JP2701326B2 - 光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法 - Google Patents
光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光ファイバと光導波路あるいは光導波路同
志の接続方法に関し、さらに詳細には、光導波路端面に
位置決め用加工を行う光導波路の接続方法に関するもの
である。
志の接続方法に関し、さらに詳細には、光導波路端面に
位置決め用加工を行う光導波路の接続方法に関するもの
である。
また、これら光導波路同士の接合のために用いられる
光導波路接続部分の製造方法に関するものである。
光導波路接続部分の製造方法に関するものである。
［従来技術］ 近年、光導波路を用いた光集積化技術の進歩に伴い、
さまざまな機能をもつ光導波路を相互に接続したり、光
導波路と光ファイバを簡単に、しかも信頼性よく接続す
ることが重要になってきている。従来、光ファイバと光
導波路の接続方法としては例えば第８図に示すようにＶ
溝をもつSiやエポキシ等の基板81に光ファイバ82を固定
し、光ファイバ端面83を光導波路端面84につき合わせ光
ファイバのコア85と光導波路端面84とが一致するように
位置合わせを行い紫外線硬化型接着剤等で固定してい
た。また、他の接続法としては、第９図のように基板91
にイオンビームエッチングやレーザ加工により光ファイ
バ93のコア94と光導波路95とが一致するような幅と深さ
をもつ溝92を形成し、その溝92に光ファイバ93をはめ込
み紫外線硬化型接着剤等で固定していた。
さまざまな機能をもつ光導波路を相互に接続したり、光
導波路と光ファイバを簡単に、しかも信頼性よく接続す
ることが重要になってきている。従来、光ファイバと光
導波路の接続方法としては例えば第８図に示すようにＶ
溝をもつSiやエポキシ等の基板81に光ファイバ82を固定
し、光ファイバ端面83を光導波路端面84につき合わせ光
ファイバのコア85と光導波路端面84とが一致するように
位置合わせを行い紫外線硬化型接着剤等で固定してい
た。また、他の接続法としては、第９図のように基板91
にイオンビームエッチングやレーザ加工により光ファイ
バ93のコア94と光導波路95とが一致するような幅と深さ
をもつ溝92を形成し、その溝92に光ファイバ93をはめ込
み紫外線硬化型接着剤等で固定していた。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、光導波路と光ファイバをつき合わせる
方法では光導波路端面と、光ファイバコアとを１μｍ以
下の精度で一致させる必要があり、位置合わせに手間が
かかり、また、再現性に乏しい。さらに、紫外線硬化型
接着剤等で接続部を固定する場合、接着剤を塗布する時
や、接着剤の硬化時の収縮により位置ずれが生じたり、
また、接続部が機械的に弱く信頼性が低い。光導波路端
部に溝を形成し、光ファイバをはめ込む方法では、光導
波路と溝の位置を正確に一致させることが困難であり、
溝の深さも１μｍ以下の精度で制御する必要がある。ま
た、溝の幅と光ファイバの直径を一致させることも困難
であり、位置ずれの原因となる。さらに、溝壁面を鏡面
状態とすることも困難であり、散乱損失の原因となる。
方法では光導波路端面と、光ファイバコアとを１μｍ以
下の精度で一致させる必要があり、位置合わせに手間が
かかり、また、再現性に乏しい。さらに、紫外線硬化型
接着剤等で接続部を固定する場合、接着剤を塗布する時
や、接着剤の硬化時の収縮により位置ずれが生じたり、
また、接続部が機械的に弱く信頼性が低い。光導波路端
部に溝を形成し、光ファイバをはめ込む方法では、光導
波路と溝の位置を正確に一致させることが困難であり、
溝の深さも１μｍ以下の精度で制御する必要がある。ま
た、溝の幅と光ファイバの直径を一致させることも困難
であり、位置ずれの原因となる。さらに、溝壁面を鏡面
状態とすることも困難であり、散乱損失の原因となる。
本発明は上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、光導波路を伝搬してきた導波光により露光さ
れたフォトレジストを利用して光導波路の端面にそれぞ
れ形成された凹部と凸部をかみ合わせることにより位置
合わせが簡単で且つ位置決め精度が高く信頼性の高い光
導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法を
提供することにある。
のであり、光導波路を伝搬してきた導波光により露光さ
れたフォトレジストを利用して光導波路の端面にそれぞ
れ形成された凹部と凸部をかみ合わせることにより位置
合わせが簡単で且つ位置決め精度が高く信頼性の高い光
導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法を
提供することにある。
［課題を解決するための手段］ この目的を達成するために請求項１の光導波路の接続
方法は、第１の光導波路の一方の端面にポジ型フォトレ
ジストを塗布し、当該光導波路の他方の端面から光導波
路内に光を入射し、光導波路内を導波させた後に前記一
方の端面から出射させることにより前記ポジ型フォトレ
ジストを露光し、その後現像することにより当該光導波
路のポジ型フォトレジスト塗布部分を凹部に形成し、第
２の光導波路の一方の端面にネガ型フォトレジストを塗
布し、当該光導波路の他方の端面から光導波路内に入射
した光を前記一方の端面から出射させることにより前記
ネガ型フォトレジストを露光し、その後現像することに
より当該光導波路のネガ型フォトレジスト塗布部分を凸
部に形成し、形成した凹部と凸部を噛み合わせることに
より第１の光導波路と第２の光導波路とを接続するもの
である。
方法は、第１の光導波路の一方の端面にポジ型フォトレ
ジストを塗布し、当該光導波路の他方の端面から光導波
路内に光を入射し、光導波路内を導波させた後に前記一
方の端面から出射させることにより前記ポジ型フォトレ
ジストを露光し、その後現像することにより当該光導波
路のポジ型フォトレジスト塗布部分を凹部に形成し、第
２の光導波路の一方の端面にネガ型フォトレジストを塗
布し、当該光導波路の他方の端面から光導波路内に入射
した光を前記一方の端面から出射させることにより前記
ネガ型フォトレジストを露光し、その後現像することに
より当該光導波路のネガ型フォトレジスト塗布部分を凸
部に形成し、形成した凹部と凸部を噛み合わせることに
より第１の光導波路と第２の光導波路とを接続するもの
である。
また、請求項２の光導波路接続部分の製造方法は、第
１の光導波路と第２の光導波路とを接続するための、光
導波路接続部分の製造方法であって、光導波路の一方の
端面にポジ型あるいはネガ型フォトレジストを塗布し、
当該光導波路の他方の端面から光導波路内に光を入射
し、光導波路内を導波させた後に前記一方の端面から出
射させることにより前記ポジ型あるいはネガ型フォトレ
ジストを露光して現像することにより当該光導波路のポ
ジ型フォトレジスト塗布部分やネガ型フォトレジスト塗
布部分に凹部あるいは凸部を形成するものである。
１の光導波路と第２の光導波路とを接続するための、光
導波路接続部分の製造方法であって、光導波路の一方の
端面にポジ型あるいはネガ型フォトレジストを塗布し、
当該光導波路の他方の端面から光導波路内に光を入射
し、光導波路内を導波させた後に前記一方の端面から出
射させることにより前記ポジ型あるいはネガ型フォトレ
ジストを露光して現像することにより当該光導波路のポ
ジ型フォトレジスト塗布部分やネガ型フォトレジスト塗
布部分に凹部あるいは凸部を形成するものである。
また、請求項３の光導波路接続部分の製造方法は、請
求項２記載の製造方法であって、前記凹部あるいは凸部
は、前記ポジ型あるいはネガ型フォトレジストの現像後
に、前記光導波路端面に残留したフォトレジストをマス
クとして前記光導波路端面の露出部分をエッチング処理
して、当該露出部分を除去し、その後に前記残留したフ
ォトレジストを除去するものである。
求項２記載の製造方法であって、前記凹部あるいは凸部
は、前記ポジ型あるいはネガ型フォトレジストの現像後
に、前記光導波路端面に残留したフォトレジストをマス
クとして前記光導波路端面の露出部分をエッチング処理
して、当該露出部分を除去し、その後に前記残留したフ
ォトレジストを除去するものである。
また、請求項４の光導波路接続部分の製造方法は、請
求項２記載の製造方法であって、前記凹部は、前記ネガ
型フォトレジストの現像後に前記光導波路端面上に薄膜
を形成し、その後、前記光導波路端面上に残留したフォ
トレジストを除去して形成したものである。
求項２記載の製造方法であって、前記凹部は、前記ネガ
型フォトレジストの現像後に前記光導波路端面上に薄膜
を形成し、その後、前記光導波路端面上に残留したフォ
トレジストを除去して形成したものである。
また、請求項５の光導波路接続部分の製造方法は、請
求項２記載の製造方法であって、前記凹部は、前記ネガ
型フォトレジストの現像後に前記光導波路端面上に薄膜
を形成し、その後、前記光導波路端面に残留したフォト
レジストを除去し、その後、当該薄膜をマスクとして当
該フォトレジスト除去により露出した光導波路端面をエ
ッチング処理して形成したものである。
求項２記載の製造方法であって、前記凹部は、前記ネガ
型フォトレジストの現像後に前記光導波路端面上に薄膜
を形成し、その後、前記光導波路端面に残留したフォト
レジストを除去し、その後、当該薄膜をマスクとして当
該フォトレジスト除去により露出した光導波路端面をエ
ッチング処理して形成したものである。
［作用］ 上記の構成を有する請求項１の光導波路の接続方法に
おいては、第１の光導波路については、その一方の端面
にポジ型フォトレジストを塗布し、当該光導波路の他方
の端面から光導波路内に光を入射し、光導波路内を導波
させた後に前記一方の端面から出射させることにより前
記ポジ型フォトレジストを露光し、その後現像すること
により当該光導波路のポジ型フォトレジスト塗布部分を
凹部に形成する。つまり、一方の端面に塗布されたポジ
型フォトレジストに直接光を照射するのではなく、光導
波路の他方の端面側から光を入射し、当該光導波路に導
波された光を前記一方の端面から出射させることにより
前記ポジ型フォトレジストを露光するのである。こうす
ることにより、ポジ型フォトレジストは、光導波路の光
を導波する部分（光の導波層やコア）からのみ出射され
た指向性のある光により露光されるので、現像すれば前
記光導波路のポジ型フォトレジスト塗布部分に位置ずれ
なく凹部を形成することができる。ここで、位置ずれと
は、光導波路の端面中において光を導波する部分と、前
記凹部の底面部分とがずれがないことを意味する。
おいては、第１の光導波路については、その一方の端面
にポジ型フォトレジストを塗布し、当該光導波路の他方
の端面から光導波路内に光を入射し、光導波路内を導波
させた後に前記一方の端面から出射させることにより前
記ポジ型フォトレジストを露光し、その後現像すること
により当該光導波路のポジ型フォトレジスト塗布部分を
凹部に形成する。つまり、一方の端面に塗布されたポジ
型フォトレジストに直接光を照射するのではなく、光導
波路の他方の端面側から光を入射し、当該光導波路に導
波された光を前記一方の端面から出射させることにより
前記ポジ型フォトレジストを露光するのである。こうす
ることにより、ポジ型フォトレジストは、光導波路の光
を導波する部分（光の導波層やコア）からのみ出射され
た指向性のある光により露光されるので、現像すれば前
記光導波路のポジ型フォトレジスト塗布部分に位置ずれ
なく凹部を形成することができる。ここで、位置ずれと
は、光導波路の端面中において光を導波する部分と、前
記凹部の底面部分とがずれがないことを意味する。
これと同様にして、第２の光導波路については、その
一方の端面にネガ型フォトレジストを塗布し、当該光導
波路の他方の端面から光導波路内に光を入射し、光導波
路内を導波させた後に前記一方の端面から出射させるこ
とにより前記ネガ型フォトレジストを露光し、その後現
像することにより当該光導波路のネガ型フォトレジスト
塗布部分を凸部に形成する。つまり、一方の端面に塗布
されたネガ型フォトレジストに直接光を照射するのでは
なく、光導波路の他方の端面側から光を入射し、当該光
導波路に導波された光を前記一方の端面から出射させる
ことにより前記ネガ型フォトレジストを露光するのであ
る。こうすることにより、ネガ型フォトレジストは、光
導波路の光を導波する部分（光の導波層やコア）からの
み出射された指向性のある光により露光されるので、現
像すれば前記光導波路のネガ型フォトレジスト塗布部分
に位置ずれなく凸部を形成することができる。ここで、
位置ずれとは、光導波路の端面中において光を導波する
部分と、前記凸部の突出面部分とがずれないことを意味
する。
一方の端面にネガ型フォトレジストを塗布し、当該光導
波路の他方の端面から光導波路内に光を入射し、光導波
路内を導波させた後に前記一方の端面から出射させるこ
とにより前記ネガ型フォトレジストを露光し、その後現
像することにより当該光導波路のネガ型フォトレジスト
塗布部分を凸部に形成する。つまり、一方の端面に塗布
されたネガ型フォトレジストに直接光を照射するのでは
なく、光導波路の他方の端面側から光を入射し、当該光
導波路に導波された光を前記一方の端面から出射させる
ことにより前記ネガ型フォトレジストを露光するのであ
る。こうすることにより、ネガ型フォトレジストは、光
導波路の光を導波する部分（光の導波層やコア）からの
み出射された指向性のある光により露光されるので、現
像すれば前記光導波路のネガ型フォトレジスト塗布部分
に位置ずれなく凸部を形成することができる。ここで、
位置ずれとは、光導波路の端面中において光を導波する
部分と、前記凸部の突出面部分とがずれないことを意味
する。
このようにして凹部と凸部が形成された光導波路同士
を、その凹部と凸部とを噛み合わせることにより容易に
結合することが可能となり、この時、凹部の底面と光導
波路の光を導波する部分との間の位置ずれがなく、しか
も凸部の突出面と光導波路の光を導波する部部との間の
位置ずれがないので第１の光導波路と第２の光導波路と
の間の光の導波（伝搬）効率が低減することはない。
を、その凹部と凸部とを噛み合わせることにより容易に
結合することが可能となり、この時、凹部の底面と光導
波路の光を導波する部分との間の位置ずれがなく、しか
も凸部の突出面と光導波路の光を導波する部部との間の
位置ずれがないので第１の光導波路と第２の光導波路と
の間の光の導波（伝搬）効率が低減することはない。
一方、上記の構成を有する請求項２の光導波路接続部
分の製造方法は、光導波路の一方の端面にポジ型あるい
はネガ型フォトレジストを塗布し、当該光導波路の他方
の端面から光導波路内に光を入射し、光導波路内を導波
させた後に前記一方の端面から出射させることにより前
記ポジ型あるいはネガ型フォトレジストを露光して現像
することにより当該光導波路のポジ型フォトレジスト塗
布部分やネガ型フォトレジスト塗布部分に凹部あるいは
凸部を形成する。つまり、他方の端面から入射させた光
は一方の端面から出射するとき、ポジ型あるいはネガ型
フォトレジスト部分では指向性を有するので、確実にフ
ォトレジスト塗布部分に位置ずれなく凹部あるいは凸部
を形成することができる。このため、光が光導波路から
凹部や凸部を通過して出射するときや、光が凹部や凸部
を通過して光導波路に入射するときに、光の導波（伝
搬）効率が低減することがない。
分の製造方法は、光導波路の一方の端面にポジ型あるい
はネガ型フォトレジストを塗布し、当該光導波路の他方
の端面から光導波路内に光を入射し、光導波路内を導波
させた後に前記一方の端面から出射させることにより前
記ポジ型あるいはネガ型フォトレジストを露光して現像
することにより当該光導波路のポジ型フォトレジスト塗
布部分やネガ型フォトレジスト塗布部分に凹部あるいは
凸部を形成する。つまり、他方の端面から入射させた光
は一方の端面から出射するとき、ポジ型あるいはネガ型
フォトレジスト部分では指向性を有するので、確実にフ
ォトレジスト塗布部分に位置ずれなく凹部あるいは凸部
を形成することができる。このため、光が光導波路から
凹部や凸部を通過して出射するときや、光が凹部や凸部
を通過して光導波路に入射するときに、光の導波（伝
搬）効率が低減することがない。
また、上記の構成を有する請求項３の光導波路接続部
分の製造方法は、請求項２記載の製造方法であって、前
記凹部あるいは凸部は、前記ポジ型あるいはネガ型フォ
トレジストの現像後に、前記光導波路端面を残留したフ
ォトレジストをマスクとして前記光導波路端面の露出部
分をエッチング処理して、当該露出部分を除去し、その
後に前記残留したフォトレジストを除去する。つまり、
請求項２の方法では光導波路端面に凹部や凸部を形成す
るためのフォトレジストを残留したままの状態であるの
で、光はフォトレジストを通過して導波されることにな
り、その導波効率は若干低下するが、この方法によれ
ば、残留したフォトレジストは光導波路の光を導波する
部分（光導波層やコア）に対して位置ずれがないため、
このフォトレジストをマスクとしてエッチング処理を行
ってからマスクとしてのフォトレジストを除去すれば導
波効率が改善されるのである。
分の製造方法は、請求項２記載の製造方法であって、前
記凹部あるいは凸部は、前記ポジ型あるいはネガ型フォ
トレジストの現像後に、前記光導波路端面を残留したフ
ォトレジストをマスクとして前記光導波路端面の露出部
分をエッチング処理して、当該露出部分を除去し、その
後に前記残留したフォトレジストを除去する。つまり、
請求項２の方法では光導波路端面に凹部や凸部を形成す
るためのフォトレジストを残留したままの状態であるの
で、光はフォトレジストを通過して導波されることにな
り、その導波効率は若干低下するが、この方法によれ
ば、残留したフォトレジストは光導波路の光を導波する
部分（光導波層やコア）に対して位置ずれがないため、
このフォトレジストをマスクとしてエッチング処理を行
ってからマスクとしてのフォトレジストを除去すれば導
波効率が改善されるのである。
また、上記の構成を有する請求項４の光導波路接続部
分の製法方法は、請求項２記載の製造方法であって、前
記凹部は、前記ネガ型フォトレジストの現像後に前記光
導波路端面上に薄膜を形成し、その後、前記光導波路端
面上に残留したフォトレジストを除去して形成する。つ
まり、前記ネガ型フォトレジストを現像すると、光導波
路の端面にフォトレジストによる凸部が形成される。し
かしながら、接合すべき相手方の光導波路がその端面形
状が凸部の時は接合できなくなってしまうが、この方法
のように、一旦形成した凸部を有する光導波路端面に薄
膜を形成し、その後、前記光導波路端面上に残留したフ
ォトレジストを除去してやれば、光導波路端面の形状を
凸部から凹部に変換することができる。従って、ネガ型
フォトレジストを使用すれば接合する相手方の光導波路
端面の凹凸がどちらであっても対応可能である。
分の製法方法は、請求項２記載の製造方法であって、前
記凹部は、前記ネガ型フォトレジストの現像後に前記光
導波路端面上に薄膜を形成し、その後、前記光導波路端
面上に残留したフォトレジストを除去して形成する。つ
まり、前記ネガ型フォトレジストを現像すると、光導波
路の端面にフォトレジストによる凸部が形成される。し
かしながら、接合すべき相手方の光導波路がその端面形
状が凸部の時は接合できなくなってしまうが、この方法
のように、一旦形成した凸部を有する光導波路端面に薄
膜を形成し、その後、前記光導波路端面上に残留したフ
ォトレジストを除去してやれば、光導波路端面の形状を
凸部から凹部に変換することができる。従って、ネガ型
フォトレジストを使用すれば接合する相手方の光導波路
端面の凹凸がどちらであっても対応可能である。
また、上記の構成を有する請求項５の光導波路接続部
分の製造方法は、請求項２記載の製造方法であって、前
記凹部は、前記ネガ型フォトレジストの現像後に前記光
導波路端面上に薄膜を形成し、その後、前記光導波路端
面に残留したフォトレジストを除去し、その後、当該薄
膜をマスクとして当該フォトレジスト除去により露出し
た光導波路端面をエッチング処理して形成する。つま
り、前記ネガ型フォトレジストを現像すると、光導波路
の端面にフォトレジストによる凸部が形成される。しか
しながら、接合すべき相手方の光導波路がその端面形状
が凸部の時は接合できなくなってしまうが、この方法の
ように、一旦形成した凸部を有する光導波路端面に薄膜
を形成し、その後、前記光導波路端面上に残留したフォ
トレジストを除去してやれば、光導波路端面の形状を凸
部から凹部に変換することができる。また、薄膜を厚く
形成しなくても深い凹部を形成することができる。従っ
て、ネガ型フォトレジストを使用すれば接合する相手方
の光導波路端面の凹凸がどちらであっても対応可能であ
る。
分の製造方法は、請求項２記載の製造方法であって、前
記凹部は、前記ネガ型フォトレジストの現像後に前記光
導波路端面上に薄膜を形成し、その後、前記光導波路端
面に残留したフォトレジストを除去し、その後、当該薄
膜をマスクとして当該フォトレジスト除去により露出し
た光導波路端面をエッチング処理して形成する。つま
り、前記ネガ型フォトレジストを現像すると、光導波路
の端面にフォトレジストによる凸部が形成される。しか
しながら、接合すべき相手方の光導波路がその端面形状
が凸部の時は接合できなくなってしまうが、この方法の
ように、一旦形成した凸部を有する光導波路端面に薄膜
を形成し、その後、前記光導波路端面上に残留したフォ
トレジストを除去してやれば、光導波路端面の形状を凸
部から凹部に変換することができる。また、薄膜を厚く
形成しなくても深い凹部を形成することができる。従っ
て、ネガ型フォトレジストを使用すれば接合する相手方
の光導波路端面の凹凸がどちらであっても対応可能であ
る。
［実施例］ 以下本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
第１図に本発明の一実施例である光導波路の接続方法
の手順について示す。第１図（ａ）のようにSiO2,Al
2O3,ガラス等の誘電体基板11上にスパッタ法や真空蒸着
法等によって作製されたZnO,As2S3,Nb2O5,Ta2O5等の薄
膜12及びSiO2,Al2O3,ガラス等を用いた保護層13から成
る光導波路14の端面にポジ型フォトレジスト15をスピン
コート等により塗布する。一方、コア16とクラッド17か
ら成る光ファイバ18の端面にも同様にしてネガ型フォト
レジスト19を塗布する。フォトレジストの厚さは数μｍ
〜数10μｍである。次に第１図（ｂ）のように光導波路
14の他方の端面よりレンズ20等を用いて光導波路14にレ
ーザ光21を導波させる。光導波路14は、薄膜12の屈折率
を基板11や保護層13の屈折率よりも高いため、レーザ光
21は、薄膜12中に閉じ込められ伝搬しフォトレジスト15
を塗布した端面から出射する。ここでレーザ光21として
比較的波長の短いArレーザ等を用いることにより、フォ
トレジストを感光させることができる。従って、フォト
レジスト15は、導波層である薄膜12の付近のみ露光され
る。同様にして、光ファイバ18の図示されない他端から
入射したレーザ光はコア16中に閉じ込められて光ファイ
バ中を導波し、フォトレジスト19のコア付近のみ露光す
る。フォトレジストを以上のように露光後現象すると第
１図（ｃ）のようにポジ型フォトレジスト15は、レーザ
光で露光された部分のみ除去され、凹部22が形成され
る。一方、ネガ型フォトレジスト19ではレーザ光で露光
された部分のみ残り凸部23が形成される。この凹部22と
凸部23を第１図（ｄ）のようにかみ合わせることにより
位置決めを行い接続する。接続後は、光導波路及び光フ
ァイバを図示されない治具等で機械的に固定してもよ
い。さらに接続部を紫外線硬化樹脂等で固めてもよい。
このとき、凹部と凸部はかみ合っているため位置ずれを
生じることはない。また、フォトレジストを光導波路の
導波層あるいは、光ファイバのコアを伝送されたレーザ
光で露光するので凹部凸部の位置の導波層、コアの位置
とは、正確に一致しているため、無調整で非常に高い位
置決めを行うことができる。
の手順について示す。第１図（ａ）のようにSiO2,Al
2O3,ガラス等の誘電体基板11上にスパッタ法や真空蒸着
法等によって作製されたZnO,As2S3,Nb2O5,Ta2O5等の薄
膜12及びSiO2,Al2O3,ガラス等を用いた保護層13から成
る光導波路14の端面にポジ型フォトレジスト15をスピン
コート等により塗布する。一方、コア16とクラッド17か
ら成る光ファイバ18の端面にも同様にしてネガ型フォト
レジスト19を塗布する。フォトレジストの厚さは数μｍ
〜数10μｍである。次に第１図（ｂ）のように光導波路
14の他方の端面よりレンズ20等を用いて光導波路14にレ
ーザ光21を導波させる。光導波路14は、薄膜12の屈折率
を基板11や保護層13の屈折率よりも高いため、レーザ光
21は、薄膜12中に閉じ込められ伝搬しフォトレジスト15
を塗布した端面から出射する。ここでレーザ光21として
比較的波長の短いArレーザ等を用いることにより、フォ
トレジストを感光させることができる。従って、フォト
レジスト15は、導波層である薄膜12の付近のみ露光され
る。同様にして、光ファイバ18の図示されない他端から
入射したレーザ光はコア16中に閉じ込められて光ファイ
バ中を導波し、フォトレジスト19のコア付近のみ露光す
る。フォトレジストを以上のように露光後現象すると第
１図（ｃ）のようにポジ型フォトレジスト15は、レーザ
光で露光された部分のみ除去され、凹部22が形成され
る。一方、ネガ型フォトレジスト19ではレーザ光で露光
された部分のみ残り凸部23が形成される。この凹部22と
凸部23を第１図（ｄ）のようにかみ合わせることにより
位置決めを行い接続する。接続後は、光導波路及び光フ
ァイバを図示されない治具等で機械的に固定してもよ
い。さらに接続部を紫外線硬化樹脂等で固めてもよい。
このとき、凹部と凸部はかみ合っているため位置ずれを
生じることはない。また、フォトレジストを光導波路の
導波層あるいは、光ファイバのコアを伝送されたレーザ
光で露光するので凹部凸部の位置の導波層、コアの位置
とは、正確に一致しているため、無調整で非常に高い位
置決めを行うことができる。
第１図に示した方法では、光導波路端面と光ファイバ
とがフォトレジストを介して接続されているため、光導
波路あるいは、光ファイバから出射した光は、回折によ
りひろがり、結合効率がやや低下する。そこで第１図
（ｃ）の状態で、フッ酸等のエッチング液による化学エ
ッチング、あるいは、プラズマエッチング、スパッタエ
ッチング、イオンビームエッチング等により光導波路14
の導波層12及び光ファイバ18のクラッド17をエッチング
しフォトレジストを除去すると第２図（ａ）のように凹
部及び凸部が形成される。これらをかみ合わせると、光
ファイバのコア部と光導波路の導波層とが直接接触する
ため効率のよく接続することができる。また、第２図
（ｂ）のように光ファイバの先端部をフッ酸等でエッチ
ングしテーパ状としてもよい。
とがフォトレジストを介して接続されているため、光導
波路あるいは、光ファイバから出射した光は、回折によ
りひろがり、結合効率がやや低下する。そこで第１図
（ｃ）の状態で、フッ酸等のエッチング液による化学エ
ッチング、あるいは、プラズマエッチング、スパッタエ
ッチング、イオンビームエッチング等により光導波路14
の導波層12及び光ファイバ18のクラッド17をエッチング
しフォトレジストを除去すると第２図（ａ）のように凹
部及び凸部が形成される。これらをかみ合わせると、光
ファイバのコア部と光導波路の導波層とが直接接触する
ため効率のよく接続することができる。また、第２図
（ｂ）のように光ファイバの先端部をフッ酸等でエッチ
ングしテーパ状としてもよい。
フォトレジストは熱的及び機械的に強くないため第３
図（ａ）のように光導波路端面にSiO2,Al2O3,Ta2O5等の
薄膜31をスパッタ法、蒸着法等により作製し、第１図と
同様にしてフォトレジスト15をパターニングする。さら
にフォトレジスト15をマスクとして薄膜31をエッチング
して第３図（ｂ）のように凹部を形成してもよい。
図（ａ）のように光導波路端面にSiO2,Al2O3,Ta2O5等の
薄膜31をスパッタ法、蒸着法等により作製し、第１図と
同様にしてフォトレジスト15をパターニングする。さら
にフォトレジスト15をマスクとして薄膜31をエッチング
して第３図（ｂ）のように凹部を形成してもよい。
第１図の実施例では、ポジ型レジストにより凹部をネ
ガ型レジストにより凸部を形成したが、それらの組合せ
は限定しない。例えば、ネガ型フォトレジストを現像す
ると、光導波路の端面に光を導波する部分にのみフォト
レジストが残留して凸部となる。しかしながら、この凸
部を凸部に変換することも可能である。こうすればたと
え相手側の光導波路の端面が凸部になっていても接合が
可能になるからである。この凸部から凹部への変換は、
次のように行うことができる。即ち、第４図のように光
導波路14端面に第１図と同様の方法でネガ型フォトレジ
スト41により凸部を第４図（ａ）のように形成する。そ
の上に、SiO2,Ta2O3等の薄膜42を第４図（ｂ）のように
形成し、この時、光導波路の端面が露出した部分と端面
上に残留したフォトレジスト41上に両方に薄膜42が形成
されることとなる。この後、フォトレジスト41上の薄膜
を除去しフォトレジストを除去すると、前記薄膜形成前
に光導波路の端面が露出していた部分にのみ薄膜42が付
着された形態（第４図（ｃ））が形成される。つまり光
導波路の端面に凹部が形成されることとなる。さらに第
５図のように導波層をエッチングしてもよい。尚、導波
層やクラッドをエッチングする場合、導波層付近の基板
及び上層部あるいは、クラッドの近くのコアもエッチン
グしてもさしつかえない。
ガ型レジストにより凸部を形成したが、それらの組合せ
は限定しない。例えば、ネガ型フォトレジストを現像す
ると、光導波路の端面に光を導波する部分にのみフォト
レジストが残留して凸部となる。しかしながら、この凸
部を凸部に変換することも可能である。こうすればたと
え相手側の光導波路の端面が凸部になっていても接合が
可能になるからである。この凸部から凹部への変換は、
次のように行うことができる。即ち、第４図のように光
導波路14端面に第１図と同様の方法でネガ型フォトレジ
スト41により凸部を第４図（ａ）のように形成する。そ
の上に、SiO2,Ta2O3等の薄膜42を第４図（ｂ）のように
形成し、この時、光導波路の端面が露出した部分と端面
上に残留したフォトレジスト41上に両方に薄膜42が形成
されることとなる。この後、フォトレジスト41上の薄膜
を除去しフォトレジストを除去すると、前記薄膜形成前
に光導波路の端面が露出していた部分にのみ薄膜42が付
着された形態（第４図（ｃ））が形成される。つまり光
導波路の端面に凹部が形成されることとなる。さらに第
５図のように導波層をエッチングしてもよい。尚、導波
層やクラッドをエッチングする場合、導波層付近の基板
及び上層部あるいは、クラッドの近くのコアもエッチン
グしてもさしつかえない。
また、光導波路端面に光重合性硬化樹脂を塗布し、光
導波路を導波したレーザ光により重合させ、凸部を形成
してもよい。
導波路を導波したレーザ光により重合させ、凸部を形成
してもよい。
以上の実施例では光導波路と光導波路の１つである光
ファイバとの接続について説明したが、第１図（ａ）の
左側に示した光導波路同志も全く同様にして接続するこ
とができる。さらに、LiNbO3などの基板にTi等を拡散し
た、いわゆる拡散導波路についても同様に接続すること
ができる。導波路形状にも限定はなく、スラブ型、リッ
ジ型、装荷型等についても同様に接続することができ
る。さらに、第６図のように複数の導波路61についても
同様に凹部あるいは凸部を形成することができる。
ファイバとの接続について説明したが、第１図（ａ）の
左側に示した光導波路同志も全く同様にして接続するこ
とができる。さらに、LiNbO3などの基板にTi等を拡散し
た、いわゆる拡散導波路についても同様に接続すること
ができる。導波路形状にも限定はなく、スラブ型、リッ
ジ型、装荷型等についても同様に接続することができ
る。さらに、第６図のように複数の導波路61についても
同様に凹部あるいは凸部を形成することができる。
フォトレジストの種類、厚さについても限定しない。
例えば凹部と比べて凸部を厚くしてもよい。さらに、第
１図（ｃ）においてフォトレジスト19の屈折率のフォト
レジスト15より大きくすることで結合率が高くなる。ま
た、凹部凸部の形状についても限定しない。すなわち、
導波層12からの出射光は、第７図（ａ）のように中央部
の強度が大きく、回折により、端面から離れるに従い広
がっていく。このため、光強度を十分大きくすることに
より第７図（ｂ）の斜線の部分が露光され例えば第７図
（ｃ）のような凹部22が形成される。また、光強度が比
較的小さい場合第７図（ｄ）の斜線の部分が露光され、
例えば第７図（ｅ）のような凸部23が形成される。この
ように、レーザ光強度により凹部あるいは凸部の形状を
制御することができる。本来の光導波路と同じ基板上に
１つあるいは複数個の位置決め用光導波路を作製し、こ
の位置決め用光導波路を伝搬する光を利用して凹部や凸
部を作製してもよい。この場合、例えば、第３図のよう
に光導成波路面で凹部あるいは凸部を形成する薄膜とし
て、光吸収の大きな材料、あるいは金属を用いることが
できる。露光用レーザ光の種類及び波長についても限定
しない。
例えば凹部と比べて凸部を厚くしてもよい。さらに、第
１図（ｃ）においてフォトレジスト19の屈折率のフォト
レジスト15より大きくすることで結合率が高くなる。ま
た、凹部凸部の形状についても限定しない。すなわち、
導波層12からの出射光は、第７図（ａ）のように中央部
の強度が大きく、回折により、端面から離れるに従い広
がっていく。このため、光強度を十分大きくすることに
より第７図（ｂ）の斜線の部分が露光され例えば第７図
（ｃ）のような凹部22が形成される。また、光強度が比
較的小さい場合第７図（ｄ）の斜線の部分が露光され、
例えば第７図（ｅ）のような凸部23が形成される。この
ように、レーザ光強度により凹部あるいは凸部の形状を
制御することができる。本来の光導波路と同じ基板上に
１つあるいは複数個の位置決め用光導波路を作製し、こ
の位置決め用光導波路を伝搬する光を利用して凹部や凸
部を作製してもよい。この場合、例えば、第３図のよう
に光導成波路面で凹部あるいは凸部を形成する薄膜とし
て、光吸収の大きな材料、あるいは金属を用いることが
できる。露光用レーザ光の種類及び波長についても限定
しない。
［発明の効果］ 以上詳述したことから明らかなように、請求項１の光
導波路の接続方法においては、第１の光導波路の一方の
端面に塗布されたポジ型フォトレジストは、当該一方の
端面上の光導波路の光を導波する部分（光の導波層やコ
ア）からのみ出射された指向性のある光により露光され
るので、位置ずれなく凹部を形成することができ、しか
も、第２の光導波路の一方の端面に塗布されたネガ型フ
ォトレジストは、当該一方の端面上の光導波路の光を導
波する部分（光の導波層やコア）からのみ出射された指
向性のある光により露光されるので、位置ずれなく凸部
を形成することができる。このため、第１の光導波路と
第２の光導波路とを接続するときに互いの位置決めが容
易になるとともに、凹部の底面と光導波路の光を導波す
る部分との間の位置ずれがなく、しかも凸部の突出面と
光導波路の光を導波する部分との間の位置ずれがないの
で第１の光導波路と第２の光導波路との間の光の導波
（伝搬）効率が低減することはないという大変優れた効
果を奏する。
導波路の接続方法においては、第１の光導波路の一方の
端面に塗布されたポジ型フォトレジストは、当該一方の
端面上の光導波路の光を導波する部分（光の導波層やコ
ア）からのみ出射された指向性のある光により露光され
るので、位置ずれなく凹部を形成することができ、しか
も、第２の光導波路の一方の端面に塗布されたネガ型フ
ォトレジストは、当該一方の端面上の光導波路の光を導
波する部分（光の導波層やコア）からのみ出射された指
向性のある光により露光されるので、位置ずれなく凸部
を形成することができる。このため、第１の光導波路と
第２の光導波路とを接続するときに互いの位置決めが容
易になるとともに、凹部の底面と光導波路の光を導波す
る部分との間の位置ずれがなく、しかも凸部の突出面と
光導波路の光を導波する部分との間の位置ずれがないの
で第１の光導波路と第２の光導波路との間の光の導波
（伝搬）効率が低減することはないという大変優れた効
果を奏する。
また、請求項２の光導波路接続部分の製造方法におい
ては、他方の端面から入射させた光は一方の端面から出
射するとき、ポジ型あるいはネガ型フォトレジスト部分
では指向性を有するので、確実にフォトレジスト塗布部
分に位置ずれなく凹部あるいは凸部を形成することがで
きる。このため、光が光導波路から凹部や凸部を通過し
て出射するときや、光が凹部や凸部を通過して光導波路
に入射するときに、光の導波（伝搬）効率が低減するこ
とがないという大変優れた効果を奏する。
ては、他方の端面から入射させた光は一方の端面から出
射するとき、ポジ型あるいはネガ型フォトレジスト部分
では指向性を有するので、確実にフォトレジスト塗布部
分に位置ずれなく凹部あるいは凸部を形成することがで
きる。このため、光が光導波路から凹部や凸部を通過し
て出射するときや、光が凹部や凸部を通過して光導波路
に入射するときに、光の導波（伝搬）効率が低減するこ
とがないという大変優れた効果を奏する。
また、請求項３の光導波路接続部分の製造方法におい
ては、請求項２の効果に加え、光導波路の端面に残留し
たフォトレジストを除去しているので、光がフォトレジ
ストを通過して導波されることがなくなり、導波効率が
向上するという効果を奏する。
ては、請求項２の効果に加え、光導波路の端面に残留し
たフォトレジストを除去しているので、光がフォトレジ
ストを通過して導波されることがなくなり、導波効率が
向上するという効果を奏する。
また、請求項４の光導波路接続部分の製造方法におい
ては、請求項２の効果に加え、光導波路端面の形状を凸
部から凹部に変換することができる。従って、ネガ型フ
ォトレジストを使用すれば接合する相手方の光導波路端
面の凹凸がどちらであっても対応できるという効果を奏
する。
ては、請求項２の効果に加え、光導波路端面の形状を凸
部から凹部に変換することができる。従って、ネガ型フ
ォトレジストを使用すれば接合する相手方の光導波路端
面の凹凸がどちらであっても対応できるという効果を奏
する。
また、請求項５の光導波路接続部分の製造方法におい
ては、請求項２の効果に加え、光導波路端面の形状を凸
部から凹部に変換することができる。また、薄膜を厚く
形成しなくても深い凹部を形成することができる。従っ
て、ネガ型フォトレジストを使用すれば接合する相手方
の光導波路端面の凹凸がどちらであっても対応できると
いう効果を奏する。
ては、請求項２の効果に加え、光導波路端面の形状を凸
部から凹部に変換することができる。また、薄膜を厚く
形成しなくても深い凹部を形成することができる。従っ
て、ネガ型フォトレジストを使用すれば接合する相手方
の光導波路端面の凹凸がどちらであっても対応できると
いう効果を奏する。
第１図から第７図までは本発明を具体化した実施例を示
すもので、第１図は本発明の光導波路の接続法を示す断
面図、第２図，第３図，第４図及び第５図は本発明の他
の実施例を示す断面図、第６図は本発明の変形例を示す
斜面図、第７図は本発明の他の変形例を示す説明図、第
８図は従来の光導波路の接続法を示す斜面図、第９図は
従来の光導波路の他の接続法を示す斜視図である。 図中、11は基板、12は薄膜（導波層）、13は保護層、14
は光導波路、15はフォトレジスト、16はコア、17はクラ
ッド、18は光ファイバ、19はフォトレジスト、20はレン
ズ、21はレーザ光、22は凹部、23は凸部である。
すもので、第１図は本発明の光導波路の接続法を示す断
面図、第２図，第３図，第４図及び第５図は本発明の他
の実施例を示す断面図、第６図は本発明の変形例を示す
斜面図、第７図は本発明の他の変形例を示す説明図、第
８図は従来の光導波路の接続法を示す斜面図、第９図は
従来の光導波路の他の接続法を示す斜視図である。 図中、11は基板、12は薄膜（導波層）、13は保護層、14
は光導波路、15はフォトレジスト、16はコア、17はクラ
ッド、18は光ファイバ、19はフォトレジスト、20はレン
ズ、21はレーザ光、22は凹部、23は凸部である。
Claims (5)
- 【請求項１】第１の光導波路の一方の端面にポジ型フォ
トレジストを塗布し、当該光導波路の他方の端面から光
導波路内に光を入射し、光導波路内を導波させた後に前
記一方の端面から出射させることにより前記ポジ型フォ
トレジストを露光し、その後現像することにより当該光
導波路のポジ型フォトレジスト塗布部分を凹部に形成
し、 第２の光導波路の一方の端面にネガ型フォトレジストを
塗布し、当該光導波路の他方の端面から光導波路内に入
射した光を前記一方の端面から出射させることにより前
記ネガ型フォトレジストを露光し、その後現像すること
により当該光導波路のネガ型フォトレジスト塗布部分を
凸部に形成し、 形成した凹部と凸部を噛み合わせることにより第１の光
導波路と第２の光導波路とを接続するようにしたことを
特徴とした光導波路の接続方法。 - 【請求項２】第１の光導波路と第２の光導波路とを接続
するための、光導波路接続部分の製造方法であって、 光導波路の一方の端面にポジ型あるいはネガ型フォトレ
ジストを塗布し、 当該光導波路の他方の端面から光導波路内に光を入射
し、光導波路内を導波させた後に前記一方の端面から出
射させることにより前記ポジ型あるいはネガ型フォトレ
ジストを露光して現像することにより当該光導波路のポ
ジ型フォトレジスト塗布部分やネガ型フォトレジスト塗
布部分に凹部あるいは凸部を形成することを特徴とする
光導波路接続部分の製造方法。 - 【請求項３】前記凹部あるいは凸部は、前記ポジ型ある
いはネガ型フォトレジストの現像後に、前記光導波路端
面に残留したフォトレジストをマスクとして前記光導波
路端面の露出部分をエッチング処理して、当該露出部分
を除去し、その後に前記残留したフォトレジストを除去
することにより形成されていることを特徴とする請求項
２に記載の光導波路接続部分の製造方法。 - 【請求項４】前記凹部は、前記ネガ型フォトレジストの
現像後に前記光導波路端面上に薄膜を形成し、その後、
前記光導波路端面上に残留したフォトレジストを除去し
て形成したことを特徴とする請求項２に記載の光導波路
接続部分の製造方法。 - 【請求項５】前記凹部は、前記ネガ型フォトレジストの
現像後に前記光導波路端面上に薄膜を形成し、その後、
前記光導波路端面に残留したフォトレジストを除去し、
その後、当該薄膜をマスクとして当該フォトレジスト除
去により露出した光導波路端面をエッチング処理して形
成したことを特徴とする請求項２に記載の光導波路接続
部分の製造方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP63157859A JP2701326B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法 |
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| JP63157859A JP2701326B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH026911A JPH026911A (ja) | 1990-01-11 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0579505U (ja) * | 1992-03-25 | 1993-10-29 | 京セラ株式会社 | 光導波路と光ファイバの接続構造 |
| EP0583986B1 (en) * | 1992-08-20 | 1999-02-10 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Shockproof optical waveguide device |
| JPH0915446A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-17 | Nec Corp | マイクロ光コネクタ |
| FR2798740B1 (fr) * | 1998-11-16 | 2003-02-14 | Nanotechnologie Et D Instrumen | Nouvelles fibres optiques lentillees a forte ouverture numerique d'extremite application a la realisation de nouveaux composants optoelectroniques hautes performances |
| GB2356463B (en) * | 1999-11-16 | 2003-06-25 | Marconi Electronic Syst Ltd | Method of alignment in an optoelectronic assembly |
| EP1329752B1 (en) * | 2002-10-29 | 2005-02-23 | Agilent Technologies Inc. a Delaware Corporation | Tip for optical waveguide |
| JP2007178790A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sony Corp | 光結合器及び光コネクタ |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50137046U (ja) * | 1974-04-25 | 1975-11-12 | ||
| JPS6029081B2 (ja) * | 1978-07-13 | 1985-07-09 | 三菱電機株式会社 | 半導体発光装置の製造方法 |
| JPS5935906U (ja) * | 1982-08-27 | 1984-03-06 | 株式会社東芝 | 光通信用集束性ロツドレンズ |
| JPS60110809U (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-27 | 株式会社山武 | 光通信用リセプタクル |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP63157859A patent/JP2701326B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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