JP2690498B2 - パターンジェネレータ - Google Patents
パターンジェネレータInfo
- Publication number
- JP2690498B2 JP2690498B2 JP63092351A JP9235188A JP2690498B2 JP 2690498 B2 JP2690498 B2 JP 2690498B2 JP 63092351 A JP63092351 A JP 63092351A JP 9235188 A JP9235188 A JP 9235188A JP 2690498 B2 JP2690498 B2 JP 2690498B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image rotator
- aperture
- optical element
- motor
- encoder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Description
【発明の詳細な説明】 発明の目的； （産業上の利用分野） この発明は、半導体集積回路，プリント基板,LCD（液
晶），シャドウマスク，リードフレームなどのフォトリ
ソ工程で使用するパターン原版を露光するためのパター
ンジェネレータに関する。
晶），シャドウマスク，リードフレームなどのフォトリ
ソ工程で使用するパターン原版を露光するためのパター
ンジェネレータに関する。
（従来の技術） 従来のパターンジェネレータは第４図に示すように平
行な２組のブレードの間隔をモータ11〜14の駆動によっ
て変えられ、矩形状のアパーチャを形成するアパーチャ
部10と、このアパーチャ部10の下方に設けられ、アパー
チャ部10を光軸を中心としてモータ21で回転させる回転
機構20と、アパーチャ部10のアパーチャをキセノンフラ
ッシュランプ等の光源32で照明し、結像レンズ31により
感光材料40を露光する光学系と、感光材料40を移動させ
るXYステージ50とを具備して成り、さらに各部の動作を
測定する測定器や全体を制御するコンピュータ，制御手
段等を具備している。光源32からの光はレンズ系33を経
て光ファイバ34で照射レンズ35に伝送され、アパーチャ
部10のアパーチャを透過した光が結像レンズ31を経て感
光材料40のパターン原版を露光するようになっている。
感光材料40はXYステージ50上に載置されており、XYステ
ージ50はモータ51及び52によってXY駆動されるようにな
っている。
行な２組のブレードの間隔をモータ11〜14の駆動によっ
て変えられ、矩形状のアパーチャを形成するアパーチャ
部10と、このアパーチャ部10の下方に設けられ、アパー
チャ部10を光軸を中心としてモータ21で回転させる回転
機構20と、アパーチャ部10のアパーチャをキセノンフラ
ッシュランプ等の光源32で照明し、結像レンズ31により
感光材料40を露光する光学系と、感光材料40を移動させ
るXYステージ50とを具備して成り、さらに各部の動作を
測定する測定器や全体を制御するコンピュータ，制御手
段等を具備している。光源32からの光はレンズ系33を経
て光ファイバ34で照射レンズ35に伝送され、アパーチャ
部10のアパーチャを透過した光が結像レンズ31を経て感
光材料40のパターン原版を露光するようになっている。
感光材料40はXYステージ50上に載置されており、XYステ
ージ50はモータ51及び52によってXY駆動されるようにな
っている。
このようなパターンジェネレータは、所望のパターン
を露光可能な微小な矩形に分割したパターンデータを磁
気テープ等の記録媒体で与えられ、その一つ一つの矩形
データ毎にXYステージ50の位置（X,Y），アパーチャの
サイズ（L,W）及び角度（Ａ）についての位置決めを行
ない、全てが所定の誤差範囲内になった時に光源32を発
光して露光する動作を繰返し、所定のパターンを感光材
料40上に形成するようになっている。光源32を点滅させ
る代りに、シャッタ機構で露光する場合もある。
を露光可能な微小な矩形に分割したパターンデータを磁
気テープ等の記録媒体で与えられ、その一つ一つの矩形
データ毎にXYステージ50の位置（X,Y），アパーチャの
サイズ（L,W）及び角度（Ａ）についての位置決めを行
ない、全てが所定の誤差範囲内になった時に光源32を発
光して露光する動作を繰返し、所定のパターンを感光材
料40上に形成するようになっている。光源32を点滅させ
る代りに、シャッタ機構で露光する場合もある。
（発明が解決しようとする課題） しかし、上記パターンジェネレータの構造ではアパー
チャ部10自体も重量が大きい上、高い精度を得るために
アパーチャ部10とその部分を回転させる回転機構20は剛
性を高める必要があり、必然的に重量が増加する。この
ため、高速に回転や位置決めを行なうことが困難であ
り、回転時の振動や慣性力がアパーチャ部10に影響を与
えて位置決め動作が遅れ、回転部と駆動モータ，回転角
検出器との間の伝達系でのバックラッシュや弾性変形に
よって位置決めの遅れや誤差が生じる等の欠点がある。
そのため、高速化や高精度化の問題を生じていた。
チャ部10自体も重量が大きい上、高い精度を得るために
アパーチャ部10とその部分を回転させる回転機構20は剛
性を高める必要があり、必然的に重量が増加する。この
ため、高速に回転や位置決めを行なうことが困難であ
り、回転時の振動や慣性力がアパーチャ部10に影響を与
えて位置決め動作が遅れ、回転部と駆動モータ，回転角
検出器との間の伝達系でのバックラッシュや弾性変形に
よって位置決めの遅れや誤差が生じる等の欠点がある。
そのため、高速化や高精度化の問題を生じていた。
この発明は上述のような事情からなされたものであ
り、この発明の目的は、構造が簡単で、しかも高速度及
び高精度に原版パターンの露光を行なうことができるパ
ターンジェネレータを提供することにある。
り、この発明の目的は、構造が簡単で、しかも高速度及
び高精度に原版パターンの露光を行なうことができるパ
ターンジェネレータを提供することにある。
発明の構成； （課題を解決するための手段） この発明は、光源からの光をアパーチャ及び結像レン
ズを通してパターン原版に露光するパターンジェネレー
タに関するもので、この発明の上記目的は、前記アパー
チャと結像レンズとの間にモータ、エンコーダ及びイメ
ージローテータ光学素子からなるイメージローテータを
配設し、前記イメージローテータ光学素子を前記モータ
及びエンコーダの共通回転軸内に組込み、モータ、エン
コーダ及びイメージローテータ光学素子が同軸回転する
ことによって達成される。
ズを通してパターン原版に露光するパターンジェネレー
タに関するもので、この発明の上記目的は、前記アパー
チャと結像レンズとの間にモータ、エンコーダ及びイメ
ージローテータ光学素子からなるイメージローテータを
配設し、前記イメージローテータ光学素子を前記モータ
及びエンコーダの共通回転軸内に組込み、モータ、エン
コーダ及びイメージローテータ光学素子が同軸回転する
ことによって達成される。
（作用） この発明では、光軸を中心にイメージローテータを回
転させると、これを透過する画像が回転角度の２倍だけ
で回転するイメージローテータ光学素子をアパーチャと
結像レンズとの間に配設しており、これによってアパー
チャ画像を容易に回転させることができる。このために
装置も小型で簡易となり、しかも、イメージローテータ
光学素子がエンコーダ及びモータと同軸回転し、これら
の３者間に機械的伝達機構の介在がないので、高速度に
かつ高精度に原版パターンの露光を行なうことができ
る。
転させると、これを透過する画像が回転角度の２倍だけ
で回転するイメージローテータ光学素子をアパーチャと
結像レンズとの間に配設しており、これによってアパー
チャ画像を容易に回転させることができる。このために
装置も小型で簡易となり、しかも、イメージローテータ
光学素子がエンコーダ及びモータと同軸回転し、これら
の３者間に機械的伝達機構の介在がないので、高速度に
かつ高精度に原版パターンの露光を行なうことができ
る。
（実施例） この発明では第１図で示すように、結像レンズ31とア
パーチャ部10との間にイメージローテータ60を配設し、
このイメージローテータ60の回転軸に組込まれているイ
メージローテータ光学素子63の回転によって、アパーチ
ャ部10のアパーチャ像を回転するようにしている。イメ
ージローテータ60の断面構造は第２図に示すようになっ
ており、イメージローテータ光学素子63は回転装置とし
てのモータ61及び角度検出装置としてのエンコーダ62の
回転軸内に組込まれており、回転軸内のイメージローテ
ータ光学素子63はモータ61によって回転され、その回転
角度はエンコーダ62によって検出されるようになってい
る。イメージローテータ光学素子63は例えば第３図
（Ａ）及び同図（Ｂ）で示すようなプリズムであり、こ
のプリズムを角度θだけ回転させると像は２θだけ回転
する作用がある。このようなイメージローテータ光学素
子63を第１図に示すように、共通の回転軸を持つモータ
61及びエンコーダ62の回転軸中に設け、入力されるパタ
ーンデータに応じてモータ61を回転することによって位
置決めして、パターンを露光する。
パーチャ部10との間にイメージローテータ60を配設し、
このイメージローテータ60の回転軸に組込まれているイ
メージローテータ光学素子63の回転によって、アパーチ
ャ部10のアパーチャ像を回転するようにしている。イメ
ージローテータ60の断面構造は第２図に示すようになっ
ており、イメージローテータ光学素子63は回転装置とし
てのモータ61及び角度検出装置としてのエンコーダ62の
回転軸内に組込まれており、回転軸内のイメージローテ
ータ光学素子63はモータ61によって回転され、その回転
角度はエンコーダ62によって検出されるようになってい
る。イメージローテータ光学素子63は例えば第３図
（Ａ）及び同図（Ｂ）で示すようなプリズムであり、こ
のプリズムを角度θだけ回転させると像は２θだけ回転
する作用がある。このようなイメージローテータ光学素
子63を第１図に示すように、共通の回転軸を持つモータ
61及びエンコーダ62の回転軸中に設け、入力されるパタ
ーンデータに応じてモータ61を回転することによって位
置決めして、パターンを露光する。
発明の効果； 以上のようにこの発明のパターンジェネレータによれ
ば、アパーチャ部自体を回転させずに、軽量のイメージ
ローテータをモータ及びエンコーダと同軸回転させるだ
けなので構造が簡単であり、回転部とアパーチャ部との
相互の影響が減少し、露光作業の高速化が実現できる。
又回転位置決めに関しても、モータ、エンコーダ及びイ
メージローテータ光学素子の３者間に機械的な伝達機構
の介在がないので、高速かつ高精度化を実現できる利点
がある。
ば、アパーチャ部自体を回転させずに、軽量のイメージ
ローテータをモータ及びエンコーダと同軸回転させるだ
けなので構造が簡単であり、回転部とアパーチャ部との
相互の影響が減少し、露光作業の高速化が実現できる。
又回転位置決めに関しても、モータ、エンコーダ及びイ
メージローテータ光学素子の３者間に機械的な伝達機構
の介在がないので、高速かつ高精度化を実現できる利点
がある。
第１図はこの発明の光学系を示す図、第２図はそのイメ
ージローテータの断面構造図、第３図（Ａ）及び（Ｂ）
はそれぞれこの発明に用いるイメージローテータ光学素
子のプリズムの例を示す図、第４図は従来の一般的なパ
ターンジェネレータの構成図である。 10……アパーチャ部、20……回転機構、30……光学系、
40……感光材料、60……イメージローテータ、61……モ
ータ、62……エンコーダ,63……イメージローテータ光
学素子。
ージローテータの断面構造図、第３図（Ａ）及び（Ｂ）
はそれぞれこの発明に用いるイメージローテータ光学素
子のプリズムの例を示す図、第４図は従来の一般的なパ
ターンジェネレータの構成図である。 10……アパーチャ部、20……回転機構、30……光学系、
40……感光材料、60……イメージローテータ、61……モ
ータ、62……エンコーダ,63……イメージローテータ光
学素子。
Claims (1)
- 【請求項１】光源からの光をアパーチャ及び結像レンズ
を通してパターン原版に露光するパターンジェネレータ
であって、前記アパーチャと結像レンズとの間にモー
タ、エンコーダ及びイメージローテータ光学素子からな
るイメージローテータを配設し、前記イメージローテー
タ光学素子を前記モータ及びエンコーダの共通回転軸内
に組込み、モータ、エンコーダ及びイメージローテータ
光学素子が同軸回転することを特徴とするパターンジェ
ネレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63092351A JP2690498B2 (ja) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | パターンジェネレータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63092351A JP2690498B2 (ja) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | パターンジェネレータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01262623A JPH01262623A (ja) | 1989-10-19 |
| JP2690498B2 true JP2690498B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=14051981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63092351A Expired - Fee Related JP2690498B2 (ja) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | パターンジェネレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2690498B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011104178A1 (en) * | 2010-02-23 | 2011-09-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56118340A (en) * | 1980-02-25 | 1981-09-17 | Hitachi Ltd | Pattern formation device by laser |
-
1988
- 1988-04-14 JP JP63092351A patent/JP2690498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01262623A (ja) | 1989-10-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |