JP2715620B2 - 複合発光体薄膜及び薄膜el素子 - Google Patents

複合発光体薄膜及び薄膜el素子

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本願発明は、発光効率が高く、青色もしくは紫外の波
長域で明るく発光する発光体薄膜及びそれを用いたEL素
子に関するものである。
従来の技術 近年、コンピューター端末などに用いるフラットディ
スプレイとして、薄膜EL素子が盛んに研究されている。
黄橙色発光のマンガン添加硫化亜鉛からなる蛍光体薄膜
を用いたモノクロ薄膜ELディスプレイは既に実用化され
ている。ディスプレイとして広汎な用途に対応するため
にはフルカラー化が不可欠であり、赤色、緑色、青色の
3原色に発光するEL用蛍光体の開発に多大な力が注がれ
ている。この中で青色発光蛍光体としては、ZnS:Tmや、
SrS:Ce、赤色蛍光体としては、ZnS:Sm、CaS:Eu、緑色蛍
光体としてはZnS:Tb,CaS:Ceなどが盛んに研究されてい
る。
一方、発光ダイオードにおいても、同様にフルカラー
化をめざして、短波長化の研究が盛んに行われている。
SiC、GaN、ZnS、ZnSe等、広いバンドギャップの半導体
材料を用いたPN接合、NIS接合の形成により、青色LEDの
高輝度が試みられている。
発明が解決しようとする課題 上記の電界発光用蛍光体薄膜は、赤色及び緑色に関し
ては発光輝度、効率に問題があり、青色に関しては色純
度に問題があり、現在、実用的なレベルのカラーELパネ
ルは形成されていない。
一方、LEDに関しては、赤色については十分高輝度の
発光素子が得られ実用化されているが、緑色、青色につ
いては、実用化レベルとしては不十分である。
さらに、より短波長の紫外に発光波長域を有する固体
発光素子はいまだ実現するに至っていない。
本発明は、発光輝度、効率の高い、青色もしくは紫外
発光素子を実現することを目的とする。
課題を解決するための手段 厚さが50nm以下、1nm以上の、硫化亜鉛もしくは少な
くとも硫化亜鉛と他のIIbVI族化合物半導体との混晶を
主成分とする蛍光体層を、該蛍光体層のエネルギーギャ
ップより大きなエネルギーギャップの、少なくとも硫化
マグネシウムと他のアルカリ土類金属の硫化物との混晶
を主成分とする障壁層で挟持した構成単位を、一単位も
しくは複数単位繰り返して設けた複合発光体薄膜を形成
する。
作用 上記構成の複合発光体薄膜を形成することによって、
蛍光体層に青から紫外の波長域で発光しうる広いバンド
ギャップを持った材料を用いても、更に十分広いエネル
ギーギャップを持った材料を障壁層に使用したため、高
電界により発生もしくは注入された電子、正孔が十分前
記蛍光体層に閉じ込められ、それらが直接もしくは再結
合中心を介して効率よく再結合し、その結果、発光輝
度、効率の高い、青色もしくは紫外発光素子が実現でき
たと考えられる。
実施例 第1図に本発明の薄膜EL素子の一実施例として、その
素子構造を示す。低抵抗Siの基板1上に分子ビームエピ
タキシャル蒸着法により厚さ150nmのCaF2薄膜からなる
絶縁層2をエピタキシャル成長させた。その上に、Ca
S、MgSを入れたKセルを用いて、厚さ50nmのCa0.6Mg0.4
Sから成る障壁層3を同じくエピタキシャル成長させ
た。更にその上に、厚さ20nmのZnSからなる蛍光体層4
をエピタキシャル成長させた。同様にして、その上に、
Ca0.6Mg0.4Sから成る障壁層とZnSからなる蛍光体層を
交互に順次エピタキシャル成長させ、合計10周期、層厚
700nmの複合発光体層5を完成した。その上に、酸素を1
0%含むアルゴン雰囲気中で、室温で、BaTa2O6よりな
る、厚さ200nmの絶縁層6を形成した。最後に厚さ200nm
のITOからなる透明電極7を電子ビーム蒸着法により形
成し、薄膜EL素子を完成した。
本実施例では、Si基板1と複合発光体層5の間と、複
合発光体層5と透明電極7の間にそれぞれ絶縁層2と絶
縁層6を形成したが、これらはいずれか一方だけであっ
てもよい。
本発明のEL素子は、パルス幅30μsec、1kHz、150Vの
交流電圧を基板1と透明電極7との間に印加することに
よって、波長350nm〜380nmの強い紫外発光を得た。
本発明の要点は、紫外域にも及ぶ短波長発光が可能な
広いバンドギャップの半導体材料であるZnS、もしくはZ
nSと他のIIbVI族化合物半導体との混晶を主成分とする
半導体材料を蛍光体層に用いることができた点である。
なぜ、本発明において初めてそれが可能となったかを以
下に述べる。
それは、第1の実施例に代表される薄膜EL素子の構成
において、高効率の短波長発光素子を実現するために、
障壁層材料として、以下の2つの条件を満たす、硫化マ
グネシウムと他のアルカリ土類金属の硫化物との混晶を
主成分とする材料を採用したことによる。まず第1に、
これらのアルカリ土類金属の硫化物のバンドギャップは
いずれも、MgSの5.4eVを筆頭に3.8〜5.4eVと、蛍光体層
として採用したZnSの3.5eVと比べて十分広いため、キャ
リヤを効率よく蛍光体層に閉じ込めることができた。
第2点は、本発明の材料構成を用いることで、各層材
料間での格子整合が可能となる点である。高発光効率を
維持するためには、キャリヤの非発光中心の一因である
格子欠陥をできるだけ減らすことが肝要である。本発明
の材料構成を採用することにより、基板、障壁層、蛍光
体層、および第1の実施例に示したように絶縁層2を設
ける場合は絶縁層2も含めて、これらの材料の間で格子
整合が可能となり、非発光中心濃度を低減することがで
きた。第1の実施例では、ZnSを蛍光体層に用いたた
め、基板材料、絶縁層2には、ZnSと格子定数の近いSi
とCaF2をそれぞれ採用した。また障壁層材料も格子整合
させるために、MgSとCaSの混晶を用いた。Si基板と格子
整合させた場合の障壁層のバンドギャップは、約4.8eV
と十分広く、電子、正孔とも十分蛍光体層に閉じ込めら
れ、高効率の紫外発光を得ることができたと考えられ
る。
第1の実施例では基板材料としてSiを採用したが、例
えば格子定数の近いGaPを用いても同様の効果が得られ
た。また、同じく障壁層の材料としてCaSとMgSの混晶を
用いたが、その代わりに、MgSとSrSもしくはMgSとBaSと
の混晶を用いても、格子整合する組成比の膜であれば同
様の効果を有する。
同様に、蛍光体層の材料を、所定の組成比のZnSと他
のIIbVI族化合物半導体との混晶を主成分とする半導体
材料にする場合も、障壁層材料に上記のアルカリ土類金
属硫化物の格子整合した混晶を用いることで第1の実施
例同様、蛍光体層のバンドギャップに応じた所望の波長
の高効率の短波長薄膜EL素子を得ることができた。
発明の効果 本発明により、青色から紫外の短波長で発光する複合
発光体薄膜を得ることができた。また、この複合発光体
薄膜を用いて薄膜EL素子を形成した場合も、高効率、高
輝度の短波長薄膜EL素子を実現することができた。本発
明を、青色発光素子、紫外発光素子、もしくはフルカラ
ーEL素子等に応用する際、特に実用的価値が大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の薄膜EL素子の一実施例の素子の断面
図である。 1……基板、2、6……絶縁層、3……障壁層、4……
蛍光体層、5……複合発光体層、7……透明電極。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−267298(JP,A) 特開 昭59−181682(JP,A) 特開 昭59−181485(JP,A) 特開 平3−250585(JP,A) 特開 昭64−27194(JP,A) 特開 平2−148595(JP,A) 特開 昭64−63295(JP,A) 特開 平2−56895(JP,A)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】厚さが50nm以下、1nm以上の、硫化亜鉛も
    しくは少なくとも硫化亜鉛と他のIIbVI族化合物半導体
    との混晶を主成分とする蛍光体層を、該蛍光体層のエネ
    ルギーギャップより大きなエネルギーギャップの、少な
    くとも硫化マグネシウムと他のアルカリ土類金属の硫化
    物との混晶を主成分とする障壁層で挟持した構成単位
    を、一単位もしくは複数単位繰り返して設けたことを特
    徴とする複合発光体薄膜。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の複合発光体薄膜と、前記
    複合発光体薄膜の外側から電圧を印加する手段とを備え
    たことを特徴とする薄膜EL素子。
  3. 【請求項3】複合発光体薄膜の少なくとも一方の面に誘
    電体薄膜が形成され、更にその外側から電圧を印加する
    手段が配設されていることを特徴とする請求項2に記載
    の薄膜EL素子。
  4. 【請求項4】蛍光体層と障壁層の格子定数の違いが5%
    以内であることを特徴とする請求項1に記載の複合発光
    体薄膜。
JP6315290A 1990-03-14 1990-03-14 複合発光体薄膜及び薄膜el素子 Expired - Lifetime JP2715620B2 (ja)

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EP91103189A EP0446746B1 (en) 1990-03-14 1991-03-04 Light-emitting thin film and thin film EL device
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