JP2732947B2 - リフロー錫及びリフローはんだめっき材の製造方法 - Google Patents
リフロー錫及びリフローはんだめっき材の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、リフロー錫及びリフロ
ーはんだめっき材の製造方法に関するもので、特にリフ
ロー後に良好なめっき表面光沢を得、なおかつ広い電流
密度範囲を得るための方法に関する。
ーはんだめっき材の製造方法に関するもので、特にリフ
ロー後に良好なめっき表面光沢を得、なおかつ広い電流
密度範囲を得るための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】銅または銅合金上の錫めっき及びはんだ
めっき材は、端子、コネクター等の弱電部品に多用され
ている。近年、電子機器の▲高▼密度実装化がいっそう
進み、回路間隔が非常にせまくなってきた。そのため回
路短絡の原因となりうる、光沢錫めっき材に発生するウ
イスカーや、光沢はんだめっき材をプレス加工したとき
に発生するヒゲバリ等の異常は、電子部品の信頼性の観
点から非常に問題である。リフロー錫及びリフローはん
だめっき材には、ウイスカーやヒゲバリの発生は見られ
ないことより、これらのリフローめっき材の需要は近年
著しい増加傾向を示している。
めっき材は、端子、コネクター等の弱電部品に多用され
ている。近年、電子機器の▲高▼密度実装化がいっそう
進み、回路間隔が非常にせまくなってきた。そのため回
路短絡の原因となりうる、光沢錫めっき材に発生するウ
イスカーや、光沢はんだめっき材をプレス加工したとき
に発生するヒゲバリ等の異常は、電子部品の信頼性の観
点から非常に問題である。リフロー錫及びリフローはん
だめっき材には、ウイスカーやヒゲバリの発生は見られ
ないことより、これらのリフローめっき材の需要は近年
著しい増加傾向を示している。
【０００３】錫およびはんだめっき浴には酸として、ほ
うふっ酸や硫酸を用いることが多かった。これらの浴か
らのリフロー錫およびはんだめっきは比較的容易に製造
できた。しかし、ほうふっ酸は毒性が高く廃水処理にコ
ストがかかるという欠点を、硫酸では浴を▲高▼温にす
ると錫が酸化し多量のスライムが発生するという欠点を
有している。そのため近年、より毒性が低く、高温にし
ても錫が酸化されにくい有機酸を用いることが多くなっ
てきた。有機酸にはアルカンスルホン酸やアルカノール
スルホン酸、フエノールスルホン酸等が用いられること
が多い。また錫およびはんだめっき浴では、酸及び金属
塩の他に界面活性剤をめっき浴中に添加する。これは、
界面活性剤を添加しないとめっきがデンドライト状に成
長してしまい、めっき皮膜を形成しないためである。界
面活性剤は主に非イオンの界面活性剤が用いられること
が多い。
うふっ酸や硫酸を用いることが多かった。これらの浴か
らのリフロー錫およびはんだめっきは比較的容易に製造
できた。しかし、ほうふっ酸は毒性が高く廃水処理にコ
ストがかかるという欠点を、硫酸では浴を▲高▼温にす
ると錫が酸化し多量のスライムが発生するという欠点を
有している。そのため近年、より毒性が低く、高温にし
ても錫が酸化されにくい有機酸を用いることが多くなっ
てきた。有機酸にはアルカンスルホン酸やアルカノール
スルホン酸、フエノールスルホン酸等が用いられること
が多い。また錫およびはんだめっき浴では、酸及び金属
塩の他に界面活性剤をめっき浴中に添加する。これは、
界面活性剤を添加しないとめっきがデンドライト状に成
長してしまい、めっき皮膜を形成しないためである。界
面活性剤は主に非イオンの界面活性剤が用いられること
が多い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】これら有機酸とその錫
および鉛塩からなる浴に単一の非イオン系界面活性剤を
添加しためっき浴では、電着面の平滑度が安定しないた
め、安定したリフローめっきは得られなかった。また、
これを改善するために、従来から錫およびはんだめっき
浴に使用されている光沢剤を添加すると、電着面の平滑
化は図れるが、リフロー処理においてめっき皮膜中に共
析した光択剤が分解もしくは気化し、めっき表面にクレ
ータ状の異常や変化が発生してしまい、外観のみなら
ず、はんだ付け性の低下をまねくため、実用不可であ
る。
および鉛塩からなる浴に単一の非イオン系界面活性剤を
添加しためっき浴では、電着面の平滑度が安定しないた
め、安定したリフローめっきは得られなかった。また、
これを改善するために、従来から錫およびはんだめっき
浴に使用されている光沢剤を添加すると、電着面の平滑
化は図れるが、リフロー処理においてめっき皮膜中に共
析した光択剤が分解もしくは気化し、めっき表面にクレ
ータ状の異常や変化が発生してしまい、外観のみなら
ず、はんだ付け性の低下をまねくため、実用不可であ
る。
【０００５】また、これらのめっき浴は限界電流密度も
低く、高効率のめっきを行なうには、▲高▼温にした
り、▲高▼攪拌を行なう必要があった。
低く、高効率のめっきを行なうには、▲高▼温にした
り、▲高▼攪拌を行なう必要があった。
【０００６】以上のことより、有機酸浴を使用し、安定
したリフロー後のめっき表面と、▲高▼い限界電流密度
をもつリフロー錫およびリフローはんだめっき材の製造
方法の開発が望まれていた。
したリフロー後のめっき表面と、▲高▼い限界電流密度
をもつリフロー錫およびリフローはんだめっき材の製造
方法の開発が望まれていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、銅又
は、銅合金材に、酸性の錫めっき浴又ははんだめっき浴
として前記一般式〔１〕で表わされる有機化合物〔式
中、Ｒは炭素数１０〜２０のアルキル基〕を０．１〜１
０ｇ／ｌ添加し、さらに前記一般式〔２〕〜〔４〕で表
わされるノニオン系界面活性剤の１種又は２種以上の混
合物を０．１〜５０ｇ／ｌ添加しためっき浴を用いてリ
フロー錫又はリフローはんだめっき材の製造することに
ある。
は、銅合金材に、酸性の錫めっき浴又ははんだめっき浴
として前記一般式〔１〕で表わされる有機化合物〔式
中、Ｒは炭素数１０〜２０のアルキル基〕を０．１〜１
０ｇ／ｌ添加し、さらに前記一般式〔２〕〜〔４〕で表
わされるノニオン系界面活性剤の１種又は２種以上の混
合物を０．１〜５０ｇ／ｌ添加しためっき浴を用いてリ
フロー錫又はリフローはんだめっき材の製造することに
ある。
【０００８】ノニオン系界面活性剤として、前述の一般
式〔２〕〜〔４〕で表わされる界面活性剤の１種類又は
２種以上の混合物を前記一般式〔１〕で表わされる有機
化合物と共に用いた場合に、安定したリフロー後のめっ
き表面と高い限界電流密度をもつリフロー錫及びリフロ
ーはんだめっき材の製造方法が得られる。
式〔２〕〜〔４〕で表わされる界面活性剤の１種類又は
２種以上の混合物を前記一般式〔１〕で表わされる有機
化合物と共に用いた場合に、安定したリフロー後のめっ
き表面と高い限界電流密度をもつリフロー錫及びリフロ
ーはんだめっき材の製造方法が得られる。
【０００９】本発明は、上述したように有機酸を遊離酸
の主成分とする酸性めっき浴に［１］で示される化合物
を添加することにより、その得られるめっき材の電着表
面を平滑とし、リフロー処理後に良好な鏡面光沢とする
ものである。さらに、この化合物を添加した浴は、その
良好なめっきが得られる電流密度範囲が特に▲高▼電流
密度側に広くなり、結果として▲高▼効率のめっきが可
能になる。
の主成分とする酸性めっき浴に［１］で示される化合物
を添加することにより、その得られるめっき材の電着表
面を平滑とし、リフロー処理後に良好な鏡面光沢とする
ものである。さらに、この化合物を添加した浴は、その
良好なめっきが得られる電流密度範囲が特に▲高▼電流
密度側に広くなり、結果として▲高▼効率のめっきが可
能になる。
【００１０】化合物［１］は従来の光沢剤とは異なり、
リフロー処理を行なってもクレータ状の異常の発生や変
色の発生は見られない。
リフロー処理を行なってもクレータ状の異常の発生や変
色の発生は見られない。
【００１１】化合物［１］中のＲで示されるアルキル基
の炭素数は１０以上２０以下であることが必要である。
炭素数が１０未満の場合はその添加効果が極端に低くな
り、溶解限界まで添加してもほとんど添加効果が認めら
れない。また炭素数が２０を超えるとめっき状態が悪化
し、均一なめっきができなくなる。時には無めっきを発
生することもある。
の炭素数は１０以上２０以下であることが必要である。
炭素数が１０未満の場合はその添加効果が極端に低くな
り、溶解限界まで添加してもほとんど添加効果が認めら
れない。また炭素数が２０を超えるとめっき状態が悪化
し、均一なめっきができなくなる。時には無めっきを発
生することもある。
【００１２】化合物［１］は０．１〜１０ｇ／ｌの添加
が適当である。これは０．１ｇ／ｌ未満ではレベリング
効果が充分ではなく、良好なめっき表面を得られず、ま
た１０ｇ／ｌを超えると、未溶解の化合物［１］が材料
表面に付着し、無めっきが発生する可能性があるためで
ある。化合物［１］のめっき浴への溶解度は、Ｒで表わ
されるアルキル基の炭素数やめっき浴組成によって異な
るため、その上限は正確には不明であるが、１０ｇ／ｌ
程度が上限であると考えられる。
が適当である。これは０．１ｇ／ｌ未満ではレベリング
効果が充分ではなく、良好なめっき表面を得られず、ま
た１０ｇ／ｌを超えると、未溶解の化合物［１］が材料
表面に付着し、無めっきが発生する可能性があるためで
ある。化合物［１］のめっき浴への溶解度は、Ｒで表わ
されるアルキル基の炭素数やめっき浴組成によって異な
るため、その上限は正確には不明であるが、１０ｇ／ｌ
程度が上限であると考えられる。
【００１３】化合物［１］の添加効果は、めっき浴中に
どの様な界面活性剤が存在していても見られるが、特に
［２］〜［４］の界面活性剤が存在する場合に大きな効
果を示す。また、［２］〜［４］の界面活性剤は比較的
発泡性が低いため、浴を▲高▼撹拌させるジェットセル
等に用いても発泡による不具合は発生せず、化合物
［１］の効果と併せてきわめて▲高▼い電流効率を可能
とする。
どの様な界面活性剤が存在していても見られるが、特に
［２］〜［４］の界面活性剤が存在する場合に大きな効
果を示す。また、［２］〜［４］の界面活性剤は比較的
発泡性が低いため、浴を▲高▼撹拌させるジェットセル
等に用いても発泡による不具合は発生せず、化合物
［１］の効果と併せてきわめて▲高▼い電流効率を可能
とする。
【００１４】このめっきに用いられる前処理、下地銅め
っき、およびニッケルめっきの条件は公知のことであ
り、これらの中から適宜選択して実施することができ
る。
っき、およびニッケルめっきの条件は公知のことであ
り、これらの中から適宜選択して実施することができ
る。
【００１５】はんだめっきは錫９０ｗｔ％−鉛１０ｗｔ
％または錫６０ｗｔ％−鉛４０ｗｔ％のものが多く用い
られる。この組成はめっき浴中の錫イオンと鉛イオンの
比率を調整することによって容易に調整できる。錫およ
びはんだめっきの厚さは通常０．５〜３μｍである。リ
フロー処理には、プロパン、ブタン等の直火型の炉の
他、電気炉、赤外線炉、高周波加熱炉等いずれを用いて
もよく、また、その炉内雰囲気についても特に規定しな
い。ただし、炉内の酸素濃度が▲高▼い場合には、酸化
による光沢不良が発生するために均一な表面となりにく
い。そのため酸素濃度は低い方が好ましい。リフロー処
理前にフラックス処理、すなわち薄い酸もしくはめっき
液に浸漬してリフロー後の表面光沢をもたせる処理を行
なうことがあるが、本めっき浴についてはこのフラック
ス処理を施さなくても良好な表面光沢を持つめっき材が
得られる。又、めっき浴を▲高▼撹拌し、陰極電流密度
が１０Ａ／ｄｍ２以上でめっきをすると特に有効であ
る。
％または錫６０ｗｔ％−鉛４０ｗｔ％のものが多く用い
られる。この組成はめっき浴中の錫イオンと鉛イオンの
比率を調整することによって容易に調整できる。錫およ
びはんだめっきの厚さは通常０．５〜３μｍである。リ
フロー処理には、プロパン、ブタン等の直火型の炉の
他、電気炉、赤外線炉、高周波加熱炉等いずれを用いて
もよく、また、その炉内雰囲気についても特に規定しな
い。ただし、炉内の酸素濃度が▲高▼い場合には、酸化
による光沢不良が発生するために均一な表面となりにく
い。そのため酸素濃度は低い方が好ましい。リフロー処
理前にフラックス処理、すなわち薄い酸もしくはめっき
液に浸漬してリフロー後の表面光沢をもたせる処理を行
なうことがあるが、本めっき浴についてはこのフラック
ス処理を施さなくても良好な表面光沢を持つめっき材が
得られる。又、めっき浴を▲高▼撹拌し、陰極電流密度
が１０Ａ／ｄｍ２以上でめっきをすると特に有効であ
る。
【００１６】以上述べたように、本発明にしたがって錫
及びはんだめっきを行い、ついでリフロー処理を行なう
と、▲高▼効率で、外観、耐食性及びはんだ付け性等の
品質に優れたリフロー錫及びはんだめっき材を製造する
ことができる。
及びはんだめっきを行い、ついでリフロー処理を行なう
と、▲高▼効率で、外観、耐食性及びはんだ付け性等の
品質に優れたリフロー錫及びはんだめっき材を製造する
ことができる。
【００１７】
【実施例】以下に実施例により、本発明とその効果を具
体的に説明する。０．２ｍｍ厚の銅およびバネ用りん青
銅（Ｓｎ８％）板をアルカリ脱脂及び電解脱脂を行い、
ついで酸洗中和した後、各例に示す条件で錫めっきを施
し、電気炉内（大気中）で７００℃に５〜１０秒保持す
る手順でリフロー処理を行った。又、上記によりリフロ
ー錫及びはんだめっきにして得られためっき材について
の評価は下記により判定した。
体的に説明する。０．２ｍｍ厚の銅およびバネ用りん青
銅（Ｓｎ８％）板をアルカリ脱脂及び電解脱脂を行い、
ついで酸洗中和した後、各例に示す条件で錫めっきを施
し、電気炉内（大気中）で７００℃に５〜１０秒保持す
る手順でリフロー処理を行った。又、上記によりリフロ
ー錫及びはんだめっきにして得られためっき材について
の評価は下記により判定した。
【００１８】外観については、光沢が均一で良好であっ
て、クレータ状の異常や変色のないめっきを良と判定し
た。
て、クレータ状の異常や変色のないめっきを良と判定し
た。
【００１９】はんだ付け性については、めっき試験片を
１時間エージング（ＭＩＬＳＴＤ−２０２Ｅ ２０８Ｃ
に準拠）した後、６０Ｓｎ／４０Ｐｂ（２３０±５℃）
のはんだ浴に浸漬し、メニスコグラフ法による濡れに至
るまでの時間ｔ２を測定して判定した。
１時間エージング（ＭＩＬＳＴＤ−２０２Ｅ ２０８Ｃ
に準拠）した後、６０Ｓｎ／４０Ｐｂ（２３０±５℃）
のはんだ浴に浸漬し、メニスコグラフ法による濡れに至
るまでの時間ｔ２を測定して判定した。
【００２０】塩水噴霧試験は、ＪＩＳ Ｚ ２３７１に
準拠して行い、５時間の噴霧で白錆が発生しないものを
良と判定した。又、各化合物はそれぞれ下記のものを用
いた。式［１］では、ＲがＣ＝１１のアルキル基のも
の、式［２］では、ｎ＝２５のもの、式［３］では、ｘ
＝５、ｙ＝５のもの、式［４］ではｘ＝８、ｙ＝５のも
のを用いた。 実施例１ 浴組成： ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン
酸５０ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤
［２］１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／
ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は
外観良ではんだ付性１７（秒）耐塩水噴霧性は良であっ
た。 実施例２ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０
ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、
銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は外観良で、
はんだ付性１．６（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 実施例３ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ２Ｈ５ＳＯ３Ｈ ４
５ｇ／ｌ、化合物［１］３８／１、界面活性剤［４］１
０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ
２で、りん青銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質
は外観良で、はんだ付性１．７（秒）、耐塩水噴霧性は
良であった。 実施例４ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ３Ｈ５（ＯＨ）ＳＯ
３Ｈ ４５ｇ／ｌ、化合物 ［１］３ｇ／ｌ、界面活性
剤［２］１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ
／ｄｍ２で、りん青銅材の表面に錫をめっきした。めっ
き品質は外観良で、はんだ付性１．７（秒）、耐塩水噴
霧性は良であった。 実施例５ 浴組成： （ＣＨ３ＳＯ３）２Ｓｎ ８０ｇ／ｌ、ＣＨ
３ＳＯ３Ｈ ４０ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面
活性剤［４］１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３
０Ａ／ｄｍ２で、りん青銅材の表面に錫をめっきした。
めっき品質は、外観良で、はんだ付性１．６（秒）、耐
塩水噴霧性は良であった。 実施例６ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］
１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２
で、銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は外観良
で、はんだ付性１．７（秒）、耐塩水噴霧性は良であっ
た。 実施例７ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］と界
面活性剤［３］各５ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度
３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきした。めっ
き品質は、外観良 で、はんだ付性１．６（秒）、耐塩
水噴霧性は良であった。 実施例８ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ２Ｈ５ＳＯ３Ｈ ４
５ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］５
ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、
りん青銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は、外
観良で、はんだ付性は１．７（秒）、耐塩水噴霧性は良
であった。 実施例９ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ３Ｈ５（ＯＨ）ＳＯ
３Ｈ ４５ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤
［４］と界面活性剤［３］を各１０ｇ／ｌのめっき浴を
用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２でりん青銅材の表面に錫
をめっきした。めっき品質は、外観良で、はんだ付性は
１．７（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 実施例１０ 浴組成：フェノールスルホン酸錫１００ｇ／ｌ、フェノ
ールスルホン酸鉛７ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸５０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］１０
ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、
りん青銅材の表面に９／１はんだめっきをした。めっき
品質は、外観良で、はんだ付性は１．１（秒）、耐塩水
噴霧性は良であった。 実施例１１ 浴組成：（ＣＨ２ＳＯ３）２Ｓｎ ８６ｇ／ｌ、（ＣＨ
３ＳＯ３）２Ｐｂ ６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０ｇ
／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０ｇ
／ｌの浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表
面に９／１（はんだをめっきした。めっき品質は外観良
で、はんだ付性は１．２（秒）、耐塩水噴霧性は良であ
った。 実施例１２ 浴組成：フェノールスルホン酸錫１００ｇ／ｌ、フェノ
ールスルホン酸鉛７ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸５０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］と界
面活性剤［４］を各５ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密
度３０Ａ／ｄｍ２で、りん青銅材の表面に９／１はんだ
をめっきした。めっき品質は外観良で、はんだ付性は
１．１（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 実施例１３ 浴組成：（ＣＨ３ＳＯ３）２Ｓｎ ８６ｇ／ｌ，（ＣＨ
３ＳＯ３）２Ｐｂ ２４ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０
ｇ／ｌの浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の
表面に６／４はんをだめっきした。めっき品質は外観良
で、はんだ付性は１．０（秒）、耐塩水噴霧性は良であ
った。 比較例１ 浴組成：ＳｎＳＯ３５６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０ｇ／ｌの浴を用い電流密
度３０Ａ／ｄｍ２で銅材の表面に錫をめっきした。めっ
き品質は外観はこげが発生し、はんだ付性は３．６
（秒）、耐塩水噴霧性は不良であった。 比較例２ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ２Ｈ５ＳＯ３Ｈ ４
５ｇ／ｌ、界面活性剤［４］１０ｇ／ｌの浴を用い、電
流密度１０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきし
た。めっき品質は、外観は光沢不良が発生し、はんだ付
性は２．７（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 比較例３ 浴組成：フェノールスルホン酸錫１００ｇ／ｌ、フェノ
ールスルホン酸鉛７ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸４０
ｇ／ｌ、界面活性剤［２］と界面活性剤［４］を各５ｇ
／ｌの浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表
面に９／１はんだをめっきした。めっき品質は外観はこ
げが発生し、はんだ付性は４．１（秒）、耐塩水噴霧性
は不良であった。 比較例４ 浴組成：（ＣＨ３ＳＯ３）２Ｓｎ ８６ｇ／ｌ、（ＣＨ
３ＳＯ３）２Ｐｂ ２４ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流
密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に６／４はんだをめ
っきした。めっき品質は、外観はこげが発生し、はんだ
付性は５（秒）以上、耐塩水噴霧性は不良であった。 比較例５ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、光沢剤（アミンアルデヒド系）１０ｍｌ／
１、界面活性剤［２］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流密度
３０Ａ／ｄｍ２で銅材の表面に錫をめっきした。めっき
品質は外観は、クレータ状の異常が発生し、はんだ付性
は５（秒）以上、耐塩水噴霧性は不良であった。 比較例６ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、化合物［１］（ＲのＣ＝１）３０ｇ／ｌ、
界面活性剤［２］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流密度３０
Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきした。めっき品
質は、外観は、光沢不良が発生し、はんだ付性は１．７
（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 比較例７ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、化合物［１］（ＲのＣ＝３０）３０ｇ／
ｌ、界面活性剤［２］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流密度
３０Ａ／ｄｍ２で銅材の表面に錫をめっきした。
準拠して行い、５時間の噴霧で白錆が発生しないものを
良と判定した。又、各化合物はそれぞれ下記のものを用
いた。式［１］では、ＲがＣ＝１１のアルキル基のも
の、式［２］では、ｎ＝２５のもの、式［３］では、ｘ
＝５、ｙ＝５のもの、式［４］ではｘ＝８、ｙ＝５のも
のを用いた。 実施例１ 浴組成： ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン
酸５０ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤
［２］１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／
ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は
外観良ではんだ付性１７（秒）耐塩水噴霧性は良であっ
た。 実施例２ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０
ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、
銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は外観良で、
はんだ付性１．６（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 実施例３ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ２Ｈ５ＳＯ３Ｈ ４
５ｇ／ｌ、化合物［１］３８／１、界面活性剤［４］１
０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ
２で、りん青銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質
は外観良で、はんだ付性１．７（秒）、耐塩水噴霧性は
良であった。 実施例４ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ３Ｈ５（ＯＨ）ＳＯ
３Ｈ ４５ｇ／ｌ、化合物 ［１］３ｇ／ｌ、界面活性
剤［２］１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ
／ｄｍ２で、りん青銅材の表面に錫をめっきした。めっ
き品質は外観良で、はんだ付性１．７（秒）、耐塩水噴
霧性は良であった。 実施例５ 浴組成： （ＣＨ３ＳＯ３）２Ｓｎ ８０ｇ／ｌ、ＣＨ
３ＳＯ３Ｈ ４０ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面
活性剤［４］１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３
０Ａ／ｄｍ２で、りん青銅材の表面に錫をめっきした。
めっき品質は、外観良で、はんだ付性１．６（秒）、耐
塩水噴霧性は良であった。 実施例６ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］
１０ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２
で、銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は外観良
で、はんだ付性１．７（秒）、耐塩水噴霧性は良であっ
た。 実施例７ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］と界
面活性剤［３］各５ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度
３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきした。めっ
き品質は、外観良 で、はんだ付性１．６（秒）、耐塩
水噴霧性は良であった。 実施例８ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ２Ｈ５ＳＯ３Ｈ ４
５ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］５
ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、
りん青銅材の表面に錫をめっきした。めっき品質は、外
観良で、はんだ付性は１．７（秒）、耐塩水噴霧性は良
であった。 実施例９ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ３Ｈ５（ＯＨ）ＳＯ
３Ｈ ４５ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤
［４］と界面活性剤［３］を各１０ｇ／ｌのめっき浴を
用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２でりん青銅材の表面に錫
をめっきした。めっき品質は、外観良で、はんだ付性は
１．７（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 実施例１０ 浴組成：フェノールスルホン酸錫１００ｇ／ｌ、フェノ
ールスルホン酸鉛７ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸５０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］１０
ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、
りん青銅材の表面に９／１はんだめっきをした。めっき
品質は、外観良で、はんだ付性は１．１（秒）、耐塩水
噴霧性は良であった。 実施例１１ 浴組成：（ＣＨ２ＳＯ３）２Ｓｎ ８６ｇ／ｌ、（ＣＨ
３ＳＯ３）２Ｐｂ ６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０ｇ
／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０ｇ
／ｌの浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表
面に９／１（はんだをめっきした。めっき品質は外観良
で、はんだ付性は１．２（秒）、耐塩水噴霧性は良であ
った。 実施例１２ 浴組成：フェノールスルホン酸錫１００ｇ／ｌ、フェノ
ールスルホン酸鉛７ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸５０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［２］と界
面活性剤［４］を各５ｇ／ｌのめっき浴を用い、電流密
度３０Ａ／ｄｍ２で、りん青銅材の表面に９／１はんだ
をめっきした。めっき品質は外観良で、はんだ付性は
１．１（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 実施例１３ 浴組成：（ＣＨ３ＳＯ３）２Ｓｎ ８６ｇ／ｌ，（ＣＨ
３ＳＯ３）２Ｐｂ ２４ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、化合物［１］３ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０
ｇ／ｌの浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の
表面に６／４はんをだめっきした。めっき品質は外観良
で、はんだ付性は１．０（秒）、耐塩水噴霧性は良であ
った。 比較例１ 浴組成：ＳｎＳＯ３５６ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０ｇ／ｌの浴を用い電流密
度３０Ａ／ｄｍ２で銅材の表面に錫をめっきした。めっ
き品質は外観はこげが発生し、はんだ付性は３．６
（秒）、耐塩水噴霧性は不良であった。 比較例２ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、Ｃ２Ｈ５ＳＯ３Ｈ ４
５ｇ／ｌ、界面活性剤［４］１０ｇ／ｌの浴を用い、電
流密度１０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきし
た。めっき品質は、外観は光沢不良が発生し、はんだ付
性は２．７（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 比較例３ 浴組成：フェノールスルホン酸錫１００ｇ／ｌ、フェノ
ールスルホン酸鉛７ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸４０
ｇ／ｌ、界面活性剤［２］と界面活性剤［４］を各５ｇ
／ｌの浴を用い、電流密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表
面に９／１はんだをめっきした。めっき品質は外観はこ
げが発生し、はんだ付性は４．１（秒）、耐塩水噴霧性
は不良であった。 比較例４ 浴組成：（ＣＨ３ＳＯ３）２Ｓｎ ８６ｇ／ｌ、（ＣＨ
３ＳＯ３）２Ｐｂ ２４ｇ／ｌ、ＣＨ３ＳＯ３Ｈ ４０
ｇ／ｌ、界面活性剤［３］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流
密度３０Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に６／４はんだをめ
っきした。めっき品質は、外観はこげが発生し、はんだ
付性は５（秒）以上、耐塩水噴霧性は不良であった。 比較例５ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、光沢剤（アミンアルデヒド系）１０ｍｌ／
１、界面活性剤［２］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流密度
３０Ａ／ｄｍ２で銅材の表面に錫をめっきした。めっき
品質は外観は、クレータ状の異常が発生し、はんだ付性
は５（秒）以上、耐塩水噴霧性は不良であった。 比較例６ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、化合物［１］（ＲのＣ＝１）３０ｇ／ｌ、
界面活性剤［２］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流密度３０
Ａ／ｄｍ２で、銅材の表面に錫をめっきした。めっき品
質は、外観は、光沢不良が発生し、はんだ付性は１．７
（秒）、耐塩水噴霧性は良であった。 比較例７ 浴組成：ＳｎＳＯ４５６ｇ／ｌ、フェノールスルホン酸
５０ｇ／ｌ、化合物［１］（ＲのＣ＝３０）３０ｇ／
ｌ、界面活性剤［２］１０ｇ／ｌの浴を用い、電流密度
３０Ａ／ｄｍ２で銅材の表面に錫をめっきした。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、有機酸浴を使用して安
定したリフロー後のめっき表面と、▲高▼い限界電流密
度をもつリフロー錫及びリフローはんだめっき材の製造
方法が得られる。
定したリフロー後のめっき表面と、▲高▼い限界電流密
度をもつリフロー錫及びリフローはんだめっき材の製造
方法が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−161183（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−161186（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−67387（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】 銅又は銅合金材に、有機酸を遊離酸の主
成分として含む酸性の錫又ははんだめっき浴により電気
めっきを行った後、めっき層をその融点以上に加熱して
溶融させるリフロー処理を施して、リフロー錫又はリフ
ローはんだめっき材を製造する方法において、酸性の錫
めっき浴又ははんだめっき浴として下記の一般式〔１〕
で表わされる有機化合物〔式中、Ｒは炭素数１０〜２０
のアルキル基〕を０．１〜１０ｇ／ｌ添加し、さらに下
記一般式〔２〕〜〔４〕で表わされるノニオン系界面活
性剤の１種又は２種以上の混合物を０．１〜５０ｇ／ｌ
添加しためっき浴を用いることを特徴とするリフロー錫
又はリフローはんだめっき材の製造方法。 【化１】 - 【請求項２】 めっき浴を高撹拌し、陰極電流密度が１
０Ａ／ｄｍ2以上でめっきをする請求項１記載のリフロ
ー錫又はリフローはんだめっき材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2414089A JP2732947B2 (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | リフロー錫及びリフローはんだめっき材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2414089A JP2732947B2 (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | リフロー錫及びリフローはんだめっき材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04247893A JPH04247893A (ja) | 1992-09-03 |
| JP2732947B2 true JP2732947B2 (ja) | 1998-03-30 |
Family
ID=18522621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2414089A Expired - Fee Related JP2732947B2 (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | リフロー錫及びリフローはんだめっき材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2732947B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5967387A (ja) * | 1982-10-08 | 1984-04-17 | Hiyougoken | すず、鉛及びすず―鉛合金メッキ浴 |
| JPS63161183A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Nippon Mining Co Ltd | リフロ−処理錫めつき材の製造方法 |
| JPS63161186A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Nippon Mining Co Ltd | リフロ−処理錫−鉛合金めつき材の製造方法 |
-
1990
- 1990-12-26 JP JP2414089A patent/JP2732947B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04247893A (ja) | 1992-09-03 |
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