JP2696197B2 - 連続電解研磨方法及び連続電解研磨装置 - Google Patents

連続電解研磨方法及び連続電解研磨装置

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JP2696197B2 JP5213202A JP21320293A JP2696197B2 JP 2696197 B2 JP2696197 B2 JP 2696197B2 JP 5213202 A JP5213202 A JP 5213202A JP 21320293 A JP21320293 A JP 21320293A JP 2696197 B2 JP2696197 B2 JP 2696197B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電解電極(単に「電
極」と称することがある。)に加工物を対面させて、電
極/加工物間に電解液を介在させて連続的に電解研磨を
する方法及び装置に関する。特に、金属表面に高度の平
滑性・物性が要求される製品、例えば、半導体製造設
備、超高真空機器、原子力関係設備、電子部品等の金属
材料の鏡面加工に好適な発明である。
【0002】本発明で使用する用語を下記に定義する。
【0003】ヤッケ層…加工物の電気化学的溶解によっ
て発生する金属イオンとその他の電解液組成物によって
構成される高電気抵抗層を言う。
【0004】
【従来の技術】電解研磨は、機械的仕上げ方法のよう
に、加工時の力及び熱による加工変質層を加工物の表面
に生じさせないで平滑面が得られるため、また、銅やア
ルミニウム等の軟質の金属の研磨も容易であるため、上
記高度の表面物性が要求される金属製品の研磨方法とし
て着目されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そして、電解研磨を連
続的に行うには、加工物を電解研磨槽内を連続的に搬送
させる必要がある。
【0006】この際、加工物を陽極に帯電させる必要が
あるために、ブラシ等の接触式給電手段を必要とした。
接触式給電手段は不安定で、異常放電や加工物の損傷が
発生し易く、生産性の見地から望ましくない。
【0007】また、陰極と接続される電解電極には、電
解溶出物が電析・堆積する(この析出物を電解析出物と
言う。)ため、定期的に該電解析出物を除去する必要が
ある。電解析出物の存在により、加工物と電極間の実質
的距離が変動して電解性能に影響を与えるとともに、極
端な場合は、電解析出物が加工物に接触してショートす
ることがあるためである。この電解析出物の除去は、電
解研磨を停止して、または、電極切替により行う必要が
あり、生産性または電極消耗、等の見地から望ましくな
い。
【0008】本発明は、上記にかんがみて、加工物への
給電を非接触式ででき、また、電解電極に電析・堆積す
る電解溶解物の除去も電解研磨を停止して行う必要がな
い連続電解研磨方法及び連続研磨装置を提供することを
目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の連続電解研磨方
法及びそれに使用する装置は、上記課題を、下記構成に
より解決するものである。
【0010】 (1)本発明の連続電解研磨方法は、電
解電極に加工物を対面させて、電極/加工物間に電解液
を循環させて連続的に電解研磨をするに際して、陽極に
接続される給電電極及び陰極に接続される電解電極を順
接して、加工物を各電極の電極面に沿って非接触状態で
移動させることにより、加工物を給電電極の対面部位で
電解液を介してマイナスに帯電させるとともに、電解電
極の対面部位で電解液を介してプラスに帯電させること
により電解研磨をさせ、電解電極を回転電極として、電
解電極に電析・堆積する電解析出物を電解液非接触部位
で除去すること特徴とする。
【0011】(2) 本発明の連続電解研磨装置は、上記電
解研磨方法に使用する装置であって、給電電極が一側ま
たは両側に配された給電槽と、回転陽極電極が一側また
は両側に配された研磨槽と、給電槽と研磨槽との各電極
の極面に沿って加工物を移動させる加工物搬送手段と、
各電極と加工物との対面間に電解液を循環させる電解液
循環手段と、回転陽極電極に電析・堆積する電解析出物
を除去する電解析出物除去手段とを備えてなることを特
徴とする。
【0012】
【実施例】次に、本発明の方法及び装置を、図例に基づ
いて詳細に説明をする。なお、本発明は、下記実施例に
限られることなく、特許請求の範囲に記載される範囲内
で種々の態様に及ぶものである。
【0013】また、給電槽及び研磨槽を横型とし、加工
物の搬送方向は水平したが、給電槽及び研磨槽は縦型・
斜設型とし処理物の搬送方向も垂直・斜めでもよい。ま
た、電極と加工物の対面方向は左右方向としたが、上下
方向であってもよい。
【0014】<実施例1> (1) 図1に本実施例に使用する両面処理タイプの連続電
解研磨装置のモデル図を示す。
【0015】基本的には、平板状の給電電極1、1が両
側に配された給電槽3と、水平回転する回転電解電極5
が両側に配された研磨槽7と、給電槽3と研磨槽7との
各電極の極面に沿って加工物Wを移動させる加工物搬送
手段(搬送ローラ)9、9と、給電電極1、1及び回転
電解電極5と加工物Wとの対面間に電解液Eを循環させ
る電解液循環手段(ポンプ)11、11とからなり、回
転電解電極5に電析・堆積する電解析出物を除去する電
解析出物除去手段(スクレーパ)13が付設された構成
である。そして、直流電源15の陽極側に給電電極1が
接続され、陰極側が回転電解電極5が接続されている。
【0016】給電電極1は、通常、不溶性電極である白
金等を使用する。また、回転電解電極5は陰極側に接続
されるため不溶性電極である必要はなく、通常、耐食性
を有するステンレス鋼等を使用する。また、回転電解電
極5、5は、モータ6で駆動されるようになっている。
また、給電槽3及び研磨槽7の材質は、セラミック等の
不良導体を使用し、各槽の搬入口3a、7a、及び、搬
出口3b、7bは、通常、加工物が接触しない範囲で可
及的に塞ぐようにする。
【0017】加工物搬送手段5は、図例では、ローラで
あるが、ベルト等であってもよい。
【0018】また、電解溶解物除去手段13は、スクレ
ーパに限定されず、薬液除去、ローラ除去、等任意であ
る。
【0019】なお、直流電源15は、図示しないが直列
可変抵抗を備え、電圧調整可能とされている。さらに、
ポンプ11、モータ6等の駆動電源は、通常、交流電源
を使用する。
【0020】(2) 次に、上記装置を使用しての本発明の
電解研磨を行う方法を説明する。
【0021】本発明の方法は、電解電極5に加工物Wを
左右方向で対面させて、電極/加工物間に電解液Eを介
在させて連続的に電解研磨をすることを前提とする。
【0022】 このとき、加工物Wと給電電極1及び
解電極5との間隔は、加工物・電解液の種類・大きさに
より異なるが、通常、0.5〜30mmとする。
【0023】加工物Wとしては、Fe系・Al系・Cu
系・Ni系・Ti系の金属及び合金等、電解研磨可能な
ものなら特に限定されない。加工物Wの形態は、本実施
例では、帯板状のものを使用した例を示したが、帯板に
他の凹凸やパンチ孔をプレス、エッチング等により付加
したもの、さらには、ワイヤー状のものでもよい。
【0024】電解液としては、通常、硝酸ソーダ、塩化
ナトリウム、リン酸、塩化カリ、等の中性・酸性・アル
カリ性、のもの等、適宜使用できる。特に、給電側の電
解液は、電解質を含み、且つ、加工物に悪影響を与えな
いものなら特に限定されるものではない。
【0025】そして、ポンプ11を駆動させて給電槽3
内及び研磨槽7内に電解液Eを循環させる。回転電解電
極5をモータ6を起動させて回転させるとともに直流電
源15をオンとする。この状態で、搬送ローラ9を駆動
させて、加工物(図例では帯板鋼板)Wを搬送させる。
【0026】ここで、印加電圧は、電解液、加工物/電
極の対向面間距離により異なるが、15〜200Vとす
る。15V未満では電解力が小さく、バリ取り、及び、
粗研磨の作業効率が低い。200Vを越えると、加工物
の表面荒れの原因となる異常放電が発生し易い。
【0027】電解液Eの流量は、加工物Wの処理平板面
上で、ヤッケ層をほとんど減失させない程度ならよく、
通常、50cm/秒以下、望ましくは、10cm/秒以下と
する。
【0028】 すると、加工物Wは給電電極1及び電解
電極5の電極面沿って非接触状態で移動することとな
り、給電電極1の対面部位で電解液Eを介してマイナス
に帯電されるとともに、電解電極5の対面部位で電解液
Eを介してプラスに帯電されて電解研磨される。このと
き、電解電極5と加工物Wの対抗面間では低電流密度/
低流速領域となるように、電解液Eの循環流の条件(電
解電極5と加工物Wの対向面間距離、加工物Wの搬送速
度も含めて)が設定されており、高電気抵抗層であるヤ
ッケ層が成長して鏡面研磨される。即ち、鏡面化は、ヤ
ッケ層の存在により、金属の電解溶出量は、凹部と凸部
でほとんど変わらないとともに、ヤッケ層の存在により
電解溶出した金属イオンが拡散せず、凹部に蓄積して該
部が平滑面となるためである。
【0029】また、加工物(帯板)の上下端縁は、鋭端
であるため、電流が優先的に流れるため、大きな凹凸を
平滑化する粗研磨により角取りが行われる。なお、角取
りが不必要な場合は、該部位をマスキングすればよい。
【0030】そして、回転電解電極5に電析・堆積する
電解析出物は、電解液非接触部位で、即ち研磨槽7の外
側で、スクレーパ13により除去される。
【0031】<実施例2> (1) 図2に本発明の方法に使用する片面処理タイプの電
解研磨装置のモデル図を示す。
【0032】実施例1において、各電極を片面とし、且
つ、電解液の循環流の方向を水平方向とし、さらに、加
工物を孔あき帯板鋼板としたものである。実施例1と同
一部分については同一図符号を、対応する部分について
は、実施例1の図符号に接尾辞Aを付した。
【0033】基本的には、平板状の給電電極1Aが一側
に配された給電槽3Aと、垂直回転する回転電解電極5
Aが一側に配された研磨槽7Aと、給電槽3Aと研磨槽
7Aとの各電極の極面に沿って加工物Wを移動させる加
工物搬送手段(搬送ローラ9Aとガイド部材10)と、
給電電極1A及び回転電解電極5Aと加工物Wとの対面
間に電解液Eを循環させる電解液循環手段(ポンプ)1
1、11とからなり、回転電解電極5に電析・堆積する
電解析出物を除去する電解析出物除去手段(スクレー
パ)13Aが付設された構成である。そして、直流電源
15の陽極側に給電電極1が接続され、陰極側が回転電
解電極5が接続されている。
【0034】(2) 次に、上記装置を使用しての本発明の
電解研磨を行う方法を説明する。
【0035】実施例1と同様にして、ポンプ11を駆動
させて給電槽3A内及び研磨槽7A内に電解液Eを水平
方向に循環させる。回転電解電極5Aをモータ6を起動
させて回転させるとともに直流電源15をオンとする。
この状態で、搬送ローラ9を駆動させて、加工物(図例
ではプレス加工された孔あきストリップ)WAを搬送さ
せる。
【0036】すると、板存在(中実)部位sでは、低流
速領域となり、孔明き部位oでは、高流速領域となる。
【0037】すると、板存在部位sでは、電解液が流れ
が阻害されて、電解液の流速が小さくなり、高電気抵抗
層であるヤッケ層が成長するため、実施例1と同様にし
て鏡面研磨される。
【0038】また、孔部周縁、バリ部、及び上下端縁で
は先端が鋭端で優先的に大きな電流流れが発生する。こ
のため、孔部周縁及び上下端縁の角取り、さらにはバリ
取りも同時的に行われる。特に、孔明き部位oでは、電
解液の流速が大きく、高電気抵抗層であるヤッケ層の成
長が阻止されるため、その研磨作用は顕著となる。
【0039】なお、回転電解電極5に対する給電は、上
記両実施例ともに、ブラシ等の接触式で行うが、回転電
解電極5は、加工物と異なり損傷を受けても、ほとんど
問題がなく、且つ、取り替えもきくため、研磨の生産性
にほとんど悪影響を与えない。
【0040】
【発明の作用・効果】本発明の電解研磨方法及びそれに
使用する装置は、上記のような構成により、搬送物への
給電を電解液を介しておこなうことができるとともに、
電解研磨に際して電解電極に電析・堆積する電解析出物
を連続的にスクレーパ等により除去できる。従って、加
工物への給電を非接触式ででき、また、電解電極に電析
・堆積する電解溶解物の除去も電解研磨を停止して行っ
たり、電極切替をしたりする必要がない。よって、電解
研磨の生産性を向上させることができる。
【0041】また、本発明の方法及び装置を、プレスで
打ち抜いたようなエッジ、バリを有するような孔明き帯
鋼板等に適用した場合、鏡面研磨、角取り(R面仕上
げ)、バリ取りを同時的に行え、生産性の向上にさらに
寄与する。
【0042】 本発明は、特願平4−301179号
(特開平6−155166号)に記載された電解研磨の
基本原理に基づき、加工物(金属材)のマクロ的研磨で
あるバリ取りと、ミクロ的研磨である鏡面研磨の両方の
どちらか一方を実施するか、又は両方を同時に実施する
方法と装置に関する発明である。本発明者らは、前記原
理に基づき、バッチ式研磨方法と装置を、特願平5−2
8238号(特開平6−238519号)で提案し、又
連続処理方法と装置を特願平5−79713号(特開平
6−285719号)で提案したが、今回は、後者の連
続処理装置に対して、特に、新規な電解用の電極構造
と、加工物に対して安定に給電する方法と機構を提案す
るものである。
【0043】そして、本発明にあっては、特願平4−3
01179号に記載された電解研磨の基本原理に基づ
き、電解条件の設定を変えることにより、加工物(金属
材)のバリ取りと鏡面光沢化の双方を同時実施、又は、
これらの一方だけを任意に選択でき、電解研磨の実施に
際して極めて安定的に連続処理が可能となるものであ
る。
【0044】
【試験例】本発明の効果を確認するために、下記試験を
行なった。
【0045】(1) 試験方法 上記実施例2の電解研磨装置を使用して、電解研磨を行
った。処理物(50mm幅帯材)は、プレス打ち抜き済み
の孔あき伸銅帯材(真鍮: JIS H 3100 中の C2801)
を、電解研磨液は、「パクナE」(ユケン工業株式会社
製)を、それぞれ使用した。また、電解電極/加工物の
対面間距離:5mm、印加電圧:80V、加工物搬送速
度:1m/分とした。
【0046】(2) 試験結果:プレス打ち抜きで発生した
孔部のエッジ・バリが取れるともに、処理前には全面が
鈍い光沢であったものが、研磨処理により鏡面光沢が得
られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法に使用する電解研磨装置の一例を
示すモデル概略図
【図2】本発明の方法に使用する電解研磨装置の他の例
を示すモデル概略図
【符号の説明】
1、1A 給電電極 3、3A 給電槽 5、5A 回転電解電極 7、7A 研磨槽 9 加工物搬送手段(搬送ローラ) 11 電解液循環手段(ポンプ) 13 電解析出物除去手段(スクレーパ) 15 直流電源 E 電解液 W、WA 加工物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−119233(JP,A) 特開 平2−218515(JP,A) 特開 昭63−54909(JP,A) 実開 昭61−3688(JP,U)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電解電極に加工物を対面させて、電極/
    加工物間に電解液を循環させて連続的に電解研磨をする
    に際して、 陽極に接続される給電電極及び陰極に接続される電解電
    極を順接して、前記加工物を前記各電極の電極面に沿っ
    非接触状態で移動させることにより、前記加工物を
    記給電電極の対面部位で前記電解液を介してマイナスに
    帯電させるとともに、前記電解電極の対面部位で前記電
    解液を介してプラスに帯電させることにより電解研磨を
    させ、前記電解電極を回転電極として、該回転電極に電
    析・堆積する電解析出物を電解液非接触部位で除去する
    こと特徴とする連続電解研磨方法。
  2. 【請求項2】 請求項1の電解研磨を行う際に使用する
    連続電解研磨装置であって、前記給電電極が一側または
    両側に配された給電槽と、前記回転電極が一側または両
    側に配された研磨槽と、前記給電槽と前記研磨槽との各
    電極の極面に沿って前記加工物を移動させる加工物搬送
    手段と、前記各電極と加工物との対面間に電解液を循環
    させる電解液循環手段とからなり、前記回転電極に電析
    ・堆積する電解析出物を除去する電解析出物除去手段
    と、を備えてなることを特徴とする連続電解研磨装置。
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