JP2677823B2 - Radiation image conversion panel - Google Patents
Radiation image conversion panelInfo
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- JP2677823B2 JP2677823B2 JP63147999A JP14799988A JP2677823B2 JP 2677823 B2 JP2677823 B2 JP 2677823B2 JP 63147999 A JP63147999 A JP 63147999A JP 14799988 A JP14799988 A JP 14799988A JP 2677823 B2 JP2677823 B2 JP 2677823B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネ
ルに関するものであり、さらに詳しくは鮮鋭性が高い放
射線画像を与え、かつ反り等による変形が少なく、感度
むらの小さい輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パ
ネルに関する。The present invention relates to a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer, and more specifically to a radiation image with high sharpness. The present invention also relates to a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer that is less deformed by warpage or the like and has less uneven sensitivity.
(従来の技術) X線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く
用いられている。(Prior Art) Radiation images such as X-ray images are widely used for diagnosis of diseases and the like.
このX線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に
代って蛍光体層から直接画像を取出すX線画像変換方法
が工夫されている。In order to obtain this X-ray image, an X-ray image conversion method for directly extracting an image from a phosphor layer instead of a silver halide photosensitive material has been devised.
この方法は、被写体を透過した放射線(一般にX線)
を蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば
光または熱エネルギーで励起することにより、この蛍光
体が上記放射線吸収により蓄積している放射線エネルギ
ーを蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出して画像化
する方法である。This method uses radiation transmitted through the subject (generally X-rays)
Is absorbed by the phosphor, and then the phosphor is excited by, for example, light or heat energy, so that the phosphor emits the radiation energy accumulated by the radiation absorption, and the fluorescence is detected. This is a method for imaging.
具体的には、例えば、米国特許3,859,527号及び特開
昭55−12144号公報には、輝尽性蛍光体を用い可視光線
又は赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示
されている。Specifically, for example, U.S. Pat.No. 3,859,527 and JP-A-55-12144 show a radiation image conversion method using stimulable phosphor and using visible light or infrared light as stimulating excitation light. .
この方法は、輝尽性蛍光体層(以後輝尽層と略称)を
有する放射線画像変換パネル(以後変換パネルと略称)
を使用するもので、この変換パネルの輝尽層に被写体を
透過した放射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対
応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、し
かる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査することによっ
て各部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこれ
を光に変換し、この光の強弱による光信号により画像を
得るものである。This method uses a radiation image conversion panel (hereinafter abbreviated as a conversion panel) having a stimulable phosphor layer (hereinafter abbreviated as a stimulable layer).
The latent image is formed by applying radiation transmitted through the subject to the stimulating layer of the conversion panel, accumulating radiation energy corresponding to the radiation transmittance of each part of the subject, and then forming the stimulating layer. By scanning with stimulating excitation light, the radiation energy stored in each section is emitted and converted into light, and an image is obtained by an optical signal based on the intensity of the light.
この最終的な画像はハードコピーとして再生してもよ
いし、CRT上に再生してもよい。This final image may be reproduced as a hard copy or reproduced on a CRT.
この放射線画像変換方法において使用される変換パネ
ルは、放射線画情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射線
画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。The conversion panel used in this radiation image conversion method releases the stored energy by scanning the stimulated excitation light after storing the radiation image information, so that the radiation image can be stored again after the scanning and repeated use is possible. It is possible.
このような変換パネルは、通常、第1図に示したよう
に、輝尽層(1)、支持体(2)および保護層(3)か
ら構成されており、また、輝尽層(1)を外部からの物
理的あるいは化学的刺激から保護するために、さらに変
換パネルの周縁が封着部材(4)で封着されていること
が多い。Such a conversion panel usually comprises a photostimulable layer (1), a support (2) and a protective layer (3) as shown in FIG. 1, and the photostimulable layer (1). In order to protect the panel from external physical or chemical irritation, the periphery of the conversion panel is often further sealed with a sealing member (4).
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上述のような変換パネルにおいては、
封着部材で支持体および保護層が固定されているため
に、輸送時等に変換パネルの環境温度が大きく変化する
と、支持体と保護層の熱膨張係数の差異により、変換パ
ネルに反り等の変形を生じたり、封着部が剥離したり、
保護層および/または支持体が割れる等の問題を生じて
いた。(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conversion panel as described above,
Since the support and the protective layer are fixed by the sealing member, if the environmental temperature of the conversion panel changes greatly during transportation etc., the conversion panel may be warped due to the difference in thermal expansion coefficient between the support and the protective layer. Deformation may occur, the sealing part may peel off,
Problems such as cracking of the protective layer and / or the support have occurred.
また、反り等の変形は、感度むらの原因となる。この
感度むらは放射線画像変換装置の集光系と変換パネルと
の距離が、変換パネルの変形によって一定でなくなるた
めに生ずる。Deformation such as warpage causes uneven sensitivity. This unevenness in sensitivity occurs because the distance between the condensing system of the radiation image converter and the conversion panel is not constant due to the deformation of the conversion panel.
封着部の剥離や、保護層および/または支持体の割れ
などは、変換パネルの耐湿性の低下を招き、好ましくな
い。Peeling of the sealed portion, cracking of the protective layer and / or the support, and the like are unfavorable because they lead to a decrease in the moisture resistance of the conversion panel.
そこで、本発明は鮮鋭性の高い放射線画像を与え、反
り等の変形が少なく、感度むらが小さく、耐久性が優れ
た輝尽層を有する変換パネルの提供を目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a conversion panel having a photostimulable layer which gives a radiation image with high sharpness, has less deformation such as warpage, has less sensitivity unevenness, and has excellent durability.
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、支持体、輝尽性蛍光体層および少なくとも
一層の保護層を有し、支持体と保護層の間に、輝尽性蛍
光層体が封入され密閉されている放射線画像変換パネル
において、支持体と保護層の線熱膨張係数の差が60×10
-7/℃以下であることを特徴とする放射線画像変換パネ
ルに関する。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention has a support, a stimulable phosphor layer, and at least one protective layer, and the stimulable fluorescent layer is provided between the support and the protective layer. In the radiation image conversion panel in which the layer body is enclosed and hermetically sealed, the difference in the coefficient of linear thermal expansion between the support and the protective layer is 60 × 10
It relates to a radiation image conversion panel characterized by being -7 / ℃ or less.
本発明において使用される輝尽性蛍光体とは、最初の
光もしくは高エネルギー放射線が照射された後に、光
的、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺激(輝尽
励起)により、最初の光もしくは高エネルギー放射線の
照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用
的な面から好ましくは500nm以上の輝尽励起光によって
輝尽発光を示す蛍光体である。そのような輝尽性蛍光体
としては、例えば特開昭48−80487号公報に記載されて
いるBaSO4:AX、特開昭48−80489号公報に記載されてい
るSrS04:AX、特開昭53−39277号公報のLi2B4O7:Cu,Ag
等、特開昭54−47883号公報のLi2O・(B2O2)x:Cu及びL
i2O・(B2O2)x:Cu,Ag等、米国特許3,859,527号のSrS:C
e,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:Eu,Sm及び(Zn,Cd)S:Mn,で
示される蛍光体が挙げられる。The stimulable phosphor used in the present invention means that after being irradiated with the first light or high-energy radiation, it is stimulated by light, thermal, mechanical, chemical or electrical (stimulation excitation). Although it is a phosphor that shows stimulated emission corresponding to the dose of the first light or high-energy radiation, from the practical point of view, it is preferably a phosphor that shows stimulated emission by stimulated excitation light of 500 nm or more. Such stimulable phosphor, for example BaSO are described in JP 48-80487 discloses 4: AX, it is described in JP-A-48-80489 SrS0 4: AX, JP Li 2 B 4 O 7 : Cu, Ag of Japanese Patent Publication No. 53-39277
Etc., Japanese Patent Laid-Open No. 54-47883, Li 2 O. (B 2 O 2 ) x: Cu and L
i 2 O ・ (B 2 O 2 ) x: Cu, Ag, etc., SrS: C of US Pat. No. 3,859,527
Examples thereof include phosphors represented by e, Sm, SrS: Eu, Sm, La 2 O 2 S: Eu, Sm and (Zn, Cd) S: Mn.
また、特開昭55−12142号公報に記載されているZnS:C
u,Pb蛍光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで示されるアルミン
酸バリウム蛍光体、及び一般式MIIO・xSiO2:Aで示さ
れるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。ま
た、特開昭55−12143号公報に記載されている一般式 (Ba1-x-yMgxCay)FX:eEu2+ で示されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号公報に記載されている一般式 LnOX:xA で示される蛍光体、特開昭55−12145号公報に記載され
ている一般式 (Ba1-xMII x)FX:yA で示される蛍光体、特開昭55−84389号公報に記載され
ている一般式 BaFX:xCe,yA で示される蛍光体、特開昭55−160078号公報に記載され
ている一般式 MIIFX・xA:yLn で示される希土類元素付活2価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A、S:A,ZnS:A,
X及びCdS:A,Xで示される蛍光体、特開昭59−38278号公
報に記載されている下記いずれかの一般式 xM3(PO4)2・NX2:yA M3(PO4)2:yA で示される蛍光体、特開昭59−155487号公報に記載され
ている下記いずれの一般式 nReX3・mAX′2:xEu nReX3・mAX′2:xEu,ySm で示される蛍光体、及び特開昭61−72087号公報に記載
されている下記一般式 MIX・aMIIX′2・bMIIIX″3:cA で示かれるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着・スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい。Further, ZnS: C described in JP-A-55-12142
u, Pb phosphors, barium aluminate phosphors represented by the general formula BaO.xAl 2 O 3 : Eu, and alkaline earth metal silicate phosphors represented by the general formula M II O.xSiO 2 : A To be Further, an alkaline earth fluorohalide phosphor represented by the general formula (Ba 1-xy Mg x Ca y ) FX: eEu 2+ described in JP-A-55-12143, JP -A- 55- Phosphor represented by the general formula LnOX: xA described in Japanese Patent No. 12144, and fluorescence represented by the general formula (Ba 1-x M II x ) FX: yA described in Japanese Patent Laid-Open No. 55-12145. , A phosphor represented by the general formula BaFX: xCe, yA described in JP-A-55-84389, and a general formula M II FX.xA: yLn described in JP-A-55-160078. A divalent metal fluorohalide phosphor activated by a rare earth element represented by the general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, S: A, ZnS: A,
Phosphors represented by X and CdS: A, X, one of the general formulas xM 3 (PO 4 ) 2 · NX 2 : yA M 3 (PO 4 ) described in JP-A-59-38278. 2 : Phosphor represented by yA, any of the following general formula nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu, ySm described in JP-A-59-155487 , and JP 61-72087 following general formula is described in JP-M I X · aM II X ' 2 · bM III X "3:. indicates Charles alkali halide phosphor, and the like in cA especially alkali halide Phosphors are preferable because they can easily form a stimulable layer by a method such as vapor deposition and sputtering.
しかし、本発明の変換パネルに用いられる輝尽性蛍光
体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を
照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す
蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。However, the stimulable phosphor used in the conversion panel of the present invention is not limited to the above-described phosphor, and is a phosphor that shows stimulable luminescence when irradiated with stimulating excitation light after being irradiated with radiation. Any fluorescent material may be used.
本発明の変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の少なくと
も一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る
輝尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含
まれる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なってい
てもよい。The conversion panel of the present invention may be a stimulable layer group comprising one or more stimulable layers containing at least one of the stimulable phosphors. Further, the stimulable phosphor contained in each stimulable layer may be the same or different.
変換パネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネル
の放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって
異なるが、結着剤を含有しない場合10μm〜1000μmの
範囲、さらに好ましくは20μm〜800μmの範囲から選
ばれ、結着剤を含有する場合で20μm〜1000μmの範
囲、好ましくは50μm〜500μmの範囲から選ばれる。The layer thickness of the stimulable layer of the conversion panel varies depending on the sensitivity of the intended conversion panel to radiation, the type of stimulable phosphor, etc., but in the case of containing no binder, it is in the range of 10 μm to 1000 μm, more preferably 20 μm To 800 μm, and when the binder is contained, it is selected from the range of 20 μm to 1000 μm, preferably 50 μm to 500 μm.
このような輝尽層は支持体上に塗布法や気相堆積法等
を用いて形成されるが、輝尽層を保護層上に形成せしめ
た後、支持体に積層してもよい。Such a photostimulable layer is formed on a support by a coating method, a vapor deposition method, or the like. Alternatively, the photostimulable layer may be formed on a protective layer and then laminated on the support.
気相堆積法としては例えば蒸着法、スパッタ法、CVD
法などが挙げられる。Examples of the vapor deposition method include a vapor deposition method, a sputtering method, and a CVD method.
And the like.
気相堆積法で形成された輝尽層に加熱処理を施すると
X線に対する感度が向上する。また、支持体または保護
層上に付活剤を含まない輝尽性蛍光体母体層(以下「蛍
光体母体層」と略称する)を形成した後に熱拡散法など
の方法により、蛍光母体層に付活剤をドーピングして所
定の輝尽層とすることもできる。When the photostimulated layer formed by the vapor deposition method is subjected to heat treatment, the sensitivity to X-rays is improved. In addition, after forming a stimulable phosphor base layer (hereinafter abbreviated as “phosphor base layer”) containing no activator on the support or the protective layer, the phosphor base layer is formed by a method such as a thermal diffusion method. It is also possible to dope an activator to form a predetermined stimulable layer.
本発明において使用される支持体および保護層は、両
者の線熱膨張係数の差が60×107/℃以下であり、好まし
くは40×10-7/℃以下、さらに好ましくは25×10-7/℃以
下であり、特に好ましくは0である。The support and protective layer used in the present invention have a difference in linear thermal expansion coefficient of 60 × 10 7 / ° C. or less, preferably 40 × 10 −7 / ° C. or less, more preferably 25 × 10 −. It is 7 / ° C. or less, and particularly preferably 0.
線熱膨張係数の差が上記の範囲を超えると、変換パネ
ルに反り等の変形を生じたり、気密性が低下したりす
る。When the difference in the coefficient of linear thermal expansion exceeds the above range, the conversion panel may be deformed such as warped or the airtightness may be deteriorated.
そのような支持体と保護層の組合せとしては、例えば
次のようなものが挙げられる。支持体として結晶化ガラ
スを用い、保護層としてホウケイ酸ガラス、バリウムホ
ウケイ酸ガラス、透明結晶化ガラス、石英等を用いる場
合、支持体としてアルミナ焼結板を用い、保護層として
ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、ソーダ
ガラスを用いる場合、支持体として透明結晶化ガラスを
用い、保護層として透明結晶化ガラス、石英、ホウケイ
酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラスを用いる場合、支
持体としてアルミナシリカ焼結板を用い、保護層として
ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス等を用い
る場合などである。Examples of such a combination of the support and the protective layer include the following. When crystallized glass is used as the support and borosilicate glass, barium borosilicate glass, transparent crystallized glass, or quartz is used as the protective layer, an alumina sintered plate is used as the support, and borosilicate glass or barium is used as the protective layer. When using borosilicate glass or soda glass, transparent crystallized glass is used as the support, and when transparent crystallized glass, quartz, borosilicate glass or barium borosilicate glass is used as the protective layer, an alumina-silica sintered plate is used as the support. And using borosilicate glass, barium borosilicate glass, or the like as the protective layer.
また、支持体の層厚は用いる支持体の材質等によって
異なるが、一般的には80μm〜5000μmであり、取り扱
い上の点から、さらに好ましくは200μm〜2000μmで
ある。The layer thickness of the support varies depending on the material of the support used and the like, but is generally 80 μm to 5000 μm, and more preferably 200 μm to 2000 μm from the viewpoint of handling.
支持体は防湿性の点から透湿度が低いことが望まし
く、透湿度は10(g/m2・24hr)以下が好ましく、1(g/
m2・24hr)以下がさらに好ましい。気密性にすぐれ透湿
度が実質的に0であるような、ガラス、セラミックス、
金属などが特に好ましい。The moisture permeability of the support is preferably low, and the moisture permeability is preferably 10 (g / m 2 · 24 hr) or less and 1 (g / m 2
m 2 · 24 hr) or less. Glass, ceramics, etc. that have excellent airtightness and substantially zero moisture permeability
Metals and the like are particularly preferred.
また前述のような輝尽層の加熱処理を行なう場合に
は、支持体には耐熱性が要求され、500℃以上での連続
使用においても割れや変形を起こさないことが好まし
い。さらに、加熱処理中に、輝尽性蛍光体と反応してX
線感度等の性能に影響を与えないことが好ましい。耐熱
性にすぐれ、輝尽層との反応性が乏しい支持体として
は、例えば結晶化ガラスや石英、アルミナやアルミナシ
リカの焼結板などが挙げられる。In the case of performing the heat treatment of the photostimulable layer as described above, the support is required to have heat resistance, and it is preferable that the support does not crack or deform even when continuously used at 500 ° C. or higher. Furthermore, during the heat treatment, it reacts with the stimulable phosphor and X
It is preferable that performance such as line sensitivity is not affected. Examples of the support having excellent heat resistance and poor reactivity with the stimulating layer include crystallized glass, quartz, and a sintered plate of alumina or alumina-silica.
結晶化ガラスは、ガラスセラミックスともいい、以下
に示す特殊な組成のガラスを溶融成形した後、十分に制
御された条件下で再加熱し原形を保ったまま、アモルフ
ァス状態から均一な微細結晶の凝集体に変ったものであ
る。現在実用に供されている結晶化ガラスの組成系の主
なものとしては、例えば、ケイ酸塩ガラスとしてLi2O−
SiO2,Na2O−CaO−MgO−SiO2、アルミノケイ酸塩系とし
てLi2O−Al2O3−SiO2,Na2O−Al2O3−SiO2,MgO−Al2O3−
SiO2、ホウ酸塩ガラスとしてPbO−ZnO−B2O3、ホウケウ
酸塩ガラスとしてZnO−B2O3−SiO2等が挙げられる。Crystallized glass is also called glass-ceramics.After melt-molding a glass with the following special composition, it is reheated under well-controlled conditions, and while maintaining its original shape, the coagulation of uniform fine crystals from the amorphous state It has changed into a collective. The main constituents of the crystallized glass currently in practical use include, for example, Li 2 O-- as a silicate glass.
SiO 2, Na 2 O-CaO -MgO-SiO 2, Li 2 as aluminosilicate O-Al 2 O 3 -SiO 2 , Na 2 O-Al 2 O 3 -SiO 2, MgO-Al 2 O 3 -
SiO 2, PbO-ZnO-B 2 O 3 as borate glasses, ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 and the like as Houkeu glasses.
前記結晶化ガラス組成系のうちLi2O−SiO2,Na2O−CaO
−MgO−SiO2などのケイ酸塩ガラス、あるいはLi2O−Al2
O3−SiO2,Na2O−Al2O3−SiO2,MgO−Al2O3−SiO2などの
アルミノケイ酸塩ガラスが好ましい。Among the crystallized glass composition systems, Li 2 O—SiO 2 , Na 2 O—CaO
Silicate glass such as -MgO-SiO 2 or Li 2 O-Al 2,
Aluminosilicate glasses such as O 3 —SiO 2 , Na 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 , and MgO—Al 2 O 3 —SiO 2 are preferred.
さらにはLi2O−Al2O3−SiO2ガラスが好ましく各成分
の組成比は化学量論比でLi2O:Al2O3:SiO2=1:1:4がさら
に好ましい。Further, Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 glass is preferable, and the composition ratio of each component is more preferably stoichiometric ratio of Li 2 O: Al 2 O 3 : SiO 2 = 1: 1: 4.
しかし本発明の変換パネルの支持体に用いられる結晶
化ガラスは前述の結晶化ガラスに限られるものではな
く、耐熱性にすぐれ、また加熱した際の平面性にすぐれ
た結晶化ガラスであれば、いかなる結晶化ガラスであっ
てもよい。However, the crystallized glass used for the support of the conversion panel of the present invention is not limited to the above-mentioned crystallized glass, and is excellent in heat resistance, and is also crystallized glass excellent in planarity when heated, It may be any crystallized glass.
これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性
蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面として
もよい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、
個々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造
としてもよい。The surface of the support may be a smooth surface or a mat surface for the purpose of improving the adhesion to the stimulable phosphor layer. Also, the surface of the support may be an uneven surface,
A surface structure in which minute tile plates independent of each other are densely arranged may be used.
さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向
上させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けて
もよいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けて
もよい。Further, on these supports, an undercoat layer may be provided on the surface on which the stimulable layer is provided for the purpose of improving the adhesiveness with the stimulable layer, and if necessary, a light reflecting layer and a light absorbing layer may be provided. May be provided.
本発明の変換パネルにおいて用いられる保護層として
は、透光性がよく、シート状に成形できるものが使用さ
れる。保護層は輝尽励起光および輝尽発光を効率よく透
過するために、広い波長範囲で高い透過率を示すことが
望ましく、透過率は400nm〜800nmの波長範囲で80%以上
が好ましく、90%以上がより好ましい。また、360nm〜4
00nmの範囲では60%以上が好ましく、80%以上がより好
ましい。As the protective layer used in the conversion panel of the present invention, a protective layer having good translucency and capable of being formed into a sheet is used. In order to efficiently transmit stimulating excitation light and stimulating light, the protective layer preferably has a high transmittance in a wide wavelength range, and the transmittance is preferably 80% or more in a wavelength range of 400 nm to 800 nm, and 90% or more. The above is more preferable. Also, 360nm ~ 4
In the range of 00 nm, 60% or more is preferable, and 80% or more is more preferable.
さらに、保護層の表面に、MgF2等の反射防止層を設け
ると、輝尽励起光および輝尽発光を効率よく透過すると
ともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好まし
い。Further, it is preferable to provide an anti-reflection layer such as MgF 2 on the surface of the protective layer, because it has an effect of efficiently transmitting the stimulating excitation light and the stimulating light emission, and has the effect of reducing the decrease in sharpness.
また、保護層の厚さは、25μm〜5mmであり、良好な
防湿性と耐衝撃性を得るためには、100μm〜3mmが好ま
しい。The thickness of the protective layer is 25 μm to 5 mm, and 100 μm to 3 mm is preferable in order to obtain good moisture resistance and impact resistance.
保護層の透湿度は、パネルの耐湿性の点から低いこと
が望ましく、透湿度は10(g/m2・24hr)以下が好まし
く、1(g/m2・24hr)以下がさらに好ましい。気密性に
すぐれ透湿度が実質的に0であり、なおかつ透光性の良
いガラスが特に好ましい。The moisture permeability of the protective layer is preferably low from the viewpoint of the moisture resistance of the panel, and the moisture permeability is preferably 10 (g / m 2 · 24 hr) or less, more preferably 1 (g / m 2 · 24 hr) or less. Glass that is excellent in airtightness, has a water vapor transmission rate of substantially 0, and has good light transmissivity is particularly preferable.
本発明の保護層は単一層であってもよいし、本発明の
効果を損なわない限り多層でもよく材質の異なる2種類
以上の層からなっていてもよい。例えば、第1の保護層
としてガラスを用い、有機高分子層を第2の保護層とし
て用いる場合である。第2の保護層の厚さが第1の保護
層の厚さに対して十分薄ければ、保護層の線熱膨張係数
は実質的に第1の保護層の線熱膨張係数に等しく、ま
た、第1、第2の保護層間の剥離や、保護層自身のそり
も問題にはならない。第2の保護層として吸湿性の高い
有機高分子層、例えばポリビニルアルコールやエチレン
−ビニルアルコール共重合体などを第1の保護層の輝尽
層側に設けると、封着時に輝尽層が吸着していた水分が
第2の保護層によって吸着除去されるため、輝尽層の水
分による劣化が防止され変換パネルの初期性能が向上す
るので好ましい。The protective layer of the present invention may be a single layer, or may be a multilayer as long as the effects of the present invention are not impaired, and may be composed of two or more layers of different materials. For example, a case where glass is used as the first protective layer and an organic polymer layer is used as the second protective layer. If the thickness of the second protective layer is sufficiently smaller than the thickness of the first protective layer, the linear thermal expansion coefficient of the protective layer is substantially equal to the linear thermal expansion coefficient of the first protective layer, and The peeling between the first and second protective layers and the warp of the protective layer itself do not pose a problem. When a highly hygroscopic organic polymer layer such as polyvinyl alcohol or ethylene-vinyl alcohol copolymer is provided as the second protective layer on the stimulating layer side of the first protective layer, the stimulating layer is adsorbed during sealing. Since the second moisture is adsorbed and removed by the second protective layer, deterioration of the photostimulation layer due to moisture is prevented and the initial performance of the conversion panel is improved, which is preferable.
保護層は輝尽層に接着していてもいなくてもよいが、
両層間に保護層より低屈折率の層が存在していると、保
護層を厚くしても鮮鋭性の低下が小さいので好ましく、
そのような低屈折率層としては、空気、窒素、アルゴン
等の不活性な気体、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等の液体、CaF2、Na3AlF6、MgF2、SiO2等の物質の薄
膜等が挙げられる。The protective layer may or may not adhere to the photostimulable layer,
The presence of a layer having a lower refractive index than the protective layer between the two layers is preferable because the sharpness is small even when the protective layer is thickened.
Examples of such a low refractive index layer include an inert gas such as air, nitrogen, and argon, a liquid such as methyl alcohol and ethyl alcohol, and a thin film of a substance such as CaF 2 , Na 3 AlF 6 , MgF 2 , and SiO 2. Is mentioned.
低屈折率層の厚さは、0.05μm〜3mmが実用的であ
る。The thickness of the low refractive index layer is practically 0.05 μm to 3 mm.
低屈折率層を形成するために、支持体と保護層の層間
に、輝尽層を取り囲んで保護層保持部材(スペーサ)を
設けてもよい。そのようなスペーサとしては、例えばガ
ラス、セラミックス、金属、プラスチック等が挙げられ
る。In order to form the low refractive index layer, a protective layer holding member (spacer) may be provided between the support and the protective layer so as to surround the photostimulable layer. Examples of such a spacer include glass, ceramics, metal, and plastic.
さらに、輝尽層を支持体と保護層の層間に封入し、密
閉するために、輝尽層の周縁を封着部材で封着するか、
またはスペーサと支持体および保護層との接着部材を封
着する。Furthermore, in order to seal the photostimulable layer between the support and the protective layer, and to seal it, the peripheral edge of the photostimulable layer is sealed with a sealing member, or
Alternatively, the adhesive member for the spacer and the support and the protective layer is sealed.
また、さらにスペーサの周縁を封着部材を用いて封着
したり、低融点ガラス等の封着用ガラスを用いてガラス
融着により封着したり、保護層の延長部分で封着したり
してもよい。Further, by further sealing the periphery of the spacer by using a sealing member, by sealing glass by using sealing glass such as low melting point glass, or by sealing with an extension portion of the protective layer. Good.
使用される封着部材としては、気密性が高く、透湿度
が低いものが適しており、具体的には、エポキシ系樹
脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、酢
酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ポリ
オレフィン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴ
ム等の有機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤等が
挙げられる。半導体や電子部品の封止に用いられるエポ
キシ系樹脂やシリコーン系樹脂は耐湿性が優れているの
で好ましく、特にエポキシ系接着剤は透湿度が低く好適
である。As the sealing member to be used, one having high airtightness and low moisture permeability is suitable, and specifically, epoxy resin, phenol resin, cyanoacrylate resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride resin are used. Examples include organic polymer adhesives such as resins, polyurethane resins, acrylic resins, ethylene vinyl acetate resins, polyolefin resins, chloroprene rubber and nitrile rubber, and silicone adhesives. Epoxy-based resins and silicone-based resins used for encapsulating semiconductors and electronic components are preferred because of their excellent moisture resistance, and epoxy-based adhesives are particularly preferred because of their low moisture permeability.
本発明により製造される変換パネルは、第4図に概略
的に示される放射線画像変換方向に用いられる。The conversion panel produced according to the invention is used in the radiation image conversion direction shown schematically in FIG.
すなわち、放射線発生装置41からの放射線Rは、被写
体42を通して変換パネル43に入射する。That is, the radiation R from the radiation generator 41 enters the conversion panel 43 through the subject.
この入射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。This incident radiation is absorbed by the photostimulable layer of panel 43,
The energy is accumulated, and an accumulation image of the radiation transmission image is formed.
次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光として放出せしめる。放射される輝尽
発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー量に比例する
ので、この光信号を例えば光電子増倍管等の光電変換装
置45で光電変換し、画像再生装置46によって画像として
再生し画像表示装置47によって表示することにより、被
写体の放射線透過像を観察することができる。Next, this accumulated image is excited by stimulating light from the stimulating light source 44 and emitted as stimulating light. Since the intensity of the emitted stimulating luminescence is proportional to the amount of the accumulated radiation energy, this optical signal is photoelectrically converted by a photoelectric conversion device 45 such as a photomultiplier tube, and reproduced as an image by an image reproduction device 46. By displaying the image on the display device 47, a radiographic image of the subject can be observed.
(実施例) 次に本発明を実施例により説明する。(Example) Next, the present invention will be described with reference to examples.
実施例1 1.1mm厚の線熱膨張係数10×10-7/℃の結晶化ガラス支
持体(400mm×500mm)をエレクトロンビーム法(EB法)
による蒸着器中に設置した。次いで蒸着源としてプレス
成形したアルカリハライド(RbBr)を水冷したルツボに
入れた。Example 1 A crystallized glass support (400 mm × 500 mm) having a linear thermal expansion coefficient of 10 × 10 −7 / ° C. having a thickness of 1.1 mm was subjected to an electron beam method (EB method).
It was installed in the vapor deposition device according to. Next, a press-molded alkali halide (RbBr) as an evaporation source was placed in a water-cooled crucible.
続いて蒸着器を排気し、5×10-6Torrの真空度とし
た。次に支持体を40℃〜45℃に保持しながら、BEガンに
電力を供給してRbBr蒸発させた。Subsequently, the evaporator was evacuated to a vacuum degree of 5 × 10 −6 Torr. The BE gun was then powered to RbBr vaporize while maintaining the support at 40-45 ° C.
目的とするRbBr層を得るために膜厚モニタにより蒸着
速度を検出し、蒸着速度が105Å/minとなるようにコン
トロールした。また電子ビームはルツボの蒸着源表面を
ラスター状にスキャンさせた。In order to obtain a target RbBr layer, the deposition rate was detected by a film thickness monitor, and the deposition rate was controlled so as to be 10 5 Å / min. The electron beam was used to scan the surface of the crucible vapor deposition source in a raster pattern.
RbBr層の層厚が300μmとなったところで蒸着を終了
させ、蒸着パネルを得た。この蒸着パネルを付活ドーピ
ング剤粉末(RbBr:10-4Tl)を入れた石英製ルツボに入
れ、蓋をしたのち600℃で1hr加熱することにより、蒸着
パネルRbBrをTlでドープした。次に、輝尽層上に1.1mm
厚で線熱膨張係数65×10-7/℃のホウケイ酸ガラスを載
置した。次いで、輝尽層の周縁をエポキシ樹脂系接着剤
(AV138+HV998,日本チバガイギー(株)製)を用いて1
00℃で硬化させて封着し、第1図に示したような放射線
画像変換パネルを得た。When the thickness of the RbBr layer reached 300 μm, the vapor deposition was terminated, and a vapor-deposited panel was obtained. The vapor deposition panel RbBr was doped with Tl by placing the vapor deposition panel in a quartz crucible containing activated dopant powder (RbBr: 10 -4 Tl), covering the lid, and heating at 600 ° C. for 1 hr. Next, 1.1mm on the photostimulation layer
A thick borosilicate glass having a linear thermal expansion coefficient of 65 × 10 -7 / ℃ was placed. Then, the periphery of the photostimulation layer was coated with an epoxy resin adhesive (AV138 + HV998, manufactured by Ciba-Geigy Co., Ltd.)
After curing at 00 ° C. and sealing, a radiation image conversion panel as shown in FIG. 1 was obtained.
かくして得られた放射線画像変換パネルに、管電圧80
KVpのV線を10mR照射した後、半導体レーザ光(780nm)
で輝尽励起し、輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光
を光検出器(光電子増倍管)で光電変換し、この信号を
画像再生装置によって画像として再生し、銀塩フィルム
上に記録した。このときの放射線画像変換パネルの使用
温度は40℃±1℃であった。A tube voltage of 80 was applied to the radiation image conversion panel thus obtained.
After irradiating 10mR of V line of KVp, semiconductor laser light (780nm)
The photostimulated luminescence emitted from the stimulable phosphor layer is photoelectrically converted by a photodetector (photomultiplier tube), and this signal is reproduced as an image by an image reproducing device, Recorded in. The operating temperature of the radiation image conversion panel at this time was 40 ° C. ± 1 ° C.
得られた画像より、相対感度のむらを調べ第1表に示
した。ここで相対感度のむらとは、2048×2048画素の相
対感度の標準偏差を相対感度の平均値で除した値を百分
率で示したものである。The unevenness of the relative sensitivity was examined from the obtained images and shown in Table 1. Here, the unevenness of the relative sensitivity refers to a value obtained by dividing the standard deviation of the relative sensitivity of 2048 × 2048 pixels by the average value of the relative sensitivity as a percentage.
また、得られた変換パネルの使用温度40℃での反りを
調べ、第1表に合わせて示した。第1表における反りは
変換パネルを反りの凹側を上にして平板上に置いた時の
4すみの浮き上りの平均値で示してある。In addition, the obtained conversion panel was examined for warpage at a use temperature of 40 ° C., and the results are shown in Table 1. The warpage in Table 1 is indicated by the average value of the four corners rising when the conversion panel is placed on a flat plate with the concave side of the warp facing up.
くり返し耐久性は、12時間の周期で−40℃〜50℃〜−
40℃の温度変化をくり返して、変換パネルに異常が生じ
るまでの時間を測定した。その結果を第1表に示した。Repeated durability is -40 ° C to 50 ° C to 12 hours.
By repeating the temperature change of 40 ° C., the time until the conversion panel became abnormal was measured. The results are shown in Table 1.
実施例2〜13 支持体および保護層を第1表に示した組合せ(厚さは
すべて1.1mm)とした以外は、実施例1と同様にして変
換パネルを製造した。ただし、実施例10においては、ガ
ラス保護層の輝尽層側の面に第2の保護層として厚さ50
μmのエチレン−ビニルアルコール共重合体層をウレタ
ン系の接着剤(T−600,日本曹達(株)製)で接着し
た。これらについて実施例1と同様の評価をし、第1表
に併記した。Examples 2 to 13 Conversion panels were produced in the same manner as in Example 1 except that the support and the protective layer had the combinations shown in Table 1 (thicknesses were all 1.1 mm). However, in Example 10, the surface of the glass protective layer on the side of the photostimulating layer had a thickness of 50% as the second protective layer.
The ethylene-vinyl alcohol copolymer layer having a thickness of μm was adhered with a urethane adhesive (T-600, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.). These were evaluated in the same manner as in Example 1 and are also shown in Table 1.
比較例1〜2 支持体および保護層を第1表に示した組合せとした以
外は実施例1と同様にして変換パネルを製造した。これ
について実施例1と同様の評価をし、第1表に併記し
た。Comparative Examples 1-2 A conversion panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the combination of the support and the protective layer was as shown in Table 1. This was evaluated in the same manner as in Example 1 and is also shown in Table 1.
第1表に示したように比較例1,2では変換パネルの反
りが大きいために感度むらが非常に大きい。また、くり
返し温度変化に対しては短時間で異常が発生した。As shown in Table 1, in Comparative Examples 1 and 2, the sensitivity unevenness is very large because of the large warpage of the conversion panel. Further, an abnormality occurred in a short time with respect to the repeated temperature change.
一方、実施例1〜13の変換パネルでは反りが小さいた
めに感度むらが小さく、良好な画像が得られた。またく
り返し温度変化に対する耐久性も著しく向上している。On the other hand, in the conversion panels of Examples 1 to 13, since the warpage was small, the sensitivity unevenness was small and good images were obtained. In addition, the durability against repeated temperature changes is significantly improved.
[発明の効果] 本発明の放射線画像変換パネルは、支持体と保護層の
線熱膨張係数の差が小さいため、使用時にパネルが反っ
たりする等の変形を生じることがないので感度むらが小
さく、また、変換パネルを苛酷な温度条件下にさらして
も十分な耐久性を有する。したがって、本発明の変換パ
ネルは、有用性が高い。 [Advantages of the Invention] The radiation image conversion panel of the present invention has a small difference in linear thermal expansion coefficient between the support and the protective layer, and therefore does not cause deformation such as warping of the panel at the time of use, resulting in small sensitivity unevenness. Moreover, it has sufficient durability even if the conversion panel is exposed to severe temperature conditions. Therefore, the conversion panel of the present invention is highly useful.
第1図および第3図は本発明の放射線画像変換パネルの
断面図であり、第2図は第1図のA−A′断面図であ
り、第4図は放射線画像変換パネルを用いる放射線画像
変換方法の説明図である。 1……輝尽層 2……支持体 3……保護層 4……封着部材 5……保護層保持部材(スペーサ) 41……放射線発生装置 42……被写体 43……放射線画像変換パネル 44……輝尽励起光源 45……光電変換装置 46……放射線画像再生装置 47……放射線画像表示装置 48……フィルタ1 and 3 are sectional views of the radiation image conversion panel of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1, and FIG. 4 is a radiation image using the radiation image conversion panel. It is explanatory drawing of a conversion method. 1 ... Photostimulation layer 2 ... Support 3 ... Protective layer 4 ... Sealing member 5 ... Protective layer holding member (spacer) 41 ... Radiation generator 42 ... Subject 43 ... Radiation image conversion panel 44 ...... Photostimulated excitation light source 45 …… Photoelectric conversion device 46 …… Radiation image reproduction device 47 …… Radiation image display device 48 …… Filter
Claims (1)
し、支持体と保護層の間に、輝尽性蛍光体層が封入され
密閉されている放射線画像変換パネルにおいて、支持体
と保護層の線熱膨張係数の差が60×10-7/℃以下である
ことを特徴とする放射線画像変換パネル。1. A radiation image conversion panel comprising a support, a stimulable phosphor layer and a protective layer, wherein the stimulable phosphor layer is enclosed and sealed between the support and the protective layer. A radiation image conversion panel characterized in that the difference in linear thermal expansion coefficient between the body and the protective layer is 60 × 10 -7 / ℃ or less.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63147999A JP2677823B2 (en) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | Radiation image conversion panel |
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---|---|---|---|
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JPH01316698A JPH01316698A (en) | 1989-12-21 |
JP2677823B2 true JP2677823B2 (en) | 1997-11-17 |
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Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS61237099A (en) * | 1985-04-13 | 1986-10-22 | 富士写真フイルム株式会社 | Radiation picture conversion panel |
JPS61237100A (en) * | 1985-04-13 | 1986-10-22 | 富士写真フイルム株式会社 | Radiation picture conversion panel |
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1988
- 1988-06-17 JP JP63147999A patent/JP2677823B2/en not_active Expired - Lifetime
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