JP2725192B2 - 研磨剤組成物 - Google Patents
研磨剤組成物Info
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- JP2725192B2 JP2725192B2 JP63311665A JP31166588A JP2725192B2 JP 2725192 B2 JP2725192 B2 JP 2725192B2 JP 63311665 A JP63311665 A JP 63311665A JP 31166588 A JP31166588 A JP 31166588A JP 2725192 B2 JP2725192 B2 JP 2725192B2
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- Japan
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- polishing
- alumina
- boehmite
- acid
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は研磨剤組成物に関するものである。詳しく
は、研磨能率がよく、すぐれた研磨表面を形成すること
ができる研磨剤組成物に関するものである。
は、研磨能率がよく、すぐれた研磨表面を形成すること
ができる研磨剤組成物に関するものである。
従来、水とアルミナからなる研磨剤組成物は知られて
いる（例えば、特開昭54−89389号参照）が、研磨速度
が十分でなく、研磨速度を上げる目的でアルミナの粒径
を大きくすると、研磨表面に荒れが生ずるようになり、
研磨速度と表面状態の両方を満足するものとは言えなか
った。
いる（例えば、特開昭54−89389号参照）が、研磨速度
が十分でなく、研磨速度を上げる目的でアルミナの粒径
を大きくすると、研磨表面に荒れが生ずるようになり、
研磨速度と表面状態の両方を満足するものとは言えなか
った。
過去10年間に於いて、工業的規模の生産が飛躍的に増
加したシリコン及び化合物半導体基板、各種の磁気メモ
リーハードディスク、レーザー部品等の材料の精密研磨
加工においては、特に加工面の平滑度、無欠陥性（スク
ラッチ、オレンジピール、ピット、ノジュール、クラッ
ク等の欠陥がない事）に対する要求水準が、過去の研磨
加工技術水準に比して遥かに高度化すると共に、他方、
生産、検査設備等に多額の投資が必要な為、生産スピー
ドの向上、不良欠陥ロスの低減に依るコストカットも重
要な課題となっている。
加したシリコン及び化合物半導体基板、各種の磁気メモ
リーハードディスク、レーザー部品等の材料の精密研磨
加工においては、特に加工面の平滑度、無欠陥性（スク
ラッチ、オレンジピール、ピット、ノジュール、クラッ
ク等の欠陥がない事）に対する要求水準が、過去の研磨
加工技術水準に比して遥かに高度化すると共に、他方、
生産、検査設備等に多額の投資が必要な為、生産スピー
ドの向上、不良欠陥ロスの低減に依るコストカットも重
要な課題となっている。
従って、これらの分野で使用される研磨剤に就いても
加工精度と共に研磨速度の向上に対する要望が極めて強
いものとなっている。
加工精度と共に研磨速度の向上に対する要望が極めて強
いものとなっている。
〔発明が解決しようとする課題〕 本発明者らは、かかる要望を満足するよりすぐれた研
磨剤組成物を得るべく、鋭意研究を重ねた結果、水とα
−アルミナからなる研磨剤組成物に、ベーマイト及び無
機酸又は有機酸のアンモニウム塩を存在させるときは、
加工物加工面の平滑度、或は表面欠陥（スクラッチ、オ
レンジピール等）発生防止等の研磨仕上がり効果を低下
させることなく、しかも研磨速度を大幅に向上させるこ
とが出来ることを知得して本発明を完成した。
磨剤組成物を得るべく、鋭意研究を重ねた結果、水とα
−アルミナからなる研磨剤組成物に、ベーマイト及び無
機酸又は有機酸のアンモニウム塩を存在させるときは、
加工物加工面の平滑度、或は表面欠陥（スクラッチ、オ
レンジピール等）発生防止等の研磨仕上がり効果を低下
させることなく、しかも研磨速度を大幅に向上させるこ
とが出来ることを知得して本発明を完成した。
本発明の要旨は、水、α−アルミナ、ベーマイト及び
無機酸又は有機酸のアンモニウム塩を含有してなる研磨
剤組成物に存する。
無機酸又は有機酸のアンモニウム塩を含有してなる研磨
剤組成物に存する。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明で使用するα−アルミナとしては、特に限定さ
れないがバイヤライト、ジプサイト、ハイドラージライ
ト、ベーマイト、γ−アルミナ、θ−アルミナのような
α−アルミナ以外のアルミナを、常法に従い1100℃以上
の温度で焼成して得たアルミナが挙げられる。此の焼成
温度は高い程研磨沿度が大きくなる傾向があるので1200
℃以上、1200〜1500℃で焼成して得られたα−アルミナ
が好ましい。
れないがバイヤライト、ジプサイト、ハイドラージライ
ト、ベーマイト、γ−アルミナ、θ−アルミナのような
α−アルミナ以外のアルミナを、常法に従い1100℃以上
の温度で焼成して得たアルミナが挙げられる。此の焼成
温度は高い程研磨沿度が大きくなる傾向があるので1200
℃以上、1200〜1500℃で焼成して得られたα−アルミナ
が好ましい。
加工精度及び研磨速度を考慮すると本発明で使用され
るα−アルミナは平均粒径で0.1〜10μ、好ましくは0.1
〜３μであり、又最大粒径で30μ以下、好ましくは20μ
以下の微粉体である。従って、焼成して得られたα−ア
ルミナは通常の微粉砕装置即ち湿式スラリ方式ではボー
ルミル、振動ミル等で粉砕し粗大粒子は重力沈降、遠心
沈降等の装置で分級するか、或は乾式方式即ちジェット
気流に依る粉砕分級処理により所望の粒度に整粒する。
るα−アルミナは平均粒径で0.1〜10μ、好ましくは0.1
〜３μであり、又最大粒径で30μ以下、好ましくは20μ
以下の微粉体である。従って、焼成して得られたα−ア
ルミナは通常の微粉砕装置即ち湿式スラリ方式ではボー
ルミル、振動ミル等で粉砕し粗大粒子は重力沈降、遠心
沈降等の装置で分級するか、或は乾式方式即ちジェット
気流に依る粉砕分級処理により所望の粒度に整粒する。
α−アルミナの含有量は、組成物全量に対して１〜30
重量％、好ましくは２〜15重量％である。あまりに少な
いと研磨速度が小さくなり、逆にあまりに多いと均一分
散が保てなくなり、かつ、スラリー粘度が過大となって
取扱いが困難となる。
重量％、好ましくは２〜15重量％である。あまりに少な
いと研磨速度が小さくなり、逆にあまりに多いと均一分
散が保てなくなり、かつ、スラリー粘度が過大となって
取扱いが困難となる。
一方、ベーマイトは、アルミナ水和物の１種である。
アルミナ水和物には結晶形の違いによりジプサイト、バ
イアライト、ノルストランダイト、ベーマイト、ジアス
ポア等が存在するが、本発明の研磨剤組成物ではベーマ
イトを含有することを必須の要件とする。
アルミナ水和物には結晶形の違いによりジプサイト、バ
イアライト、ノルストランダイト、ベーマイト、ジアス
ポア等が存在するが、本発明の研磨剤組成物ではベーマ
イトを含有することを必須の要件とする。
ベーマイトとは、ジプサイト等を250℃程度で加圧水
熱処理するか、或はチーグラー法で合成されるアルミニ
ウム有機化合物〔Al（OR）３〕（但し、Ｒはアルキル基
である）の加水分解に依って製造する方法で一般的に生
産されており、アルミナゾル、セラミックバインダー、
繊維製品、カーペットの帯電防止処理、水の浄化処理、
化粧品、軟こうの増粘剤、アルミナ系触媒又は触媒担体
等の原料として広く利用されている工業材料である。
熱処理するか、或はチーグラー法で合成されるアルミニ
ウム有機化合物〔Al（OR）３〕（但し、Ｒはアルキル基
である）の加水分解に依って製造する方法で一般的に生
産されており、アルミナゾル、セラミックバインダー、
繊維製品、カーペットの帯電防止処理、水の浄化処理、
化粧品、軟こうの増粘剤、アルミナ系触媒又は触媒担体
等の原料として広く利用されている工業材料である。
ベーマイトは、AlOOH又はAl2O3・H2Oの化学式で表示
される物質で、粉体製品としては、例えば、KAISER（米
国）、VISTA Chemical（米国）、Condea Chemie（ドイ
ツ）等から市販されている。例えば200μ以下95％、45
μ以下50％の粒子からなる粉体を水中又は酸性の水中で
撹拌、分散させると、一部繊維状、大部分は粒状で、且
つそのサイズが0.01μ以下の超微細粒子の形で分散し、
コロイド状のゾルを形成する性質を有する。ベーマイト
のゾルは等電点9.4であり、粒子自身が陽性に帯電して
いる事が電気泳動法により観測される。
される物質で、粉体製品としては、例えば、KAISER（米
国）、VISTA Chemical（米国）、Condea Chemie（ドイ
ツ）等から市販されている。例えば200μ以下95％、45
μ以下50％の粒子からなる粉体を水中又は酸性の水中で
撹拌、分散させると、一部繊維状、大部分は粒状で、且
つそのサイズが0.01μ以下の超微細粒子の形で分散し、
コロイド状のゾルを形成する性質を有する。ベーマイト
のゾルは等電点9.4であり、粒子自身が陽性に帯電して
いる事が電気泳動法により観測される。
本発明で水に分散されるベーマイトは粉体でもベーマ
イトゾルでも使用可能であるが、いずれの場合も、水に
分散させた場合の粒子径が0.01μ以下のゾルを形成する
ものを使用する。ベーマイトの含有量は組成物全量に対
し0.1〜20重量％、好ましくは0.5〜10重量％である。ベ
ーマイト含有量が余りに少ないと研磨速度向上の効果が
期待出来ず、逆に余りに多いと見掛粘度、チキソトロピ
ー性が増大し、α−アルミナの均一分散性を損なう事と
なると同時に研磨剤組成物の容器からの取出しが困難と
なる等ハンドリング上不適な物性となる。
イトゾルでも使用可能であるが、いずれの場合も、水に
分散させた場合の粒子径が0.01μ以下のゾルを形成する
ものを使用する。ベーマイトの含有量は組成物全量に対
し0.1〜20重量％、好ましくは0.5〜10重量％である。ベ
ーマイト含有量が余りに少ないと研磨速度向上の効果が
期待出来ず、逆に余りに多いと見掛粘度、チキソトロピ
ー性が増大し、α−アルミナの均一分散性を損なう事と
なると同時に研磨剤組成物の容器からの取出しが困難と
なる等ハンドリング上不適な物性となる。
更に本発明では水、α−アルミナ及びベーマイトから
なる系に、粒子の分散性、或は逆に凝集性を高めるため
に無機酸又は有機酸のアンモニウム塩を添加することが
必要である。
なる系に、粒子の分散性、或は逆に凝集性を高めるため
に無機酸又は有機酸のアンモニウム塩を添加することが
必要である。
無機酸又は有機酸のアンモニウム塩としては、硫酸、
亜硫酸、塩酸、硝酸、亜硝酸、燐酸のような無機酸又は
蟻酸、酢酸、蓚酸のような有機酸のアンモニウム塩等が
挙げられる。これらの中では、アルミナ−水スラリー系
に対する分散又は凝集作用が高い点で硫酸、塩酸、硝
酸、燐酸又は酢酸のアンモニウム塩が好ましい。
亜硫酸、塩酸、硝酸、亜硝酸、燐酸のような無機酸又は
蟻酸、酢酸、蓚酸のような有機酸のアンモニウム塩等が
挙げられる。これらの中では、アルミナ−水スラリー系
に対する分散又は凝集作用が高い点で硫酸、塩酸、硝
酸、燐酸又は酢酸のアンモニウム塩が好ましい。
無機酸又は有機酸のアンモニウム塩の含有量は、組成
物全量に対して0.5〜20重量％、好ましくは１〜10重量
％である。この量があまりに少ないと本発明の効果が期
待出来なくなる。逆にあまりに多くても、添加効果が向
上する事もなく、冬季低温時に塩の結晶が析出すると
か、排水浄化処理の負担を増す等の不都合を生じるよう
になる。
物全量に対して0.5〜20重量％、好ましくは１〜10重量
％である。この量があまりに少ないと本発明の効果が期
待出来なくなる。逆にあまりに多くても、添加効果が向
上する事もなく、冬季低温時に塩の結晶が析出すると
か、排水浄化処理の負担を増す等の不都合を生じるよう
になる。
本発明の研磨剤組成物が優れた研磨効果を有すること
の詳細は不明であるが、ベーマイト及び無機酸又は有機
酸のアンモニウム塩の存在が研磨剤組成物中のα−アル
ミナの分散状態に何等かの影響を及ぼし、かかる分散状
態が研磨加工に有利に作用すると思われる。即ち前述の
α−アルミナ粒子を水中又は酸性の水中で撹拌し分散さ
せると、個々の粒子は陽性の電荷を保有し、水又は電解
質の陰イオンを吸着し電気的二重層を形成する。かかる
微粒子の分散系にあってはファンデルワールス引力に依
る凝集と電気的斥力に依る反発作用力とで或る種の平衡
状態を形成するのであるが、こゝにベーマイトを共存さ
せると、ベーマイトは該水中で陽性に帯電するため、全
体の分散系としては電気的斥力に依る粒子相互間の分散
効果が強まる事となる。かかるスラリー状研磨剤による
精密研磨加工に於ては遊離砥粒であるα−アルミナ粒子
が単分散又は凝集状態で研磨パッドに保持され、或る加
工圧で被加工物表面を摺動するにつれて、砥粒（α−ア
ルミナ粒子）がころがりつゝつ或は滑りつゝ研削作用を
及ぼしている事になり、砥粒が被加工物表面を研削する
作用点の数が多く且つ各作用点での研削作用力が均一で
ある程、加工時の単位摺動量、単位時間当りの研磨量が
大きく且つ加工表面精度が高くなる筈である。しかしな
がら、研磨パッドと被加工物表面の接触面では砥粒（α
−アルミナ）と被加工物が研削されて発生した微細粒子
（削りかす）が水に懸濁したスラリ状態が存在するた
め、個々の粒子の分散又は凝集状態が研磨量、研磨仕上
り性に強く影響を及ぼすであろう事が推定されるが、本
発明の如く水、α−アルミナ、ベーマイト及び無機酸又
は有機酸のアンモニウム塩を含有してなる研磨剤に於て
はベーマイト及び無機酸又は有機酸のアンモニウム塩が
各粒子の分散又は凝集状態に影響し、研磨性能の向上を
もたらすと思われる。
の詳細は不明であるが、ベーマイト及び無機酸又は有機
酸のアンモニウム塩の存在が研磨剤組成物中のα−アル
ミナの分散状態に何等かの影響を及ぼし、かかる分散状
態が研磨加工に有利に作用すると思われる。即ち前述の
α−アルミナ粒子を水中又は酸性の水中で撹拌し分散さ
せると、個々の粒子は陽性の電荷を保有し、水又は電解
質の陰イオンを吸着し電気的二重層を形成する。かかる
微粒子の分散系にあってはファンデルワールス引力に依
る凝集と電気的斥力に依る反発作用力とで或る種の平衡
状態を形成するのであるが、こゝにベーマイトを共存さ
せると、ベーマイトは該水中で陽性に帯電するため、全
体の分散系としては電気的斥力に依る粒子相互間の分散
効果が強まる事となる。かかるスラリー状研磨剤による
精密研磨加工に於ては遊離砥粒であるα−アルミナ粒子
が単分散又は凝集状態で研磨パッドに保持され、或る加
工圧で被加工物表面を摺動するにつれて、砥粒（α−ア
ルミナ粒子）がころがりつゝつ或は滑りつゝ研削作用を
及ぼしている事になり、砥粒が被加工物表面を研削する
作用点の数が多く且つ各作用点での研削作用力が均一で
ある程、加工時の単位摺動量、単位時間当りの研磨量が
大きく且つ加工表面精度が高くなる筈である。しかしな
がら、研磨パッドと被加工物表面の接触面では砥粒（α
−アルミナ）と被加工物が研削されて発生した微細粒子
（削りかす）が水に懸濁したスラリ状態が存在するた
め、個々の粒子の分散又は凝集状態が研磨量、研磨仕上
り性に強く影響を及ぼすであろう事が推定されるが、本
発明の如く水、α−アルミナ、ベーマイト及び無機酸又
は有機酸のアンモニウム塩を含有してなる研磨剤に於て
はベーマイト及び無機酸又は有機酸のアンモニウム塩が
各粒子の分散又は凝集状態に影響し、研磨性能の向上を
もたらすと思われる。
本発明の研磨剤組成物の調製は、前記各成分を混合撹
拌すればよく、混合順序等も特に制限されるものではな
い。
拌すればよく、混合順序等も特に制限されるものではな
い。
又、この研磨剤組成物の調製に際しては、被加工物の
種類、加工条件等の研磨加工上の必要条件に応じて、下
記の如き各種の公知の添加剤を加えてもよい。
種類、加工条件等の研磨加工上の必要条件に応じて、下
記の如き各種の公知の添加剤を加えてもよい。
添加剤としては、例えば、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールの様な水溶性アルコール類、ア
ルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、ナフタリンスルホン
酸のホルマリン縮合物の様な界面活性剤、硫酸、塩酸、
硝酸、酢酸の様な酸類、リグニンスルホン酸塩、カルボ
キシメチルセルロース塩、ポリアクリル酸塩の様な有機
ポリアニオン系物質、セルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロースの様なセルロー
ス類等があげられる。
ル、エチレングリコールの様な水溶性アルコール類、ア
ルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、ナフタリンスルホン
酸のホルマリン縮合物の様な界面活性剤、硫酸、塩酸、
硝酸、酢酸の様な酸類、リグニンスルホン酸塩、カルボ
キシメチルセルロース塩、ポリアクリル酸塩の様な有機
ポリアニオン系物質、セルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロースの様なセルロー
ス類等があげられる。
尚、本発明の研磨剤組成物のpHとしては、３〜８、好
ましくは４〜７である。pHは、塩の種類、添加量等に依
って変動するものであるが、一般に、水−アルミナ系研
磨剤でpHをアルカリサイドにすると、高粘度となり、多
孔質網状組織からなる研磨パッドの目詰まり劣化、被加
工物表面へのスクラッチ発生トラブル等を起こし易くな
るので、研磨剤組成物のpHを酸性サイドに調整するのが
通例であって、かかる目的で酸類を少量添加する場合が
ある。
ましくは４〜７である。pHは、塩の種類、添加量等に依
って変動するものであるが、一般に、水−アルミナ系研
磨剤でpHをアルカリサイドにすると、高粘度となり、多
孔質網状組織からなる研磨パッドの目詰まり劣化、被加
工物表面へのスクラッチ発生トラブル等を起こし易くな
るので、研磨剤組成物のpHを酸性サイドに調整するのが
通例であって、かかる目的で酸類を少量添加する場合が
ある。
本発明の研磨剤組成物は、金属、ガラス、プラスチッ
ク等の研磨に使用されるが、欠陥のない研磨表面が得ら
れることから、メモリーハードディスク等の研磨に特に
好適である。
ク等の研磨に使用されるが、欠陥のない研磨表面が得ら
れることから、メモリーハードディスク等の研磨に特に
好適である。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。
本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。
実施例１〜30、及び比較例１ 〔研磨剤組成物の調整〕 水酸化アルミニウムを1300℃、５時間の条件で焼成
し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ（平均粒子径
0.54μ、最大粒子径８μ）を、高速ミキサーを用いて水
に分散させてα−アルミナ濃度６重量％のスラリーを調
製した。
し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ（平均粒子径
0.54μ、最大粒子径８μ）を、高速ミキサーを用いて水
に分散させてα−アルミナ濃度６重量％のスラリーを調
製した。
これにベーマイト及び無機酸又は有機酸のアンモニウ
ム塩を第１表に記載の割合で添加分散させて研磨剤組成
物を調製した。
ム塩を第１表に記載の割合で添加分散させて研磨剤組成
物を調製した。
なお、ベーマイトとしてはCodea Chemie社製Pural
（商標名）SCF（平均粒子径約20μ）を使用した。
（商標名）SCF（平均粒子径約20μ）を使用した。
被加工物としてアルミニウム基板にニッケル・リンの
無電解メッキ（ニッケル90〜92％、リン10〜８％の合金
メッキ層）を施した3.5インチメモリハードディスク
（外径約95m/m）の基板を使用した。
無電解メッキ（ニッケル90〜92％、リン10〜８％の合金
メッキ層）を施した3.5インチメモリハードディスク
（外径約95m/m）の基板を使用した。
此のディスクを両面研磨機に装填して研磨する。研磨
機の上下定盤に、夫々、スエードタイプのポリウレタン
基質研磨パッドが装着してある両面研磨機に該ディスク
を装填し、ディスクと両研磨パッドを相対的に摺動させ
て５分間研磨を行なった。
機の上下定盤に、夫々、スエードタイプのポリウレタン
基質研磨パッドが装着してある両面研磨機に該ディスク
を装填し、ディスクと両研磨パッドを相対的に摺動させ
て５分間研磨を行なった。
研磨はディスクと両研磨パッドの間に上記研磨剤試料
を毎分当り300C.C.の割合で供給し、加工圧100g/cm2で
行なった。
を毎分当り300C.C.の割合で供給し、加工圧100g/cm2で
行なった。
研磨の後、ディスクを両面研磨機より取出し、超音波
洗浄をくり返し、ディスク加工面を清浄にして、目視検
査に依り、表面欠陥の有無程度を評価した。
洗浄をくり返し、ディスク加工面を清浄にして、目視検
査に依り、表面欠陥の有無程度を評価した。
次にディスクの厚さの計測を行ない厚さの減少量から
毎分当りの平均研磨速度を算出した。
毎分当りの平均研磨速度を算出した。
此の試験結果は第１表に示す通りである。
〔発明の効果〕 本発明に従いα−アルミナ−水分散系にベーマイト及
び無機酸又は有機酸のアンモニウム塩を添加した研磨剤
組成物は、研磨加工面に表面欠陥を発生する事なく、よ
り高い研磨速度を発現し、研磨加工能率を高めることが
できる。しかも、本発明の研磨剤組成物は研磨速度が高
いため、研磨加工時間の短縮、研磨剤消費量の低減、高
価なる研磨パッドの損耗、劣化の減少等による加工コス
トの低下をもたらし、極めて有用である。
び無機酸又は有機酸のアンモニウム塩を添加した研磨剤
組成物は、研磨加工面に表面欠陥を発生する事なく、よ
り高い研磨速度を発現し、研磨加工能率を高めることが
できる。しかも、本発明の研磨剤組成物は研磨速度が高
いため、研磨加工時間の短縮、研磨剤消費量の低減、高
価なる研磨パッドの損耗、劣化の減少等による加工コス
トの低下をもたらし、極めて有用である。
Claims (1)
- 【請求項１】水、α−アルミナ、ベーマイト及び無機酸
又は有機酸のアンモニウム塩を含有してなる研磨剤組成
物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311665A JP2725192B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 研磨剤組成物 |
| MYPI89000734A MY104445A (en) | 1988-12-09 | 1989-05-30 | Polishing composition. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311665A JP2725192B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 研磨剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02158683A JPH02158683A (ja) | 1990-06-19 |
| JP2725192B2 true JP2725192B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=18020010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63311665A Expired - Fee Related JP2725192B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 研磨剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2725192B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5693239A (en) * | 1995-10-10 | 1997-12-02 | Rodel, Inc. | Polishing slurries comprising two abrasive components and methods for their use |
| US6007592A (en) * | 1996-11-14 | 1999-12-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polishing composition for aluminum disk and polishing process therewith |
| JP2006036864A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Fujimi Inc | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 |
| US20070068902A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Yasushi Matsunami | Polishing composition and polishing method |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP63311665A patent/JP2725192B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02158683A (ja) | 1990-06-19 |
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