JP2684568B2 - 光集積回路 - Google Patents

光集積回路

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JP2684568B2 JP1014480A JP1448089A JP2684568B2 JP 2684568 B2 JP2684568 B2 JP 2684568B2 JP 1014480 A JP1014480 A JP 1014480A JP 1448089 A JP1448089 A JP 1448089A JP 2684568 B2 JP2684568 B2 JP 2684568B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高速且つ高感度の光検波を実現できる光集
積回路に関するものである。
〔従来の技術〕
光伝送方式は、単一の周波数で発振する分布帰還型レ
ーザの実用化により、高速長距離伝送において大きな進
歩をとげ、現在1.6Gb/sの信号光を無中継で120kmの距離
を伝送できるレベルに達している。そして、この性能を
決めているのは光検波器の感度であり、将来のより高速
の光伝送方式においては、この光検波器の感度によって
システムの性能を左右する要因となる。
しかし、現在使用されているpinホトダイオードやア
バランシェ・ホト・ダイオード(APD)などの光検波器
は、ほぼ理論的限界に近い性能が得られており、今後一
層の性能改善を望むことができない。
一方、従来より光ファイバを伝播してきた微弱な信号
光を増幅する光増幅器が研究されている。これは、半導
体レーザを発振閾値以下のデバイス条件にして、外部か
らの信号光を直接増幅する線形の光増幅器として動作さ
せるものである。この光増幅器を光検波器の直前で用い
ると、この光増幅器が無い場合に比べて最小受信レベル
を改善することができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら従来の光伝送方式においては、光導波路
にあたる光ファイバと光増幅器とがそれぞれ独立して設
けられていたため、光増幅器の前後には高価な光アイソ
レータを必要とし、光ファイバとの結合のために、挿入
損失が10dB程度となって光増幅の利点を失う欠点があっ
た。
また、上記の光増幅器を製造するには、半導体レーザ
の端面に反射率0.1%以下の無反射コート膜を形成する
必要があり、これは膜厚制御の面からも極めて困難な工
程であった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記の欠点を解決するためになされたもの
で、微弱な信号光を増幅する回折格子を内蔵した光増幅
器と、この増幅された光の検波を行なう導波型の光検波
器と、光増幅器と光検波器とを光学的に結合する光導波
路とを同一半導体基板上に備えている。
〔作 用〕
光増幅器、光検波器、及び光導波路を同一半導体基板
上に構成する。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例を図に従って説明する。第1図
は本発明に係る一実施例を示す光集積回路の要部断面図
である。
図において、1はn型InP基板、2,9は波長1.55μmに
対応するGaInAsP層、3,7,10は波長1.3μmに対応するGa
InAsP層、4はGaInAsP層3上に形成された回折格子、5,
12はP型InP層、6,13はP型GaInAsP層キャップ層、8,11
は低いキャリア濃度(1×1016cm-3以下)のn型InP、1
4はn型電極、15,16はp型電極、17は無反射コート膜で
ある。また、この光集積回路を機能別に分けると、領域
Iが光増幅器、領域IIIが光検波器、領域IIが領域Iと
領域IIIとを結合する光導波路の3つに分けられる。な
お、矢印Aは信号光の入射方向である。
また、第2図は第1図に示した光集積回路の概観図で
ある。
図において、21はGaInAsP層2,GaInAsP層3,P型InP層5
及びP型GaInAsPキャップ層6からなるストライプ部を
埋め込むように形成されたInP層である。なお、ここで
は無反射コート膜17を省略している。
次に、本実施例における光集積回路の動作について説
明する。
まず、領域Iの光増幅器は、p電極15からn電極14へ
電流を流すと、ある電流値以上で分布帰還型レーザとし
て発振する。このとき、レーザ発振の閾値以下に電流を
バイアスして矢印Aから微弱な光を入射すると、その波
長の光が増幅されて領域IIの光導波路に入射する。この
作用において、回折格子4は重要な役割をはたす。即
ち、仮に回折格子4が存在しないならば、この光増幅器
は増幅した光以外に広い波長領域(〜400Å)にわたっ
て自然放出を行なう。従って、信号光と雑音の比は改善
されず、光増幅器を使う利点は生じない。
これに対して、回折格子4がある場合には、第3図に
示す特性図のように、ある波長範囲(この場合約5Å)
の光だけを増幅し、それ以外の波長領域の光は殆ど発光
しない。これにより、信号光の波長とこの増幅する波長
範囲を合わせておけば、信号光だけを増幅して光導波路
に送り込むことができる。
また、無反射コート膜17は、構造上入射光の入射面に
設けるだけでよいため、反射率を5%以下にするだけよ
い。このため、従来のように反射率を0.1%以下にする
必要がなく容易に形成することができる。
次に、領域IIの光導波路は、増幅された信号光を領域
IIIの光検波器に送り込む役割をはたす。また、順方向
電流の流れる領域Iの光増幅器と逆方向電圧を印加する
領域IIIの光検波器とを電気的に分離する役割を持って
いる。光導波路となるGaInAsP層7は、GaInAsP層2,GaIn
AsP層3やGaInAsP層9,GaInAsP層10の層とつき合わせ結
合となっており、これにより100%近い光学的結合を実
現することができる。
また、領域IIIの光検波器は、p型電極16とn型電極1
4との間に逆方向電圧をかけることにより、pin型の光検
波器として動作させている。このとき、光検波器の応答
速度はこの回路の寄生容量によって決定される。本実施
例では、第2図に示す概観図のように光増幅器,光導波
路,光検波器のストライプ部を半絶縁性のInP層21で一
括して埋め込んだ構造となっているため、寄生容量が非
常に少なくなり、数ギガビット/毎秒以上の高速応答が
可能となる。
第4図は本発明に係る別の実施例を示した光集積回路
の要部断面図である。この実施例では、光導波層となる
GaInAsP層7が光増幅器、光導波路,光検波器の全ての
領域に対して存在している。そして、光増幅器のゲイン
を与えるGaInAsP層2や光検波器の吸収層となるGaInAsP
層10とは、低いキャリア濃度(1×1016cm-3以下)の薄
いn型InP層22を挟んで隣接した構造となっている。
さて、本実施例は、一部の構造が少し異なるだけで本
質的には第1図の実施例例と同じであるが、GaInAsP層
7が領域I〜IIIに対して存在しているため、各領域毎
に積層構造を形成する必要がなく、第1図の構造よりも
容易に製造できる利点を有している。
このように本実施例における光集積回路は、微弱な信
号光を光増幅した後、光検波器まで損失無く導波するこ
とができる。このため、高価な光アイソレータが不用と
なり、結合効率の向上を図ることができる。
また、無反射コート膜17における反射率を従来の0.1
%から5%以下にすることができるため、製造が容易と
なり安価にすることができる。
さらに、光増幅器、光導波路、及び光検波器を同一半
導体基板に形成しているので(モノリシック集積)、小
型で高速の応答ができ、感度を従来の光検波器より大き
く改善することができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、微弱な信号光を増幅す
る回折格子を内蔵した光増幅器と、この増幅された光の
検波を行なう導波型の光検波器と、光増幅器と光検波器
とを光学的に結合する光導波路とを同一半導体基板上に
備えているため、微弱な信号光を光増幅した後、光検波
器まで損失無く導波することができる。このため、従来
のように高価な光アイソレータが不用となり、結合効率
の向上を図ることができる。また、小型で高速の応答が
でき、感度を従来の光検波器より大きく改善できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る一実施例を示す光集積回路の要部
断面図、第2図は第1図に示した光集積回路の概観図、
第3図は光増幅器の特性図、第4図は本発明に係る別の
実施例を示した光集積回路の要部断面図である。 1……n型InP基板、2,9……GaInAsP層、3,7,10……波
長1.3μmに対応するGaInAsP層、4……回折格子、5,12
……P型InP層、6,13……P型GaInAsPキャップ層、8,11
……低いキャリア濃度(1×1016cm-3以下)のn型In
P、14……n型電極、15,16……p型電極、17……無反射
コート膜、I……光増幅器、II……光導波路、III……
光検波器。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】微弱な信号光を増幅する回折格子を内蔵し
    た光増幅器と、 この増幅された光の検波を行なう導波型の光検波器と、 前記光増幅器と前記光検波器とを光学的に結合する光導
    波路とを同一半導体基板上に備えたことを特徴とする光
    集積回路。
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