 사용할 수 있다.Moreover, any organic substance can be used as long as it can be finally inorganicized.

일반적 패널 봉지방법(봉지유리에 의해서 밀봉한다)에서는, 그 봉지온도에 견디고, 선열팽창계수가 2매의 유리판, 봉지유리, 격벽과 대략 동일해야 한다. 이와 같은 관점에서 상기와 같은 재료가 적의 선택된다.In a general panel encapsulation method (sealed by encapsulating glass), the encapsulation temperature is to be endured, and the coefficient of linear thermal expansion should be approximately equal to that of two glass plates, encapsulating glass, and partition walls. In view of this, the above materials are suitably selected.

또 유공금속관은 도전성이므로 전극으로서의 사용이 가능하다. 이 전극은 다수의 셀사이에서 전기적으로 연결되어 있으므로 표시셀의 선택전극으로서의 사용에는 유리하지 않다. 그러나, DC형 PDP에 있어서 보조방전을 채용하는 것이 제안되어 있다.(일본국 특개소 54-115060호 공보, 일본국 특개소 58-30038호 공보, 및 텔레비젼학회지, Vol.40, No.10, p.953 1986년), 이들의 보조방전은 전체 셀을 동시에 일으키는 것도 유효하므로, 이 보조방전전극으로서 상기 유공금속판을 사용할 수 있다.In addition, since the perforated metal tube is conductive, it can be used as an electrode. Since this electrode is electrically connected between a plurality of cells, it is not advantageous to use the display cell as a selection electrode. However, it has been proposed to employ auxiliary discharge in DC type PDPs. (Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-115060, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-30038, and the Korean Journal of Television Science, Vol. 40, No. 10, p.953 1986) Since these auxiliary discharges are effective also to generate all the cells simultaneously, the above-mentioned porous metal plate can be used as this auxiliary discharge electrode.

이와 같이 유공금속판을 보조방전극으로한 PDP의 구성부재와 조립도를 제13도에, 또 그 양극방향에 따른 셀단면도를 제14도에 각각 표시한다. 제13∼14도의 부호번호는 제6도와 마찬가지이다. 단, 유공금속으로 이루어지는 격자 형상 격벽(4)에는 제7도와 마찬가지로 유전체층이 피착되고, 절연층을 형성하고 있다. 또, (12)는 제3전극군(음극), (15)은 제2전극군(양극) 및 (14)는 제1전극(트리거전극)을 각각 표시한다.Thus, the constituent members and the assembly of the PDP using the porous metal plate as the auxiliary discharge electrode are shown in FIG. 13, and the cell cross-sectional view along the anode direction is shown in FIG. The code numbers in FIGS. 13 to 14 are the same as in FIG. However, a dielectric layer is deposited on the lattice-shaped partition wall 4 made of a porous metal similarly to Fig. 7 to form an insulating layer. 12 denotes a third electrode group (cathode), 15 denotes a second electrode group (anode), and 14 denotes a first electrode (trigger electrode).

이때, 보조방전공간으로서 필요하면, 제13∼14도에 표시된 바와같이 유공 금속판을 복수개 사용하는 것도 가능하다. 예를들면 대략 동일한 유공패턴을 가진 유공금속판을 2매를 동일 위치에 포개고 1매를 보조방전 전극으로서, 다른 1매를 방전공간을 형성하는 격벽으로 하면 보조방전전극을 표시의 방해를 하는 일없이 형성할 수 있다. 이들 복수개의 유공금속판 사이의 절연이 필요하다면, 상기 설명의 절연층 형성과 마찬가지의 방법을 할 수 있다. 보조방전전극은 공지하는 바와같이 금속이 노출한 상태에서도 또 유전체층에서 피복된 상태에서도 가능하다. 또 그 위치등도 패널의 전극구조나 형상구조에 맞추어서, 적의 설계되는 것이다. 상기 설명한 유공금속판을 복수개 사용하는 것은 대향형전극에 있어서 전극간거리의 설계자유도를 크게 하고, 또 동일 격벽높이의 설계에 있어서, 얇은 금속판이 사용될 수 있으므로, 1매일때 보다 미세한 셀피치의 것이 형성가능하며, 동일한 셀피치하면, 보다 격벽폭이 작은 따라서 개구율이 큰 것이 형성될 수 있는 이점이 있다.At this time, if necessary as the auxiliary discharge space, it is also possible to use a plurality of perforated metal plates as shown in Figs. For example, if two perforated metal plates with roughly the same perforation pattern are superimposed on one sheet and one sheet is an auxiliary discharge electrode, and the other sheet is a partition wall forming a discharge space, the auxiliary discharge electrode does not interfere with display. Can be formed. If insulation between the plurality of porous metal plates is required, the same method as that of the formation of the insulation layer described above can be performed. As is well known, the auxiliary discharge electrode can be used even when the metal is exposed or coated on the dielectric layer. Moreover, the position etc. are suitably designed according to the electrode structure and shape structure of a panel. The use of a plurality of the above-described porous metal plates increases the design freedom of the inter-electrode distance in the counter electrode, and in the design of the same barrier height, a thin metal plate can be used, so that a finer cell pitch can be formed in one sheet. In the same cell pitch, a smaller partition width and thus a larger aperture ratio can be formed.

이러한 것은 유공금속판이 금속이므로 가령 얇은 것이라 하더라도 조작이 용이하며 비로소 가능하다. 이 이점은 다음 경우에도 유효하다.This is because the porous metal plate is a metal, for example, even if it is thin, the operation is easy and possible. This advantage is also valid in the following cases.

즉, 칼라 PDP에 있어서는 일반적으로 방전에 의해서 자외선을 발생시켜, 이 자외선에 의해 형광체를 여기 발광시킨다. 통상 이 형광체는 전면 유리판 혹은 배면유리판에 피착된다. 발광휘도는 피착형광체의 면적이 많을수록 크다.따라서 격벽측면 즉 유공금속판의 구멍내면에도 형광체를 피착하는 일이 바람직하다. 종래의 유전체로 형성된 격벽에 있어서도 마찬가지의 설계가 제안되고 있다(사까이 : 방전표시소자의 2, 3의 실험과 그 용융, 텔레비학회 화상표시 연구회자료 13-1(mar…1975) 및 일본국 특개소 51-38996호 공보). 그런데 유리를 사용한 유공판에서는, 셀피치 0.6mm이하로 표시면적이 큰것은 취급이 곤란하고, 또 패널 기체상에 예를들면 후막인쇄등으로 형성된 격벽측면에 다색(多色)의 형광체를 구분하여 칠할려면 고도한 기술을 필요로 한다. 본 발명의 유공금속판은 그 단독으로의 취급이 용이하고, 고정밀도의 유공패턴의 형성을 할수 있으므로, 다음과 같은 방법을 실시할 수 있다.That is, in the color PDP, ultraviolet rays are generally generated by discharge, and the fluorescent material is excited by the ultraviolet rays. Usually, this phosphor is deposited on the front glass plate or the back glass plate. The luminescence intensity is larger as the area of the adhered phosphor is larger. Therefore, it is preferable to deposit phosphor on the side of the partition wall, that is, inside the hole of the perforated metal plate. Similar designs have been proposed for partition walls formed of conventional dielectrics (close to: experiments 2 and 3 of the discharge display element and its melting, the Korean Society of Television and Television Engineers Display 13-1 (mar… 1975)) Publication 51-38996). However, in the porous plate using glass, it is difficult to handle a large display area with a cell pitch of 0.6 mm or less. In addition, multicolor phosphors are divided on the side walls of the barrier ribs formed by, for example, thick film printing. Painting requires a high level of skill. Since the perforated metal sheet of the present invention can be easily handled alone and can form a highly accurate perforated pattern, the following method can be carried out.

일반적으로 형광체는 본체이므로 후막잉크를 조절할 수 있다. 이 잉크를 사용해서 유공부분에 형광체를 인쇄하는 것이나, 이대로는 구멍 깊숙한 곳까지 잉크가 도달하지 않든가, 도달하더라도 구멍을 폐쇄해 버린다. 그래서 구멍의 인쇄면 반대쪽으로부터 잉크를 흡인하면, 구멍내면에 잉크의 점성(粘性)에 따른 두께의 형광체를 도포하고, 여분의 잉크는 구멍바깥으로 배출되는 것이다. 이 수법에 의하면, 0.3mm이하의 셀피치를 가진 금속유공판의 구멍내면에도 다색의 형광체를 구분하여 칠하기가 가능하다. 본 발명의 격벽은 완전폐쇄형으로 될수 있으므로, 불완전폐쇄격벽보다도 형광체피착면적이 크다.In general, since the phosphor is a main body, the thick film ink can be adjusted. The ink is used to print a phosphor in the perforated portion, but the ink does not reach the depth of the hole or closes the hole even when it reaches. Therefore, when ink is sucked from the opposite side of the printing surface of the hole, a phosphor having a thickness corresponding to the viscosity of the ink is applied to the inner surface of the hole, and excess ink is discharged out of the hole. According to this method, it is possible to separate and paint multicolor phosphors on the inner surface of the hole of the metal hole plate having a cell pitch of 0.3 mm or less. Since the partition wall of the present invention can be completely closed, the phosphor deposition area is larger than that of the incomplete closed partition wall.

본 발명은 PDP에 있어서 사용되는 셀격벽을 형성함에 있어서, 종래부터 사용되어 온 유전체(유리 또는 유리를 함유한 무기재료등) 격벽과는 다른 유공금속판으로 이루어지는 격벽을 사용하는 것이다. 따라서, 셀형상, 사이즈, 배열피치라는 형상은 금속박판의 가공정밀도에 의한 바가 크며 통상의 도트매트릭스 표시를 행하는 AC형 및 DC형 PDP로 구해지는 도트사이즈 및 도트피치를 형성하는데, 충분히 만족할 수 있는 정밀도를 가지고 있다. 또, 절연층을 형성하므로서, 전면판이나 배면판상의 전극과 유공금속판을 전기적으로 절연시킬 수 있다.In forming the cell partition wall used in the PDP, the present invention uses a partition wall made of a perforated metal plate different from a conventional partition wall of a dielectric (glass or glass-containing inorganic material). Therefore, the shape of the cell shape, the size and the arrangement pitch is large due to the processing precision of the metal thin plate, and the dot size and the dot pitch obtained by the AC type and the DC type PDP which perform normal dot matrix display can be sufficiently satisfied. Has precision. In addition, by forming the insulating layer, the electrode on the front plate or the back plate and the porous metal plate can be electrically insulated.

이상, 설명한 바와같이 유공금속판을 격벽에 사용하고, 또한 절연층을 형성한 본 발명의 PDP는, 고정밀 세밀한 셀피치에 대응할 수 있고, 또한 크로스토오크 특성에 뛰어나 있다. 또, 양극-음극간등에서 전기적 단락이 발생하는 일도 없다.As described above, the PDP of the present invention, in which a porous metal plate is used for a partition wall and an insulating layer is formed, can cope with high-precision cell pitch and is excellent in crosstalk characteristics. In addition, there is no electrical short circuit between the anode and the cathode.

이하, 본 발명을 실시예 등에 의해 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

[실시예 1]Example 1

격벽이 되는 유공금속판의 금속재료조성으로서, 선열팽창계수가 92×10-7/℃인 42중량% Ni-6중량% Cr-Fe합금을 사용하였다. 금속판두께는 0.1mm, 뚫린구멍의 배열은 정방형을 종횡등 피치로 다수 병열한 격자형상으로 하고, 그 피치는 0.2mm, 뚫린구멍사이즈는 0.15×0.15mm로 하고 에칭가공에 의해, 다수의 뚫린 구멍을 형성하여, 유공금속판으로 하였다.As the metal material composition of the perforated metal plate serving as the partition wall, 42 wt% Ni-6 wt% Cr-Fe alloy having a coefficient of thermal expansion 92 × 10 −7 / ° C. was used. The metal plate thickness is 0.1mm, and the arrangement of the drilled holes is made in the form of lattice in parallel with the vertical and horizontal pitches. The pitch is 0.2mm and the size of the drilled holes is 0.15 × 0.15mm. To form a porous metal plate.

PDP는 제6도에 표시한 바와같이, 전면유리판에는 양극으로서의 투명도전막(ITO), 또 배면유리판에는 음극으로서 Ni가 각각 형성되어 있다. 또, 전면유리판 및 배면유리판의 전극상에 표시셀 영역을 피해서, 스트라이프형상의 유전체층을 스크리인 인쇄로 형성하여 절연층으로 하였다.As shown in Fig. 6, the PDP is formed with a transparent conductive film (ITO) as an anode on the front glass plate and Ni as a cathode on the rear glass plate. In addition, a stripe-like dielectric layer was formed by screen printing on the electrodes of the front glass plate and the back glass plate to avoid the display cell region, thereby forming an insulating layer.

다음에, 유공금속판(격벽)을 전면판 및 배면판의 사이에 끼우고, 주위를 봉지 유리로 밀봉해서, X-Y매트릭스 DC형 PDP를 형성하였다.Next, a porous metal plate (bulk wall) was sandwiched between the front plate and the back plate, and the circumference was sealed with a sealing glass to form an X-Y matrix DC-type PDP.

[비교예 1]Comparative Example 1

실시예 1에서 표시한 DC형 PDP의 격벽을 후막인쇄로 형성하였다.The partition wall of the DC type PDP shown in Example 1 was formed by thick film printing.

먼저, 도트피치 1.0mm, 뚫린구멍사이즈 0.8×0.8mm의 격벽을 작성하였다. 8회에 이르는 중복인쇄로 격벽의 높이는 0.15mm로 형성하였다.First, a partition wall having a dot pitch of 1.0 mm and a hole size of 0.8 x 0.8 mm was prepared. Eight times of overlapping printing, the height of the bulkhead was formed to 0.15mm.

다음에, 실시예 1에서 표시한 것과 동일한 정밀도의 도트피치 0.2mm, 뚫린구멍사이즈 0.15×0.15mm의 격벽을 작성할려고 하엿다. 1.0mm피치에서는 거의 무시할 수 있었던 미묘한 어라이먼트의 어긋남, 또는 인쇄페이스트의 흘림등을 무시할 수 없고, 제조는 기술적으로 곤란하며, 수율은 실시예 1에 비해서 훨씬 나빴다. 또 양호하게 제조된 것에 대해서는 상기와 같은 이유로 충분한 셀개구율을 얻을 수 없었다. 그 일예를 표시하면, 0.2mm 피치에 대해서 뚫린 구멍사이즈는 0.1×0.1mm이고 개구율은 25%였다. 상기한 실시예 1에서는 뚫은 구멍사이즈는 0.15×0.15mm이고 개구율은 56%가 되고, 명백하게 실시예 1이 유리하였다.Next, an attempt was made to create a partition having a dot pitch of 0.2 mm and a hole size of 0.15 x 0.15 mm with the same precision as that shown in Example 1. FIG. At 1.0 mm pitch, the almost negligible misalignment of the alignment or the bleeding of the printing paste could not be ignored, and the production was technically difficult, and the yield was much worse than that in Example 1. In addition, a satisfactory cell opening rate could not be obtained for the reason described above. In the example, the hole size drilled for a 0.2 mm pitch was 0.1 × 0.1 mm and the aperture ratio was 25%. In Example 1 described above, the drilled hole size was 0.15 × 0.15 mm and the aperture ratio was 56%.

[비교예 2]Comparative Example 2

실시예 1에서 표시한 DC형 PDP의 격벽을 감광성 판유리의 에칭가공에 의해 작성하였다. 그러나, 이 재료는 상기한 바와같이 가격적으로 극히 고가이며, 또한 얇은 유리이기 때문에 대단히 깨지기 쉽고, 조립가공성의 점에서도 실시예 1보다 떨어져 있었다.The partition wall of DC type PDP shown in Example 1 was created by the etching process of the photosensitive plate glass. However, this material is extremely expensive in terms of price as described above, and is very fragile because of thin glass, and is far from Example 1 in terms of granulation workability.

[비교예 3]Comparative Example 3

일반의 소오다석회유리등에 구멍뚫기 가공을 해서, 비교예 2와 같은 DC형 PDP의 격벽을 작성하였다. 그러나, 이 방법으로 0.2mm정도의 고정밀 세밀한 피치의 다수의 구멍뚫기 가공을 하는데 있어서는 비교예 2와 비교해서 치수정밀도는 상당히 저하한다. 또, 박판유리의 취약도를 생각해서 가공성, 조립가공성의 점에서 비교예 2보다 떨어지고, 따라서 실시예 1보다 상당히 떨어져 있었다.The punched-out process was performed to general soda-lime glass etc., and the partition of DC type PDP similar to the comparative example 2 was created. In this method, however, the dimensional accuracy is considerably lowered in comparison with Comparative Example 2 in performing a plurality of high-precision fine punching processes of about 0.2 mm. Moreover, in view of the fragility of the thin glass, it was lower than Comparative Example 2 in terms of workability and granulation workability, and thus was considerably separated from Example 1.

[비교예 4][Comparative Example 4]

전면유리판 및 배면유리판상에 절연층을 형성하지 않고, 유공금속판을 단독으로 격벽으로서 그대로 사용하였다. 그 결과, 양극-음극 사이에 전기적 단락이 발생하여, 점동하지 아니하거나, 경우에 따라서는, 양극끼리만, 또는 음극끼리만이 단락해서 비선택셀이 발광한다고 하는 불편이 발생하여 PDP의 격벽으로서의 의미가 없어졌다.Without forming an insulating layer on the front glass plate and the back glass plate, the perforated metal plate was used alone as a partition wall. As a result, an electrical short circuit occurs between the anode and the cathode, and thus, there is an inconvenience that the non-selected cell emits light because it is not viscous or in some cases, only the anodes or only the cathodes are short-circuited. Disappeared.

[실시예 2]Example 2

실시예 1에서 사용한 격자형상의 유공금속판을 사용하여, 이것에 유전체를 피착시켜서 절연층으로 하였다.Using the lattice-shaped porous metal sheet used in Example 1, a dielectric was deposited thereon to obtain an insulating layer.

유전체 재료로서는 연화점 600℃, 평균입자직경 2∼3μm의 ZnO-B2O3-SiO2계 유리 분말 및 Al2O3, FeOㆍCr2O3등의 무기필러를 사용하였다. 유전체의 피착은 전착(電着)액중에서, 격자형상의 유공금속판을 음극으로 하고, 이것과 동일한 재질, 같은 정도의 면적의 금속판을 양극으로 하여 전착을 하였다. 사용전압은 직류 200보울트 일정(一定)으로 하였다. 이결과, 전착상태나 전착층강도도 극히 양호하였다.As the dielectric material, an inorganic filler such as a softening point of 600 ℃, average particle diameter 2~3μm ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 based glass powder, and Al 2 O 3, FeO and Cr 2 O 3 was used. The deposition of the dielectric was carried out using a lattice-shaped perforated metal plate as a cathode in an electrodeposition liquid, and a metal plate having the same material and the same area as the anode as an anode. The operating voltage was set at a DC 200 volt constant. As a result, the electrodeposition state and the electrodeposition layer strength were extremely good.

이 샘플을 대기중에서 유리분말의 연화점 600℃보다 높은 온도로 조정하고, 유전체층을 치밀한 막으로 만들어서, 표면이 유전체로 피착된 소망스러운 격자 형상의 유공금속층을 얻을 수 있었다.The sample was adjusted to a temperature higher than the softening point of the glass powder at 600 ° C. in the air, and the dielectric layer was made into a dense film to obtain a desired lattice-shaped porous metal layer having the surface deposited with the dielectric.

다음에, 이 표면이 유전체로 피착된 격자형상의 유공금속판을 격벽으로 사용한 DC형 PDP를 하기에 표시한대로 작성하였다.Next, a DC-type PDP using a lattice-shaped perforated metal plate on which this surface was deposited with a dielectric was used as a partition wall, as shown below.

즉, 제7∼제10도에 표시한 바와 같이, 격벽(4)으로서 표면이 유전체로 피복된 격자형상의 유공금속판, 스페이서(8)로서 격벽(4)보다 30μm정도 두꺼운 유리를 사용하였다. 이 격벽(3)과 스페이서(8)를 미리 전극이 형성되어 있는 2매의 전면유리판(1)과 배면유리판(5)의 사이에 끼워서 주위를 봉지유리(9)로 밀봉해서 X-Y매트릭스의 DC형 PDP를 형성하였다.That is, as shown in FIG. 7 to FIG. 10, as the partition 4, a grating-shaped perforated metal plate whose surface is covered with a dielectric material, and glass 8 thicker than the partition 4 as the spacer 8 were used. The partition 3 and the spacer 8 are sandwiched between two front glass plates 1 and a rear glass plate 5 on which electrodes are formed in advance, and the periphery is sealed with a sealing glass 9 to form a DC of XY matrix. PDP was formed.

이 DC형 PDP의 봉지상황은 양호하고, 응력찌그러짐에 의한 파손 등의 문제는 발생하지 않았다. 이때, 스페이서는 PDP의 표시영역외에 위치하고, 격벽이 있는 표시영역에 있어서는 항상 30μm정도의 가스도입 공간이 존재하고, 관내 배기 및 가스봉입이, 표시영역 전체영역에 걸쳐서 확실히 행하여졌다.The sealing situation of this DC-type PDP was favorable, and there was no problem such as breakage due to stress distortion. At this time, the spacer is located outside the display area of the PDP, and there is always a gas introduction space of about 30 μm in the display area with partition walls, and the exhaust and gas encapsulation in the pipe are reliably performed over the entire display area.

[실시예 3]Example 3

실시예 2에서 사용한 표면이 유전체로 피착된 격자형상의 유공금속판과 스트라이프형상의 유전체를 격벽에 사용한 DC형 PDP를 하기에 표시한대로 작성하였다.A DC-type PDP using a lattice-shaped perforated metal plate and a stripe-like dielectric having a surface deposited with a dielectric as a dielectric was used as the partition wall as shown below.

즉, 스트라이프형상의 유전체는, 포토인슐레이터(토오쿄-오오가고오교(주)제)를 사용해서, 배면유리판상에 막두께 30μm, 피치 0.2mm, 형성라인폭 50μm의 유전체층을 형성하였다.That is, as the stripe dielectric, a dielectric layer having a film thickness of 30 µm, a pitch of 0.2 mm, and a forming line width of 50 µm was formed on the back glass plate using a photo insulator (manufactured by Tokyo-Ogagokyo Co., Ltd.).

다음에, 제11∼12도에 표시한 바와 같이 전면유리판(1)과 배면유리판(5)의 사이에, 유전체를 피착한 격자형상의 유공금속판(4)과 스트라이프형상의 유전체(10)를 끼고, 이것을 격벽으로 하고, 저융점유리 프릿으로 밀봉하고, 팁관을 통해서 진공배기 및 가스봉입한 후, 팁관을 봉해버리고, DC형 PDP를 작성하였다. 이 DC형 PDP는 제11∼12도에 표시된 바와같이 전면유리판(1)에는 양극(6)이 형성되어 있고, 또 전면유리판(1) 내면에는 형광체(11)가 도트되어 있다. 한편, 배면유리판(5)에는 음극(7)이 형성되어 있다. 그리고, 양극(6)과 음극(7)은 직각 교차하여 도트매트릭스를 형성하도록 되어 있다. 이와 같이 해서 형성도트수 100×100의 DC형 PDP를 얻을 수 있었다. 또한, 봉입가스는 He-Xe(2%) 300Torr를 사용하였다.Next, as shown in FIGS. 11 to 12, the lattice-shaped perforated metal plate 4 and the stripe-shaped dielectric 10 having the dielectric deposited thereon are sandwiched between the front glass plate 1 and the rear glass plate 5. Using this as a partition wall, sealing with a low melting glass frit, vacuum exhausting and gas sealing through a tip tube, sealing the tip tube, and created DC type PDP. In this DC type PDP, as shown in Figs. 11 to 12, the anode 6 is formed on the front glass plate 1, and the phosphor 11 is dotted on the inner surface of the front glass plate 1. On the other hand, the negative electrode 7 is formed in the back glass plate 5. The anode 6 and the cathode 7 cross each other at right angles to form a dot matrix. In this manner, a DC-type PDP having a number of formed dots of 100 × 100 was obtained. In addition, the encapsulated gas was He-Xe (2%) 300 Torr.

이와 같이 해서 얻어진 DC형 PDP는 고정밀세밀도화에 적응성, 가공성, 방전 전압특성의 균일성, 크로스토오크 특성의 모든 것에 뛰어나 있었다.The DC-type PDP thus obtained was excellent in all of adaptability, workability, uniformity of discharge voltage characteristics, and crosstalk characteristics for high precision.

[실시예 4]Example 4

실시예 2에서 사용한 표면에 유전체로 피착된 격자형상의 유공금속판을 격벽에 사용한 DC형 PDP를 하기에 표시한 대로 작성하였다. 즉, 제13∼14도에 표시된 바와 같이 제1전극(14)으로서 박막 Al을 0.2mm피치로서, 라인폭 0.1mm의 스트라이프형상으로 형성하고, 그 위에 유전체층(2)으로서 ZnO-B2O3-SiO2계 유리분말에 Al2O3를 소량 분말을 비히클과 혼련해서 페이스트화 하고, 스크리인 인쇄법으로 베타인쇄하여 580℃에서 소성하였다. 다음에 유전체층상에 제1전극(14)과 직각교차하는 방향으로 제2전극(13)으로서 Ni페이스트를 사용하고, 스크리인 인쇄법에 의해 0.2mm 피치로서 라인폭 0.1mm의 스트라이프 형상으로 형성하고 580℃로 소성하였다. 또, 제1전극(14)과 제2전극(12)의 교차점의 제2전극(13)위에 형광체를 도포하였다.The DC type PDP using the lattice-shaped perforated metal plate deposited on the surface used in Example 2 as a dielectric for partition walls was created as shown below. That is, as shown in FIGS. 13 to 14, the thin film Al is formed in a stripe shape with a line width of 0.1 mm as 0.2 mm pitch as the first electrode 14, and ZnO-B 2 O 3 is formed thereon as the dielectric layer 2 thereon. A small amount of Al 2 O 3 powder was kneaded with a vehicle to paste into a -SiO 2 -based glass powder, betained by screen printing, and calcined at 580 ° C. Next, Ni paste was used as the second electrode 13 in the direction perpendicular to the first electrode 14 on the dielectric layer, and was formed in a stripe shape with a line width of 0.1 mm by 0.2 mm pitch by screen printing. And it baked at 580 degreeC. In addition, a phosphor was coated on the second electrode 13 at the intersection of the first electrode 14 and the second electrode 12.

제3전극(12)으로 되는 유공금속판전극은, 유공금속판으로 되는 격벽(4)의 기체금속과 마찬가지의 재질, 동일형상의 금속판을 사용하였다. 또한, 이 격벽(4)은 유공금속판 2매에 의해 형성되어 있다.As the porous metal plate electrode serving as the third electrode 12, a metal plate having the same material and the same shape as the base metal of the partition wall 4 serving as the porous metal plate was used. In addition, the partition 4 is formed of two perforated metal plates.

다음에 배면유리판(5)위에 상기 설명과 같이 하여 얻어진 유공금속판으로 이루어진 격벽(4)을 두고, 또 제3전극(12)이 배치된 전면유리판(1)으로 끼우고, 저융점 유리프릿으로 밀봉하고, 팁관을 통과해서 진공배기 및 가스봉입한 후, 팁관을 봉해버리고 DC형 PDP를 작성하였다. 또한 봉입가스는 Ne-Ar(0.5%) 350Torr를 사용하였다.Next, a partition wall 4 made of a porous metal plate obtained as described above is placed on the rear glass plate 5 and sandwiched by a front glass plate 1 on which the third electrode 12 is disposed, and sealed with a low melting glass frit. After passing through the tip tube and vacuum evacuation and gas sealing, the tip tube was sealed to prepare a DC-type PDP. In addition, 350-rr of Ne-Ar (0.5%) was used as the encapsulation gas.

이와 같이 해서 얻어진 DC형 PDP는 음극의 내스패터성, 음극의 전류밀도, 방전유지전압, 가공성(양산성)의 모든 것에 뛰어나 있었다.The DC-type PDP thus obtained was excellent in all of the sputter resistance of the cathode, the current density of the cathode, the discharge holding voltage, and the workability (mass production).

[실시예 5]Example 5

격벽이 되는 유공금속판으로서 선열팽창계수가 92×10-7/℃인 42중량% Ni-6중량% Cr-Fe합금을 사용하였다. 금속판 두께는 75μm, 뚫린구멍의 배열은 정방형을 종횡등 피치로 다수 병열한 격자형상으로 하고, 그 피치는 0.2mm, 뚫린구멍사이즈는 0.17×0.17mm로 하고, 에칭가공에 의해 다수의 뚫린구멍을 형성하고, 유공금속판(A타입)으로 하였다. 또, 동일한 유공금속판으로서, 판압 75μm, 셀피치 0.15mm, 뚫린구멍사이즈 0.12×0.12mm것(B타입)하고 2개 종류용으로 하였다.As the porous metal plate serving as the partition wall, 42 wt% Ni-6 wt% Cr-Fe alloy having a coefficient of thermal expansion of 92 × 10 −7 / ° C. was used. The plate thickness is 75μm, and the arrangement of the holes is square in the form of lattice in parallel with the vertical and horizontal pitches.The pitch is 0.2mm and the size of the holes is 0.17 × 0.17mm. It formed, and it was set as the porous metal plate (A type). In addition, as the same perforated metal sheet, a plate pressure of 75 µm, a cell pitch of 0.15 mm, and a hole size of 0.12 x 0.12 mm (type B) were used for two types.

유전체 재료로서는 연화점 800℃, 평균입자직경 2∼3μm의 ZnO-B2O3O2계 유리분말 및 Al2O3, Fe2O3ㆍCr2O3등의 무기필러를 사용하였다. 열간압착성을 가진 아크릴수지를 BCA(부틸카르비톨아세테이트) 또는 파인오일 등의 유기용제에 용해시켜서, 전사인쇄용 비히클로 하였다. 이 비히클은 수지분 50∼80중량부와 용제분 20∼50중량부로 이루어진다. 다음에 이 비히클 5∼20중량부에 대해서, 유리분말 및 무기필러 80∼95중량부를 혼련하여 전사인쇄용 페이스트로 하였다. 이 페이스트를 박리기체의 폴리에스테르필름상에, 스크리인 인쇄법에 의해 베타인쇄하여 90℃로 충분히 건조시킨다. 건조한 전사시이트를 열간로울러 또는 열간평형프레스에 의해, 유공금속판에 압착시켰다. 압착후, 전사시이트를 벗기고, 유전체층이 형성된 유공금속판을 대기중에 있어서 600∼680℃로 소성하고, 유전체층을 완전히 무기질로 또한 치밀한 막으로 만들어서 유공금속판 표면에 절연층을 얻을 수 있었다.As the dielectric material, ZnO-B 2 O 3 O 2 -based glass powder having a softening point of 800 ° C. and an average particle diameter of 2 to 3 μm, and inorganic fillers such as Al 2 O 3 , Fe 2 O 3 and Cr 2 O 3 were used. The acrylic resin having hot compressibility was dissolved in an organic solvent such as BCA (butyl carbitol acetate) or fine oil to form a transfer printing vehicle. This vehicle consists of 50-80 weight part of resin powders, and 20-50 weight part of solvent powders. Next, with respect to 5 to 20 parts by weight of the vehicle, 80 to 95 parts by weight of the glass powder and the inorganic filler were kneaded to obtain a transfer printing paste. This paste is beta-printed by the screen printing method on the polyester film of a peeling gas, and is fully dried at 90 degreeC. The dry transfer sheet was pressed onto the perforated metal plate by a hot roller or a hot equilibrium press. After pressing, the transfer sheet was peeled off, and the porous metal plate on which the dielectric layer was formed was fired at 600 to 680 ° C. in the air, and the dielectric layer was completely made of an inorganic and dense film to obtain an insulating layer on the surface of the porous metal plate.

다음에, 이 유공금속판을 격벽으로 사용한 DC형 PDP를 하기에 표시한 대로 작성하였다. 즉, 제6도에 표시한 바와 같이, 격벽(4)으로서 유공금속판을 사용하고, 이 격벽(4)을 미리 전극이 형성되어 있는 2매의 전면유리판(1)과 배면유리판(5)의 사이에 끼워서 주위를 봉지유리로 밀봉해서, X-Y 매트릭스의 DC형 PDP로 형성하였다.Next, DC type PDP using this porous metal plate as a partition was created as shown below. That is, as shown in FIG. 6, a porous metal plate is used as the partition 4, and this partition 4 is used between the two front glass plates 1 and the rear glass plate 5 in which electrodes are formed in advance. The circumference | surroundings were sealed by sealing glass, and it formed in DC type PDP of XY matrix.

이 DC형 PDP의 봉지상황은 양호하고, 응력찌그러짐에 의한 파손 등의 문제는 발생하지 않았다.The sealing situation of this DC-type PDP was favorable, and there was no problem such as breakage due to stress distortion.

이와 같은 DC형 PDP는 셀피치가 다른 A타입, B타입 어느쪽에 대해서도 개구율을 떨어뜨리는 일 없이 양호한 결과를 얻을 수 있었다.Such a DC-type PDP was able to obtain satisfactory results without dropping the aperture ratio in either of the A type and B type with different cell pitches.

Claims (11)

전면유리판(1), 배면판(5) 및 0.01∼1.0mm의 두께를 가지는 격벽(4)이 일체적으로 밀봉되고, 상기 격벽(4)은 방전셀용의 복수개의 구멍을 가지는 금속시이트로 이루어지고, 상기 방전셀용의 복수개의 구멍은 제1의 평행전극군(6)과 제2의 평행전극군(7)이 플라즈마 디스플레이의 수직면에 있어서 소정의 간격을 두고 서로 교차하는 위치에 형성되고, 상기 격벽(4)의 상면 및 하면이 적어도 한쪽은, 유리 또는 유리를 함유하는 무기유전체 재료로부터 선택되는 적어도 1종으로 이루어지는 절연층(2)으로 피복되고, 상기 방전셀용의 복수개의 구멍배치의 최소피치는 0.4mm이하이고, 구멍의 표시영역에 있어서의 수평균 개공율은 프레임부분을 제외하고 35% 이상이며, 상기 방전셀용의 복수개의 구멍에는 이온화성의 가스가 충전되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이패널.The front glass plate 1, the back plate 5 and the partition 4 having a thickness of 0.01 to 1.0 mm are integrally sealed, and the partition 4 is made of a metal sheet having a plurality of holes for discharge cells. And the plurality of holes for the discharge cells are formed at positions where the first parallel electrode group 6 and the second parallel electrode group 7 cross each other at predetermined intervals in the vertical plane of the plasma display. At least one of the upper and lower surfaces of (4) is covered with an insulating layer 2 composed of at least one selected from glass or an inorganic dielectric material containing glass, and the minimum pitch of the plurality of hole arrangements for the discharge cells is 0.4 mm or less, the number-average porosity in the hole display area is 35% or more excluding the frame portion, and the plurality of holes for the discharge cells are filled with ionizable gas. Display panel. 제1항에 있어서, 상기 격벽(4)이 철, 니켈, 크롬 및 코발트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 금속을 함유하는 합금 시이트로 구성되는 플라즈마 디스플레이패널.The plasma display panel according to claim 1, wherein the partition wall (4) is made of an alloy sheet containing at least one metal selected from the group consisting of iron, nickel, chromium and cobalt. 제1항에 있어서, 상기 절연층(2)에 사용되는 유리가 350∼1000℃의 연화점을 가지는 플라즈마 디스플레이패널.The plasma display panel according to claim 1, wherein the glass used for the insulating layer (2) has a softening point of 350 to 1000 占 폚. 제1항에 있어서, 상기 격벽(4)의 표시영역에 있어서의 전체표면이 2∼40μm의 두께를 가지는 상기 절연층(2)으로 피복되어 있는 플라즈마 디스플레이패널.The plasma display panel according to claim 1, wherein the entire surface of the partition wall (4) is covered with the insulating layer (2) having a thickness of 2 to 40 µm. 제1항에 있어서, 상기 격벽(4)이 상기 2개의 평행전극군(6, 7)과는 독립적으로 방전전극으로서 사용되는 플라즈마 디스플레이패널.A plasma display panel according to claim 1, wherein said partition (4) is used as a discharge electrode independently of said two parallel electrode groups (6, 7). 제1항에 있어서, 상기 방전셀용의 복수개의 구멍을 가지는 복수개의 금속 시이트가 서로 그 구멍의 같은 위치에서 적층되는 플라즈마 디스플레이패널.The plasma display panel according to claim 1, wherein a plurality of metal sheets having a plurality of holes for the discharge cells are stacked at the same positions of the holes. 제1항에 있어서, 상기 방전셀용의 복수개의 구멍의 내면에 형광체가 피착되는 플라즈마 디스플레이 패널.The plasma display panel of claim 1, wherein phosphors are deposited on inner surfaces of the plurality of holes for the discharge cells. 두께가 0.01∼1mm이고, 두께방향으로 방전공간형성에 이용되는 매트릭스 배열된 복수개의 구멍이 형성되고, 이들 복수개의 구멍의 배열최소 피치가 0.4mm이하이고, 구멍이 배열되는 부분의 수평균 개구율이 프레임부분을 제외하고 35%이상인 금속 시이트로서, 적어도 프레임부분을 제외한 금속 시이트의 상면, 하면 혹은 구멍내면을 포함하는 전체면중 적어도 하나가, 유리 혹은 유리를 함유하는 무기유전체 재료에서 선택되는 적어도 하나의 유전체로 피복되는 것을 특징으로 하는 격벽.A plurality of holes having a thickness of 0.01 to 1 mm and arranged in a matrix for forming discharge spaces in the thickness direction are formed, the minimum pitch of the array of these holes is 0.4 mm or less, and the number average aperture ratio of the portion where the holes are arranged is At least 35% of the metal sheet excluding the frame portion, wherein at least one of the upper surface, the lower surface, or the entire surface including the inner surface of the metal sheet excluding the frame portion is at least one selected from glass or an inorganic dielectric material containing glass A partition wall, characterized by being covered with a dielectric of. 제8항에 있어서, 상기 격벽(4)의 구멍내면에 가스방전에서 발생하는 자외선에 의해 가시발광하는 형광체가 피착되는 격벽.9. The barrier rib according to claim 8, wherein phosphors which emit visible light by ultraviolet rays generated by gas discharge are deposited on the inner surface of the barrier rib (4). 격벽(4)의 두께가 0.01∼1mm이고, 두께방향으로 방전공간형성에 이용되는 매트릭스 배열된, 복수개의 구멍의 배열최소피치가 0.4mm이하이고 이 복수개의 구멍이 형성되는 부분의 개구율이 35%이상이되록 구멍을 형성하고, 상기 격벽(4)을 전착조작의 1개의 전극으로서 사용하여 유리 혹은 유리를 함유하는 무기유전체로부터 선택되는 적어도 1개의 유전체 분체를 현탁시킨 액체중에서, 이분체를 격벽(4)의 적어도 단자접속부분을 제외한 전체면에 전착한 후 가열하여 유리를 용용시켜 고착하고, 전면 유리판(1)과 배면판(5)의 적어도 한쪽에 평행한 라인형상 제1전극군(6)과 제2전극군(7)을 형성하고, 상기 전면 유리판(1)과 배면판(5)을 상기 전극군(6, 7)이 서로 교체하게 되는 위치에 상기 격벽(4)의 구멍이 대응하도록 하여 상기 전면 유리판(1)과 배면판(5)에서 상기 격벽(4)을 끼우고, 주위를 봉지유리로 기밀한 후, 이온화성의 가스를 충전하여 밀봉하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이패널의 제조방법.The partition wall 4 has a thickness of 0.01 to 1 mm, a minimum pitch of an array of a plurality of holes arranged in a matrix used in forming a discharge space in the thickness direction of 0.4 mm or less, and an opening ratio of a portion where the plurality of holes are formed is 35%. As described above, the dividing powder is formed into a partition wall 4 in a liquid in which at least one dielectric powder selected from glass or an inorganic dielectric containing glass is suspended using the partition 4 as an electrode for electrodeposition. Electrode is deposited on the entire surface except at least the terminal connecting portion, and is heated to melt and fix the glass, and the line-shaped first electrode group 6 parallel to at least one of the front glass plate 1 and the back plate 5 and The second electrode group 7 is formed, and the front glass plate 1 and the back plate 5 correspond to the holes of the partition wall 4 at positions where the electrode groups 6 and 7 replace each other. On the front glass plate (1) and the back plate (5) Insert the partition walls 4, after the airtight sealing glass around a method for producing a chemical conversion ion plasma display panel characterized in that the charge to seal the gas. 제10항에 있어서, 상기 유전체 분체를 유기수지를 함유하는 액체비히클과 함께 혼련하고, 이 혼련물을 박리성 기체위에 성막한 후에 상기 격벽(4)용의 금속 시이트를 포개고, 실온 혹은 가열하여 가압밀착 후, 박리성 기체를 제거하므로서 유전체 막을 상기 금속 시이트 표면에 전사하고, 그후, 가열하여 액체비히클을 비산하는 동시에, 유전체 층을 금속 시이트의 편면 혹은 양면에 고착하여 형성되는 플라즈마 디스플레이패널의 제조방법.11. The method of claim 10, wherein the dielectric powder is kneaded together with a liquid vehicle containing an organic resin, and the kneaded product is formed on a peelable gas, and then the metal sheet for the partition wall 4 is overlaid, and heated or pressurized by room temperature. After adhesion, the method of manufacturing a plasma display panel is formed by transferring a dielectric film onto the surface of the metal sheet while removing the peelable gas, and then heating to scatter the liquid vehicle and adhering the dielectric layer to one or both surfaces of the metal sheet. .
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