JP2730196B2 - 光カード - Google Patents
光カードInfo
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- JP2730196B2 JP2730196B2 JP1181687A JP18168789A JP2730196B2 JP 2730196 B2 JP2730196 B2 JP 2730196B2 JP 1181687 A JP1181687 A JP 1181687A JP 18168789 A JP18168789 A JP 18168789A JP 2730196 B2 JP2730196 B2 JP 2730196B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、光学的に追加書き込み（記録）が可能な密
着構造の光カードに関するものである。
着構造の光カードに関するものである。
＜従来の技術＞ 近年、多くの産業分野において広く利用されている磁
気カードが、より多くの機能の付加を求められるに至っ
て、磁気カードより記録容量の大きい各種の光カードが
提案されており、なかでも追加書き込みが可能な光カー
ドは利用範囲が広く有望視されている。
気カードが、より多くの機能の付加を求められるに至っ
て、磁気カードより記録容量の大きい各種の光カードが
提案されており、なかでも追加書き込みが可能な光カー
ドは利用範囲が広く有望視されている。
光カードにおける情報の光学的な記録方法としては、
ダイレクトリードアフターライト型式（以下単にDRAW型
と言う）のものが一般的であり、光記録材料にレーザー
光等を照射して昇温させ、物理的，化学的変化を起こさ
せるいわゆるヒートモード記録方式である。したがって
DRAW型の光カードにおいては、レーザー光等の照射によ
る昇温，変化以上の温度変化にさらされない限り記録情
報が変化せず、室内，戸外を問わず取扱や保管が簡便で
ある等の特長がある。
ダイレクトリードアフターライト型式（以下単にDRAW型
と言う）のものが一般的であり、光記録材料にレーザー
光等を照射して昇温させ、物理的，化学的変化を起こさ
せるいわゆるヒートモード記録方式である。したがって
DRAW型の光カードにおいては、レーザー光等の照射によ
る昇温，変化以上の温度変化にさらされない限り記録情
報が変化せず、室内，戸外を問わず取扱や保管が簡便で
ある等の特長がある。
DRAW型の光記録材料の例としては、テルル（Te）等の
低融点金属単体やその合金，酸化物，炭化物が提案され
ており、基板上に保持された光記録材料に、出力変化の
ある半導体レーザー光等を照射して昇温，溶融させ、溶
融したレーザー受光部とその周辺非溶融部との表面張力
の差から、出力変化に応じたピット（孔部）が形成さ
れ、情報が記録されるものである（例えば特公昭59−35
356号を参照）。
低融点金属単体やその合金，酸化物，炭化物が提案され
ており、基板上に保持された光記録材料に、出力変化の
ある半導体レーザー光等を照射して昇温，溶融させ、溶
融したレーザー受光部とその周辺非溶融部との表面張力
の差から、出力変化に応じたピット（孔部）が形成さ
れ、情報が記録されるものである（例えば特公昭59−35
356号を参照）。
DRAW型の光記録材料の他の例としては、各種の有機色
素が提案され、レーザー光等の照射による光記録材料の
昇温，昇華により、同様にピットが形成され、情報が記
録されるものである（例えば特開昭58−112790号を参
照）。
素が提案され、レーザー光等の照射による光記録材料の
昇温，昇華により、同様にピットが形成され、情報が記
録されるものである（例えば特開昭58−112790号を参
照）。
＜発明が解決しようとする課題＞ 一般にキャッシュカード等の磁気カード類は、携帯用
として広く利用されており、携帯時の変型や破損に耐え
得る充分な強度が必要であり、また携帯上又は機能上か
らも極力薄いことが必要である。
として広く利用されており、携帯時の変型や破損に耐え
得る充分な強度が必要であり、また携帯上又は機能上か
らも極力薄いことが必要である。
一方、磁気カードに代わる記録容量の大きいDRAW型の
光カードにおいては、光記録材料がレーザー光等の照射
により溶融または昇華してピットを形成するために、光
記録材料と基板との間に空間層を設ける必要があり、そ
の空間層のために携帯時の充分な強度と薄型化が難しい
等の欠点があった。
光カードにおいては、光記録材料がレーザー光等の照射
により溶融または昇華してピットを形成するために、光
記録材料と基板との間に空間層を設ける必要があり、そ
の空間層のために携帯時の充分な強度と薄型化が難しい
等の欠点があった。
DRAW型の光カードにおける携帯時の強度不足と厚型化
の解決方法としては、空間層に代えて光記録材料の溶
融，昇華したものを吸収する緩衝層を設けることによ
り、基板と光記録材料，緩衝層等の各層を密着一体化し
た各種光カードが研究されている。
の解決方法としては、空間層に代えて光記録材料の溶
融，昇華したものを吸収する緩衝層を設けることによ
り、基板と光記録材料，緩衝層等の各層を密着一体化し
た各種光カードが研究されている。
一般にこのような緩衝層には、熱可塑性樹脂を適当な
溶剤で溶解して、光記録材料に塗布して形成する方法が
試みられている。しかしながら、熱可塑性樹脂を光記録
材料の緩衝層として用いた場合は、光記録材料の記録感
度が著しく低下して、記録情報にむらが生ずる等が障害
となっている。
溶剤で溶解して、光記録材料に塗布して形成する方法が
試みられている。しかしながら、熱可塑性樹脂を光記録
材料の緩衝層として用いた場合は、光記録材料の記録感
度が著しく低下して、記録情報にむらが生ずる等が障害
となっている。
本発明は、熱可塑性樹脂以外の緩衝層および有機色素
系の光記録材料の開発に鋭意努力して、前述の障害の解
消に成功し、記録感度の優れた信頼性の高い密着薄型化
したDRAW型の光カードを提供するものである。
系の光記録材料の開発に鋭意努力して、前述の障害の解
消に成功し、記録感度の優れた信頼性の高い密着薄型化
したDRAW型の光カードを提供するものである。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明は、第１図を基本構成としたDRAW型の光カード
において、緩衝層（４）として色素層を用いたものであ
る。また更に、光記録層（３）としてインドアニリン金
属錯体系色素層を用いることにより、記録感度と信頼性
の向上を図ったものである。
において、緩衝層（４）として色素層を用いたものであ
る。また更に、光記録層（３）としてインドアニリン金
属錯体系色素層を用いることにより、記録感度と信頼性
の向上を図ったものである。
第１図の表面硬化層（１）は、通常はウレタンアクリ
レート，エポキシアクリレートの紫外線硬化樹脂を用い
て、必要があれば設ければ良い。
レート，エポキシアクリレートの紫外線硬化樹脂を用い
て、必要があれば設ければ良い。
第１図の透明基板（２）は、通常はポリカーボネート
樹脂，アクリル樹脂，エポキシ樹脂，ポリエステル樹脂
等が用いられ、レーザー光等での書き込み（記録）及び
読み取り（再生）の際の案内溝（第１図に図示せず）が
設けられている。
樹脂，アクリル樹脂，エポキシ樹脂，ポリエステル樹脂
等が用いられ、レーザー光等での書き込み（記録）及び
読み取り（再生）の際の案内溝（第１図に図示せず）が
設けられている。
第１図の光記録層（３）は、通常はカルボシアニン
系，ナフトキノン系，アントラキノン系，フタロシアニ
ン系，ナフタロシアニン系，インジゴ系，インドアニリ
ン系等の有機色素が用いられ、蒸着法または塗布法によ
り設けられている。しかしながら、DRAW型の光カードは
装置上の制約から、光ディスクに比べて記録，再生時の
レーザー光等の走査速度が遅いために昇温の度合が高
く、光記録層により高い耐熱性が求められている。その
対策のために、本発明の光記録層（３）は、耐熱性等が
優れた下記一般式［１］で表わされるインドアニリン金
属錯体系色素層で構成するものである。
系，ナフトキノン系，アントラキノン系，フタロシアニ
ン系，ナフタロシアニン系，インジゴ系，インドアニリ
ン系等の有機色素が用いられ、蒸着法または塗布法によ
り設けられている。しかしながら、DRAW型の光カードは
装置上の制約から、光ディスクに比べて記録，再生時の
レーザー光等の走査速度が遅いために昇温の度合が高
く、光記録層により高い耐熱性が求められている。その
対策のために、本発明の光記録層（３）は、耐熱性等が
優れた下記一般式［１］で表わされるインドアニリン金
属錯体系色素層で構成するものである。
一般式［１］ （式の中で、R1およびR2は水素原子またはメチル基を表
わし、R3およびR4は低級アルキル基，メチロール基，エ
チロール基またはエチルアミノスルホン酸メチル基を表
わす。また（Ｘ）−はI-,Br-,Cl-,ClO4 -等の陰イオンを
表わす。） 第１図の光記録層（３）は、前記一般式［１］で表わ
されるインドアニリン金属錯体系色素を適当な溶剤に溶
解させ、スピンコート法，ロールコート法またはグラビ
ヤ印刷法で設けることが可能である。
わし、R3およびR4は低級アルキル基，メチロール基，エ
チロール基またはエチルアミノスルホン酸メチル基を表
わす。また（Ｘ）−はI-,Br-,Cl-,ClO4 -等の陰イオンを
表わす。） 第１図の光記録層（３）は、前記一般式［１］で表わ
されるインドアニリン金属錯体系色素を適当な溶剤に溶
解させ、スピンコート法，ロールコート法またはグラビ
ヤ印刷法で設けることが可能である。
第１図の緩衝層（４）は、通常は各種熱可塑性樹脂が
用いられ、塗布法等により設けられている。しかしなが
ら、レーザー光等の照射により光記録層（３）の有機色
素類が昇温，昇華したとき、緩衝層（４）の熱可塑性樹
脂の昇温，溶融状態および昇華物の吸収状態が不充分で
あり、光記録層（３）に良好なピットが形成されず、記
録感度等の低下の原因になっている。その対策のため
に、本発明の緩衝層（４）は、昇温，溶融性等が優れた
有機色素層で構成するものである。
用いられ、塗布法等により設けられている。しかしなが
ら、レーザー光等の照射により光記録層（３）の有機色
素類が昇温，昇華したとき、緩衝層（４）の熱可塑性樹
脂の昇温，溶融状態および昇華物の吸収状態が不充分で
あり、光記録層（３）に良好なピットが形成されず、記
録感度等の低下の原因になっている。その対策のため
に、本発明の緩衝層（４）は、昇温，溶融性等が優れた
有機色素層で構成するものである。
第１図の緩衝層（４）は、レーザー光等に対して、吸
収帯を持たないまたは光記録層（３）と吸収帯が異なる
フタロシアニン系，シアニン系，アゾ系，アントラキノ
ン系，ナフトキノン系，トリアジン系，アゾメチン系，
インドアニリン系等の色素を、光記録層（３）を侵さな
い適当な溶剤に溶解させ、スピンコート法，ロールコー
ト法またはグラビヤ印刷法で設けることが可能である。
収帯を持たないまたは光記録層（３）と吸収帯が異なる
フタロシアニン系，シアニン系，アゾ系，アントラキノ
ン系，ナフトキノン系，トリアジン系，アゾメチン系，
インドアニリン系等の色素を、光記録層（３）を侵さな
い適当な溶剤に溶解させ、スピンコート法，ロールコー
ト法またはグラビヤ印刷法で設けることが可能である。
第１図の接着剤層（５）は、通常はエポキシ系，アク
リル系，ウレタン系等の樹脂を用いて設けることが出来
る。
リル系，ウレタン系等の樹脂を用いて設けることが出来
る。
第１図の裏打ち基板（６）は、通常はポリ塩化ビニー
ル樹脂，ポリスチレン樹脂，ポリエステル樹脂等のシー
トや板状物が用いられる。
ル樹脂，ポリスチレン樹脂，ポリエステル樹脂等のシー
トや板状物が用いられる。
＜作用＞ 本発明における緩衝層（４）は、前述のフタロシアニ
ン系等の色素層であり、通常の各種熱可塑性樹脂に比べ
て溶融点や分解点が低いために、レーザー光等の照射に
より光記録層（３）の有機色素類が昇温，昇華したと
き、その熱により、前述のフタロシアニン系等の色素層
も溶融，分解して昇華物の安定した吸収状態にあり、光
記録層（３）の良好なピット形成が可能である。
ン系等の色素層であり、通常の各種熱可塑性樹脂に比べ
て溶融点や分解点が低いために、レーザー光等の照射に
より光記録層（３）の有機色素類が昇温，昇華したと
き、その熱により、前述のフタロシアニン系等の色素層
も溶融，分解して昇華物の安定した吸収状態にあり、光
記録層（３）の良好なピット形成が可能である。
また、本発明における光記録層（３）は、前記一般式
［１］で表わされるインドアニリン金属錯体系の色素層
であり、通常の光記録層であるカルボシアニン系等の有
機色素および前述の緩衝層（４）であるフタロシアニン
系の色素に比べて、溶融点を持たず分解点が高い等の耐
熱的特性が優れている。また、このインドアニリン金属
錯体系色素層は、色素の反射率が高く700nm〜800nmの長
波長帯に吸収帯を有する等の光学的特性も優れている。
そのために、本発明における光記録層（３）は、レーザ
ー光等の照射による昇温，昇華が安定しており、前述の
緩衝層（４）の安定した吸収状態と相まって、記録情報
に忠実で、むらの少い良好なピット形成が可能である。
［１］で表わされるインドアニリン金属錯体系の色素層
であり、通常の光記録層であるカルボシアニン系等の有
機色素および前述の緩衝層（４）であるフタロシアニン
系の色素に比べて、溶融点を持たず分解点が高い等の耐
熱的特性が優れている。また、このインドアニリン金属
錯体系色素層は、色素の反射率が高く700nm〜800nmの長
波長帯に吸収帯を有する等の光学的特性も優れている。
そのために、本発明における光記録層（３）は、レーザ
ー光等の照射による昇温，昇華が安定しており、前述の
緩衝層（４）の安定した吸収状態と相まって、記録情報
に忠実で、むらの少い良好なピット形成が可能である。
＜実施例１＞ 表面硬化層（１）として、厚さ0.2μｍのポリウレタ
ン系樹脂を塗布した厚さ0.4mmのポリアクリル樹脂板
に、熱圧縮成型法により幅0.3μm,深さ0.2μｍの案内溝
を設けた透明基板（２）を作製した。
ン系樹脂を塗布した厚さ0.4mmのポリアクリル樹脂板
に、熱圧縮成型法により幅0.3μm,深さ0.2μｍの案内溝
を設けた透明基板（２）を作製した。
次に、下記構造式で表わされるインドアニリン 金属錯体系色素をシクロヘキサノンに溶解して、その1.
5％溶液をスピンコート法により透明基板（２）のポリ
アクリル樹脂面に塗布して光記録層（３）を作製した。
この時の光記録層（３）の厚さは約750Åであり、最大
吸収波長は約790nmで反射率は約36％であった。
5％溶液をスピンコート法により透明基板（２）のポリ
アクリル樹脂面に塗布して光記録層（３）を作製した。
この時の光記録層（３）の厚さは約750Åであり、最大
吸収波長は約790nmで反射率は約36％であった。
次に、フタロシアニン系色素であるC.I.Solvent Blue
25（商品名:Oil Blue BO,中央化学（株）製）をトルエ
ンに溶解して、その2.0％溶液をスピンコート法により
光記録層（３）の面に塗布して、層厚約1000Åの緩衝層
（４）を作製した。
25（商品名:Oil Blue BO,中央化学（株）製）をトルエ
ンに溶解して、その2.0％溶液をスピンコート法により
光記録層（３）の面に塗布して、層厚約1000Åの緩衝層
（４）を作製した。
次に、エポキシ系接着剤を接着層（５）として、緩衝
層（４）と硬質塩化ビニール樹脂の裏打ち基板（６）を
貼合せてカードサイズに打抜き、密着薄型化したDRAW型
の光カードを作製した。
層（４）と硬質塩化ビニール樹脂の裏打ち基板（６）を
貼合せてカードサイズに打抜き、密着薄型化したDRAW型
の光カードを作製した。
この光カードに、記録エネルギーを変化させた830nm
の半導体レーザーで記録（ドット2KHz,速さ80mm/秒）し
再生した所、第２図に示すような良好なコントラスト％
（感度曲線）が得られた。
の半導体レーザーで記録（ドット2KHz,速さ80mm/秒）し
再生した所、第２図に示すような良好なコントラスト％
（感度曲線）が得られた。
＜実施例２＞ 下記構造式で表わされるインドアニリン金属錯 体系色素を用いて、実施例１と同様にして層厚約800
Å，最大吸収波長796nm,反射率約33％の光記層（３）を
作製した。
Å，最大吸収波長796nm,反射率約33％の光記層（３）を
作製した。
また、アゾ系色素であるC.I.Solvent Blue 35（商品
名:Kayaset Blue N,日本化薬（株）製）を用いて、実施
例１と同様にして層厚約1100Åの緩衝層（４）を作製し
た。
名:Kayaset Blue N,日本化薬（株）製）を用いて、実施
例１と同様にして層厚約1100Åの緩衝層（４）を作製し
た。
この光記録層（３）と緩衝層（４）をもとにして、実
施例１と同じ方法でDRAW型の光カードを作製して、実施
例１と同じ条件で記録し再生したコントラスト％（感度
曲線）を第３図に示した。
施例１と同じ方法でDRAW型の光カードを作製して、実施
例１と同じ条件で記録し再生したコントラスト％（感度
曲線）を第３図に示した。
＜効果＞ 本発明は、携帯時の強度不足と厚型化の解決方法とし
て緩衝層を設けたDRAW型の光カードにおいて、光記録材
料の記録感度の低下による記録情報のむら等の障害を解
消したものである。
て緩衝層を設けたDRAW型の光カードにおいて、光記録材
料の記録感度の低下による記録情報のむら等の障害を解
消したものである。
本発明は、この緩衝層を設けたDRAW型の光カードにお
いて、色素層を用いた緩衝層と、インドアニリン金属錯
体系色素を用いた光記録層の開発に関するものであり、
実施例１（第２図）および実施例２（第３図）に示すよ
うに、記録および再生時の良好な感度曲線（コントラス
ト％）を得ることが出来た。
いて、色素層を用いた緩衝層と、インドアニリン金属錯
体系色素を用いた光記録層の開発に関するものであり、
実施例１（第２図）および実施例２（第３図）に示すよ
うに、記録および再生時の良好な感度曲線（コントラス
ト％）を得ることが出来た。
その結果、磁気カードに代わる記録容量の大きい携帯
用光カード、なかでも追加記録が可能な信頼性の高い密
着薄型化したDRAW型の光カードを作製することが可能で
ある。
用光カード、なかでも追加記録が可能な信頼性の高い密
着薄型化したDRAW型の光カードを作製することが可能で
ある。
第１図は本発明の光カードの層構成を示す断面図であ
る。第２図および第３図は本発明の実施例１および２に
おける記録，再生時の感度曲線（コントラスト％）であ
る。 １）表面硬化層、２）透明基板 ３）光記録層、４）緩衝層 ５）接着剤層、６）裏打ち基板
る。第２図および第３図は本発明の実施例１および２に
おける記録，再生時の感度曲線（コントラスト％）であ
る。 １）表面硬化層、２）透明基板 ３）光記録層、４）緩衝層 ５）接着剤層、６）裏打ち基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３３ 8721−5Ｄ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３３Ｋ Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｙ
Claims (2)
- 【請求項１】少くとも１つが記録，再生光に対して透過
性の２つの基板の間に、少くとも光記録層と緩衝層の２
層を狭持する光カードにおいて、その緩衝層が色素層で
あることを特徴とする光カード。 - 【請求項２】前項の光記録層の主成分が、インドアニリ
ン金属錯体系色素であることを特徴とする請求項（１）
に記載の光カード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1181687A JP2730196B2 (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 光カード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1181687A JP2730196B2 (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 光カード |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0346136A JPH0346136A (ja) | 1991-02-27 |
| JP2730196B2 true JP2730196B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=16105115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1181687A Expired - Fee Related JP2730196B2 (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 光カード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2730196B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100230448B1 (ko) * | 1996-10-10 | 1999-11-15 | 윤종용 | 광기록매체 |
| CN103625153B (zh) * | 2012-08-23 | 2015-09-09 | 中国人民银行印制科学技术研究所 | 光存储防伪元件、制造方法、应用以及用于制造过程的光学元件 |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP1181687A patent/JP2730196B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0346136A (ja) | 1991-02-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |