JP2680816B2 - Flexible printed circuit board - Google Patents

Flexible printed circuit board

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JP2680816B2
JP2680816B2 JP62174881A JP17488187A JP2680816B2 JP 2680816 B2 JP2680816 B2 JP 2680816B2 JP 62174881 A JP62174881 A JP 62174881A JP 17488187 A JP17488187 A JP 17488187A JP 2680816 B2 JP2680816 B2 JP 2680816B2
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JP
Japan
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printed circuit
circuit board
flexible printed
insulating material
aromatic
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広作 永野
仁志 野尻
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Kaneka Corp
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Kaneka Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、温度変化に対し、カール、ねじれ、反り等
がなく、且つ耐熱性、寸法安定性等に優れたフレキシブ
ルプリント基板に関する。 [従来の技術] 従来、フレキシブルプリント基板(フラットケーブル
ともいう)は、一般にパターニング後、エッチング乾燥
処理工程において寸法に変化を生じるため、回路設計の
際、以後の工程の寸法の変化を予め考慮し設計する必要
があった。この寸法の変化量は、フレキシブルプリント
基板のパターンの種類によって異なり、このためフレキ
シブルプリント基板の製造工程は複雑化しており、更に
は製品歩溜りを低下させる大きな要因となっている。 この寸法変化を改良すべく各種の試みが行われてい
る。例えば特開昭60−243120号公報等に開示されている
ように、絶縁材の線膨脹係数を低下させることにより、
この改良を試みている。しかしながら、この特開昭60−
243120号公報のものでは絶縁材の線膨脹係数を低下させ
ることには成功してはいるものの、同時に該絶縁材の可
トウ性が失われ、その結果、該絶縁材は非常に脆弱とな
り、フレキシブルプリント基板特有のフレキシビリティ
ーや耐折り曲げ強度が劣化するため、この種の改良は実
用に供されるに至っていない。 また一方、例えば特開昭61−296034号公報などに開示
されているように絶縁材を延伸することで上記の低線膨
脹係数を実現しようとの試みもあるが、この場合も前者
と同様に該絶縁材のフレキシビリティーが阻害され、そ
の結果フレキシブルプリント基板の必須条件である耐折
り曲げ強度などの可トウ性に欠陥を有するものであっ
た。 [発明が解決しようとする問題点] 本発明は、前述の如く、パターニング後エッチング乾
燥に至る工程での寸法変化が大きかった従来のフレキシ
ブルプリント基板の寸法安定性を、フレキシブルプリン
ト基板の必須の条件であるフレキシビリティーを損うこ
となく改良するものである。 [問題点を解決するための手段] すなわち、本発明は、少なくとも導体と絶縁材とを包
含するフレキシブルプリント基板において、該絶縁材の
線膨脹係数が2.0×10-5/℃以下で、且つ引張破断時の伸
度が30%以上であることを特徴とするフレキシブルプリ
ント基板を内容とする。 本発明によるフレキシブルプリント基板は、従来の良
好なフレキシビリティーと従来にない寸法安定性とを併
せもつものである。 上記のフレキシブルプリント基板は、絶縁層と導体と
が間に接着剤を介して、貼り合わされたもの、及びこれ
にパターンニング、エッチング処理等を施されたものを
いい、該接着剤は通常のフレキシブルプリント基板の製
造に用いられる接着剤を用いることが可能である。本発
明に言う導体とは、銅、鉄、アルミニウムなどの金属、
或いは金属箔に代表されるものであるが、これ以外のも
のでもよい。 本発明に用いられる重要な材料である絶縁材は、線膨
脹係数が2.0×10-5/℃以下で且つ引張破断時の伸度が30
%以上であれば使用可能であるが、合成樹脂、特にポリ
イミドが好ましい。ポリイミドの中では および [R1、R2は4価の芳香族基、R3は水素原子、水酸基、及
びメチル基、メトキシ基から選ばれる1種または2種以
上の基、nは1,2,又は3の整数] で表わされる芳香族ポリイミド共重合体が好ましい。 R1、R2の例としては などから選ばれる一種または二種以上の基があげられ、
これらの中では が特に好ましい。また一般式(B)における の例としては 等の基の一種或いは二種以上があげられ、 が特に効果的である。本発明で用いる芳香族ポリイミド
共重合体は、一般式(A)及び(B)において、R1、R2
はベンゼン、ビフェニル、ベンゾフェノン、ナフタリン
から誘導される4価の芳香族基、R3は水素原子、塩素原
子、メチル基及びメトキシ基から選ばれる1種又は2種
以上の基、nは1、2又は3の整数である芳香族ポリイ
ミド共重合体であり、一般式(A)及び(B)で表わさ
れる反復単位の(A)/(B)のモルの比が1より大き
い範囲とすることによって本発明の効果が得られる。 絶縁材には各種の有機の添加剤、或いは無機のフィラー
類、或いは各種の強化材を複合することも可能である。 ポリイミド絶縁材は、その前駆体であるポリアミド酸
溶液より得られるがポリアミド酸の製造方法として公知
の方法を用いることができる。芳香族共重合体の場合に
は次のような方法で得ることができる。 (1)芳香族テトラカルボン酸二無水物(a)とこれに
対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物(b)とを有機
極性溶媒中にて反応させ、両末端に酸無水物基を有する
プレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合
物(c)を、全芳香族ジアミン((b)+(c))が芳
香族テトラカルボン酸二無水物(a)と実質的に等モル
となるよう添加反応する共重合法による方法。 (2)芳香族テトラカルボン酸二無水物(a)とこれに
対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物(b)とを有機
極性溶媒中にて反応させ、両末端にアミノ基を有するプ
レポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物
(c)を追加反応後、全ジアミン成分((b)+
(c))と実質的に等モルになるように不足分の芳香族
テトラカルボン酸二無水物(a)を添加反応する共重合
法による方法。 (3)芳香族ジアミン化合物(b)及び(c)の混合物
を有機極性溶媒中に溶解し、この総量((b)+
(c))と実質的に等モル量となる芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物(a)とを反応させる共重合法による方
法。 (4)〜(6) (1)〜(3)の方法において芳香族
テトラカルボン酸二無水物を芳香族ジアミン化合物に、
芳香族ジアミン化合物を芳香族テトラカルボン酸二無水
物に置き替えた共重合法による方法。 (7)(1)〜(6)の方法によって得られた2種以上
のポリアミド酸溶液を混合して製造する方法。 などの方法をあげることができ、特に(1)の方法が好
ましい。 上記のポリアミド酸溶液を得るために用いられる原料
である芳香族テトラカルボン酸二無水物の例としては、
ピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテ
トラカルボン酸、2′,3,3′,4−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,5,6−テトラカ
ルボン酸二無水物などが挙げられる。これらの化合物は
単独もしくは2種以上の組合わせで用いられる。 芳香族ジアミン成分としては、4,4′−ジアミノジフ
ェニルエーテルと、一般式 [n及びR3は前記と同じ] で表わされる芳香族ジアミン化合物とを前述の成分
(b)及び(c)として用いるのが望ましい。 この一般式で示される芳香族ジアミン化合物として
は、パラフェニレンジアミン、3,3′−ジメトキシ−4,
4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジアミノビフェニル、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミ
ノビフェニル、4,4″−ジアミノ−パラターフェニル等
を挙げることができる。更には、その他の芳香族ジアミ
ン化合物、例えば、4,4′−ビス(4−アミノフェノキ
シ)ビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルスルフォ
ン、3,3′−ジアミノジフェニルスルフォン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス
[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、
ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3
−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス
(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−
アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]エーテル、4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタン、ビス(3−エチル−4−アミノフェニ
ル)メタン、ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)
メタン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニル)メタ
ン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ジア
ミノジフェニルスルホン、2,2′,5,5′−テトラクロロ
−4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′−ジアミノジフェ
ニルスルフィド、3,3′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノビフェニル、
4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェニル、2,4−ジア
ミノトルエン、メタフェニレンジアミン、2,2′−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェ
ニル)プロパン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ
−4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ヒ
ドロキシ−4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロ−
アントラセン、オルトトリジンスルホンなどや、更には
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラミン、3,3′,4,4′−テ
トラアミノジフェニルエーテルなどの多価アミン化合物
の一部使用も可能である。 ここで該ポリアミド酸溶液の生成反応に使用される有
機極性溶媒としては、例えばジメチルスルホキシド、ジ
エチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドな
どのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系
溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−
ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o
−、m−、またはp−クレゾール、キシレノール、ハロ
ゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶
媒、あるいはヘキサメチルフォスホルアミド、γ−ブチ
ロラクタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランな
どを挙げることができ、これらを単独または混合物とし
て用いるのが望ましいが、更にはキシレン、トルエンの
ような芳香族炭化水素の使用も可能である。 また、このポリアミド酸溶液は各々前記の有機極性溶
媒中に5〜40重量%、好ましくは10〜30重量%溶解され
ているのが取扱いの面からも望ましい。 ついで、このポリアミド酸溶液からポリイミドからな
る有機絶縁膜を製造する方法については、従来公知の方
法を用いることができる。即ちi)熱的にポリイミドに
転化する、ii)脱水剤及び触媒を用いて化学的にポリイ
ミドに転化する方法が採用される。ここでいう脱水剤と
しては、例えば無水酢酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸
無水物等の芳香族酸無水物などが挙げられる。また触媒
としては、例えばトリエチルアミンなどの脂肪族第3級
アミン類、N,N−ジメチルアニリンなどの芳香族第3級
アミン類、ピリジン、ピコリン、イソキノリン、キノリ
ンなどの複素環式第3級アミン類などが挙げられる。 このようにして線膨脹係数が2.0×10-5/℃以下で且つ
引張破断時の伸度が30%以上の絶縁材を得ることができ
る。 絶縁材の厚さは7μm〜125μmが好ましい。 本発明のフレキシブルプリント基板は上記の絶縁材に
導体を積層することにより得られる。代表例を次に説明
するが、この方法に限定されるものではない。 まず絶縁材に接着剤を塗布し、乾燥後約10μm〜70μ
mの銅などの金属箔を加圧下で熱ラミネートし、所定の
ポストキュアを行ない、フレキシブル基板を得ることが
できる。さらに金属面に所望の回路をパターンニング
し、次にエッチング、水洗乾燥工程を経た後パターン化
されたフレキシブル基板を得ることができる。接着剤と
してはエポキシ/ナイロン系接着剤等通常フレキシブル
基板の製造に用いられる接着剤を使用することができ
る。 なお、本発明でいうフレキシブルプリント基板の寸法
変化とは、上述のパターンニング後からフレキシブルプ
リント基板に至る過程での寸法変化を指すものである。 (実施例) 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。ま
た実施例中で、ODAは4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ルを、p−PDAはパラフェニレンジアミンを、PMDAは無
水ピロメリット酸を、BPDAは3,3′,4,4′−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物を、DMAcはジメチルアセトア
ミドを表わす。 比較例1 DMAc中でODAとPMDAを重合し、15.0重量%のポリアミ
ド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液をガラス板上に
流延塗布し、約100℃にて約60分間乾燥した後、生成し
たポリアミド酸塗膜をガラス板より剥がし、これを支持
枠に固定した。その後約100℃で約30分間、続いて約200
℃で約60分間、続いて約300℃で約60分間加熱し、脱水
閉環、乾燥した後、上記支持枠より取外し、約20μmの
厚みを有するポリイミド膜絶縁材を得た。この絶縁材の
線膨脹係数は2.5×10-5/℃であり、引張破断時の伸度は
55%であった。 次にこの絶縁材にナイロン/エポキシ系の接着材を塗
布乾燥した後、銅箔を加圧熱ラミネートし、これにポス
トキュアを施した後、フレキシブル銅張板を得た。 続いて、このフレキシブル銅張板の絶縁材上にA,Bの
二点を刻印し、この間隔A,Bの長さを測定し、これをl0
とした。 更に、定法に従い、このフレキシブル銅張板にパター
ニングを行い、続いてエッチング水洗乾燥処理を施し、
フレキシブルプリント基板を得た。このフレキシブルプ
リント基板ににおいて上記のA,B間の距離を測定し、こ
れをl1とした。 以下の計算式を用い、寸法変化率を計算した。 この結果、このフレキシブルプリント基板の寸法変化
率は0.4%であった。また得られたフレキシブルプリン
ト基板の耐折強度は約2500回であった。 比較例2 DMAc中でp−PDAとBPDAを重合し、15.0重量%のポリ
アミド酸溶液を得た。以下比較例−1と同様の操作によ
り、約20μm厚みを有するポリイミド膜絶縁材を得た。
この絶縁材の線膨脹係数は1.7×10-5/℃であり、引張破
断時の伸度は20%であった。 次に、この絶縁材に比較例−1と同様の操作を施し、
その寸法変化率を求めた結果、0.2%であった。また得
られたフレキシブルプリント基板の耐折強度は約400回
であった。 実施例1 DMAc中でODAとp−PDAをモル比67/33の割合で用い、
これとPMDAとを重合し、15重量%のポリアミド酸共重合
体溶液を得た。以下比較例−1と同様の操作により約20
μm厚みを有するポリイミド膜絶縁材を得た。この絶縁
材の線膨脹係数は1.5×10-5/℃であり、比張破断時の伸
度は45%であった。 次にこの絶縁材に比較例−1と同様の操作を施し、そ
の寸法変化率を求めた結果、0.1%であった。また得ら
れたフレキシブルプリント基板の耐折強度は約2200回で
あった。 以上の結果を表−1に示す。 (発明の効果) 本発明による、線膨脹係数が2.0×10-5/℃以下で、且
つ引張破断時の伸度が30%以上である絶縁材よりなるフ
レキシブルプリント基板は充分なフレキシビリティーと
改良された寸法安定性を併せ持つものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a flexible printed circuit board that is free from curling, twisting, warping, etc. with respect to temperature changes and has excellent heat resistance and dimensional stability. [Prior Art] Conventionally, a flexible printed circuit board (also referred to as a flat cable) generally has a dimensional change in an etching and drying treatment step after patterning. Had to design. The amount of change in this dimension varies depending on the type of pattern of the flexible printed circuit board, which complicates the manufacturing process of the flexible printed circuit board and is a major factor in reducing the product yield. Various attempts have been made to improve this dimensional change. For example, as disclosed in JP-A-60-243120, by reducing the linear expansion coefficient of the insulating material,
We are trying to improve this. However, this JP-A-60-
Although the one disclosed in Japanese Patent No. 243120 has succeeded in lowering the linear expansion coefficient of the insulating material, at the same time, the toughness of the insulating material is lost, and as a result, the insulating material becomes very fragile and flexible. This kind of improvement has not been put to practical use because the flexibility and bending resistance peculiar to the printed circuit board deteriorate. On the other hand, there is also an attempt to realize the above-mentioned low linear expansion coefficient by stretching an insulating material as disclosed in, for example, JP-A-61-296034, but in this case, the same as the former case. The flexibility of the insulating material is impaired, and as a result, there is a defect in towability such as bending resistance, which is an essential condition of the flexible printed circuit board. [Problems to be Solved by the Invention] As described above, the present invention provides the dimensional stability of a conventional flexible printed circuit board that has undergone a large dimensional change in the steps of patterning, etching and drying. Is to improve without sacrificing flexibility. [Means for Solving Problems] That is, according to the present invention, in a flexible printed circuit board including at least a conductor and an insulating material, the linear expansion coefficient of the insulating material is 2.0 × 10 −5 / ° C. or less, and The flexible printed circuit board is characterized by having an elongation at break of 30% or more. The flexible printed circuit board according to the present invention has both the conventional good flexibility and the unprecedented dimensional stability. The above-mentioned flexible printed board refers to one in which an insulating layer and a conductor are bonded together via an adhesive agent, and one to which this is subjected to patterning, etching treatment, etc. It is possible to use adhesives used in the manufacture of printed circuit boards. The conductor referred to in the present invention, metal such as copper, iron, aluminum,
Alternatively, it is represented by a metal foil, but other materials may be used. The insulating material, which is an important material used in the present invention, has a linear expansion coefficient of 2.0 × 10 −5 / ° C. or less and an elongation at break of 30.
% Or more, it can be used, but synthetic resin, particularly polyimide is preferable. Within the polyimide and [R 1 and R 2 are tetravalent aromatic groups, R 3 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, and one or more groups selected from a methyl group and a methoxy group, and n is an integer of 1, 2, or 3. ] The aromatic polyimide copolymer represented by Examples of R 1 and R 2 are Examples include one or two or more groups selected from
Among these Is particularly preferred. In general formula (B) Examples of And one or more kinds of groups such as Is particularly effective. The aromatic polyimide copolymer used in the present invention has the same structure as R 1 , R 2 in the general formulas (A) and (B).
Is a tetravalent aromatic group derived from benzene, biphenyl, benzophenone or naphthalene, R 3 is one or more groups selected from hydrogen atom, chlorine atom, methyl group and methoxy group, and n is 1 or 2 Or an aromatic polyimide copolymer which is an integer of 3, by setting the molar ratio of (A) / (B) of the repeating units represented by the general formulas (A) and (B) to a range greater than 1. The effect of the present invention can be obtained. The insulating material may be compounded with various organic additives, inorganic fillers, or various reinforcing materials. The polyimide insulating material can be obtained from a polyamic acid solution which is a precursor thereof, and a known method can be used as a method for producing the polyamic acid. In the case of an aromatic copolymer, it can be obtained by the following method. (1) Aromatic tetracarboxylic acid dianhydride (a) and an aromatic diamine compound (b) in a small amount relative thereto are reacted in an organic polar solvent to prepare a prepolymer having an acid anhydride group at both ends. Obtain the polymer. Then, the aromatic diamine compound (c) is added and reacted so that the wholly aromatic diamine ((b) + (c)) is substantially equimolar to the aromatic tetracarboxylic dianhydride (a). Method by copolymerization method. (2) Aromatic tetracarboxylic dianhydride (a) is reacted with an excess molar amount of aromatic diamine compound (b) in an organic polar solvent to give a prepolymer having amino groups at both ends. obtain. Then, after the aromatic diamine compound (c) is additionally reacted here, all diamine components ((b) +
A method according to a copolymerization method in which an insufficient amount of aromatic tetracarboxylic acid dianhydride (a) is added and reacted so as to be substantially equimolar to (c)). (3) A mixture of aromatic diamine compounds (b) and (c) is dissolved in an organic polar solvent, and the total amount ((b) +
A method by a copolymerization method in which (c)) is reacted with a substantially equimolar amount of aromatic tetracarboxylic dianhydride (a). (4) to (6) In the method of (1) to (3), an aromatic tetracarboxylic dianhydride is added to the aromatic diamine compound,
A method by a copolymerization method in which an aromatic diamine compound is replaced with an aromatic tetracarboxylic dianhydride. (7) A method for producing by mixing two or more polyamic acid solutions obtained by the methods (1) to (6). And the like, and the method (1) is particularly preferable. Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride, which is a raw material used to obtain the above polyamic acid solution,
Pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2', 3,3 ', 4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'- Examples thereof include benzophenone tetracarboxylic dianhydride and naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride. These compounds may be used alone or in combination of two or more. As the aromatic diamine component, 4,4'-diaminodiphenyl ether and the general formula An aromatic diamine compound represented by [n and R 3 are the same as above] is preferably used as the above-mentioned components (b) and (c). As the aromatic diamine compound represented by this general formula, paraphenylenediamine, 3,3'-dimethoxy-4,
4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-
Examples thereof include diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4 "-diamino-paraterphenyl, and other aromatic diamine compounds such as 4,4. ′ -Bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, bis [4
-(4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone,
Bis [4- (2-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3
-Bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-
Aminophenyl) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (3-ethyl-4-aminophenyl) methane, bis (3-methyl-4-aminophenyl) )
Methane, bis (3-chloro-4-aminophenyl) methane, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,4' -Diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminobiphenyl,
4,4'-diaminooctafluorobiphenyl, 2,4-diaminotoluene, metaphenylenediamine, 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane,
2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl]
Hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2'-bis (4-aminophenyl)
Hexafluoropropane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) hexafluoropropane, 9,9-bis (4-aminophenyl) ) -10-hydro-
Anthracene, orthotolidine sulfone, and more
It is also possible to partially use a polyvalent amine compound such as 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetramine and 3,3 ′, 4,4′-tetraaminodiphenyl ether. Here, as the organic polar solvent used in the reaction for producing the polyamic acid solution, for example, dimethyl sulfoxide, sulfoxide-based solvent such as diethyl sulfoxide, N, N-
Formamide solvents such as dimethylformamide and N, N-diethylformamide, acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-
Pyrrolidone-based solvents such as pyrrolidone, phenol, o
Examples thereof include phenol solvents such as-, m- or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, and catechol, or hexamethylphosformamide, γ-butyrolactan, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, and the like. It is preferable to use them alone or as a mixture, but it is also possible to use aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene. Further, it is desirable from the viewpoint of handling that the polyamic acid solution is dissolved in the organic polar solvent in an amount of 5 to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight. Then, as a method for producing an organic insulating film made of polyimide from this polyamic acid solution, a conventionally known method can be used. That is, a method of i) thermally converting into polyimide and ii) chemically converting into polyimide using a dehydrating agent and a catalyst are adopted. Examples of the dehydrating agent here include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride. Examples of the catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as N, N-dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline, isoquinoline, and quinoline. And so on. In this way, it is possible to obtain an insulating material having a linear expansion coefficient of 2.0 × 10 −5 / ° C. or less and an elongation at break of 30% or more. The thickness of the insulating material is preferably 7 μm to 125 μm. The flexible printed circuit board of the present invention is obtained by laminating a conductor on the above insulating material. A typical example will be described below, but the method is not limited to this. First, apply an adhesive to the insulating material, and after drying, approx.
It is possible to obtain a flexible substrate by thermally laminating a metal foil of copper or the like of m under pressure and performing a predetermined post cure. Further, a desired circuit can be patterned on the metal surface, and then, after undergoing etching and washing and drying steps, a patterned flexible substrate can be obtained. As the adhesive, an adhesive such as an epoxy / nylon-based adhesive which is usually used for manufacturing a flexible substrate can be used. The dimensional change of the flexible printed circuit board referred to in the present invention means a dimensional change in the process of reaching the flexible printed circuit board after the above patterning. (Examples) Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to only these examples. In the examples, ODA is 4,4'-diaminodiphenyl ether, p-PDA is paraphenylenediamine, PMDA is pyromellitic dianhydride, and BPDA is 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid. The dianhydride and DMAc represent dimethylacetamide. Comparative Example 1 ODA and PMDA were polymerized in DMAc to obtain a 15.0% by weight polyamic acid solution. This polyamic acid solution was cast-coated on a glass plate and dried at about 100 ° C. for about 60 minutes, and then the generated polyamic acid coating film was peeled off from the glass plate and fixed on a support frame. After that, at about 100 ℃ for about 30 minutes, then about 200
After heating at 60 ° C. for about 60 minutes, then at about 300 ° C. for about 60 minutes, dehydration ring closure, drying, and removal from the support frame, a polyimide film insulating material having a thickness of about 20 μm was obtained. The coefficient of linear expansion of this insulating material is 2.5 × 10 -5 / ℃, the elongation at tensile rupture is
55%. Next, a nylon / epoxy adhesive was applied to this insulating material and dried, and then a copper foil was heat-laminated under pressure and post-cured to obtain a flexible copper clad board. Subsequently, the flexible copper-clad laminate A on an insulating material, engraved with two points B, the distance A, to measure the length of B, which l 0
And Further, according to a standard method, patterning is performed on this flexible copper clad plate, followed by etching water washing and drying treatment,
A flexible printed circuit board was obtained. The distance between A and B was measured on this flexible printed circuit board, and this was defined as l 1 . The dimensional change rate was calculated using the following formula. As a result, the dimensional change rate of this flexible printed circuit board was 0.4%. The folding endurance of the obtained flexible printed circuit board was about 2500 times. Comparative Example 2 p-PDA and BPDA were polymerized in DMAc to obtain a 15.0% by weight polyamic acid solution. Then, the same operation as in Comparative Example 1 was performed to obtain a polyimide film insulating material having a thickness of about 20 μm.
The coefficient of linear expansion of this insulating material was 1.7 × 10 −5 / ° C., and the elongation at tensile rupture was 20%. Next, the same operation as in Comparative Example-1 was performed on this insulating material,
As a result of obtaining the dimensional change rate, it was 0.2%. The bending resistance of the obtained flexible printed circuit board was about 400 times. Example 1 ODA and p-PDA were used in DMAc at a molar ratio of 67/33,
This was polymerized with PMDA to obtain a 15% by weight polyamic acid copolymer solution. Then, the same operation as in Comparative Example-1 was performed to obtain about 20
A polyimide film insulating material having a thickness of μm was obtained. The coefficient of linear expansion of this insulating material was 1.5 × 10 −5 / ° C., and the elongation at specific rupture was 45%. Next, the same operation as in Comparative Example-1 was performed on this insulating material, and the dimensional change rate was obtained. The result was 0.1%. The folding endurance of the obtained flexible printed circuit board was about 2200 times. Table 1 shows the above results. (Effects of the Invention) A flexible printed circuit board made of an insulating material having a coefficient of linear expansion of 2.0 × 10 −5 / ° C. or less and an elongation at tensile break of 30% or more according to the present invention has sufficient flexibility. It also has improved dimensional stability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−243120(JP,A) 特開 昭60−210894(JP,A) 特開 昭61−296034(JP,A) 特開 昭57−6757(JP,A) 特開 昭56−23791(JP,A)   ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    (56) References JP-A-60-243120 (JP, A)                 JP-A-60-210894 (JP, A)                 JP-A-61-296034 (JP, A)                 JP 57-6757 (JP, A)                 JP-A-56-23791 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 1.少なくとも導体と接着剤層と絶縁材とを包含するフ
レキシブルプリント基板において、該絶縁材が、 及び[R1、R2はベンゼン、ビフェニル、ベンゾフェノン、ナ
フタリンから誘導される4価の芳香族基、R3は水素原
子、塩素原子、メチル基及びメトキシ基から選ばれる1
種又は2種以上の基、nは1、2又は3の整数] で表わされる反復単位を、その(A)/(B)のモルの
比が1より大きい範囲で含有する芳香族ポリイミド共重
合体であり、その線膨脹係数が2.0×10-5/℃以下で、且
つ引張破断時の伸度が30%以上であることを特徴とする
フレキシブルプリント基板。
(57) [Claims] In a flexible printed circuit board including at least a conductor, an adhesive layer and an insulating material, the insulating material is as well as [R 1 and R 2 are tetravalent aromatic groups derived from benzene, biphenyl, benzophenone and naphthalene, R 3 is selected from hydrogen atom, chlorine atom, methyl group and methoxy group 1
Or a combination of two or more groups, n is an integer of 1, 2 or 3] in an aromatic polyimide copolymer containing a repeating unit represented by the formula (A) / (B) in a molar ratio of more than 1. A flexible printed circuit board, which is a united body and has a coefficient of linear expansion of 2.0 × 10 −5 / ° C. or less and an elongation at break of 30% or more.
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